JPS58136626A - シロキサン結合を一部含むポリカルボシラン - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、その一部にシロキサン結合を含む新規なポリ
カルボシラン参妾伊牟≠幸書に関する。

により構成されるポリマーであり、その用途は、このポ
リマーが焼成により無機炭化物ＳｉＣに転換することか
らＳｉＣの原料として用いられ、例えばＳｉＣ繊維、フ
ィルム、被覆膜、焼結結合剤、含浸剤、ＳｉＣ粉末など
として利用されている。

他にポリマー自体としての用途も種々傷えられている。

従来知られているポリカルボシランとしては、モノシラ
ンをそのｉｔ重合して得られるポリカルボシランと、モ
ノシランを−Ｈポリシランとしたのちこれを重合して得
られるポリカルボ７ランとの二種類がある。前者はＦｒ
１ｔｚ；Ａｎｇｅｗ、　Ｃｈｅｍ。

７９ｐ、６５７　（１９６７）等によりｈ示された方法
で製造することができ、後者は、本発明者ら特開昭５２
−７４０００号および特開昭５２−１１２７００号に記
載の方法で製造することができる。しかしながら、従来
の製法で耐熱性や耐酸化性に優れ、しかも非酸化性雰囲
気中における焼成残留率の高いポリカルがシランを得る
ためには、オートクレーブのような加圧容器を用いるか
、あるいはリサイクルのできる流通式装置ｉｔを用いな
ければならなかった。前者の加圧容器を用いて重合する
方法では、例えばオートクレーブ等管用いて、４００〜
４７０℃の温度に加熱し、８０〜１１０気圧の圧力下で
１０〜１５時間の反応を行なわせる必要があり、耐圧設
備や防災対策が不可欠である上に、大量生産ＶｃＦｉ適
していないという欠点がめる。また、後者のリサイクル
のできる流通式装置を用いて重合する方法では、加熱反
応塔、生成物分離塔等の付ＩＪＩ器機を備えた装置で生
成する低分子量分を分離しこれを強制循塩させて、繰返
し加熱反応塔で反応させなけれはならないため、６００
〜８００°Ｃの如き高い温度に加熱することが必要であ
り、また反応時間も２０〜５０時間のような長時間を必
要とするなど工業的に不利な点が多い。

本発明者らは、従来法における上記の欠点を克服するた
め鋭意研究を行なった結果、加圧容器や流通式装置等の
特殊な装置をなんら用いる必要がなく、シかも低い加熱
温度において比較的短時間でポリカルボシランを得るこ
とのできる新規且つ有利な製造法を発見した。更に本発
明者らは上記の方法によって得られるポリカルボ７ラン
は、凱来法で得られるポリカルボシランよりも唆れた耐
熱性と耐酸化性を有し、かつ非酸化性雰囲気中での焼成
残留率が高いというすぐれた性能の新規なポリカルボシ
ランであることを見出した。

２ するポリシラン（ｎ≧３、ＲＩ及びＲ２はそれぞれ独立
にはＣＨ３、Ｃ２Ｈ５、Ｃ６Ｈ，またはＨを表わす）に
対して、骨格成分がＢ、ＳｉおよびＯよりなり、Ｓｉの
側鎖の少くとも一部にフェニル基を有するポリボロシロ
キサンを、０．０１−１５重量％添加混合し、反応に対
して不活性な雰囲気下において、前記ポリマーの混合物
を加熱して重合させることを特徴とするシロキサン結合
を一部含むポリカルボシランの弊造方法が提供される。

