JPS58162637A - ポリアミドイミド樹脂の製造方法 - Google Patents
ポリアミドイミド樹脂の製造方法Info
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- JPS58162637A JPS58162637A JP4535582A JP4535582A JPS58162637A JP S58162637 A JPS58162637 A JP S58162637A JP 4535582 A JP4535582 A JP 4535582A JP 4535582 A JP4535582 A JP 4535582A JP S58162637 A JPS58162637 A JP S58162637A
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- acid
- polyamide
- solvent
- imide resin
- diamine
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- Pending
Links
Landscapes
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は硬化性を有するポリアミドイミド樹脂の製造方
法に関する。
法に関する。
既に従来より橋々のポリアミドイミド樹脂が知られてお
り、耐熱性、耐薬品性、電気絶縁性等にすぐれていると
ころから、電気電子部品の樹脂被覆、瞼料、接着剤やフ
ィルム等の成形品に用いられている。
り、耐熱性、耐薬品性、電気絶縁性等にすぐれていると
ころから、電気電子部品の樹脂被覆、瞼料、接着剤やフ
ィルム等の成形品に用いられている。
従来は、ポリカルボン酸成分として芳香族テトラカルボ
ン酸二無水物を用い、これをジアミンと極性有機溶剤中
で反応させて、先ず可溶性のポリアミド酸を得、所定の
用途に供した後、化学的又は魚釣に脱水閉環させて、ポ
リアミドイミド樹脂を得ている。しかし、上記ポリアミ
ド酸溶液は一般に保存安定性に劣ると共に、例えば所定
の被覆面に塗布し、焼付ける場合の作業性にも劣り、均
一に塗布する仁とがm@であるので、平滑な塗膜を得る
ことがt”きない。また、ポリアミド酸を得るための反
応には完全に脱水したN、N−ジメチルホルムアえゼ、
N、N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロ
リドンのような高価な溶剤を多−に必要とし、製造費用
が高価になるのみならず、製造工程及び加熱硬化工程に
おいて多量の溶剤の放出を伴うので、環境汚染を招来す
る問題もある。
ン酸二無水物を用い、これをジアミンと極性有機溶剤中
で反応させて、先ず可溶性のポリアミド酸を得、所定の
用途に供した後、化学的又は魚釣に脱水閉環させて、ポ
リアミドイミド樹脂を得ている。しかし、上記ポリアミ
ド酸溶液は一般に保存安定性に劣ると共に、例えば所定
の被覆面に塗布し、焼付ける場合の作業性にも劣り、均
一に塗布する仁とがm@であるので、平滑な塗膜を得る
ことがt”きない。また、ポリアミド酸を得るための反
応には完全に脱水したN、N−ジメチルホルムアえゼ、
N、N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロ
リドンのような高価な溶剤を多−に必要とし、製造費用
が高価になるのみならず、製造工程及び加熱硬化工程に
おいて多量の溶剤の放出を伴うので、環境汚染を招来す
る問題もある。
本発明者らは上記した問題を解決するために鋭意研究し
た結果、一般式 %式% (但し、鶴は1〜7の整数である。) で表わされる脂肪族ヘキサカルボン酸は無溶剤下にジア
ミンと容易に反応し、直ちに液状のポリアミドイミド樹
脂を与える仁とを見出して本発明に至ったものであり、
従って、本発明は新規な液状硬化性ポリアミドイミド樹
脂の製造方法を提供することを目的とする。
た結果、一般式 %式% (但し、鶴は1〜7の整数である。) で表わされる脂肪族ヘキサカルボン酸は無溶剤下にジア
