JPS58150199A - メモリの機能試験方法および装置 - Google Patents
メモリの機能試験方法および装置Info
- Publication number
- JPS58150199A JPS58150199A JP58023673A JP2367383A JPS58150199A JP S58150199 A JPS58150199 A JP S58150199A JP 58023673 A JP58023673 A JP 58023673A JP 2367383 A JP2367383 A JP 2367383A JP S58150199 A JPS58150199 A JP S58150199A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- memory
- word
- voltage
- transistor
- erase
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C29/00—Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
- G11C29/04—Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
- G11C29/50—Marginal testing, e.g. race, voltage or current testing
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C16/00—Erasable programmable read-only memories
- G11C16/02—Erasable programmable read-only memories electrically programmable
- G11C16/04—Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS
Landscapes
- For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
- Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)
- Read Only Memory (AREA)
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、メモリトランジスタを有するメモリセルを何
しワードごとに電気的にグログラム変更可能なメモリの
機能試験方法およびその実施のための装置に関する。
しワードごとに電気的にグログラム変更可能なメモリの
機能試験方法およびその実施のための装置に関する。
この種のメモリは一般に+ijKPROM(電気的に消
去可能かつ再書込み可能な読出し専用メモリ)と呼ばれ
ており、たとえばドイツ連邦共和国特許第244513
7号(米国特許第4087795号)明細dまたは雑g
Electronics 、 1980年2月28
日、第111〜117貞から公知のようにフローティン
グゲート技術でまたはたとえばMNOSメモリのような
固定ポジションメモリとして実現されていてよい。
去可能かつ再書込み可能な読出し専用メモリ)と呼ばれ
ており、たとえばドイツ連邦共和国特許第244513
7号(米国特許第4087795号)明細dまたは雑g
Electronics 、 1980年2月28
日、第111〜117貞から公知のようにフローティン
グゲート技術でまたはたとえばMNOSメモリのような
固定ポジションメモリとして実現されていてよい。
これらのメモリは、メモリ形式に応じてメモリワードあ
たり1mBと18との間の比較的長いプログラム変更時
間を必要とするという欠点を有する。この欠点は、特に
FEFROMメモリの検査の際に、すべてのメモリビッ
トの機能をチェックするためメモリアドレスが次々と消
去されかつ書込まれなければならないときに認められる
。たとえばアドレスあたりの消去時間が10mJfた書
込み時間がlOm&である場合、8ビット組織を有する
l 6 kBjtのl[cEpRouij2000アド
レスのすべての検査のために理論的に408を必要とす
る。しかし、この検査時間は、最近の自動検査装置の費
用を考慮に入れると長過ぎる。
たり1mBと18との間の比較的長いプログラム変更時
間を必要とするという欠点を有する。この欠点は、特に
FEFROMメモリの検査の際に、すべてのメモリビッ
トの機能をチェックするためメモリアドレスが次々と消
去されかつ書込まれなければならないときに認められる
。たとえばアドレスあたりの消去時間が10mJfた書
込み時間がlOm&である場合、8ビット組織を有する
l 6 kBjtのl[cEpRouij2000アド
レスのすべての検査のために理論的に408を必要とす
る。しかし、この検査時間は、最近の自動検査装置の費
用を考慮に入れると長過ぎる。
検査時間、従ってまた検査費用を減するためには種々の
方法があるが、従来の方法にはいずれも欠点がある。た
とえば、1つのメモリに書込まれている古い情報の消去
はすべてのメモリアドレスに対して同時に行なわれ得る
。そのため、多くのEgFROMiCは全体消去モード
が組込まれており、それにより消去時間はほとんど問題
にしなくてよいようになる。しかし、EEPROMKi
与の検査パターンを同時に誉込む全体書込みは常に可能
と社限らな゛い。チャネル注入により蓄込みが行なわれ
るフローティングゲート・メモリでは。
方法があるが、従来の方法にはいずれも欠点がある。た
とえば、1つのメモリに書込まれている古い情報の消去
はすべてのメモリアドレスに対して同時に行なわれ得る
。そのため、多くのEgFROMiCは全体消去モード
が組込まれており、それにより消去時間はほとんど問題
にしなくてよいようになる。しかし、EEPROMKi
与の検査パターンを同時に誉込む全体書込みは常に可能
と社限らな゛い。チャネル注入により蓄込みが行なわれ
るフローティングゲート・メモリでは。
全体蒼込みはたとえば電流消費および損失電力の理由か
ら不可能である。トンネル効果により作動し、とるにた
るほどの電流を流される必要のないEIICPROMで
は、全体書込みφ;基本的には可能であるが、そのため
にはメモリのデコーダおよび制御論理部分への深い干渉
を必要とする。加えて、個別アドレスの誤りなしのプロ
グラミング動作は点検されない。
ら不可能である。トンネル効果により作動し、とるにた
るほどの電流を流される必要のないEIICPROMで
は、全体書込みφ;基本的には可能であるが、そのため
にはメモリのデコーダおよび制御論理部分への深い干渉
を必要とする。加えて、個別アドレスの誤りなしのプロ
グラミング動作は点検されない。
