JPS58143866A - レジスト剤塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は　ｘｉｔ導体ウェハ、カラス乾板などの薄板体
の表面にレジスト剤を塗布する際に、半導体ウニ・・等
の不要面にレジスト剤が付着することを防止するように
した装置に関する。

半導体のウニ・・プロセスのスピンコーティング法によ
るフォトレジスト塗布工程等において、ウニ・・の裏面
にフ第１・レジストが付着すると、ウニ・・の平坦度が
悪化したり、次の拡散工程で、フ第１・レジストが分解
して、ディかイス特性を劣化させることとなる。

これらの欠点をＷ（決するために、例えば第１図に示す
」：うに、ウェハ（Ａ）の裏面側に、円板状又は筒状の
金具（Ｂ）を設けたり、あるいは第２図に示すように、
ウニ・・（Ａ′）の裏面に、遠心方向を向く不活性カス
（Ｃ）を吹きつけて、余剰のフォトレジストの付着を防
止するなどの方法が採用されている。

しかし、これらの方法では、いずれもそのウェハ（Ａ）
（Ａ’）の裏面に近接して平坦部（１））（■）′）が
形成されるため、スピン処理により浮遊したフオＩ・レ
ジストの飛沫粒子や、ウェハの位置決め用切欠キ（オリ
エンテーンヨンフラット）部からはみ出しだフ第１・レ
ジスト（１〕）が、金具の平坦部（１１）ＣＩ）’）に
イ」着した後、蓄積し、結果的にウニ・・の裏面を汚す
ことが多かった。

本発明は、ウニ・・の裏面に近接するカイト筒の上端部
の横断面積を、その下部の横断面積よりも小さくし、レ
ジスト剤が旧情する平坦部を最小限度とすることにより
、」＝述の従来技術の欠点を解消するようにし／こレジ
スト剤塗布装置に関するものであり、以下第ろ図から第
６図に示す実施例に基いて説１明する。

第３図と第４図は、本発明の第１の実施例を示すもので
ある。

（イ）は、翁底円筒状の本体で、該本体（１）の下面中
央には、上下方向の円柱体（２）が突設されている。

（６）は、前記円柱体（２）の中央に穿設さねた上（３
） 下方向の通孔で、該通孔（ろ）には、上面にウェハ（４
）を吸着して支持するだめのスピンドル（５）が回動自
在に嵌合されている。

（６）は、円柱体（２）の通孔（６）の外方に穿設され
た卆叙の通孔で、該通孔（６）には、下方から不活性ガ
スが供給され、スピンドル（５）の」二方部に噴射され
るようになっている。

（７）は、本体（イ）の円柱体（２）の外方より上向突
設された環状の突起で、該突起（７）の外周には、内周
部の上端部が外向きに傾斜（８ａ）　ｌ、、上方へ向か
って漸次薄肉とされた円筒状のガイド筒（８）が嵌着さ
れている。

（９）は、力・く−で核力・”−（９）の中央には、レ
ジスト剤供給用のノズ゛ル（１０）が装着されている。

（１１）は、本体底面に設けられた排液孔で、ウェハ（
４）の表面に塗布されなかった余部なレジスト剤が外部
に排出される、 なお、（１４）は排気孔で、ミスト状に散在しているレ
ジストを吸引排気するものである。

第５図及び第６図は、本発明の実施に使用する（４） カイト゛筒の他の例を示すもので、本来円筒状であるが
、便宜上板状として説明する。

第５図に示すカイト筒（８′）は、上端に鋸歯状の切込
み（１２）が切設されて、先端に向かうほど、横断面積
が小さくなるようになっている。

第６図に示すガイド筒（８″）は、第５図に示したもの
において、上方へ向かって漸次薄肉としたもので、上端
に多数の四角節状の突部（１３）が形成され、先端に向
かうほど、横断面積が小さくなるようになっている。

本発明装置は、上述のように構成され、ノズル（１０）
からレジスト剤を供給するとともに、ウェハを回転させ
、かつ穿孔（６）から空気、又は窒素等の不活性カスを
噴射させると、不活性ガスにより、レンスト剤のガイド
筒への旧情が、実質的に防止さね、しかも、ガイド゛筒
の上端へ飛沫されるレジスト剤も、ガイド筒の上端に平
坦部が存在しないため、従来のようにレジスト剤が蓄積
す°ることが極端に少なくなる。

そのため、し／スト剤がウェハの裏面に伺着して上述の
弊害が生ずることがなく、また、ウェハの裏面を洗浄す
ることもほとんど不要である。

【図面の簡単な説明】

第１図は、従来のレジスト剤塗布装置の一例を示す縦断
面図、 第２図は、同じく他の例を示す縦断面図、第３図は、本
発明の一実施例を示す縦断正面図、第４図は、同じく要
部の拡大縦断面図、第５図は、本発明の実施に使用する
ガイド筒の一例を示す斜視図、 第６図は、同じく他の例を示す斜視図である。 （１）　　本体　　　　　（２）　　円柱体（６）　　
通孔　　　　　（４）　　ウニ・・（５）　　スピンド
ル　　（６）　　通孔（７）　　突起　　　　　（８Ｘ
８’Ｘ８″）　　ガイド筒（８ａ）　　傾斜（面）（９
）　　カバー（１０）ノズル　　　　（１１）排液孔（
１２）切込み　　　　（１３）突部 （１４）排気孔

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）　　レジスト剤を塗布するべきウニ・・を支持す
   るスピンドルと、前記ウニ・・にレジスト剤を供給する
   ノズルと、−ヒ端がウニ・・の裏面周縁近傍に達し、か
   つ−］二端に向かうほど横断面積が小さくなるよう成形
   されたガイド筒と、ガイドの内側において、上方に向け
   て不活性カスを噴射する手段とを具備することを特徴と
   するレジスト剤塗布装置。
2. （２）ガイド筒の上端部が、上方へ向かって漸次薄肉と
   なっていることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項
   に記載の装置
3. （３）ガイド筒の上端部が、鋸歯状の切込みが切設され
   ていることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項に記
   載の装置。
4. （４）ガイド筒の上端部が、−上方へ向かって漸次薄肉
   となっていることを特徴とする特許請求の範囲第（３）
   項に記載の装置。