JPS58137291A - プリント配線板の製造方法 - Google Patents
プリント配線板の製造方法Info
- Publication number
- JPS58137291A JPS58137291A JP1943582A JP1943582A JPS58137291A JP S58137291 A JPS58137291 A JP S58137291A JP 1943582 A JP1943582 A JP 1943582A JP 1943582 A JP1943582 A JP 1943582A JP S58137291 A JPS58137291 A JP S58137291A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- base material
- additive method
- printed wiring
- circuit board
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はプリント配線板の製造方法に関するものであ〕
、更に詳しくは基板上への導体パターン形成方法に関す
るものである。
、更に詳しくは基板上への導体パターン形成方法に関す
るものである。
従来のプリント配線板の製造方法は大別すると二通勤６
９九。纂−法は第１図に示すように基材ｌ上に金属箔２
を接着しえもの囚に、フォトレジスト３を塗布しくＢｌ
、７オトマスク４を通して紫外線照射して１ＣＩ 、レ
ジストパターンを形成Φ）、これを化学エツチングによ
）導体パターンを形成する（１＃Ｆ）サブトラクト法で
ある。第二法は基材上に無電解メッキで金属膜或いは導
体パターンを形成するアディティブ法である。こむでア
ディティブ法を更に詳細に分類すると、（以下、サブト
ラクト法、セきアディティブ法、フルアディティブ法と
のみ記す、） サブトラクト法では金属箔張シの基材が高価であシ、ま
えｇｌｌｌＫ示し九ように工程数が多いので全般的にコ
スト高になってしまう。セミアディティブ法では基材が
サブトラクト法より安価で紘あるが第２図に示しえよう
に工程数が多くや紘）全般的にコスト高となってしまう
。さらにフルアディティブ法では基材安価、工程数も第
３図に示したように少な５い、しかし、ポリエステル、
ボシイ建ドなどの一面の平滑性の高い材料ではパターン
形成の歩留は良いが、パターンの密着性がきわめて低く
耐熱性も愚い、一方耐熱性の良いカラスーエポ中シなど
の基材は表面の平滑性が低く、パターンの密着性は高い
がパターン形成の歩留が悪い。従ってフルアディティブ
法によるプリント配Ｓ板製造は実際的でない。また上記
の三方法では平面以外の形状を有する基板への導体パタ
ーン形式は不可能に近いので応用範囲が制限されてしま
う。従来法ではこういった様々な欠点を有している。
９九。纂−法は第１図に示すように基材ｌ上に金属箔２
を接着しえもの囚に、フォトレジスト３を塗布しくＢｌ
、７オトマスク４を通して紫外線照射して１ＣＩ 、レ
ジストパターンを形成Φ）、これを化学エツチングによ
）導体パターンを形成する（１＃Ｆ）サブトラクト法で
ある。第二法は基材上に無電解メッキで金属膜或いは導
体パターンを形成するアディティブ法である。こむでア
ディティブ法を更に詳細に分類すると、（以下、サブト
ラクト法、セきアディティブ法、フルアディティブ法と
のみ記す、） サブトラクト法では金属箔張シの基材が高価であシ、ま
えｇｌｌｌＫ示し九ように工程数が多いので全般的にコ
スト高になってしまう。セミアディティブ法では基材が
サブトラクト法より安価で紘あるが第２図に示しえよう
に工程数が多くや紘）全般的にコスト高となってしまう
。さらにフルアディティブ法では基材安価、工程数も第