ミンと容易に反応し、直ちに液状のポリアミドイミド樹
脂を与える仁とを見出して本発明に至ったものであり、
従って、本発明は新規な液状硬化性ポリアミドイミド樹
脂の製造方法を提供することを目的とする。
本発明によるポリアミドイミド樹脂の製造方法は、ポリ
カルボン酸として一般式 %式% (但し、nは1〜7の整数である。) で表わされるヘキサカルボン酸又はその誘導体をジアミ
ンと反応させることを特徴とする。
カルボン酸として一般式 %式% (但し、nは1〜7の整数である。) で表わされるヘキサカルボン酸又はその誘導体をジアミ
ンと反応させることを特徴とする。
本発明にふいて用いる上記ヘキサカルボン酸としては1
.3.4,5.6.8−オクタンヘキサカルボン酸(1
=23.1,4,5.6,7.10−デカンヘキすカル
ボン酸CD−33,1,5゜6.7,8.12−ドデカ
ンへキサカルボン酸(1% =4 )、l、6.7*8
.9.14−+トラデカンヘキサカルボン酸(g1=5
)、1,7,8゜9.10.16−ヘキサジカンヘキサ
カルボン酸(llm=6 )、1.8.9.10.11
.18−オクタデカンヘキサカルボン酸(!m=7 )
等が用いられるが、好ましくはnは4.5又は6である
ヘキサカルボン酸が用いられる。ヘキサカルボン酸は、
一種又は二種以上の混合物として用いられる。
.3.4,5.6.8−オクタンヘキサカルボン酸(1
=23.1,4,5.6,7.10−デカンヘキすカル
ボン酸CD−33,1,5゜6.7,8.12−ドデカ
ンへキサカルボン酸(1% =4 )、l、6.7*8
.9.14−+トラデカンヘキサカルボン酸(g1=5
)、1,7,8゜9.10.16−ヘキサジカンヘキサ
カルボン酸(llm=6 )、1.8.9.10.11
.18−オクタデカンヘキサカルボン酸(!m=7 )
等が用いられるが、好ましくはnは4.5又は6である
ヘキサカルボン酸が用いられる。ヘキサカルボン酸は、
一種又は二種以上の混合物として用いられる。
また、本発明においてはヘキサカルボン酸の一部又は全
部のカルボキシル基がエステル基、酸ハライド基、酸ア
ミド基、酸無水物基等嘉と変換されている誘導体も、ヘ
キサカルボン酸と共に、又はへキサカルボン酸に代えて
用いられる。なかでもアルキルエステル、特にメチルエ
ステルは好ましく用いられる。
部のカルボキシル基がエステル基、酸ハライド基、酸ア
ミド基、酸無水物基等嘉と変換されている誘導体も、ヘ
キサカルボン酸と共に、又はへキサカルボン酸に代えて
用いられる。なかでもアルキルエステル、特にメチルエ
ステルは好ましく用いられる。
また、本発明においてはポリカルボン酸として上記ヘキ
サカルボン酸と共に他のポリカルボン酸を併用すること
がてきる。以下、併用し得るポリカルボン酸を併用ポリ
カルボン酸と称する。併用ジカルボン酸は一般式 %式%) (但し、R1は脂肪族、芳香族又は脂環族の2価の基を
示す。) で表わされ、員体的にはアジピン酸、テレフタル酸、イ
ソフタル酸等が用いられる。併用トリカルボン酸は一般
式 %式%) (但し、♂は脂肪族、芳香族又は脂環族の3価の基を示
し、二つのカルボキシル基は隣接する炭素原子に結合さ
れていることが好ましい。)で表わされ、特にl”は芳
香族基であることが好ましい。このようなトリカルボン
酸の具体例とじては、トリメリド酸、2.3.5−ナフ
タレントリカルボン酸、2.3.6−ナフタレントリカ
ルボン酸、2.2’、3−ビフェニルトリカルボン酸、
2− (3,4−ジカルボキシフェニル)−2−(3−
カルボキシフェニル)プロパン、 1.z−+−ナフタ
レントリカルボン駿、1.4.6−ナフタレントリカル
ボン酸、2− (2,3−ジカルボキシフェニル)−2
−(3−力ルボキシフェニル〕プロパン、1−(2,3
−ジカルボキシフェニル)−1−(3−カルボキシフェ
ニル)エタン、1−(3,4−ジカルボキシフェニル)
−1−(4−カルボキシフェニル)エタン、2.3−ジ
カルボキシフェール−2′−カルボキシフェニルメタン
、1.2.3−ベンゼントリカルボン酸、2.3−4−
トリカルボキシベンゾフェノン等を挙げることができ
