JPS5815553B2 - 錫の光沢被覆を電着するための酸性の錫浴 - Google Patents
錫の光沢被覆を電着するための酸性の錫浴Info
- Publication number
- JPS5815553B2 JPS5815553B2 JP462981A JP462981A JPS5815553B2 JP S5815553 B2 JPS5815553 B2 JP S5815553B2 JP 462981 A JP462981 A JP 462981A JP 462981 A JP462981 A JP 462981A JP S5815553 B2 JPS5815553 B2 JP S5815553B2
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- bath
- brightener
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- chlorine
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
発明の要約
電気被覆による錫の光沢析出層は、硫酸の他に錫塩と光
沢剤と表面活性剤とを含有する浴を使用して得られ、こ
こで光沢剤としては一般式〔式中、Ｈａｌは塩素または
臭素であり、Ｒはフェニル、ナフチルまたはピリジル基
であって必要に応じ塩素、臭素もしくは弗素原子、１〜
：３個の炭素原子を有するアルキルもしくはアルコキシ
基、カルボキンおよびヒドロキシ基よりなる群のうちの
１〜３個により置換される〕 の一種もしくはそれ以上の芳香族アルデヒドとエビハロ
ヒドリンとの環式反応生成物が使用される。
沢剤と表面活性剤とを含有する浴を使用して得られ、こ
こで光沢剤としては一般式〔式中、Ｈａｌは塩素または
臭素であり、Ｒはフェニル、ナフチルまたはピリジル基
であって必要に応じ塩素、臭素もしくは弗素原子、１〜
：３個の炭素原子を有するアルキルもしくはアルコキシ
基、カルボキンおよびヒドロキシ基よりなる群のうちの
１〜３個により置換される〕 の一種もしくはそれ以上の芳香族アルデヒドとエビハロ
ヒドリンとの環式反応生成物が使用される。
好ましくは、環式反応生成物は、浴１１当り０．１〜２
７の量で浴中に含何される。
７の量で浴中に含何される。
本発明は、錫の光沢被覆を、鉄もしくは銅またはこれら
金属の合金（たとえば青銅もしくは黄銅）のような基体
上に電着させるための酸性の錫浴に関するものである。
金属の合金（たとえば青銅もしくは黄銅）のような基体
上に電着させるための酸性の錫浴に関するものである。
米国特許第３７６９１８２号明細書から、錫および錫／
鉛層を電着するための酸性ガルヴァーニ浴が知られてお
り、これは錫イオンおよび必要に応じ鉛イオンと、硼弗
化水素酸と、２〜３０個のアルギレンオキシ基を有する
表面活性剤としてのアルコキシル化脂肪酸アルキロール
アミドと、一種もしくはそれ以上の芳香族アルデヒド、
すなわちそれぞれ２・４−および２・６−ジクロルベン
ズアルデヒドまたはベンズアルデヒド、２・５−ジメト
キシベンズアルデヒド、トルイルアルデヒド、シンナム
アルテ゛ヒトもしくはアニスアルデヒドとを含有する。
鉛層を電着するための酸性ガルヴァーニ浴が知られてお
り、これは錫イオンおよび必要に応じ鉛イオンと、硼弗
化水素酸と、２〜３０個のアルギレンオキシ基を有する
表面活性剤としてのアルコキシル化脂肪酸アルキロール
アミドと、一種もしくはそれ以上の芳香族アルデヒド、
すなわちそれぞれ２・４−および２・６−ジクロルベン
ズアルデヒドまたはベンズアルデヒド、２・５−ジメト
キシベンズアルデヒド、トルイルアルデヒド、シンナム
アルテ゛ヒトもしくはアニスアルデヒドとを含有する。
芳香族アルデヒドは芳香族アミンと組合せて使用される
が、ただし芳香族ハロアルデヒドはホルムアルデヒドお
よび１・２・４−トリクロルベンゼンおよび／またはア
ミンと共に使用される。
が、ただし芳香族ハロアルデヒドはホルムアルデヒドお
よび１・２・４−トリクロルベンゼンおよび／またはア
ミンと共に使用される。
すなわち、この特許の教示は、特にアミンの不存在下で
はアルデヒドが光沢剤として作用しないので、光沢析出
層を得るため芳香族アルデヒドと他の化合物との成る種
の組合せ物を使用することにある。
はアルデヒドが光沢剤として作用しないので、光沢析出