上記の方法によって得られる本発明のポリカルボシラン
は、下記（Ａ）およびｌ）なる構造単位から主としてな
り、 （Ａ）：　　　　ＲＩ 一８ｉ−ＣＨ２− ２ ＜Ｂ）：′Ｒｓ ｌ ５ｉ−０− ４ （ＲＩＸＲ２、Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立にＣＨ３、
Ｃ２Ｈ６、Ｃ６Ｂ、まだはＨを表わす）（Ａ）とｌ）と
の比率が５：１〜２００：１であり、数平均分子量が５
００〜１０，０００、固有粘度が０．Ｏ１〜１．５０で
あり、耐熱性および耐酸化性に優れ、かつ非酸化性雰囲
気中における焼成残留率の高いことを特徴とするンロキ
サン結合を一部含むポリカルボシランである。

以下に本発明をより詳細に説明する。

２ Ｃ２へ、Ｃ６μ６、Ｈ）を有するポリシランであり、こ
のポリシランの＋１９造は直鎖状あるいは環状のいずれ
であってもよく、更にこの二種の構造が混合したもので
あってもよい。上記の式においてｎ〉３であり、好まし
くは５＜：ｎ＜１００である。側鎖のＲ８、Ｒ２、Ｒ３
及びＲ４は、それぞれ独立にメチル基、エチル基、フェ
ニル基まだは水素を表わし、即ち、ポリシランの骨格を
形成する各Ｓｉ原子に結合するＲ、及びＲ２は、互いに
同一もしくは異なっていてもよく、ポリシランの側鎖が
メチル、エチル、フェニル及び水素のうちの２種以上か
らなる時は、ポリシラン中における異種の側鎖の配列順
序は任意の順序であってよい。

本発明の方法において出発原料として使用するＯＨ３ のに特に好適なポリシランは、−８ｉ−のみを単、、Ｉ ＯＨ３ 位構造として有するポリシラン、あるいはポリシラン中
の側鎖の５０チ以上がメチル基であり残余の側鎖がフ望
ニル基および／もしくは水素であるポリシランである。

また直鎖状のポリシランの場合には、末端基はＯＨまた
はＣＨ３であることが好ましい。

本発明で使用するポリシランは例えは煎出らの共著によ
る「有機ケイ素化合物の化学」化学同人社（１９７２）
等に記載されている極々な方法によって合成することが
できるが、通常は一種または二種以上のジクロロシラン
をナトリウムにより脱塩素することによって製造される
。一種のジクロロシランの脱塩素反応を式で示せば下記
の如くである。

ＲＲ 本発明の方法において使用するもう一つの出発Ｗ、料で
ある、骨格成分がＢ、ＳｉおよびＯ工りなり、Ｓｉの側
鎖の少なくとも一部にフェニル基全有するポリがロンロ
キサン（以下単にフェニル基含有ポリがロシロキサンと
呼ぶことがある）は、本発明者らが、先に特許出願した
特開昭５３−４２３００および特開昭５３−５０２９９
にその製造法、構造及び物性が詳細に開示されているも
のでるり、例えばホウ酸と一種または二種以上のジオル
ガノジクロロシラン（儂し該ジオルガノジクロロシラン
のオルガノ基の少くとも一部はフェニル基である）との
脱塩酸縮合反応によって製造されるものでめる。このさ
い縮合反応がどのようにして進行するかを、ジフェニル
ジクロロシランとホウ酸との反応ヲ例にとって示せば、
主要な反応は次の如きものであろうと考えられる。

Ｃ，Ｈ。

警 Ｃ＠Ｍ。

本発明の方法の出発原料であるフェニル基含有ポリがロ
シロ中すン管上記の反応により製造する場合に使用する
ジオルガノジクロロシランとして好ましいものは、ゾフ
ェニルＶクロロシラン及ヒ／又ハメチルフェニルＶクロ
ロシラン、又はこれらとりメチルジクロロシランとの混
合物である。

本発明の方法で出発原料の一つとして使用する塩酸縮合
反応のほかに、例えばホウ酸と一種または二種以上のジ
オルガノジアルコキシシランとの脱アルコール縮合反応
や、例えばＢ（ＯＣＨ８）、の如きホウ酸汗ステルとジ
オルガノジアルコキシシランとの脱エステル縮合反応（
但しこれらの反応で使用するジオルガノジアルコキシシ
ランのオルガノ基の少くとも一部はフェニル基である）
等によっても製造することができる。