る。これらは部分又は全部エステ〜や無水物てあっても
よい。
サカルボン酸と共に他のポリカルボン酸を併用すること
がてきる。以下、併用し得るポリカルボン酸を併用ポリ
カルボン酸と称する。併用ジカルボン酸は一般式 %式%) (但し、R1は脂肪族、芳香族又は脂環族の2価の基を
示す。) で表わされ、員体的にはアジピン酸、テレフタル酸、イ
ソフタル酸等が用いられる。併用トリカルボン酸は一般
式 %式%) (但し、♂は脂肪族、芳香族又は脂環族の3価の基を示
し、二つのカルボキシル基は隣接する炭素原子に結合さ
れていることが好ましい。)で表わされ、特にl”は芳
香族基であることが好ましい。このようなトリカルボン
酸の具体例とじては、トリメリド酸、2.3.5−ナフ
タレントリカルボン酸、2.3.6−ナフタレントリカ
ルボン酸、2.2’、3−ビフェニルトリカルボン酸、
2− (3,4−ジカルボキシフェニル)−2−(3−
カルボキシフェニル)プロパン、 1.z−+−ナフタ
レントリカルボン駿、1.4.6−ナフタレントリカル
ボン酸、2− (2,3−ジカルボキシフェニル)−2
−(3−力ルボキシフェニル〕プロパン、1−(2,3
−ジカルボキシフェニル)−1−(3−カルボキシフェ
ニル)エタン、1−(3,4−ジカルボキシフェニル)
−1−(4−カルボキシフェニル)エタン、2.3−ジ
カルボキシフェール−2′−カルボキシフェニルメタン
、1.2.3−ベンゼントリカルボン酸、2.3−4−
トリカルボキシベンゾフェノン等を挙げることができ
る。これらは部分又は全部エステ〜や無水物てあっても
よい。
また、併用テトラカルボン酸は一般式
%式%)
(但し、R3は脂肪族、芳香族又は脂環族の4価の基を
示し、二つのカルボキシル基は隣接する炭素原子に結合
されていることが好ましい。)で表わされ、R3は脂肪
族又は芳香族であるのが好ましい。このようなテトラカ
ルボン酸の具体例としては1.2.3.4−ブタンテト
ラカルボン酸、ピロメリト酸、2.3.6.7−ナフタ
レンテトラカルボン酸、1.2.4.5−ナフタレンテ
トラカルボン酸% t。
示し、二つのカルボキシル基は隣接する炭素原子に結合
されていることが好ましい。)で表わされ、R3は脂肪
族又は芳香族であるのが好ましい。このようなテトラカ
ルボン酸の具体例としては1.2.3.4−ブタンテト
ラカルボン酸、ピロメリト酸、2.3.6.7−ナフタ
レンテトラカルボン酸、1.2.4.5−ナフタレンテ
トラカルボン酸% t。
2.5.6−ナフタレンテトラカルボン酸、3,3,4
.4−ジフェニルテトラカルボン酸、2.2.3.3−
ジフェニルテトラカルボン酸、2,3,34.−ジフェ
ニルテトラカルボン酸、2.2−ビス(3,4−ジカル
ボキシフェニル)プロパン、 3.4.3.4−ジフェ
ニルエーテルテトラカルボン酸、1.1−ビス(2,3
−ジカルボキシフェニル)エタン、ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸−11,2,3,4−ベンゼンテトラカル
ボン酸等が挙げられる。これらのエステルや二酸無水物
も用いられる。
.4−ジフェニルテトラカルボン酸、2.2.3.3−
ジフェニルテトラカルボン酸、2,3,34.−ジフェ
ニルテトラカルボン酸、2.2−ビス(3,4−ジカル
ボキシフェニル)プロパン、 3.4.3.4−ジフェ
ニルエーテルテトラカルボン酸、1.1−ビス(2,3
−ジカルボキシフェニル)エタン、ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸−11,2,3,4−ベンゼンテトラカル
ボン酸等が挙げられる。これらのエステルや二酸無水物
も用いられる。
上記したようなヘキサカルボン酸及び必要に応じて併用
ポリカルボン酸と反応せしめられるジアミンとしては脂
肪族、芳香族、fim族、異節環族等の種々のジアミン
が用いられるが、脂肪族及び芳香族ジアミノが好ましく
用いられる。具体的にはm−フェニレンジアミン、P−
7二二レンジアミンー 4.4−ジアミノフェニルプロ
パン、4.4−ジアミノジフェニルエタン、4,4−ジ
アミノジフェニルメタン、ベンジジン、3.3−ジメト
