JPS6213436B2 - - Google Patents

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JPS6213436B2
JPS6213436B2 JP19789382A JP19789382A JPS6213436B2 JP S6213436 B2 JPS6213436 B2 JP S6213436B2 JP 19789382 A JP19789382 A JP 19789382A JP 19789382 A JP19789382 A JP 19789382A JP S6213436 B2 JPS6213436 B2 JP S6213436B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tin
lead
bath
electrodepositing
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP19789382A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5891182A (ja
Inventor
Ashimobitsuku Shimeon
Haintsu Rindeman Kaaru
Georuku Kuntsu Fuorukeru
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Erekutoro Burite Unto Co KG GmbH
Original Assignee
Erekutoro Burite Unto Co KG GmbH
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Filing date
Publication date
Application filed by Erekutoro Burite Unto Co KG GmbH filed Critical Erekutoro Burite Unto Co KG GmbH
Publication of JPS5891182A publication Critical patent/JPS5891182A/ja
Publication of JPS6213436B2 publication Critical patent/JPS6213436B2/ja
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  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
発明の要約 電着による錫/鉛合金の光沢析出層は、硼弗化
水素酸の他に錫塩および鉛塩と、光沢剤と、表面
活性剤とを含有する浴を使用して得られ、ここで
光沢剤としては、芳香族アルデヒドとエピハロヒ
ドリンとの反応生成物である一般式 〔式中、Halは塩素または臭素であり、Rはフ
エニル、ナフチルまたはピリジル基であつて必要
に応じ塩素、臭素もしくは弗素原子、1〜3個の
炭素原子を有するアルキルもしくはアルコキシ
基、カルボキシおよびヒドロキシ基よりなる群の
うちの1〜3個により置換される〕 の一種もしくはそれ以上の環式アセタール反応生
成物が使用される。好ましくは、環式反応生成物
は、浴1当り0.1〜2gの量で浴中に含有され
る。 本発明は、錫/鉛合金の光沢被覆を、鉄もしく
は銅またはこれら金属の合金(たとえば青銅もし
くは黄銅)のような基体上に電着させるための酸
性の錫/鉛浴に関するものである。 米国特許第3769182号明細書から、錫および
錫/鉛層を電着するための酸性ガルヴアーニ浴が
知られており、これは錫イオンおよび必要に応じ
鉛イオンと、硼弗化水素酸と、2〜30個のアルキ
レンオキシ基を有する表面活性剤としてのアルコ
キシル化脂肪酸アルキロールアミドと、一種もし
くはそれ以上の芳香族アルデヒド、すなわちそれ
ぞれ2,4―および2,6―ジクロルベンズアル
デヒドまたはベンズアルデヒド、2,5―ジメト
キシベンズアルデヒド、トルイルアルデヒド、シ
ンナムアルデヒドもしくはアニスアルデヒドとを
含有する。芳香族アルデヒドは芳香族アミンと組
合せて使用されるが、ただし芳香族ハロアルデヒ
ドはホルムアルデヒドおよび1,2,4―トリク
ロルベンゼンおよび/またはアミンと共に使用さ
れる。すなわち、この特許の教示は、特にアミン
の不存在下ではアルデヒドが光沢剤として作用し
ないので、光沢析出層を得るため芳香族アルデヒ
ドと他の化合物との或る種の組合せ物を使用する
ことにある。 0.2〜1.2amp/dm2という狭い範囲の電流密度
においては、無光沢の着色した析出層のみが生成
されうる。さらに、不可欠な組合せとして開示さ
れているように芳香族アミンのo―トルイジンを
芳香族アルデヒドと共に使用すると、劣つた性質
のこれら析出層が得られることも見出された。
2,4―ジクロルベンズアルデヒドを他の添加物
と共に使用すると、6.5amp/dm2までの電流密
度は無光沢の析出層をもたらすことも見出され
た。 付加的光沢剤としてのナフタリンモノアルデヒ
ドならびに必要に応じアクリル酸、メタクリル酸
およびその低級アルキルエステルおよびアミドを
使用して上記のような欠点を回避することがドイ
ツ特許第2506158号明細書から知られているが、
それぞれ錫および錫/鉛の光沢析出層の電着を阻
害しかつ浴の正常な使用サイクルを妨げるような
タール状酸化生成物が形成されることが判明し
た。 今度、驚くことに、或る種の環式アセタールを
光沢剤として使用すれば、これらの欠点が生ぜ
ず、しかも0.01〜10amp/dm2という広範囲の低
電流密度でも同等の光沢乃至艶のある錫および
錫/鉛の軟かい析出層を生成させうることが見出
された。 本発明によれば、硼弗化水素酸の他に錫塩およ
び鉛塩と、光沢剤と、表面活性剤とを含有する光
沢ある錫/鉛被覆を電着させるための酸性の錫/
鉛浴は、光沢剤芳香族アルデヒドとエピハロヒド
リンとの反応生成物である一般式 〔式中、Halは塩素または臭素であり、Rはフ