組立てられた状態では、検査をワードごとに、しかも多
数のサンプルで同時に行ない、それにより検査時間を節
減することができる。しかし、この方法はまだ半導体チ
ップ上に位置しているメモリの検査のためには実際上の
理由から実行可能でない。なぜならば、個々のメモリシ
ステムが探針で接触されなければならないので、多くの
場合に抜取検査にとどめざるを得ないからである。
数のサンプルで同時に行ない、それにより検査時間を節
減することができる。しかし、この方法はまだ半導体チ
ップ上に位置しているメモリの検査のためには実際上の
理由から実行可能でない。なぜならば、個々のメモリシ
ステムが探針で接触されなければならないので、多くの
場合に抜取検査にとどめざるを得ないからである。
本発明の目的は、上記のような欠点を伴なわずに、KB
FROMの機能試験に費する時間を顕著に短縮し得る機
能試験方法および装置を提供することである。
FROMの機能試験に費する時間を顕著に短縮し得る機
能試験方法および装置を提供することである。
この目的は、本発明によれば、冒頭に記載した種類の方
法において、機能試験中にメモリトランジスタの続出し
窓の幅が通常作動中に比較して減ぜられることにより達
成される。
法において、機能試験中にメモリトランジスタの続出し
窓の幅が通常作動中に比較して減ぜられることにより達
成される。
通常作動中のKEFROMのプログラム変更の際には、
メモリセルのトランジスタのしきい値電圧は消去または
書込みの際に通常のように、消去された状態と書込まれ
た状態との間に製造時の許容差、供給電圧の許容差また
は経時変化のすべてを考慮に入れて所与の読出し電圧に
対して十分な余裕を持った輪の読出し窓が生ずるように
負または正の方向にシフトされる。ここで、読出し窓と
は消去された状態のメモリトランジスタのしきい値電圧
と誉込まれた状態のメモリトランジスタのしきい値電圧
との間の電圧範囲を指し、また続出し電圧とは読出しの
ためにメモリトランジスタのゲートに与えるべき電圧を
指している。本発明によれば、読出し窓が検査作動の際
にデータ喪失に対する安全性を放棄して小さくされ、そ
れにより検査時間が節減される。
メモリセルのトランジスタのしきい値電圧は消去または
書込みの際に通常のように、消去された状態と書込まれ
た状態との間に製造時の許容差、供給電圧の許容差また
は経時変化のすべてを考慮に入れて所与の読出し電圧に
対して十分な余裕を持った輪の読出し窓が生ずるように
負または正の方向にシフトされる。ここで、読出し窓と
は消去された状態のメモリトランジスタのしきい値電圧
と誉込まれた状態のメモリトランジスタのしきい値電圧
との間の電圧範囲を指し、また続出し電圧とは読出しの
ためにメモリトランジスタのゲートに与えるべき電圧を
指している。本発明によれば、読出し窓が検査作動の際
にデータ喪失に対する安全性を放棄して小さくされ、そ
れにより検査時間が節減される。
読出し窓の幅が少なくとも50%Th特に少なくとも8
0%減ぜられることは有利である。
0%減ぜられることは有利である。
読出し窓が小さくされかつ読出し電、圧が固定されてい
る場合2個々のメモリセルが所定のφ件下で仕様を満足
しているにもかかわらず、読出し電圧がもはや窓間隔内
に位置しないために個々のメモリセルが故障と報知され
るおそれがある。このようなおそれをなくすために、続
出し窓の幅が消去および書込み過程の時間調節により減
ぜられることは有利である。
る場合2個々のメモリセルが所定のφ件下で仕様を満足
しているにもかかわらず、読出し電圧がもはや窓間隔内
に位置しないために個々のメモリセルが故障と報知され
るおそれがある。このようなおそれをなくすために、続
出し窓の幅が消去および書込み過程の時間調節により減
ぜられることは有利である。
メモリのメモリセルの消去および簀込み用の制御回路が
樵々の消去または書込み時間で駆動され、また消去また
は1込み時間の終了がメモリの少なくとも1つのメモリ
セルの所与の消去または蕾込み状態への到達全チェック
することにより検出可能であること、所与の消去状態へ
の到達がメモリトランジスタのしきい値電圧を所与の消
去チェック電圧と比較す−ることによシ検出されること
、また所与の誓込み状態への到達がメモリトランジスタ
のしきい値電圧を所与の書込みチェック電圧と比較する
ことにより検出されることは本発明の範囲内である。
樵々の消去または書込み時間で駆動され、また消去また
は1込み時間の終了がメモリの少なくとも1つのメモリ
セルの所与の消去または蕾込み状態への到達全チェック
することにより検出可能であること、所与の消去状態へ
の到達がメモリトランジスタのしきい値電圧を所与の消
去チェック電圧と比較す−ることによシ検出されること
、また所与の誓込み状態への到達がメモリトランジスタ
のしきい値電圧を所与の書込みチェック電圧と比較する
ことにより検出されることは本発明の範囲内である。
機能試験中の読出し窓の減少がメモリトランジスタの制
御ゲートに与え得るチェック電圧を変更することにより
設定されることは有利である。これは消去および書込み
過程の時間調節用にメモリチップ上に集積さtた回路装
置により達成され得る。しかし、メモリトランジスタの
内部ゲート電圧をメモリチップ上に集積配置された補助
回路により特定の仕方で切換えることも可能である。こ
の場合、メモリトランジスタの制御ゲートに与える電圧
を接続パッドを介して外部で変更することは有利である
。
御ゲートに与え得るチェック電圧を変更することにより
設定されることは有利である。これは消去および書込み
過程の時間調節用にメモリチップ上に集積さtた回路装
置により達成され得る。しかし、メモリトランジスタの
内部ゲート電圧をメモリチップ上に集積配置された補助
回路により特定の仕方で切換えることも可能である。こ
の場合、メモリトランジスタの制御ゲートに与える電圧
を接続パッドを介して外部で変更することは有利である
。
消去および誉込みチェック電圧が読出し電圧と一緒に1
つの共通の分圧器によシ発生され、がつ単−の上位電圧
の変更により制御されることは有利である。
つの共通の分圧器によシ発生され、がつ単−の上位電圧
の変更により制御されることは有利である。
さらに、メモリトランジスタのしきい値電圧のシフトが
プログラム変更の際に一つの方向にはすべてのメモリア
ドレスに対して同時に、また他の方向には時間的に次々
と、特にワードごとに、行なわれること、メモリトラン
ジスタのしきい値電圧のシフトがプログラム変更の際に
すべてのメモリアドレスに対して同時に行なわれること
、またメモリトランジスタのしきいイ直寛圧のシフトが
消去および書込みの際にワード直列に行なわれることは
本発明の範囲内である。
プログラム変更の際に一つの方向にはすべてのメモリア
ドレスに対して同時に、また他の方向には時間的に次々
と、特にワードごとに、行なわれること、メモリトラン