上記の製造法における縮合反応はかなり複雑であるから
、縮合反応生成物であるフェニル基・含有ポリボロシロ
キサンの構造を完全に解明すること４ 構造単位からなり、この構造単位が複雑に組み合わされ
て全体のポリマーが構成されている１本発明の方法で出
発原料として使用するフェニル基含有ポリボロシロキサ
ンは、ポリマー中における少くとも一部の構造単位にお
けるＲ５及びＲ４の少くとも一部がフェニル基でなけれ
（句ならない。

好−１いポリボロシロキサンは、ポリマー中に存在する
Ｓｉに結合する全側鎖の５０９ｂ以上刃；フェニル基で
あり、残余の側鎖がメチル基の４口き低級アルキル基、
又は水素であるようなポリボロシロキサンである。

本発明で使用するジフェニル含有ポリボロシロキサンの
例示を下記に示すが、これは本発明の理解を容易ならし
めるためのものであって、本発明を限定するためのもの
ではない。

上記に示したような線状、分岐状または環状の構造を有
するポリボロシロキサンのほかに、これらが更に架橋し
た複雑な構造のポリボロシロキサンも、本発明で使用す
るジフェニル含有ポリボロシロキサンに包含される。

本発明で出発原料として使用するフェニル基含有ポリボ
ロシロキサンは、通常数平均分子量が５００〜１０，０
００であり、耐加水分解れや耐熱性に優れているのが特
徴である。例えば、分子量２３５０のポリボロジフェニ
ルシロキサンの分Ｎ温度は８００　’Ｏである。　　　
　　Ｒ１本発明の方法においては、前記±Ｓｉ＋ｎなる
構２ 造単位を有するポリシラン類の少くとも一種に対して、
前記フェニル基含有ポリボロシロキサンを０．０１−１
５重量％添加混合し、その混合物を反応に対して不活性
な雰囲気下において加熱して重合せしめる。

合する装置として特殊な装置を要しないことであり、例
えば第１図に示すような簡単な装置を用いることができ
る。

第１図において、αは例えば通常の電気炉等による加熱
炉であり、ｂは例えば硬質ガラス製で冷却水を用いる還
流器具であり、Ｃは例えば石英もしくはステンレスの缶
状の反応容器であり、ｄ。

は反応に不活性なガスの流入口であり、ｄ　はその流出
口である。

すなわち、本発明の製法においては、簡単な加熱炉、反
応容器、還流器具等を用いるだけでも十分に優れたポリ
カルボシランを合成することのできるものであり、前述
した如く、従来のポリカルボシランの製法における如く
、加圧容器やリサイクル可能な流通式装置等の特殊な装
置を使用する必要がない。

本発明の方法においては、加熱による重合反応を、反応
に不活性なガス雰囲気下において行なうことが必要であ
る。重合反応を空気中の如き酸化性雰囲気中で行なうと
、原料のポリシランの酸化が生じるため、反応が十分に
進行しないので好ましくない。反応に不活性なガスとし
ては窒素、アルゴン、水素が特に好適である。

また重合反応は一般に常圧付近で行なうことが好ましく
、真空中や高、い減圧中で重合反応を行なうと、生成し
た低分子成分が系外に留出するため著しく収率が低下す
るので好ましくない。本発明の方法を実施するためには
、不活性ガスを反応部に気流として送りこみながら重合
反応を行なうことが好ましく、その理由は、これＫより
反応器内の圧力が＃１ぼ常圧に保たれ、温度上昇や反応
中に放出される例えばメタンのようなガスによる圧力上
昇を防ぐことができるからである。

本発明の方法における加熱温度は、従来法に比べて低温
であり、通常２５０°Ｃ以上、好ましくは８００〜５０
０Ｃであることが本発明の方法の利点の１つである。反
応温度が２５０Ｃ以下では重合が進行しにくく、５００
°Ｃ以上では、生成したポリカルボシランの無機質化す
なわち側鎖成分の飛散が徐々に開始しはじめるだめ好ま
しくない。