キシベンジジン、4.4’−ジアミノジフェニルスルフ
ィド、P−ビス(4−アミノフェノキシベンゼン)、m
−ビス(4−P−アミノフェノキシフベンゼン、4.4
1−ジアミノジフェニルエーテル、4.4′−ジアミノ
ジフェニルスルホン、m−キシレンジアミン、P−キシ
レンジアミン、4.4’−ジアミノシクロへ今シルメタ
ン、ヘプタメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン
、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンシア文ン、4
.4’−ジメチルへブタメチレンジアミン、3−メトキ
シへブタメチレンジアミン、2.11−ジアミノドデカ
ン、1.4−ジアミノシクロヘキサン、2.2’−ジア
ミノジエチルエーテル、2.2’−シアミノジエチルチ
オエーテル、3゜3−ジアミノジプロポキシエタン、2
.6−ジアミツビリジン、グアナミン、2.5−ジアミ
ノ−1,3゜4−オキサジアゾール、2−(3’−アミ
ノフェニル)−5−アミノベンツオキサゾール、ビス(
4−アミノフェニル)ホスフィン、ビス(4−アミノフ
ェニル)ジエチルシラン等が挙げられる。
ポリカルボン酸と反応せしめられるジアミンとしては脂
肪族、芳香族、fim族、異節環族等の種々のジアミン
が用いられるが、脂肪族及び芳香族ジアミノが好ましく
用いられる。具体的にはm−フェニレンジアミン、P−
7二二レンジアミンー 4.4−ジアミノフェニルプロ
パン、4.4−ジアミノジフェニルエタン、4,4−ジ
アミノジフェニルメタン、ベンジジン、3.3−ジメト
キシベンジジン、4.4’−ジアミノジフェニルスルフ
ィド、P−ビス(4−アミノフェノキシベンゼン)、m
−ビス(4−P−アミノフェノキシフベンゼン、4.4
1−ジアミノジフェニルエーテル、4.4′−ジアミノ
ジフェニルスルホン、m−キシレンジアミン、P−キシ
レンジアミン、4.4’−ジアミノシクロへ今シルメタ
ン、ヘプタメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン
、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンシア文ン、4
.4’−ジメチルへブタメチレンジアミン、3−メトキ
シへブタメチレンジアミン、2.11−ジアミノドデカ
ン、1.4−ジアミノシクロヘキサン、2.2’−ジア
ミノジエチルエーテル、2.2’−シアミノジエチルチ
オエーテル、3゜3−ジアミノジプロポキシエタン、2
.6−ジアミツビリジン、グアナミン、2.5−ジアミ
ノ−1,3゜4−オキサジアゾール、2−(3’−アミ
ノフェニル)−5−アミノベンツオキサゾール、ビス(
4−アミノフェニル)ホスフィン、ビス(4−アミノフ
ェニル)ジエチルシラン等が挙げられる。
本発明によれば、ジアミンをヘキサカルボン酸及び場合
によっては併用ボリカ、ルボン酸とからなるポリカルボ
ン酸成分1モルに対して1〜0.5モルの範囲で用いる
と会、無溶媒下でゲル化が起Cることなく、液状のポリ
アミドイミド樹脂が得られる。酸成分に対してジアミン
を等モルを越えて用いると、無溶媒下ではゲル化が起こ
る。また、併用カルボン酸は酸成分の50モル鴨より少
ない範囲で用いられる。50そル鴨以上に用いると反応
中に不均相化が生じ、沈殿物が生じて液状のポリアミド
イミド樹脂を得ることが困−であるからである。併用ポ
リカルボン酸の好ましい範囲は酸成分の0〜30モル哄
である。
によっては併用ボリカ、ルボン酸とからなるポリカルボ
ン酸成分1モルに対して1〜0.5モルの範囲で用いる
と会、無溶媒下でゲル化が起Cることなく、液状のポリ
アミドイミド樹脂が得られる。酸成分に対してジアミン
を等モルを越えて用いると、無溶媒下ではゲル化が起こ
る。また、併用カルボン酸は酸成分の50モル鴨より少
ない範囲で用いられる。50そル鴨以上に用いると反応
中に不均相化が生じ、沈殿物が生じて液状のポリアミド
イミド樹脂を得ることが困−であるからである。併用ポ
リカルボン酸の好ましい範囲は酸成分の0〜30モル哄
である。