エニル、ナフチルまたはピリジル基であつて必要
に応じ塩素、臭素もしくは弗素原子、1〜3個の
炭素原子を有するアルキルもしくはアルコキシ
基、カルボキシおよびヒドロキシ基よりなる群の
うちの1〜3個により置換される〕 の一種もしくはそれ以上の環式アセタール反応生
成物を含有することを特徴とする。 これらの環式アセタールは、100〜120℃までの
温度の2N〜3N硫酸における溶液中で極めて安定
である。 アセタールを製造するのに適するアルデヒドは
次のものである: 2―メトキシ―4―ヒドロキシベンズアルデヒ
ド、 o―メトキシベンズアルデヒド、 4―ヒドロキシ―3―メトキシベンズアルデヒ
ド、 3,4―メトキシベンズアルデヒド、 o―クロルベンズアルデヒド、 2,4―ジクロルベンズアルデヒド、 2,6―ジクロルベンズアルデヒド、 p―クロルベンズアルデヒド、 o―フタルアルデヒド、 1―ナフタリンアルデヒド、 2―ナフタリンアルデヒド、 ピリジン―3―アルデヒド。 添加物の溶解を向上させるため、当分野で知ら
れているように、公知の補助溶剤を浴中に使用す
ることができる。適する溶剤の例はイソプロパノ
ール、メタノール、ジエチレングリコールモノメ
チルエーテルおよびエチレングリコールモノメチ
ルエーテルならびにエーテル類である。 本発明の浴中に使用される好適な表面活性剤ま
たは乳化剤は両性、陽イオン性および非イオン性
の表面活性剤およびその配合物である。特に好適
なものは、アルキルフエノール1モル当り約10〜
30モルの酸化エチレンと縮合した特にたとえばノ
ニルフエノールのようなアルキルフエノール類で
ある。 さらに、たとえば芳香族アルデヒドおよびケト
ンのような他の公知の添加物を、光沢剤として使
用されるアセタールと組合せて本発明の浴中に使
用することもできる。また、たとえばトリクロル
ベンゼンまたは特にアルカリ金属塩としてのクレ
ゾールスルホン酸のような酸化防止剤などの物質
も使用することができる。 本発明の浴中における、それぞれアセタールお
よびアセタール混合物の濃度は浴1当り0.1〜
2g、特に0.4〜0.8gである。乳化剤の濃度は2
〜20g/であり、溶剤の濃度は2〜10容量%で
ある。 参考例1および2 次の浴を調製した:
【表】 電着を、25℃の温度で1amp/min.の電流密度
にてハルセル(Hull cell)を用いて行なつた。
鉄板(厚さ0.3mm)の基体を用いると、0.01〜
5amp/dm2にて艶のある錫析出層が得られた。 実施例 1 次の浴を調製した(量はg/): 弗化硼素酸錫 15 弗化硼素酸鉛 5 硼 酸 10 硼弗化水素酸 100 2,6―ジクロルベンズアルデヒドとエピク
ロルヒドリンとの反応生成物 0.3 ノニルフエノール1モルとエチレンオキサイ
ド10モルとの縮合生成物 10 機械的撹拌下に2amp/5min.の電流密度を用い
てハルセル中にて電着を行なつた。厚さ0.3mmの
鉄板の基体を用いると、0.1〜10amp/dm2にて
光沢ある錫析出層が得られた。 実施例 2 錫―鉛浴を次のように調製した: 弗化硼素酸錫 15(g/) 弗化硼素酸鉛 5 硼 酸 10 硼弗化水素酸 100 ホルムアルデヒド (還元剤として) 5(ml/) 2,4―ジクロルベンズアルデヒド/エピハ
ロヒドリンとの反応生成物 0.3(g/) ノニルフエノール1モルと酸化エチレン14モ
ルとの縮合生成物(表面活性剤) 10 この浴は、25℃における0.1〜5amp/10min.の
電流密度での電着により厚さ0.3mmの鉄板に光沢
ある析出層を与えた。 実施例 3 錫―鉛浴を次のように調製した: 弗化硼素酸錫 20(g/) 弗化硼素酸鉛 7.5 硼 酸 15 硼弗化水素酸 150 クレゾールスルホン酸ナトリウム(酸化防止
剤) 1 ホルムアルデヒド(還元剤) 7.5(ml/) 2,6―ジクロルベンズアルデヒド/エピハ
ロヒドリンと反応生成物 0.3(g/) 4―ヒドロキシ―3―メトキシ―ベンズアル
デヒドとエピハロヒドリンとの反応生成物
0.2 ノニルフエノール1モルと酸化エチレン14モ
ルとの縮合生成物(表面活性剤) 8 この浴は、25℃における0.05〜5amp/10min.
の電流密度での電気被覆により厚さ0.3mmの鉄板
に光沢ある錫/鉛合金の析出層を与えた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 硼弗化水素酸100〜150g/の他に錫塩およ
    び鉛塩20〜27.5g/と、光沢剤0.1〜2g/
    と、表面活性剤2〜20g/とを含有する光沢
    錫/鉛被覆を電着するための酸性の錫/鉛浴にお
    いて、前記光沢剤として、芳香族アルデヒドとエ
    ピハロヒドリンとの反応生成物である一般式 〔式中、Halは塩素または臭素原子であり、R
    はフエニル、ナフチルまたはピリジル基であつて
    塩素原子、臭素原子、弗素原子、1〜3個の炭素
    原子を有するアルキルまたはアルコキシ基、カル
    ボキシ基、またはヒドロキシ基よりなる群から選
    択される原子または基の1〜3個により置換され
    ていてもよい〕 の環式アセタール化合物の一種もしくはそれ以上
    を含有することを特徴とする錫/鉛の光沢被覆を
    電着するための酸性の錫/鉛浴。 2 酸化防止剤0.5〜1g/を含有する特許請
    求の範囲第1項記載の錫/鉛の光沢被覆を電着す
    るための酸性の錫/鉛浴。 3 酸化防止剤としてトリクロルベンゼンまたは
    クレゾールスルホン酸もしくはそのアルカリ金属
    塩を含有することを特徴とする特許請求の範囲第
    2項記載の錫/鉛の光沢被覆を電着するための酸
    性の錫/鉛浴。
JP19789382A 1980-01-18 1982-11-12 錫/鉛の光沢被覆を電着するための酸性の錫/鉛浴 Granted JPS5891182A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE3001840.7 1980-01-18
DE3001840 1980-01-18