また、本発明の方法における加熱重合は通常３〜１０時
間の如き比較的短時間で完了することも本発明の重要な
利点の１つである。１０時間以上加熱しても得られるポ
リカルボシランに何ら実質的な向上は見られない。

以上のような重合反応により得られたポリカルボシラン
は、溶媒に溶かして濾過し、その後溶媒を蒸発させて精
製することができる。必要ならば、５０〜４５０　’Ｏ
の温度範囲で、常圧、あるいは減圧下で蒸留し濃縮する
ことにより平均分子量を上げることができる。かかる溶
媒としては例えばノルマルヘキサン、ベンゼン、キンレ
ン、テトラヒドロフランなどが挙けられる。

本発明の方法の新規な特徴は、ポリシランに小量のフェ
ニル基含有ポリボロシロキサンを添加した混合物からポ
リカルボシランを製造するという点に存する。このよう
な新規な出発原料を採用したことが、本発明の方法の利
点、即ち特殊な反応装置を必要とせず、加熱温度も比較
的低く、加熱時間も短かいという利点をもたらしたもの
と考えられる。以下に、ポリシランに小部のフェニル基
含有ポリボロシロキサンを添加することによって、何故
上記のような利点がもたらされるかという機構について
の考察を述べるが、これは単に一つの推論を述べたに過
ぎないも５のであり、この理論によって本発明がなんら
限定されるものではない。

本発明の方法の１つの出発原料であるボリアう熱分解す
る。その結果生じた低分子量のポリシラあるいはこれら
の混合物からなる低分子量生成物が生成する。さらに温
度が上がり２００〜ａＯＯＣになると、フェニル基含有
ポリボロシロキサンのＢ−０結合の熱切断が部分的に生
起し、その切断部に前記低分子量生成物が結合し、中間
生成物を形成する。この中間生成物の形成は立体障害を
小さくするだめより低分子のものに対して選択的のは熱
的に不安定であるので、更に加熱温度が上がり２５０〜
５００　’Ｃ！になり、安定な一８ｉ−ＣＨ，、−結合
が促進されてゆく過程でホウ素は解岨されて、這 低沸点のアルキルホウ素（Ｒ−Ｂ−Ｒ）あるいはホウ素
の水素化物として反応系外に放出されるものと思われる
。ただし、重合’（ＫＰｊＡｌによれば一部のホウ素は
Ｂ−０−８ｉ結合を有したままポリカルボシラン中に小
量残存している可能性もある。

所で、ポリシランだけを出発原料として使用した場合に
は、その熱分解により生じた前記の低分子量生成物は反
応系外に放出され易いものであるから、重合反応を収率
よ〈実施するだめには低分子量生成物の飛散を防止する
ために、加圧許１閉容器または低分子量成分をリサイク
ルして徐々に高分子化するだめの流通式装置等の特殊な
装置が必要である。

然しなから本発明の方法に従がい、ポリシランとポリボ
ロシロキサンの混合物を出発原料として使用する場合に
は、先に説明したように、ポリボロシロキサンのＢ−０
結合の切断部にポリシランの熱分解により生じた低分子
量生成物が捕獲されるので、これによって低分子量生成
物の反応系外への散逸が有効に防止できる。しかもポリ
ボロシロキサンは反応に対して一種の触媒的効果を呈す
るので、本発明の方法においては、加圧密閉容器や特殊
なリサイクル装置を用いることなく、開放系の反応容器
を用いて常圧で比較的低温度において反応を実施しても
、重合反応を円滑に且つ高い収率で行なうことが可能と
なり、その結果５ｉ−０結合をポリマー骨格の一部に含
むポリカルボンランが得られる。