層を得るため芳香族アルデヒドと他の化合物との成る種
の組合せ物を使用することにある。
０．２〜１．２ａｍｐ／ｄｍ２という狭い範囲の電流密
度においては、無光沢の着色した析出層のみが生成され
うる。
度においては、無光沢の着色した析出層のみが生成され
うる。
さらに、不可欠な組合せとして開示されているように芳
香族アミンのｏ−トルイジンを芳香族アルデヒドと共に
使用すると、劣った性質のこれら析出層が得られること
も見出された。
香族アミンのｏ−トルイジンを芳香族アルデヒドと共に
使用すると、劣った性質のこれら析出層が得られること
も見出された。
２・４−ジクロルベンズアルデヒドを他の添加物と共に
使用すると、６．５ ａｍｐ／ｄｍ２ までの電流密度
は無光沢の析出層をもたらすことも見出された。
使用すると、６．５ ａｍｐ／ｄｍ２ までの電流密度
は無光沢の析出層をもたらすことも見出された。
、付加的光沢剤としてのナフタリンモノアルデヒドなら
びに必要に応じアクリル酸、メタクリル酸およびその低
級アルキルエステルおよびアミドを使用して上記のよう
な欠点を回避することがドイツ特許第２５０６１５８号
明細書から知られているが、それぞれ錫および錫／鉛の
光沢析出層の電着を阻害しかつ浴の正常な使用サイクル
を防げるようなタール状酸化生成物が形成されることが
判明した。
びに必要に応じアクリル酸、メタクリル酸およびその低
級アルキルエステルおよびアミドを使用して上記のよう
な欠点を回避することがドイツ特許第２５０６１５８号
明細書から知られているが、それぞれ錫および錫／鉛の
光沢析出層の電着を阻害しかつ浴の正常な使用サイクル
を防げるようなタール状酸化生成物が形成されることが
判明した。
今度、驚くことに、成る種の環式アセタールを光沢剤と
して使用すれば、これらの欠点が生ぜず、しかも０．０
１〜１０ａｍｐ／ｄｍ２という広範囲の低電流密度でも
同等の光沢乃至艶のある錫の軟かい析出層を生成させう
ることが見出された。
して使用すれば、これらの欠点が生ぜず、しかも０．０
１〜１０ａｍｐ／ｄｍ２という広範囲の低電流密度でも
同等の光沢乃至艶のある錫の軟かい析出層を生成させう
ることが見出された。
本発明によれば、硫酸の他に錫塩と光沢剤と表面活性剤
とを含有する光沢ある錫被覆を電着させるための酸性の
錫浴は、光沢剤として一般式〔式中、Ｈａｌは塩素また
は臭素であり、Ｒはフェニル、ナフチルまたはピリジル
基であって必要に応じ塩素、臭素および弗素原子、１〜
３個の炭素原子を有するアルキルおよびアルコキシ基、
カルボキシおよびヒト爾キシ基よりなる群のうちの１〜
３個により置換される〕 の一種もしくはそれ以上の芳香族アルデヒドとエピハロ
ヒドリンとの環式反応生成物を含有することを特徴とす
る。
とを含有する光沢ある錫被覆を電着させるための酸性の
錫浴は、光沢剤として一般式〔式中、Ｈａｌは塩素また
は臭素であり、Ｒはフェニル、ナフチルまたはピリジル
基であって必要に応じ塩素、臭素および弗素原子、１〜
３個の炭素原子を有するアルキルおよびアルコキシ基、
カルボキシおよびヒト爾キシ基よりなる群のうちの１〜
３個により置換される〕 の一種もしくはそれ以上の芳香族アルデヒドとエピハロ
ヒドリンとの環式反応生成物を含有することを特徴とす
る。
これらの環式アセタールは、１００〜１２０°Ｃまでの
温度の２Ｎ〜３Ｎ硫酸における溶液中で極めて安定であ
る。
温度の２Ｎ〜３Ｎ硫酸における溶液中で極めて安定であ
る。
アセタールを製造するのに適するアルデヒドは次のもの
である： ２−メトキシ−４−ヒドロギシベンズアルテ゛ヒト、 ｏ−メトキシベンズアルデヒド、 ４−ヒドロキシ−３−メトキシベンズアルデヒド、 ３・４−メトキシベンズアルデヒド、 ｏ−クロルベンズアルデヒド、 ２・４−ジクロルベンズアルデヒド、 ２・６−ジクロルベンズアルデヒド、 ｐ−クロルベンズアルデヒド、 ｏ−フタルアルデヒド、 １−ナフタリンアルデヒド、 ２−ナフタリンアルデヒド、 ピリジン−３−アルデヒド。
である： ２−メトキシ−４−ヒドロギシベンズアルテ゛ヒト、 ｏ−メトキシベンズアルデヒド、 ４−ヒドロキシ−３−メトキシベンズアルデヒド、 ３・４−メトキシベンズアルデヒド、 ｏ−クロルベンズアルデヒド、 ２・４−ジクロルベンズアルデヒド、 ２・６−ジクロルベンズアルデヒド、 ｐ−クロルベンズアルデヒド、 ｏ−フタルアルデヒド、 １−ナフタリンアルデヒド、 ２−ナフタリンアルデヒド、 ピリジン−３−アルデヒド。