３図に示したように少な５い、しかし、ポリエステル、
ボシイ建ドなどの一面の平滑性の高い材料ではパターン
形成の歩留は良いが、パターンの密着性がきわめて低く
耐熱性も愚い、一方耐熱性の良いカラスーエポ中シなど
の基材は表面の平滑性が低く、パターンの密着性は高い
がパターン形成の歩留が悪い。従ってフルアディティブ
法によるプリント配Ｓ板製造は実際的でない。また上記
の三方法では平面以外の形状を有する基板への導体パタ
ーン形式は不可能に近いので応用範囲が制限されてしま
う。従来法ではこういった様々な欠点を有している。
本発明はかかる欠点を除去したもので、７レキシプルな
プラスチックフィルム上にフルアディティブ法によ〕形
成された導体パターンを表面に接着剤ｔｍ布し先着材上
に転写形成する仁とを特徴とするプリント配線板の製造
方法であｈ、９２図に示すごとく、基材ｌ上に無電解メ
ッキ触媒核２を形成しζん、無電解メッキにょル金属層
３を設けるの１゜これにフォトレジスト４を・塗布しく
ｃｌ 、 ：ｙオドマスク５を通して紫外線照射してｒ
Ｄｌ 、レジストバタ〜ンを形成ｉｍｌ 、これを化学
エツチングにょ多導体パターンを形成する１ＰＩＩＧＩ
、セミアディティブ法、および第３図のごとく、基材１
（１１に増感剤２を施ζしｆｌＢＩ 、フォトマスク
３を”通して紫外線照射してＩｃ） 、活性住処ＩＩＫ
よ〕無電解メッキのための触媒核４を設け（ＤＩ 、無
電解メッキによ多導体パター７５を形成するフルアディ
ティブ法がある。その目的はプリント配線板を低コスト
で製造し、かつ平面以外の形状を有する基材上へのパタ
ーン形、成を可能にすることである。なお本発明におい
て使用されるフレキシブルフィルムの材質としては、ポ
リエステル、ポリアミド、ポリイミドなどかあ）、マ九
、被転写側の基材としては、ガラス−エポキシ基材、表
面に様々な絶縁皮膜を設けた金属板、表面に接着剤の塗
布されたフレキシブルフィルムなどがある。
プラスチックフィルム上にフルアディティブ法によ〕形
成された導体パターンを表面に接着剤ｔｍ布し先着材上
に転写形成する仁とを特徴とするプリント配線板の製造
方法であｈ、９２図に示すごとく、基材ｌ上に無電解メ
ッキ触媒核２を形成しζん、無電解メッキにょル金属層
３を設けるの１゜これにフォトレジスト４を・塗布しく
ｃｌ 、 ：ｙオドマスク５を通して紫外線照射してｒ
Ｄｌ 、レジストバタ〜ンを形成ｉｍｌ 、これを化学
エツチングにょ多導体パターンを形成する１ＰＩＩＧＩ
、セミアディティブ法、および第３図のごとく、基材１
（１１に増感剤２を施ζしｆｌＢＩ 、フォトマスク
３を”通して紫外線照射してＩｃ） 、活性住処ＩＩＫ
よ〕無電解メッキのための触媒核４を設け（ＤＩ 、無
電解メッキによ多導体パター７５を形成するフルアディ
ティブ法がある。その目的はプリント配線板を低コスト
で製造し、かつ平面以外の形状を有する基材上へのパタ
ーン形、成を可能にすることである。なお本発明におい
て使用されるフレキシブルフィルムの材質としては、ポ
リエステル、ポリアミド、ポリイミドなどかあ）、マ九
、被転写側の基材としては、ガラス−エポキシ基材、表
面に様々な絶縁皮膜を設けた金属板、表面に接着剤の塗
布されたフレキシブルフィルムなどがある。
以下、実施例に基づいて本発明の詳細な説明する。
〈実施例１〉
前記のようにポリエステルフィルムはアディティブ法に
よるパターン形成の歩留シは良いが密着性が悪く、ガラ
スエポキシ基材３ イプ法によるパターン形成歩留が悪く、密着性が良いの
で両者の利点に着目して第４図に示すようにポリエステ
ルフィルムｌ上にフルアディティブ法で銅のパターン２
を形成して（ＡＩ 、それを接着剤′４が表面にコート
されたガラスエポキシ基材３上に転写してプリント配ｌ
Ｉａ板を製造した（ａｔ 。
よるパターン形成の歩留シは良いが密着性が悪く、ガラ