但し、本発明においては必要に応じて反応溶剤を用いる
ことは妨げられない。反応溶剤としては非プロトン性極
性有機溶剤、フエ″ノール―等が好家しく用いられ、異
体例としてアルキル基の炭素数が1〜8であるN、N−
ジアルキルホルムアミド、N、N−ジアルキルアセトア
ミド、N−アルキル−2−ピロリドン、N−アルキル−
2−ピペリドン、N−アルキルカプロラクタム、特にN
、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセト
アミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−エチル−2
−ピロリドン、N−メチルカプロラクタム、八−エチル
カプロラクタムや、フェノール、キシレノール、クレゾ
ール等を挙げることができる。また、7にコール、ケト
ン、エーテル等も反応溶剤として用いることができ、具
体例としてメチルアルコール、エチルアルコール、フロ
ピ、ルアルコール、シクロヘキサノール、エチレングリ
コール、プロピレングリコール、l、3−プロパンジオ
ール、1゜4−ブタンジオール、ジエチレングリコール
、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメ
チルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル
、ジエチレングリコール七ツメチルエーテル、トリエチ
レングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコー
ルジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエ
ーテル、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等が挙げられる
。これらの反応溶剤は単独で又は二種以上の混合物とし
て用いられる。
ことは妨げられない。反応溶剤としては非プロトン性極
性有機溶剤、フエ″ノール―等が好家しく用いられ、異
体例としてアルキル基の炭素数が1〜8であるN、N−
ジアルキルホルムアミド、N、N−ジアルキルアセトア
ミド、N−アルキル−2−ピロリドン、N−アルキル−
2−ピペリドン、N−アルキルカプロラクタム、特にN
、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルアセト
アミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−エチル−2
−ピロリドン、N−メチルカプロラクタム、八−エチル
カプロラクタムや、フェノール、キシレノール、クレゾ
ール等を挙げることができる。また、7にコール、ケト
ン、エーテル等も反応溶剤として用いることができ、具
体例としてメチルアルコール、エチルアルコール、フロ
ピ、ルアルコール、シクロヘキサノール、エチレングリ
コール、プロピレングリコール、l、3−プロパンジオ
ール、1゜4−ブタンジオール、ジエチレングリコール
、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメ
チルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル
、ジエチレングリコール七ツメチルエーテル、トリエチ
レングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコー
ルジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエ
ーテル、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等が挙げられる
。これらの反応溶剤は単独で又は二種以上の混合物とし
て用いられる。
本発明の反応は通常、50〜300℃の温度で行なわれ
るが、好ましくは120〜200℃である。反応溶剤を
用いる場合は、溶剤中における反応成分の量は30〜9
0重量囁、特に40〜80嶌11囁が好適である。
