JPS58145627A - ガラス基板の製造方法 - Google Patents
ガラス基板の製造方法Info
- Publication number
- JPS58145627A JPS58145627A JP2954882A JP2954882A JPS58145627A JP S58145627 A JPS58145627 A JP S58145627A JP 2954882 A JP2954882 A JP 2954882A JP 2954882 A JP2954882 A JP 2954882A JP S58145627 A JPS58145627 A JP S58145627A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- glass substrate
- molten
- liquid crystal
- float bath
- Prior art date
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- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B29/00—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins
- C03B29/04—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins in a continuous way
- C03B29/06—Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins in a continuous way with horizontal displacement of the products
- C03B29/08—Glass sheets
- C03B29/12—Glass sheets being in a horizontal position on a fluid support, e.g. a gas or molten metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B15/00—Drawing glass upwardly from the melt
- C03B15/02—Drawing glass sheets
- C03B15/12—Construction of the annealing tower
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B25/00—Annealing glass products
- C03B25/04—Annealing glass products in a continuous way
- C03B25/06—Annealing glass products in a continuous way with horizontal displacement of the glass products
- C03B25/08—Annealing glass products in a continuous way with horizontal displacement of the glass products of glass sheets
- C03B25/093—Annealing glass products in a continuous way with horizontal displacement of the glass products of glass sheets being in a horizontal position on a fluid support, e.g. a gas or molten metal
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はガラス基板の製造方法に関する。
従来、液晶セルのガラス基板はコルバーン式と呼ばれる
方式によって製造がなされた。このコルバーン式とは第
１図に示される様に融解ガラスを一度真上に引き上げ次
にすぐ太いローラーで直角に曲げて水平に引く方式であ
る。この方式によれば非常に薄いガラス板（０，３，０
，５，０７，１，０順等）を製造可能であるが、第２図
に示す様に基板の引き上げ方向Ａに直角なリボン方向Ｂ
においてうねりを生ずる欠点がある。上記コルバーン式
で製造された基板をＴＮ−ＦＥＭ小型液晶表示素子に使
用した場合には上記うねりは表示品位に対して比較的影
響が少々いが、上記コルバーン式で製造された基板を大
型の液晶表示素子やゲスト・ホスト型液晶表示素子に使
用した場合は表示品位に対して影響が太きい。即ち大型
の液晶表示素子では干渉色や表示コントラストむらが発
生し、ゲスト・ホスト型液晶表示素子では非点灯部分の
着色部の色の濃淡むらが発生する。
方式によって製造がなされた。このコルバーン式とは第
１図に示される様に融解ガラスを一度真上に引き上げ次
にすぐ太いローラーで直角に曲げて水平に引く方式であ
る。この方式によれば非常に薄いガラス板（０，３，０
，５，０７，１，０順等）を製造可能であるが、第２図
に示す様に基板の引き上げ方向Ａに直角なリボン方向Ｂ
においてうねりを生ずる欠点がある。上記コルバーン式
で製造された基板をＴＮ−ＦＥＭ小型液晶表示素子に使
用した場合には上記うねりは表示品位に対して比較的影
響が少々いが、上記コルバーン式で製造された基板を大
型の液晶表示素子やゲスト・ホスト型液晶表示素子に使
用した場合は表示品位に対して影響が太きい。即ち大型
の液晶表示素子では干渉色や表示コントラストむらが発
生し、ゲスト・ホスト型液晶表示素子では非点灯部分の
着色部の色の濃淡むらが発生する。
更に詳しく謂えば、大型ＴＮ−ＦＥＭ液晶表示素子にお
いて２枚のガラス基板にうねりがあれば同一セル内でセ