スエポキシ基材３ イプ法によるパターン形成歩留が悪く、密着性が良いの
で両者の利点に着目して第４図に示すようにポリエステ
ルフィルムｌ上にフルアディティブ法で銅のパターン２
を形成して（ＡＩ 、それを接着剤′４が表面にコート
されたガラスエポキシ基材３上に転写してプリント配ｌ
Ｉａ板を製造した（ａｔ 。
詳細な説明すると、まずポリエステルフィルムの表面を
脱脂洗浄壁、塩化スズ（１）水門液（濃度１ｆ、ｊ″″
１．但し水溶液１ｊ中に濃塩酸１−を含ん＋いる。）に
浸漬・乾燥してスズ（Ｉｉ）薄膜を形成し、パターンの
マスクを重ねて紫外１ｓ（主波長２５７藺）を照射した
。これを塩化パラレウム（１）水浴液（濃度１Ｆ、Ｊ”
）に浸漬し、無電解鋼メッキにょ少パターン形成し丸、
このポリエステルフィルムを第４図に示したようＫＩＩ
！面にｉ着剤がコートされたガラス−エポキシ基材に重
ねて１７０℃の熱ローラーを通して銅パターンをガラス
−エポキシ基材上に転写・圧着した０以上のようにして
得られたガラス−エポキシ基材上の銅パターンの上へｌ
ａ惧の電解ニッケルメッキ、ＩＡｍの電解金メッキを施
し以後既知の方法によってプリント配線板を製造し丸、
なお、ガラス−エポキシ基材上べの転写讐での工程は自
動−環ラインで行なうことができ、コストも低下させる
ことができた。
脱脂洗浄壁、塩化スズ（１）水門液（濃度１ｆ、ｊ″″
１．但し水溶液１ｊ中に濃塩酸１−を含ん＋いる。）に
浸漬・乾燥してスズ（Ｉｉ）薄膜を形成し、パターンの
マスクを重ねて紫外１ｓ（主波長２５７藺）を照射した
。これを塩化パラレウム（１）水浴液（濃度１Ｆ、Ｊ”
）に浸漬し、無電解鋼メッキにょ少パターン形成し丸、
このポリエステルフィルムを第４図に示したようＫＩＩ
！面にｉ着剤がコートされたガラス−エポキシ基材に重
ねて１７０℃の熱ローラーを通して銅パターンをガラス
−エポキシ基材上に転写・圧着した０以上のようにして
得られたガラス−エポキシ基材上の銅パターンの上へｌ
ａ惧の電解ニッケルメッキ、ＩＡｍの電解金メッキを施
し以後既知の方法によってプリント配線板を製造し丸、
なお、ガラス−エポキシ基材上べの転写讐での工程は自
動−環ラインで行なうことができ、コストも低下させる
ことができた。
〈実施例２〉
実施例１ （ＤＷ’Ｈ４１／Ｃ記したとおシフレキシプ
ルなプラスチックフィルム（本例ではポリイミドフィル
ムを用いた。）上へのツルアブチイブ法によるパターン
形成の歩留が良好で密着性゛が低いこととエポキシ系の
基材上へのフルアディティブ法によるパターンの密着性
の良好なこと圧着目して、また更に本発明によると非平
面上でのパターン形成が可能で◆ることの一証明として
下部のくとき実施例を示す。
ルなプラスチックフィルム（本例ではポリイミドフィル
ムを用いた。）上へのツルアブチイブ法によるパターン
形成の歩留が良好で密着性゛が低いこととエポキシ系の
基材上へのフルアディティブ法によるパターンの密着性
の良好なこと圧着目して、また更に本発明によると非平
面上でのパターン形成が可能で◆ることの一証明として
下部のくとき実施例を示す。
第５図のごときポリイミドフィルム１１Ｃ＊施例１と同
様な方法により銅のパターン２を形成した（ＡＩ、ここ
でステンレス板をプレスによシわん曲させその凹部表面
に電着塗装によりて絶縁度ｊｉ１４を形成させた時計の
裏ブタ３の凹部へ先のフィル五を重ね熱プレスによシ銅
のパターンを転写したＣＢｅＣ）。以上のようにして得
られ九時計裏ブタ上の銅パターンの上に電解ニッケルメ
ッキ、電解金メッキを施し以後既知の方法によ多プリン
ト配線板を製造しえ。
様な方法により銅のパターン２を形成した（ＡＩ、ここ
でステンレス板をプレスによシわん曲させその凹部表面
に電着塗装によりて絶縁度ｊｉ１４を形成させた時計の