ジスタのしきい値電圧のシフトがプログラム変更の際に
すべてのメモリアドレスに対して同時に行なわれること
、またメモリトランジスタのしきいイ直寛圧のシフトが
消去および書込みの際にワード直列に行なわれることは
本発明の範囲内である。
本発明による方法を実施するための装置において、消去
および曹込み用の制御装置として、各メモリセルに対し
て可変の消去または書込み時間で作動し、かつ消去また
は簀込み時間の終了を消去または簀込みすべきメモリセ
ルがらの少゛なくとも1つのメモリセルの所与の消去ま
たは簀込み状態への到−、、傘チェックすることにより
検出する制御装置が設けられていることは有利である。
および曹込み用の制御装置として、各メモリセルに対し
て可変の消去または書込み時間で作動し、かつ消去また
は簀込み時間の終了を消去または簀込みすべきメモリセ
ルがらの少゛なくとも1つのメモリセルの所与の消去ま
たは簀込み状態への到−、、傘チェックすることにより
検出する制御装置が設けられていることは有利である。
以下、図面によシ本発明を一層詳細に説明する。
図面中、四−の要素には同一の参照符号が付されている
。
。
第1図には不揮発性でプログラム変更可能なメ%!J
(KFiPROM)l Oの回路図が示されている。そ
の制御およびチェック論理回路は、図面を見やすくする
ため、一部分のみが示されてbる。
(KFiPROM)l Oの回路図が示されている。そ
の制御およびチェック論理回路は、図面を見やすくする
ため、一部分のみが示されてbる。
EE、PROM10は1図示されている例では、マトリ
クス状に配置され各1つのメモリトランジスタ11を有
する24個のメモリセル20 、t14L48から成っ
ており、それぞれ4個のメモリセル、従ってまた4個の
ビットが1つのメモリ行を形成している。このIEFR
OM 10の構成例は図面を見やすくするため選定され
たものであり1本発明による方法はもつとビット数の多
いメモリたと身。
クス状に配置され各1つのメモリトランジスタ11を有
する24個のメモリセル20 、t14L48から成っ
ており、それぞれ4個のメモリセル、従ってまた4個の
ビットが1つのメモリ行を形成している。このIEFR
OM 10の構成例は図面を見やすくするため選定され
たものであり1本発明による方法はもつとビット数の多
いメモリたと身。
ば16kBitのE Ei F ROM(C%に適しテ
0ル。
0ル。
さらに第1図には、図面を見やすくするため、ただ1つ
のメモリトランジスタ11しか示されてぃない。1つの
メモリセルは、雑g E]、ectronlcB。
のメモリトランジスタ11しか示されてぃない。1つの
メモリセルは、雑g E]、ectronlcB。
1980年2月28日、第113〜117頁から公知の
ように、1つのメモリトランジスタ11と第1図には図
面を見やすくするため図示されていない1つの選択トラ
ンジスタとから成っていてよい。
ように、1つのメモリトランジスタ11と第1図には図
面を見やすくするため図示されていない1つの選択トラ
ンジスタとから成っていてよい。
本発明によれば、メモリ10のメモリセルのメモリトラ
ンジスタ11はメモIJ 10の機能拭験中には通常作
動中にくりべて小さな読出し窓を有する。ここで、読出
し窓とFi、 4込まれた状態と消去された状態とにお
けるメモリトランジスタ11のしきい値電圧の大きさの
差を指している。
ンジスタ11はメモIJ 10の機能拭験中には通常作
動中にくりべて小さな読出し窓を有する。ここで、読出
し窓とFi、 4込まれた状態と消去された状態とにお
けるメモリトランジスタ11のしきい値電圧の大きさの
差を指している。
セル20ないし43のメモリトランジスタの胱出し窓の
幅は機部試験中はたとえばドイツ連邦共和国特許出願公
開第2828855号公報に詳細に示されているプログ
ラミング時間制御を介して減ぜられかつ制御され得る。
幅は機部試験中はたとえばドイツ連邦共和国特許出願公
開第2828855号公報に詳細に示されているプログ
ラミング時間制御を介して減ぜられかつ制御され得る。
すなわち、X験中は読出し窓が狭くされるだけでなく、
メモリセルのプログラム変ψが、読出し窓に読出し電圧
を確実に内包する形態で制御される。上記引用文献に記
載されている時間制御は、メモリマトリクス1゜と接続
されている制御回路にょシ、各メモリ行z1 ないし
z6に対して可変の消去および書込み時間が設定され、
その終了は消去または誉込みすべきメモリ行からの1つ
またはいくつかのメモリセルの所与の消去または舊込み
状態への到達により示され、消去または誉込みすべきメ
モリ行の1つまたはいくつかのメモリセルの消去または
書込み状態はこのメモリ行の消去または誉込み時間中に
チェックされるように行なわれる。
メモリセルのプログラム変ψが、読出し窓に読出し電圧
を確実に内包する形態で制御される。上記引用文献に記
載されている時間制御は、メモリマトリクス1゜と接続
されている制御回路にょシ、各メモリ行z1 ないし
z6に対して可変の消去および書込み時間が設定され、
その終了は消去または誉込みすべきメモリ行からの1つ
またはいくつかのメモリセルの所与の消去または舊込み
状態への到達により示され、消去または誉込みすべきメ
モリ行の1つまたはいくつかのメモリセルの消去または
書込み状態はこのメモリ行の消去または誉込み時間中に
チェックされるように行なわれる。
その際、メモリマトリクスと接続されている制御回路に
よる制御は、1つのメモリセルの可変の消去時間を実現
するため、また1つまたはいくつかのメモリセルの消去
状態をチェックするため、メモリセルに与えられる消去
電圧が時間的に相い続く制別パルスにわけられ、パルス
休止期間にそれぞれ1つのチェック−続出し過程が挿入
されるように行なわれ得る。しかし、場合によっては。
よる制御は、1つのメモリセルの可変の消去時間を実現
するため、また1つまたはいくつかのメモリセルの消去
状態をチェックするため、メモリセルに与えられる消去
電圧が時間的に相い続く制別パルスにわけられ、パルス
休止期間にそれぞれ1つのチェック−続出し過程が挿入
されるように行なわれ得る。しかし、場合によっては。
同時O消去およびチェック読出しも行なわれ得るさらに
、ドイツ連邦共和国特許出願公開第2828855号公
報に示されているように、メモリマ) l)クスと接続
されている制御回路による制御は、チェックのため読出
されるすべてのメモリセルがUGL (ここにUGLは
1吏用されているメモリセルの所与のスレシホルド値)
よりも小さいかまたはそれと等しいスレシホルド電圧U
Tを有するとき、1つめメモリ行の消去時間が終了され
ているように行なわれる。
、ドイツ連邦共和国特許出願公開第2828855号公
報に示されているように、メモリマ) l)クスと接続
されている制御回路による制御は、チェックのため読出