ル間隙にかなりのばらつきが発生する。例えば約１ｎ厚
のガラス基板を６μのスペーサで挾んだ場合セル間隙に
６．５〜８．０．ａのばらつきが発生する。このセルの
上下面に偏光板を設置した場合液晶の複屈折性の影響で
所定の厚さの間隙部分で特定の干渉色が生ずる。捷だ、
上下基板間に電圧信号を印加した時にセル間隙が一定で
なければ液晶に加わる電界は部分的に異なるので表示ム
ラが発生ずる。又、ゲスト・ホスト型液晶表示素子の２
枚のガラス基板にうねりがあれば、同一セル内でセル間
隙にばらつきが発生するのでその間隙の大きい個所では
色が濃くなり間隙の小さい個所では色が薄くなる。つま
り濃淡むらが発生する。
いて２枚のガラス基板にうねりがあれば同一セル内でセ
ル間隙にかなりのばらつきが発生する。例えば約１ｎ厚
のガラス基板を６μのスペーサで挾んだ場合セル間隙に
６．５〜８．０．ａのばらつきが発生する。このセルの
上下面に偏光板を設置した場合液晶の複屈折性の影響で
所定の厚さの間隙部分で特定の干渉色が生ずる。捷だ、
上下基板間に電圧信号を印加した時にセル間隙が一定で
なければ液晶に加わる電界は部分的に異なるので表示ム
ラが発生ずる。又、ゲスト・ホスト型液晶表示素子の２
枚のガラス基板にうねりがあれば、同一セル内でセル間
隙にばらつきが発生するのでその間隙の大きい個所では
色が濃くなり間隙の小さい個所では色が薄くなる。つま
り濃淡むらが発生する。
本発明は以上の従来問題点に鑑みなされたものであり、
薄く、かつ平面性に優れたガラス基板を製造することが
できるガラス基板の製造方法を提供することを目的とす
るものである。
薄く、かつ平面性に優れたガラス基板を製造することが
できるガラス基板の製造方法を提供することを目的とす
るものである。
以下、本発明に係わるガラス基板の製造方法の一実施例
を図面を用いて詳細に説明する。
を図面を用いて詳細に説明する。
第２図は本発明に係わるガラス基板の製造方法の一実施
例を示す製造プロセス説明図である。
例を示す製造プロセス説明図である。
同図で１は融解ガラスであり、該融解ガラス１はローラ
ー２により真上に引き上げられ次にローラ３により直角
に曲げられフロートバス４に通される。ガラスはフロー
トバス４内で熔融金属（すず）５表面上に浮かべられ水
平に引かれる。６は加熱帯（燃料ガス）、７は冷却帯（
非酸化性気体）である。フロートバス４を出たガラスは
次に徐冷窯８に通され冷却される。徐冷窯８を出たガラ
スは切断工程を通り所定の大きさの基板に切断される。
ー２により真上に引き上げられ次にローラ３により直角
に曲げられフロートバス４に通される。ガラスはフロー
トバス４内で熔融金属（すず）５表面上に浮かべられ水
平に引かれる。６は加熱帯（燃料ガス）、７は冷却帯（
非酸化性気体）である。フロートバス４を出たガラスは
次に徐冷窯８に通され冷却される。徐冷窯８を出たガラ
スは切断工程を通り所定の大きさの基板に切断される。
以上の工程で製造されたガラス基板の全面にＳｉＯ□膜
を形成し、更に上記熔融金属（すず）に接しなかった面
に、透明導電膜（Ｉｎ−８ｎ系膜）をパターン化して形
成しく基板表面にすすが付着している為）、その上面に
配向制御膜を形成して液晶セルの基板とした。このガラ
ス基板を２枚対向せしめ１０μ±０．５μのガラス繊維
を基板表面に均一に散布し、上記２枚のガラス基板の周
囲部をシールを介して貼合わせ全面を均一にプレスし空
セルを作成した。この空セル内に黒色の２色性色素を含
有する。液晶物質を充填してゲスト・ホスト型液晶表示
素子を作成した。この表示素子をバンク光源のもとで点
灯したところ正面及び斜方向から見て全く表示色むらの
無い、表示品位において優れた表示素子を得た。
を形成し、更に上記熔融金属（すず）に接しなかった面
に、透明導電膜（Ｉｎ−８ｎ系膜）をパターン化して形
成しく基板表面にすすが付着している為）、その上面に
配向制御膜を形成して液晶セルの基板とした。このガラ
ス基板を２枚対向せしめ１０μ±０．５μのガラス繊維
を基板表面に均一に散布し、上記２枚のガラス基板の周
囲部をシールを介して貼合わせ全面を均一にプレスし空
セルを作成した。この空セル内に黒色の２色性色素を含
有する。液晶物質を充填してゲスト・ホスト型液晶表示
素子を作成した。この表示素子をバンク光源のもとで点
灯したところ正面及び斜方向から見て全く表示色むらの
無い、表示品位において優れた表示素子を得た。
又、上記製法によるガラス基板を大型のＴＮ−ＦＥＭ液
晶表示素子に用いた場合においても干渉色や表示ムラの
無い表示品位に優れた素子を得ることができた。
晶表示素子に用いた場合においても干渉色や表示ムラの
無い表示品位に優れた素子を得ることができた。
又、上記製法によるガラス基板はＤＡＰ効果ＨＡＮ効果
利用の液晶表示素子や、ＥＣＤＸＶＦＤ、ＥＬ、フォト
マスクの基板としても有用である。
利用の液晶表示素子や、ＥＣＤＸＶＦＤ、ＥＬ、フォト
マスクの基板としても有用である。
以上説明した本発明の製法によるガラス基板を大型液晶
表示素子の基板として使用した場合、セル厚は正確でし
かも均一であるので干渉色及び表示ムラを防止でき、又
ゲスト・ホスト型液晶表示素子の基板として使用した場
合、濃淡むらを防止でき、更に相転移型の液晶表示素子
の基板として使用する場合、セル厚が正確かつ均一であ
るので螺旋ピッチを比較的大きくしても表示品位を安定
して保つことができる０
表示素子の基板として使用した場合、セル厚は正確でし
かも均一であるので干渉色及び表示ムラを防止でき、又
ゲスト・ホスト型液晶表示素子の基板として使用した場
合、濃淡むらを防止でき、更に相転移型の液晶表示素子
の基板として使用する場合、セル厚が正確かつ均一であ
るので螺旋ピッチを比較的大きくしても表示品位を安定
して保つことができる０
第１図はコルバーン式の製造プロセス説明図、第２図は
コルバーン式の製造方法で製造したガラス基板の一部外
観斜視図、第３図は本発明に係わるガラス基板の製造方
法の一実施例の製造プロセス説明図を示す。 図中、 １：融解ガラス ２，３：ローラー４：フロ