裏ブタ３の凹部へ先のフィル五を重ね熱プレスによシ銅
のパターンを転写したＣＢｅＣ）。以上のようにして得
られ九時計裏ブタ上の銅パターンの上に電解ニッケルメ
ッキ、電解金メッキを施し以後既知の方法によ多プリン
ト配線板を製造しえ。
本実施例では、時計の裏ブタのような非平面の部分にパ
ターンを形成できたことによシ時針の部品点数を減らす
ことかで１１１丸、また実施例１と同様に時針の裏ブタ
部へのバター二ングオでの工程が自動−貫ラインで行な
えた。このような点から全般的なコストを低下させるこ
とが可能になった。
ターンを形成できたことによシ時針の部品点数を減らす
ことかで１１１丸、また実施例１と同様に時針の裏ブタ
部へのバター二ングオでの工程が自動−貫ラインで行な
えた。このような点から全般的なコストを低下させるこ
とが可能になった。
〈実施例３〉
本例では被転写体として表面に接着剤を塗布し、ＩＣ積
載用の穴を明けたポリイ建ドフイルムを用い、フルアデ
ィティブ法によシバターン形成する。
載用の穴を明けたポリイ建ドフイルムを用い、フルアデ
ィティブ法によシバターン形成する。
フレキシブルフィルムとしてポリエステルフィルムを用
い丸。具体的なパターン形成、転写などはｌ！施例１と
全く同様である。ここで本例での特徴は、ｘＣのボンデ
ィング（ギヤングボンディング）用のフィンガーがえ中
すく形成できることＫある。
い丸。具体的なパターン形成、転写などはｌ！施例１と
全く同様である。ここで本例での特徴は、ｘＣのボンデ
ィング（ギヤングボンディング）用のフィンガーがえ中
すく形成できることＫある。
以上のように本発明によれば、プリント配線板の連続加
工ができるのでプリント配線板の製造工程を自動化、−
貫化が可能となる。従って低コスト化が可能となる。ｔ
た非平面上へのパターン形成が可能なためそのプリント
配線板を搭載する機器の形状や部品点数の合理化が可能
である。なお本発明が応用できる例としては、ウォッチ
、電卓、カメラ、コンピュータなどの様々な電子機器や
家電用品が上げられる。
工ができるのでプリント配線板の製造工程を自動化、−
貫化が可能となる。従って低コスト化が可能となる。ｔ
た非平面上へのパターン形成が可能なためそのプリント
配線板を搭載する機器の形状や部品点数の合理化が可能
である。なお本発明が応用できる例としては、ウォッチ
、電卓、カメラ、コンピュータなどの様々な電子機器や
家電用品が上げられる。
第“１図（ム〜′ＩＰ）はサブトラクト法によるプリン
ト配線板の製造工程を各工程毎（ム〜に’）Ｋ示す図、
第２図（ム〜Ｇ）＃ｉセミアディティブ法によるプリン
ト配線板の製造工程を各工程毎（ム〜ｙ）に示す図。ｊ
Ｉ３図（ム〜Ｅ）はフルアディティブ法によるプリント
配線板の製造工程を各工程毎（Ａ−Ｆ）、に示す図。第
４図（Ａ％Ｃ）はポリエステルフィルム１上に形成され
た導体パターン２を表面に接着剤４がコートされたガラ
ス−エポキシ基材上に転写してプリント配線板を製造す
る各工程毎（ム〜Ｃ）Ｋ示す図、第５図（ム〜Ｃ）はポ
リイミドフィルムｌ上に形成された導体パターン２を表
面に絶縁度、Ｉ！４を施した時計の裏ブタ３上に転写し
てプリント配線板を製造する各工程毎（Ａ−Ｃ）Ｋ示す
図である。 以 上 出願人 株式会社諏訪精工舎 代理人 弁理士最 上 務 ８才ＩＩ！１
第２＠ 牙３品 矛４ｆｆｉ 沖５図
ト配線板の製造工程を各工程毎（ム〜に’）Ｋ示す図、
第２図（ム〜Ｇ）＃ｉセミアディティブ法によるプリン
ト配線板の製造工程を各工程毎（ム〜ｙ）に示す図。ｊ
Ｉ３図（ム〜Ｅ）はフルアディティブ法によるプリント
配線板の製造工程を各工程毎（Ａ−Ｆ）、に示す図。第
４図（Ａ％Ｃ）はポリエステルフィルム１上に形成され
た導体パターン２を表面に接着剤４がコートされたガラ
ス−エポキシ基材上に転写してプリント配線板を製造す