されるすべてのメモリセルがUGL (ここにUGLは
1吏用されているメモリセルの所与のスレシホルド値)
よりも小さいかまたはそれと等しいスレシホルド電圧U
Tを有するとき、1つめメモリ行の消去時間が終了され
ているように行なわれる。
同様のことがロ]−変の畳込み時間を実現するための制
御回路に対しても当ては−まる。すなわち、この制御回
路による制御は、チェックのため読出されるすべてのメ
モリセルがUGS(ここにUGSは所与の齋込みチェッ
ク電圧)よりも大きいかまたはソレト寺しいスレシホル
ド電圧UTを有するとき、1つのメモリ行の書込み時−
Jが終了されているように行なわれる。
御回路に対しても当ては−まる。すなわち、この制御回
路による制御は、チェックのため読出されるすべてのメ
モリセルがUGS(ここにUGSは所与の齋込みチェッ
ク電圧)よりも大きいかまたはソレト寺しいスレシホル
ド電圧UTを有するとき、1つのメモリ行の書込み時−
Jが終了されているように行なわれる。
読出しのために心安とされる。メモリトランジスタ11
のゲートに与えるべきゲート電圧UGRの間の安全な最
小間隔を保証するため、所与のスレシホルド電圧値(U
GSおよびUGL)としてプログラミングおよび消去の
際のチェック読出しの際に心安とされるゲート電圧と、
メモリセルの読出し用のゲート電圧(UGR)とが、常
に口GL<UGRかつ同時にUGR<UGSの関係を満
足するように1つの共通の分圧器から取出されることは
有利である。
のゲートに与えるべきゲート電圧UGRの間の安全な最
小間隔を保証するため、所与のスレシホルド電圧値(U
GSおよびUGL)としてプログラミングおよび消去の
際のチェック読出しの際に心安とされるゲート電圧と、
メモリセルの読出し用のゲート電圧(UGR)とが、常
に口GL<UGRかつ同時にUGR<UGSの関係を満
足するように1つの共通の分圧器から取出されることは
有利である。
第1図には図面を艶やすくするため図示されていないソ
ース−ドレイン制御回路、評価論理回路。
ース−ドレイン制御回路、評価論理回路。
ゲート制御回路およびパルス部分を有する回路の詳細お
よびその回路技術的な実現に関してはドイツ連邦共和国
特許出願公開第2828855号公報に詳細に示されて
いる。
よびその回路技術的な実現に関してはドイツ連邦共和国
特許出願公開第2828855号公報に詳細に示されて
いる。
プログラミング時間制御は、試験に際してプログラム変
更過程中にメモリトランジスタ11のしきい値電圧(ス
レシホルド電圧) UTのそのつどの位置が、第3図の
上側部分に図示されているように、所与のチェック読出
し電圧UGLKまたli所4のチェック書込み電圧UG
SKと比較されるように行なわれる。スレシホルド電圧
UTがプログラムされた状態のスレシホルド電圧U’(
11゛の上側に位置すれば、nチャネルMO8トランジ
スタの場合、メモリトランジスタ11は確実に阻止され
ている。
更過程中にメモリトランジスタ11のしきい値電圧(ス
レシホルド電圧) UTのそのつどの位置が、第3図の
上側部分に図示されているように、所与のチェック読出
し電圧UGLKまたli所4のチェック書込み電圧UG
SKと比較されるように行なわれる。スレシホルド電圧
UTがプログラムされた状態のスレシホルド電圧U’(
11゛の上側に位置すれば、nチャネルMO8トランジ
スタの場合、メモリトランジスタ11は確実に阻止され
ている。
UT<Uλo (U’(10−プログラムされていない
状態のしきい値電圧)であれば、同じメモリトランジス
タ11は確実に導通している。従って、導通状態と阻止
状態との間の切換わりにより、メモリセルが所与のチェ
ック条件のもとに所望のプログラミング状態に到達した
か否かを検出することができる。こうしてチェック市圧
口GSKおよびUG LKの検出により電圧U’GIま
たは”GOi従ってまた読出し電圧UGRに対する読出
し窓の鴨が検出される。
状態のしきい値電圧)であれば、同じメモリトランジス
タ11は確実に導通している。従って、導通状態と阻止
状態との間の切換わりにより、メモリセルが所与のチェ
ック条件のもとに所望のプログラミング状態に到達した
か否かを検出することができる。こうしてチェック市圧
口GSKおよびUG LKの検出により電圧U’GIま
たは”GOi従ってまた読出し電圧UGRに対する読出
し窓の鴨が検出される。
従って、メモリセルのしきい値電圧は消去または書込み
の際に所定の値に設定句藺である。必智とされる消去時
11JIL’および書込み時間S′は第3図の)’il
1部分に凶事されている。
の際に所定の値に設定句藺である。必智とされる消去時
11JIL’および書込み時間S′は第3図の)’il
1部分に凶事されている。
試験中または機能チェック中は本発明により試験時間を
顧慮して狭い読出し窓、フローティングゲート・メモリ
の場合には数100mVの読出し窓が選定される。すな
わち、第3図中の読出し窓(U’GI −U’oo )
は数100mVの大きさテアル。
顧慮して狭い読出し窓、フローティングゲート・メモリ
の場合には数100mVの読出し窓が選定される。すな
わち、第3図中の読出し窓(U’GI −U’oo )
は数100mVの大きさテアル。
常時作動中は、製造時の許容差、供給電圧の変動および
経時変化を顧慮して、たとえば第2図中に示されている
ように、所与の読出し電圧に対して一層大きな安全間隔
を有する一層大きな幅の読出し窓が選定される。
経時変化を顧慮して、たとえば第2図中に示されている
ように、所与の読出し電圧に対して一層大きな安全間隔
を有する一層大きな幅の読出し窓が選定される。
本発明による試験方法は、メモリ10が通常作動中にも
プログラミングの時間制御によ゛り作動し、試験時に消
去または誉込み状態の到達に対する評価限界が読出し電
圧に向かう方向ヘシフトされるだけでよいならば、特に
簡単に応用され得る。このような広いほうの続出し窓(
UGI −Uoo )は第2図のように書込みチェック
電圧UGSGおよび続出しチェック電圧UGLGを選定
することにより得られる。この場合、チェック電圧は小
さい読出し窓(試験作動)におけるチェック電圧UG
SKおよび”GLKに比較して読出し電圧UGRから大
きく離れた位置にある。読出し窓の拡大に伴い、第2図
の一ト側部分に示されているように、消去時間りおよび
薯込み時間Sが長ぐなり、データ安全性が顕著に改善さ
れる。
プログラミングの時間制御によ゛り作動し、試験時に消
去または誉込み状態の到達に対する評価限界が読出し電
圧に向かう方向ヘシフトされるだけでよいならば、特に
簡単に応用され得る。このような広いほうの続出し窓(
UGI −Uoo )は第2図のように書込みチェック
電圧UGSGおよび続出しチェック電圧UGLGを選定
することにより得られる。この場合、チェック電圧は小
さい読出し窓(試験作動)におけるチェック電圧UG