ートバス ６：加熱帯 ｑ：冷部帯 ８：徐冷窯
コルバーン式の製造方法で製造したガラス基板の一部外
観斜視図、第３図は本発明に係わるガラス基板の製造方
法の一実施例の製造プロセス説明図を示す。 図中、 １：融解ガラス ２，３：ローラー４：フロ
ートバス ６：加熱帯 ｑ：冷部帯 ８：徐冷窯
Claims (1)
- １゜融解ガラスを真上に引き上げる第１の工程と、前記
ガラスを直角に曲げて次に水平に引く第２の工程と、前
記ガラスを熔融金属表面上に浮かべる第３の工程と、前
記ガラスを徐冷する第４の工程とを具備することを特徴
とするガラス基板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2954882A JPS58145627A (ja) | 1982-02-24 | 1982-02-24 | ガラス基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2954882A JPS58145627A (ja) | 1982-02-24 | 1982-02-24 | ガラス基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58145627A true JPS58145627A (ja) | 1983-08-30 |
Family
ID=12279182
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2954882A Pending JPS58145627A (ja) | 1982-02-24 | 1982-02-24 | ガラス基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58145627A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62156620A (ja) * | 1985-12-28 | 1987-07-11 | Toshiba Corp | 液晶表示装置 |
| JPS63278025A (ja) * | 1987-05-11 | 1988-11-15 | Toshiba Corp | 液晶表示器の製造方法 |
| JPH02146526A (ja) * | 1988-11-29 | 1990-06-05 | Seiko Instr Inc | 液晶素子 |
| KR100568272B1 (ko) * | 2003-07-24 | 2006-04-05 | 삼성전기주식회사 | 절연기판의 제조 방법 |
| DE102006003878A1 (de) * | 2006-01-27 | 2007-08-09 | Schott Ag | Verfahren zum Verbessern der Oberflächenqualität von gefloatetem Flachglas |
| JP2011197402A (ja) * | 2010-03-19 | 2011-10-06 | Asahi Glass Co Ltd | 液晶表示パネル、ガラス基板、および液晶表示パネルの製造方法 |
| US10246365B2 (en) | 2013-10-09 | 2019-04-02 | Corning Incorporated | Apparatus and method for forming thin glass articles |
-
1982
- 1982-02-24 JP JP2954882A patent/JPS58145627A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62156620A (ja) * | 1985-12-28 | 1987-07-11 | Toshiba Corp | 液晶表示装置 |
| JPS63278025A (ja) * | 1987-05-11 | 1988-11-15 | Toshiba Corp | 液晶表示器の製造方法 |
| JPH02146526A (ja) * | 1988-11-29 | 1990-06-05 | Seiko Instr Inc | 液晶素子 |
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| DE102006003878A1 (de) * | 2006-01-27 | 2007-08-09 | Schott Ag | Verfahren zum Verbessern der Oberflächenqualität von gefloatetem Flachglas |
| DE102006003878B4 (de) * | 2006-01-27 | 2010-09-02 | Schott Ag | Verfahren zum Verbessern der Oberflächenqualität von gefloatetem Flachglas |
| JP2011197402A (ja) * | 2010-03-19 | 2011-10-06 | Asahi Glass Co Ltd | 液晶表示パネル、ガラス基板、および液晶表示パネルの製造方法 |
| US10246365B2 (en) | 2013-10-09 | 2019-04-02 | Corning Incorporated | Apparatus and method for forming thin glass articles |
| US11680006B2 (en) | 2013-10-09 | 2023-06-20 | Corning Incorporated | Apparatus and method for forming thin glass articles |
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