る各工程毎（ム〜Ｃ）Ｋ示す図、第５図（ム〜Ｃ）はポ
リイミドフィルムｌ上に形成された導体パターン２を表
面に絶縁度、Ｉ！４を施した時計の裏ブタ３上に転写し
てプリント配線板を製造する各工程毎（Ａ−Ｃ）Ｋ示す
図である。 以 上 出願人 株式会社諏訪精工舎 代理人 弁理士最 上 務 ８才ＩＩ！１
第２＠ 牙３品 矛４ｆｆｉ 沖５図
Claims (1)
- フレキシブルなプラスチックフィルム上にフルアディテ
ィブ法によ〕形成され先導体パターンを、表面に！Ｉ着
剤を塗布し九個の素材上に転写形成することを特徴とす
るプリント配線板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1943582A JPS58137291A (ja) | 1982-02-09 | 1982-02-09 | プリント配線板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1943582A JPS58137291A (ja) | 1982-02-09 | 1982-02-09 | プリント配線板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58137291A true JPS58137291A (ja) | 1983-08-15 |
Family
ID=11999205
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1943582A Pending JPS58137291A (ja) | 1982-02-09 | 1982-02-09 | プリント配線板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58137291A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0191493A (ja) * | 1987-06-25 | 1989-04-11 | Matsushita Electric Works Ltd | 電路形成方法 |
| JPH02500629A (ja) * | 1987-08-24 | 1990-03-01 | アエロスパティアル・ソシエテ・ナシヨナル・アンダストリエル | 複雑な形態の絶縁表面上に導電性のパターンの集合を作るための方法 |
| JPH03502022A (ja) * | 1987-07-08 | 1991-05-09 | レオナード クルツ ゲーエムベーハー ウント コンパニー | 導体路を備えた製品の製造方法およびその方法を実行するためのエンボスフイルム |
-
1982
- 1982-02-09 JP JP1943582A patent/JPS58137291A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0191493A (ja) * | 1987-06-25 | 1989-04-11 | Matsushita Electric Works Ltd | 電路形成方法 |
| JPH03502022A (ja) * | 1987-07-08 | 1991-05-09 | レオナード クルツ ゲーエムベーハー ウント コンパニー | 導体路を備えた製品の製造方法およびその方法を実行するためのエンボスフイルム |
| JPH02500629A (ja) * | 1987-08-24 | 1990-03-01 | アエロスパティアル・ソシエテ・ナシヨナル・アンダストリエル | 複雑な形態の絶縁表面上に導電性のパターンの集合を作るための方法 |
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