SKおよび”GLKに比較して読出し電圧UGRから大
きく離れた位置にある。読出し窓の拡大に伴い、第2図
の一ト側部分に示されているように、消去時間りおよび
薯込み時間Sが長ぐなり、データ安全性が顕著に改善さ
れる。
第2図および第3図の図示は、ドイツ連邦共和国特許出
願公開第282885.5号公報に記載されている実施
例のようにチャネル注入によりプログラミフグ可能なn
チャネルMOSフローティングゲート・メモリトランジ
スタを使用する場合に関するものである。たとえば雑誌
E]ectronics 。
願公開第282885.5号公報に記載されている実施
例のようにチャネル注入によりプログラミフグ可能なn
チャネルMOSフローティングゲート・メモリトランジ
スタを使用する場合に関するものである。たとえば雑誌
E]ectronics 。
1980年2月28日、第113〜117貞に記II+
2されているようにnチャネル・トランジスタを使用す
る場合には、スレシホルド(しきい値)電圧U旧は消去
された状態に対するものに、′またスレンホルト電圧U
GOは書込まれた状態に対するものにそれぞれおきかえ
られる。
2されているようにnチャネル・トランジスタを使用す
る場合には、スレシホルド(しきい値)電圧U旧は消去
された状態に対するものに、′またスレンホルト電圧U
GOは書込まれた状態に対するものにそれぞれおきかえ
られる。
時間制御により通常作動の隙に平均的に既に。
固定の消去または誓込み時間の場合にくらべてプログラ
ミング時間短縮が達成される。さらに試験作動中の読出
し窓幅をたとえば通常作動中の読出し窓幅の10%に減
することにより、消去またけ誉込み時間に対するスレン
ホルト電圧の漸近線的経過のために、試験の際のプログ
ラミング時間社常時におけるそれの10%以下に、たと
えば行z1あたりまたはワードあたり10m5から1m
Bへ短縮される。
ミング時間短縮が達成される。さらに試験作動中の読出
し窓幅をたとえば通常作動中の読出し窓幅の10%に減
することにより、消去またけ誉込み時間に対するスレン
ホルト電圧の漸近線的経過のために、試験の際のプログ
ラミング時間社常時におけるそれの10%以下に、たと
えば行z1あたりまたはワードあたり10m5から1m
Bへ短縮される。
プログラミング時間制御を用いる際、読出しチェック電
圧および誓込みチェック電圧および読出し電圧UGRが
、所足の大小関係に従った電圧を生ずる1つの共通の分
圧器から取出されることは有利である。このことは特に
2通常作動に対しても試験作動に対してもプログラミン
グ時間制御を用いる際に邑てはまる。
圧および誓込みチェック電圧および読出し電圧UGRが
、所足の大小関係に従った電圧を生ずる1つの共通の分
圧器から取出されることは有利である。このことは特に
2通常作動に対しても試験作動に対してもプログラミン
グ時間制御を用いる際に邑てはまる。
そのだめの抵抗1.2.8,4.5および6の直列回路
から成る分圧器が第1図中に示されている。抵抗2と接
続されていない抵抗1の端子は、電圧UGFIflよシ
も大きい供給電圧UpK接続されている。抵抗5と接続
されていない抵抗6の端子は接地されている。抵抗1と
2との間から大きな絖出し窓(通常作動)の形成のだめ
のチェック書込み電圧[JGFIGが、抵抗2と8との
間から小さな読、出し窓(試験作動)の形成のための書
込みチェック電圧UG SKか、抵抗3と4との間から
本来の読出し電圧”ORが、抵抗4と5との間から小さ
な続出し窓(試験作動)の形成のだめの読出しチェック
電gllGLKが%また抵抗5と6との間から広い読出
し窓(通常作動)の形成のための読出しチェック電圧L
iGt、Gがそれぞれ取出される。
から成る分圧器が第1図中に示されている。抵抗2と接
続されていない抵抗1の端子は、電圧UGFIflよシ
も大きい供給電圧UpK接続されている。抵抗5と接続
されていない抵抗6の端子は接地されている。抵抗1と
2との間から大きな絖出し窓(通常作動)の形成のだめ
のチェック書込み電圧[JGFIGが、抵抗2と8との
間から小さな読、出し窓(試験作動)の形成のための書
込みチェック電圧UG SKか、抵抗3と4との間から
本来の読出し電圧”ORが、抵抗4と5との間から小さ
な続出し窓(試験作動)の形成のだめの読出しチェック
電gllGLKが%また抵抗5と6との間から広い読出
し窓(通常作動)の形成のための読出しチェック電圧L
iGt、Gがそれぞれ取出される。
チェック電圧UGSGおよびUGLGならびに続出17
市圧UGRは選択ゲート回路57.61および59とゲ
ート制御回路52の行デコーダを介して制御される選択
ゲート回路51とを介して通常作動中、広い読出し悪を
有すべきメモIJ )ランジスタIIのケートに与えら
れる。試験作動中はメモIJ )ランジスタ11のゲー
トは選択ゲート回路58.60および59と選択ゲート
回@51に相当する(図面を見やすくするため図示され
ていない)別の選択ゲート回路とを介して電圧UGSK
、 UGLKおよびUGRを与えられ、それにより
狭い読出し窓が形成される。選択ゲート回路51. 5
7.5B、 59゜60および61の制御はドイツ連邦
共和国特許出願公開第2828855号公報に記載され
ているゲート制御回路と同様に構成されていてよいゲー
ト制御回路52を介して行なわれる。
市圧UGRは選択ゲート回路57.61および59とゲ
ート制御回路52の行デコーダを介して制御される選択
ゲート回路51とを介して通常作動中、広い読出し悪を
有すべきメモIJ )ランジスタIIのケートに与えら
れる。試験作動中はメモIJ )ランジスタ11のゲー
トは選択ゲート回路58.60および59と選択ゲート
回@51に相当する(図面を見やすくするため図示され
ていない)別の選択ゲート回路とを介して電圧UGSK
、 UGLKおよびUGRを与えられ、それにより
狭い読出し窓が形成される。選択ゲート回路51. 5
7.5B、 59゜60および61の制御はドイツ連邦
共和国特許出願公開第2828855号公報に記載され
ているゲート制御回路と同様に構成されていてよいゲー
ト制御回路52を介して行なわれる。
メモリトランジスタ11のソースおよびドレインと接続
されている評価論理回路53およびソースおよびドレイ
ン制御回路54は同じくドイツ連邦共和国特許出願公開
第2828855号公報に記載されている評価論理回路
およびソースおよびドレイン制御回路と同様に構成され
ていてよい。
されている評価論理回路53およびソースおよびドレイ
ン制御回路54は同じくドイツ連邦共和国特許出願公開
第2828855号公報に記載されている評価論理回路
およびソースおよびドレイン制御回路と同様に構成され
ていてよい。
試験作動用および通常作動用としてそれぞれ1つの固有
の評価論理回路を設ける必要がある。
の評価論理回路を設ける必要がある。
しかし機能試験中のプログラミング時間調節の本発明に