るが、好ましくは120〜200℃である。反応溶剤を
用いる場合は、溶剤中における反応成分の量は30〜9
0重量囁、特に40〜80嶌11囁が好適である。
本発明の方法によれば、無溶剤下に酸成分とジアミンと
を反応させることにより液状の硬化性ポリアミドイミド
樹脂を得ることができる。このように反応に溶剤を要し
ないので、樹脂の製造価格を低く抑えることができるの
みならず、製造工程において溶剤が放出されないので、
環境汚染のおそれもない。更に、加熱硬化時にも溶剤が
揮散しない利点を有する。
を反応させることにより液状の硬化性ポリアミドイミド
樹脂を得ることができる。このように反応に溶剤を要し
ないので、樹脂の製造価格を低く抑えることができるの
みならず、製造工程において溶剤が放出されないので、
環境汚染のおそれもない。更に、加熱硬化時にも溶剤が
揮散しない利点を有する。
一方、溶剤中で反応させればポリアミドイミド樹脂溶液
が得られるが、溶剤の使用に無関係に得られるポリアミ
ドイミド樹脂は液状又は溶液として著しく保存安定性に
すぐれ、また、良好な加熱硬化性を有し、通常、150
〜500℃の温度に加熱することにより、耐熱性、耐薬
品性、可撓性、電気絶縁性等にすぐれた強靭な皮膜を形
成するので、電気電子部品の樹脂被覆、電線被覆、塗料
、光ファイバの樹脂被覆等に好314こ用いることがで
奮る。
が得られるが、溶剤の使用に無関係に得られるポリアミ
ドイミド樹脂は液状又は溶液として著しく保存安定性に
すぐれ、また、良好な加熱硬化性を有し、通常、150
〜500℃の温度に加熱することにより、耐熱性、耐薬
品性、可撓性、電気絶縁性等にすぐれた強靭な皮膜を形
成するので、電気電子部品の樹脂被覆、電線被覆、塗料
、光ファイバの樹脂被覆等に好314こ用いることがで
奮る。
以下に本発明の実施例を挙げるが、本発明はこれら実施
例により限定されるものではない。
例により限定されるものではない。
実施例1
温度針、トラップ付冷却器及び攪拌装置を備えた3°0
0−三つロフラスコーこ1,6,7.8.9゜14−テ
トラデカンヘキサカルボン酸メチルエステル(以乍、T
HCMと略称する。)54.69(0,1モル)及びジ
アミノジフェニルメタン19.811(0,1モル)を
仕込み、攪拌下に加熱して、15G−180℃の温度で
3時間線重合させた。反応中にゲル化は認められなかっ
た。得られた均一な液状のポリアミドイミド樹脂は15
0℃で100ポイズ以上の高粘度を有していた。この樹
脂はN。
0−三つロフラスコーこ1,6,7.8.9゜14−テ
トラデカンヘキサカルボン酸メチルエステル(以乍、T
HCMと略称する。)54.69(0,1モル)及びジ
アミノジフェニルメタン19.811(0,1モル)を
仕込み、攪拌下に加熱して、15G−180℃の温度で
3時間線重合させた。反応中にゲル化は認められなかっ
た。得られた均一な液状のポリアミドイミド樹脂は15
0℃で100ポイズ以上の高粘度を有していた。この樹
脂はN。
N−ジメチルア竜ドアミドやアセトンに可溶性であった
。
。
実施例2
実施例1と同様のフラスコ番こTHCM54.69(0
,1モル)及びジアミノジフェニルメタン13゜9g(
0,7モル)を仕込み、200〜*1o℃で5時間反応
させた。得られた均一な液状ポリアミドイミド樹脂を銅
箔上に厚み3oPに塗布し、200℃の熱風乾燥機中で
20時間加熱したところ、平滑な塗膜が得られた。
,1モル)及びジアミノジフェニルメタン13゜9g(
0,7モル)を仕込み、200〜*1o℃で5時間反応
させた。得られた均一な液状ポリアミドイミド樹脂を銅
箔上に厚み3oPに塗布し、200℃の熱風乾燥機中で
20時間加熱したところ、平滑な塗膜が得られた。
実施例3
実施例1と同様のフラスコにT)lcM38.29(0
,07モル)、無水トリメリ)i14.9.9(0,0
3モル)及びジアミノジフェニルメタン19.8J(0
,1−t−ル)を仕込み、170−190’e(7)温
度で7時間反応させた。得られた均一な液状ポリアミド
イミド樹脂を厚み0.5腸の銅板上lこ厚み50μに塗
布し、25G”Cで7時間加熱して焼付けた。