添加物の溶解を向上させるため、当分前で知られている
ように、公知の補助溶剤を浴中に使用することができる
。
ように、公知の補助溶剤を浴中に使用することができる
。
適する溶剤の例はイソプロパツール、メタノール、ジエ
チレンクリコールモノメチルエーテルおよびエチレング
リコールモノメチルエーテルならびにエーテル類である
。
チレンクリコールモノメチルエーテルおよびエチレング
リコールモノメチルエーテルならびにエーテル類である
。
本発明の浴中に使用される好適な表面活性剤または乳化
剤は両性、陽イオン性および非イオン性の表面活性剤お
よびその配合物である。
剤は両性、陽イオン性および非イオン性の表面活性剤お
よびその配合物である。
特に好適ナモのは、アルキルフェノール１モル当り約１
０〜３０モルの酸化エチレンと縮合した特にたとえばノ
ニルフェノールのようなアルキルフェノール類である。
０〜３０モルの酸化エチレンと縮合した特にたとえばノ
ニルフェノールのようなアルキルフェノール類である。
さらに、たとえば芳香族アルデヒドおよびケトンのよう
な他の公知の添加物を、光沢剤として使用されるアセタ
ールと組合せて本発明の浴中に使用することもできる。
な他の公知の添加物を、光沢剤として使用されるアセタ
ールと組合せて本発明の浴中に使用することもできる。
、また、たとえばトリクロルベンゼンまたは特にアルカ
リ金属塩としてのクレゾールスルホン酸のような酸化防
止剤などの物質も使用することができる。
リ金属塩としてのクレゾールスルホン酸のような酸化防
止剤などの物質も使用することができる。
本発明の浴中における、それぞれアセタールおよびアセ
タール混合物の濃度は浴１１当り０．１〜２２、特に０
．４〜０８ノである。
タール混合物の濃度は浴１１当り０．１〜２２、特に０
．４〜０８ノである。
乳化剤の濃度は２〜２０ｇ／ｌであり、溶剤の濃度は２
〜１０容量％である。
〜１０容量％である。
、実施例 １および２
次の浴を調製した：
電気被覆を、２５℃の温度で１ａｍｐ／ｍｍ、の電流密
度にてハルセル（Ｈｕｌｌ ｃｅｌｌ）を用いて行なっ
た。
度にてハルセル（Ｈｕｌｌ ｃｅｌｌ）を用いて行なっ
た。
鉄板（厚さ０．３ｍｍ）の基体を用いると、０．０１〜
５ａｍｐ／ｄｍ２にて艶のある錫析出層が得られた。
５ａｍｐ／ｄｍ２にて艶のある錫析出層が得られた。
参考例
次の浴を調製した（量はｇ／ｌ）：
弗化硼素酸銀 １５弗化硼素
酸鉛 ５硼酸
１０硼弗化水素酸
１００２・６−シクロルベンズアルデヒ
ドと エピクロルヒドリンとの反応生成物 ０．３ノニ
ルフ工ノール１モルとエチレンオ １０キサイド１０
モルとの縮合生成物 機械的攪拌下に２ ａｍｐ ／ ５ ｍｉｎ、の電流密
度を用いてハルセル中にて電気被覆を行なった。
酸鉛 ５硼酸
１０硼弗化水素酸
１００２・６−シクロルベンズアルデヒ
ドと エピクロルヒドリンとの反応生成物 ０．３ノニ
ルフ工ノール１モルとエチレンオ １０キサイド１０
モルとの縮合生成物 機械的攪拌下に２ ａｍｐ ／ ５ ｍｉｎ、の電流密
度を用いてハルセル中にて電気被覆を行なった。
厚さ０．３關の鉄板の基体を用いると、０．１〜１０ａ
ｍｐ／ｄｍ２にて光沢ある錫析出層が得られた。
ｍｐ／ｄｍ２にて光沢ある錫析出層が得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 光沢剤として、一般式 〔式中、Ｈａｌは塩素または臭素であり、Ｒはフェニル
、ナフチルまたはピリジル基であって塩素、臭素および
弗素原子、１〜３個の炭素原子を有するアルキルおよび
アルコキシ基、カルボキシおよびヒドロキシ基よりなる
群のうちの１〜３個により置換されていてもよい〕 の一種もしくはそれ以上の芳香族アルデヒドとエピハロ
ヒドリンとの環式反応生成物を浴１１当り０．１〜２ｇ
の量で含有することを特徴とする、硫酸１２０〜２００
ｇ／ｌの他に錫塩２５〜４５ｇ／ｌと、光沢剤０．１〜
２９／ｌと、表面活性剤２〜２０ｇ／ｌとを含有する光
沢錫被覆を電着するための酸性の錫浴。 ２ 光沢剤として、一般式 〔式中、Ｈａｌは塩素または臭素であり、Ｒはフェニル
、ナフチルまたはピリジル基であって塩素、臭素および
弗素原子、１〜３個の炭素原子を有するアルキルおよび
アルコキシ基、カルボキシおよびヒドロキシ基よりなる
群のうちの１〜３個により置換されていてもよい〕 の一種もしくはそれ以上の芳香族アルデヒドとエピハロ