よる方法は、時間調節のために必要な制御論理回路を自
蔵していない他のF2 F、 n、、鴫、q、Hメモリ
にも応用可能である。EEPROMの内部に本発明によ
る方法の応用のために必要とされる追加的条件は、メモ
リセルのメモリトランジスタ11のゲートにおける続出
し電圧に外部から影響を与え得ること、すなわちアナロ
グに変更し得ることだけである。このことはたとえば、
メモリにその−ゲートに影響を与える電圧を導く端子領
域(パッド)を設けておくことによシ痒成される。プロ
グラミング時間調節を実現するためのドイツ連邦共和国
特許出動公開第2828855号公報に詳細に記載され
ているプログラミングおよびチェック読出し電圧のパル
ス状経過はモジュール試験中に問題なく試験装置論理1
佃路により外部から実行され得る。
よる方法は、時間調節のために必要な制御論理回路を自
蔵していない他のF2 F、 n、、鴫、q、Hメモリ
にも応用可能である。EEPROMの内部に本発明によ
る方法の応用のために必要とされる追加的条件は、メモ
リセルのメモリトランジスタ11のゲートにおける続出
し電圧に外部から影響を与え得ること、すなわちアナロ
グに変更し得ることだけである。このことはたとえば、
メモリにその−ゲートに影響を与える電圧を導く端子領
域(パッド)を設けておくことによシ痒成される。プロ
グラミング時間調節を実現するためのドイツ連邦共和国
特許出動公開第2828855号公報に詳細に記載され
ているプログラミングおよびチェック読出し電圧のパル
ス状経過はモジュール試験中に問題なく試験装置論理1
佃路により外部から実行され得る。
集積されたメモリ回路において、試験作動中に内部ゲー
ト電圧をPjT足の仕方で切換え、それにより集積され
た時間制御論理回路なしでも外部回路または試験装置と
共同作用してプログラミング経過の時間制御を許す補助
回路を設けておくことも試験作動中に減ぜられた読出し
窓幅を得るための装置はメモリモジュール自体のなかに
配置されていてもよいし、たとえばメモリトランジスタ
のゲートに影響を与えられ得る市販のKleFROMメ
モリを本発明により作動させるためメモリモジュールの
外部に配置されていてもよい。
ト電圧をPjT足の仕方で切換え、それにより集積され
た時間制御論理回路なしでも外部回路または試験装置と
共同作用してプログラミング経過の時間制御を許す補助
回路を設けておくことも試験作動中に減ぜられた読出し
窓幅を得るための装置はメモリモジュール自体のなかに
配置されていてもよいし、たとえばメモリトランジスタ
のゲートに影響を与えられ得る市販のKleFROMメ
モリを本発明により作動させるためメモリモジュールの
外部に配置されていてもよい。
本発明による方法において、メモリセルの機能試験中に
続出し窓幅が通常作動中の窓幅の少なくとも50%だけ
、特に少なくとも80饅だけ減ぜられることは有利であ
る。通常作動中の窓幅の5ないし50%への減少が有利
であるが、メモリセルの設計が適当であれば、また作動
電圧の安定化が適当な費用で町げヒであれば、通常窓幅
の5%以下への減少も可能である。
続出し窓幅が通常作動中の窓幅の少なくとも50%だけ
、特に少なくとも80饅だけ減ぜられることは有利であ
る。通常作動中の窓幅の5ないし50%への減少が有利
であるが、メモリセルの設計が適当であれば、また作動
電圧の安定化が適当な費用で町げヒであれば、通常窓幅
の5%以下への減少も可能である。
本発明ta、フローナイングゲートeメモリセルを用い
たF!lPROMに°おいても、たとえばMNOSメモ
リセルを用いた他のEEPROMにおいても応用され得
る。
たF!lPROMに°おいても、たとえばMNOSメモ
リセルを用いた他のEEPROMにおいても応用され得
る。
第1図は本発明による方法を実施するだめの実施例の回
路図゛、第2図は広い読出し窓におけるメモリトランジ
スタのスレシホルト(Li!!い値)電圧ならびに消去
時間および書込み時間の時間的経過を示す図、第3図は
狭い続出し窓におけるメモリトランジスタのスレシホル
ド電圧ならびに消去時間および薔込み時間の時間的経過
を示す図である。 1()・・・EEPROM、11 ・・メモリトランジ
スタ% 20〜43・・・メモリセル、51.57〜6
2・・・選択ゲート回路、52・・・ゲート制御回路、
53・・評価論理(ロ)路、54・・・ソースおよびと
レイン制御N路、 L、 L’・・・消去時間、
S、 S’・・・蒼込み時間、UGo 、 U’(
”10・・・プログラムされていない状態のしきい1に
1に圧* UGl 、”Gl・・・プログラムされた
状態のしきい値電圧、UGR”’読出し電圧、U(JL
G 、 UGLK・・・消去チェック電圧* tJo
so 、■JGSK・・・if込みチェック電圧、
UT・・・メモリトランジスタのスレシホルド(しきい
値)電圧、zl−Z(B・・・メモリ行。
路図゛、第2図は広い読出し窓におけるメモリトランジ
スタのスレシホルト(Li!!い値)電圧ならびに消去
時間および書込み時間の時間的経過を示す図、第3図は
狭い続出し窓におけるメモリトランジスタのスレシホル
ド電圧ならびに消去時間および薔込み時間の時間的経過
を示す図である。 1()・・・EEPROM、11 ・・メモリトランジ
スタ% 20〜43・・・メモリセル、51.57〜6
2・・・選択ゲート回路、52・・・ゲート制御回路、
53・・評価論理(ロ)路、54・・・ソースおよびと
レイン制御N路、 L、 L’・・・消去時間、
S、 S’・・・蒼込み時間、UGo 、 U’(
”10・・・プログラムされていない状態のしきい1に
1に圧* UGl 、”Gl・・・プログラムされた
状態のしきい値電圧、UGR”’読出し電圧、U(JL
G 、 UGLK・・・消去チェック電圧* tJo
so 、■JGSK・・・if込みチェック電圧、
UT・・・メモリトランジスタのスレシホルド(しきい
値)電圧、zl−Z(B・・・メモリ行。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ■)メモリトランジスタ(11)を有するメモリセル(
20ないし43)を有しワードごとに電気的にプログラ
ム変臭可能なメモリの機Nヒ試験方法において、機能試
験中にメモリトランジスタ(j l )の続出し窓の−
が通常作動中に比較して減ぜられることを特徴′とする
ワードごとに電気的にプログラム変臭可能なメモリの機
能試験方法。 2)読出し窓の−が少なくとも50%、特に少なくとも
80%減ぜられることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の方法。 3)続出し窓の暢が消去および書込み過程の時間調節に
より減ぜられることを特徴とする特許請求の範囲第1項
または第2項記載の方法。 4)メモリ(10)のメモリセル(,20ないし43)