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Publication Number Publication Date
JPS5891182A JPS5891182A (ja) 1983-05-31
JPS6213436B2 true JPS6213436B2 (ja) 1987-03-26

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP462981A Expired JPS5815553B2 (ja) 1980-01-18 1981-01-17 錫の光沢被覆を電着するための酸性の錫浴
JP19789382A Granted JPS5891182A (ja) 1980-01-18 1982-11-12 錫/鉛の光沢被覆を電着するための酸性の錫/鉛浴

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JP462981A Expired JPS5815553B2 (ja) 1980-01-18 1981-01-17 錫の光沢被覆を電着するための酸性の錫浴

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4388161A (en) * 1981-02-10 1983-06-14 Elektro-Brite Gmbh & Co. Kg Acid tin bath and tin/lead bath respectively for the electrode-position of lustrous coatings of tin and tin/lead respectively
JPS59191196A (ja) * 1983-04-15 1984-10-30 Hitachi Ltd 不揮発性半導体記憶装置
US5698087A (en) * 1992-03-11 1997-12-16 Mcgean-Rohco, Inc. Plating bath and method for electroplating tin and/or lead
US7753815B2 (en) 2007-01-19 2010-07-13 Shimano Components (Malaysia) Sdn. Bhd. Bicycle chain wheel assembly
US11814135B2 (en) 2022-04-14 2023-11-14 Shimano Inc. Crank assembly for human powered vehicle

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Publication number Publication date
JPS5891182A (ja) 1983-05-31
JPS56139692A (en) 1981-10-31
JPS5815553B2 (ja) 1983-03-26

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