,07モル)、無水トリメリ)i14.9.9(0,0
3モル)及びジアミノジフェニルメタン19.8J(0
,1−t−ル)を仕込み、170−190’e(7)温
度で7時間反応させた。得られた均一な液状ポリアミド
イミド樹脂を厚み0.5腸の銅板上lこ厚み50μに塗
布し、25G”Cで7時間加熱して焼付けた。
平滑な塗膜が得られ、この塗膜は径1鵬のマンドレル上
で180°に屈曲させても破損しなかった。
で180°に屈曲させても破損しなかった。
実施例4
実施例1と同様のフラスコにTHCM49.1g(0,
09モルノ、2.s、s’、!−ジフェニルテトラカル
ボン駿二無水物2.9II(0,01モル)及びジアミ
ノジフェニルメタン19.8 & (0,1モル)を仕
込み、190〜20!1℃の温度で9時間反応させた。
09モルノ、2.s、s’、!−ジフェニルテトラカル
ボン駿二無水物2.9II(0,01モル)及びジアミ
ノジフェニルメタン19.8 & (0,1モル)を仕
込み、190〜20!1℃の温度で9時間反応させた。
得られた波状ポリアミドイミド樹脂を炉長3mの竪億炉
を用いて温度450℃、速度5.0m/分にて芯線径1
.0mの銅線に2回塗布焼付けを行なッテ、仕上り皮膜
厚$0.040■のエナメル電線を得た。この電線の特
性は次のとおりであった。
を用いて温度450℃、速度5.0m/分にて芯線径1
.0mの銅線に2回塗布焼付けを行なッテ、仕上り皮膜
厚$0.040■のエナメル電線を得た。この電線の特
性は次のとおりであった。
可搗性自己径巻付(2(l伸長) 良好熱軟化温R(
2kg荷重3 330”IC耐往復摩耗性(6
00II荷重) 75回捻回剥亀回数(20mスパ
ン3 90回絶縁破壊電圧
J3KV実施例5 実施例5 実施例1と同様のフラスコにTHC46,2,9(0,
1モル)及びジアミノジフェニルエーテル20゜0JF
(0,1モルノを仕込み、150〜200℃で4時間反
応させた。得られた均一な液状ポリアミドイミド樹脂を
用いて、実施例3と同じ条件で厚み45/Aの平滑な働
膜が得られ、この塗膜は径1■のマンドレル上で180
°に屈曲させても破損しなかった。
2kg荷重3 330”IC耐往復摩耗性(6
00II荷重) 75回捻回剥亀回数(20mスパ
ン3 90回絶縁破壊電圧
J3KV実施例5 実施例5 実施例1と同様のフラスコにTHC46,2,9(0,
1モル)及びジアミノジフェニルエーテル20゜0JF
(0,1モルノを仕込み、150〜200℃で4時間反
応させた。得られた均一な液状ポリアミドイミド樹脂を
用いて、実施例3と同じ条件で厚み45/Aの平滑な働
膜が得られ、この塗膜は径1■のマンドレル上で180
°に屈曲させても破損しなかった。
比較例
実施例1と同様のフラスコlこTHCM27.3K(0
,05モル)、2,3.イ4′−ジフェニルテトラカル
ボン酸二無水物14.7p(0,05モル)及びジアミ
ノジフェニルメタン19.8 g (0,1モル)を仕
込み、170〜190℃の温度1こ加熱したところ、3
時間後に不均相化し、液状のポリアミドイミド樹脂を得
ることができなかった。
,05モル)、2,3.イ4′−ジフェニルテトラカル
ボン酸二無水物14.7p(0,05モル)及びジアミ
ノジフェニルメタン19.8 g (0,1モル)を仕
込み、170〜190℃の温度1こ加熱したところ、3
時間後に不均相化し、液状のポリアミドイミド樹脂を得
ることができなかった。
特許出願人 日東電気工業株式会社
代理人 弁理士 牧野挽畝
253−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ill jR1,1カルボン酸として一般式%式% (但し、n見1〜7の整数である。) で表わされるヘキサカルボン飯又はその誘導体を1〜0
.5倍モルのジアミンと反応させることを特徴とするポ
リアミトイ慮ド樹脂の製造方法。 (2)ヘキサカルボン酸又はその誘導体を無溶剤下にシ
アミンと反応させて液状樹脂を得ることを特徴とする特
IFftm求の範囲第1項記載のポリアミドイミド樹脂
―の製造方法。 (3) ポリカルボン酸か全一の50モルラより少な