の消去および書込み用の制御回路(52)が種々の消去
または書込み時間で駆動され。 また消去または書込み時間の終了がメモリの少なくとも
1つのメモリセル(11)の7W与の消去または誉込み
状態への到達をチェックすることにより検出可能である
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第8項の
いずれかに記載の方法。 5)所与の消去状態への到達がメモリトランジスタ(1
1)のしきい値電圧(UT)を所与の消去チェック電圧
(UGLK ) k比較することにより検出されること
を特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第4項のいず
れかに記載の方法。 6)所与の書込み状態への到達がメモIJ )ランジス
タ(11)のしきい値電圧(UT)を所与の書込みチェ
ック電圧(UGS、K )と比較することにより検出さ
れることを特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第5
項のいずれかに記載の方法。 7)機能試験中の読出し窓の減少がメモIJ トランジ
スタ(11)の制御ゲートに与え得るチェック電圧を変
更することにより設定されることを特徴とする特許請求
の範囲第1項ないし第6項のいずれかに記載の方法。 8)メモリトランジスタのしきい値電圧のシフトがプロ
グラム変更の瞳に一つの方向にはすべでのメモリアドレ
スに対して同時に、また他の方向には時間的に次々と、
特にワードごとに1行なわれることを特徴とする特許請
求の範囲第1項ないし第7項のいずれかに記載の方法。 9)メモリトランジスタのしきい電圧のシフトがプログ
ラム変更の際にすべてのメモリアドレスに対して同時に
行なわれることを特徴とする特許請求の範囲M1項ない
し第8項のbずれかに記載の方法。 10) メモリトランジスタのしきい電圧のシフトが
消去および書込みの際にワード直列にhなわれることを
特徴とする特許請求の範囲第1項ないし第9項のいずれ
かに記載の方法。 11)メモリトランジスタ(11)を有するメモリセル
(20ないし43)を有しワードごとに電気的にプログ
ラム変更可能なメモリの機能試験装置において5機能試
験中にメモリトランジスタ(tBの続出し窓の暢が通常
作動中に比較して滅ぜられるようにするため。 消去および書込み用の制御装置として、各メモリセル(
20ないし43)に対して可変の消去または書込み時間
(L’、B’)で作動し。 かつ消去または蓄込み時間(L’、B’)の終了を消去
または誉込みすべきメモリセル(zt)からの少なくと
も1つのメモリセル(11)の所与の消去または簀込み
状態への到達をチェックすることにより検出する制御装
置が設けられていることを特徴とするワードごとに電気
的にプログラム変更可能なメモリの機能試験装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19823205473 DE3205473A1 (de) | 1982-02-16 | 1982-02-16 | Verfahren und anordnung zur funktionspruefung eines elektrisch wortweise umprogrammierbaren speichers |
DE32054734 | 1982-02-16 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58150199A true JPS58150199A (ja) | 1983-09-06 |
Family
ID=6155846
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58023673A Pending JPS58150199A (ja) | 1982-02-16 | 1983-02-15 | メモリの機能試験方法および装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4755970A (ja) |
EP (1) | EP0086361B1 (ja) |
JP (1) | JPS58150199A (ja) |
AT (1) | ATE38295T1 (ja) |
DE (2) | DE3205473A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6378400A (ja) * | 1986-09-19 | 1988-04-08 | Fujitsu Ltd | Ram試験方式 |
JP2509297B2 (ja) * | 1987-08-31 | 1996-06-19 | 沖電気工業株式会社 | 自己訂正機能付半導体記憶装置及びマイクロコンピュ―タ |
US5844842A (en) * | 1989-02-06 | 1998-12-01 | Hitachi, Ltd. | Nonvolatile semiconductor memory device |
JPH0664918B2 (ja) * | 1989-05-25 | 1994-08-22 | ローム株式会社 | 自己訂正機能を有する半導体記憶装置 |
US5218569A (en) * | 1991-02-08 | 1993-06-08 | Banks Gerald J | Electrically alterable non-volatile memory with n-bits per memory cell |
US5361227A (en) * | 1991-12-19 | 1994-11-01 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Non-volatile semiconductor memory device and memory system using the same |
US6781895B1 (en) | 1991-12-19 | 2004-08-24 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Non-volatile semiconductor memory device and memory system using the same |
US6353554B1 (en) * | 1995-02-27 | 2002-03-05 | Btg International Inc. | Memory apparatus including programmable non-volatile multi-bit memory cell, and apparatus and method for demarcating memory states of the cell |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4087795A (en) * | 1974-09-20 | 1978-05-02 | Siemens Aktiengesellschaft | Memory field effect storage device |