ヒドリンとの環式反応生成物を浴１１当り０．１〜２ｇ
の量で含有することを特徴とする、硫酸１２０〜２００
ｇ／ｌの他に錫塩２５〜４５１／ｌと、光沢剤０．１〜
２ｇ／、ｅと、表面活性剤２〜２０ｇ／ｌと、酸化防止
剤０．５〜１ｇ／ｌとを含有する光沢錫被覆を電着する
ための酸性の錫浴。 ３ 酸化防止剤としてトリクロルベンゼンまたはクレゾ
ールスルホン酸もしくはそのアルカリ金属塩を含有する
ことを特徴とする特許請求の範囲第２項記載の錫浴。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3001840 | 1980-01-18 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56139692A JPS56139692A (en) | 1981-10-31 |
| JPS5815553B2 true JPS5815553B2 (ja) | 1983-03-26 |
Family
ID=6092442
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP462981A Expired JPS5815553B2 (ja) | 1980-01-18 | 1981-01-17 | 錫の光沢被覆を電着するための酸性の錫浴 |
| JP19789382A Granted JPS5891182A (ja) | 1980-01-18 | 1982-11-12 | 錫／鉛の光沢被覆を電着するための酸性の錫／鉛浴 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19789382A Granted JPS5891182A (ja) | 1980-01-18 | 1982-11-12 | 錫／鉛の光沢被覆を電着するための酸性の錫／鉛浴 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (2) | JPS5815553B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4388161A (en) * | 1981-02-10 | 1983-06-14 | Elektro-Brite Gmbh & Co. Kg | Acid tin bath and tin/lead bath respectively for the electrode-position of lustrous coatings of tin and tin/lead respectively |
| JPS59191196A (ja) * | 1983-04-15 | 1984-10-30 | Hitachi Ltd | 不揮発性半導体記憶装置 |
| US5698087A (en) * | 1992-03-11 | 1997-12-16 | Mcgean-Rohco, Inc. | Plating bath and method for electroplating tin and/or lead |
| US7753815B2 (en) | 2007-01-19 | 2010-07-13 | Shimano Components (Malaysia) Sdn. Bhd. | Bicycle chain wheel assembly |
| US11814135B2 (en) | 2022-04-14 | 2023-11-14 | Shimano Inc. | Crank assembly for human powered vehicle |
-
1981
- 1981-01-17 JP JP462981A patent/JPS5815553B2/ja not_active Expired
-
1982
- 1982-11-12 JP JP19789382A patent/JPS5891182A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56139692A (en) | 1981-10-31 |
| JPS5891182A (ja) | 1983-05-31 |
| JPS6213436B2 (ja) | 1987-03-26 |
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