いジカルボン酸、トリカルボン酸及び/又はテトラカル
ボン綾を含有することを特徴とする特許請求の範囲kl
xJ4又は第2項記載のポリアミドイミド樹脂の製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4535582A JPS58162637A (ja) | 1982-03-19 | 1982-03-19 | ポリアミドイミド樹脂の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4535582A JPS58162637A (ja) | 1982-03-19 | 1982-03-19 | ポリアミドイミド樹脂の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58162637A true JPS58162637A (ja) | 1983-09-27 |
Family
ID=12716968
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4535582A Pending JPS58162637A (ja) | 1982-03-19 | 1982-03-19 | ポリアミドイミド樹脂の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58162637A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60123450A (ja) * | 1983-12-06 | 1985-07-02 | Ube Ind Ltd | 芳香族ニトロ化合物の製造法 |
JPH02138341A (ja) * | 1988-08-29 | 1990-05-28 | Hitachi Chem Co Ltd | ポリイミド系樹脂の製造法 |
JPH0359034A (ja) * | 1989-07-27 | 1991-03-14 | Hitachi Chem Co Ltd | ポリイミド系樹脂の製造法 |
EP2294113A2 (fr) * | 2008-06-12 | 2011-03-16 | Rhodia Opérations | Procede de preparation d'un polyamideimide, polyamideimide et composition comprenant ce polyamideimide |
JP2015151421A (ja) * | 2014-02-12 | 2015-08-24 | ユニチカ株式会社 | ポリアミドイミドの製造方法およびポリアミドイミド |
-
1982
- 1982-03-19 JP JP4535582A patent/JPS58162637A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60123450A (ja) * | 1983-12-06 | 1985-07-02 | Ube Ind Ltd | 芳香族ニトロ化合物の製造法 |
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US20110160407A1 (en) * | 2008-06-12 | 2011-06-30 | Rhodia Operations | Novel polyamideimides and preparation and compositions comprised thereof |
KR101308319B1 (ko) * | 2008-06-12 | 2013-09-17 | 로디아 오퍼레이션스 | 폴리아미드 이미드의 제조 방법, 폴리아미드 이미드 및 폴리아미드 이미드를 포함하는 조성물 |
JP2015151421A (ja) * | 2014-02-12 | 2015-08-24 | ユニチカ株式会社 | ポリアミドイミドの製造方法およびポリアミドイミド |
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