DE2828855C2 (de) * | 1978-06-30 | 1982-11-18 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Wortweise elektrisch umprogrammierbarer, nichtflüchtiger Speicher sowie Verfahren zum Löschen bzw. Einschreiben eines bzw. in einen solchen Speicher(s) |
EP0059184A1 (en) * | 1980-09-08 | 1982-09-08 | Mostek Corporation | Go/no go margin test circuit for semiconductor memory |
JPS5896260A (ja) * | 1981-12-04 | 1983-06-08 | Fujitsu Ltd | Icメモリ試験方式 |
-
1982
- 1982-02-16 DE DE19823205473 patent/DE3205473A1/de not_active Withdrawn
-
1983
- 1983-01-25 AT AT83100648T patent/ATE38295T1/de active
- 1983-01-25 EP EP83100648A patent/EP0086361B1/de not_active Expired
- 1983-01-25 DE DE8383100648T patent/DE3378334D1/de not_active Expired
- 1983-02-15 JP JP58023673A patent/JPS58150199A/ja active Pending
-
1985
- 1985-12-30 US US06/814,620 patent/US4755970A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0086361A2 (de) | 1983-08-24 |
ATE38295T1 (de) | 1988-11-15 |
US4755970A (en) | 1988-07-05 |
EP0086361A3 (en) | 1986-03-12 |
DE3378334D1 (en) | 1988-12-01 |
DE3205473A1 (de) | 1983-08-25 |
EP0086361B1 (de) | 1988-10-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6226200B1 (en) | In-circuit memory array bit cell threshold voltage distribution measurement | |
US6731538B2 (en) | Semiconductor memory device including page latch circuit | |
US5428569A (en) | Non-volatile semiconductor memory device | |
US5784314A (en) | Method for setting the threshold voltage of a reference memory cell | |
US7362610B1 (en) | Programming method for non-volatile memory and non-volatile memory-based programmable logic device | |
US6181605B1 (en) | Global erase/program verification apparatus and method | |
KR960006423B1 (ko) | 원-타임 프로그램 가능 메모리 및 장치와 마이크로컴퓨터 | |
KR0172366B1 (ko) | 불휘발성 반도체 메모리 장치의 독출 및 프로그램 방법과 그 회로 | |
US6304486B1 (en) | Sensing time control device and method | |
US5930188A (en) | Memory circuit for performing threshold voltage tests on cells of a memory array | |
US4958324A (en) | Method for the testing of electrically programmable memory cells, and corresponding integrated circuit | |
JPS6048840B2 (ja) | 半固定記憶装置集積回路 | |
GB2264578A (en) | Nonvolatile semiconductor memory | |
JPH06267300A (ja) | 不揮発性半導体記憶装置と半導体装置及びその試験方法 | |
US6639848B2 (en) | Semiconductor memory device and method for testing the same | |
US6188603B1 (en) | Nonvolatile memory device | |
JPS58150199A (ja) | メモリの機能試験方法および装置 | |
US5491662A (en) | Microcontroller memory cell current reading method | |
KR0133450B1 (ko) | 불휘발성 반도체 기억장치 및 그 시험방법 | |
US5619451A (en) | Method for the erasure of a memory, and circuits for the implementation thereof | |
JPS58150191A (ja) | 不揮発性メモリ | |
JP3468730B2 (ja) | 不揮発性半導体記憶装置の試験方法 | |
JP3490034B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
KR100245413B1 (ko) | 불 휘발성 반도체 메모리 장치의 기입 방법 | |
JP3123983B2 (ja) | 不揮発性半導体記憶装置 |