本発明の方法においてポリボロシロキサンの添加量はポ
リシランに対して０．０１〜１５重量係とする。その理
由は、０．０１％以下では、前記の低分子量成分の捕獲
効果が充分に行なわれないため、低分子量成分の放出都
が多くなり反応収率が悪くなり、他方１５重量％以上加
えると、得られたポリカルボシラン中におｄる５ｉ−０
結合の割合が増加するため、ポリカルボシランが本来壱
する性質や有用性をそこなうため好ましくないからであ
る。

好適なポリボロシロキサンの添加量は０，０５〜１０重
量％の範囲である。

本発明の方法における重合反応は、加熱だけでも進行す
るが、所望ならば、例えば過酸化べ／ジイルの如きラジ
カル開始剤またはアルミニウムやホウ素などを含む触媒
を添加する重合法、あるいは照射による重合法などを併
用することもできる。

次に上記の製造法によって得られる本発明のシロキサン
結合を一部含むポリカルボシランについて説明する。出
発原料のポリシランとしてポリ７ポリカルポ７ランのＪ
Ｒ吸収スペクトルは例えば−に示すごとく、波数８００
ｃｒｎ−’　付近と１２５０ｍ−１、の５ｉ−ＣＨ３；
　１４００．２９００．２９５０　ｃｍ　−’のＣ−Ｈ
；　２１００ｃｍ−’の５ｚ−Ｈ；１０２０．１８５５
ｍ−’の５ｉ−ＣＨ２−８ｉ　；　ｌ　０５０ｃｍ−’
付近の５ｉ−Ｃｊ；’ｔｏｏ、１１２０．１４８０ｃｒ
ｎ−’のＳ　ｉ　−Ｃ６Ｈ，Ｈの各結合に基づく吸収を
示す。然しなから、波数・１８４０ｃｒ＋＋−’のＢ−
０−（Ｓｉ）、あるいは８２２０ｃｒｎ−’　のＢ−Ｏ
Ｈによる吸収は通常検出されず、従ってＩＲスペクトル
によっては、ポリカルボシラン中におけるＢ−０結合の
存在は不明である。

また、紫外線゛吸収スペクトルの測定により、−８ｉ−
８ｉ−成分はほぼ消失していることが確認された。

化学分析による元素比率は一般にＳｉ：８０〜６０、Ｃ
：２０〜６０、Ｏ：　ｏ、　ｓ〜５、Ｈ：５〜１０重昂
饅である。

上記のＩＲスペクトル、紫外紺吸収スペクトル、化学分
析の結果より、本発明のシロキサン結合を一部含むポリ
カルボシランの＋ｈ造について次の如き結論が得られる
。すなわち、ＪＲスペクトルの測定結果からポリカルボ
シランを構成する要素が１ す、紫外線吸収スペクトルの測定結果から１ いることから、本発明のポリカルボシランは、その構造
単位が実質的に下記＜Ａ＞及び（Ｂ）からなるものであ
る。

（Ａ）：Ｒ。

一８ｉ−ＣＨ２− ２ （Ｂ）：Ｒ３ −８ｉ　−０− ４ （但しＲ８、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４はそれぞれＣＨ５、Ｃ
２私、Ｃ６Ｈ，またはＨで艇る） 更に化学分析による元素比率の測定結果から、（Ａ）と
（Ｚ？）の構造単位の比率は５：１乃至２００：１であ
る。

マタ、ポリボロシロキサンの分解が（Ｓｉ＋Ｏ−Ｂ結合
で生ずることから、構造単位１）はポリカルボシラン中
に無秩序に分布し、ポリボロシロキサンのＳｉの側鎖と
して存在していたフェニル基は、そのまま残るものと考
えられる。

以上により、本発明の方法において、恍えは出発原料と
してポリ／メチルシランとポリボロ／フェニルシロキサ
ンを用いた場合に得られるポリカルボシランの構造は、
下記のように推定できる。

本発明のポリカルボ７ランは、蒸気圧浸透法により測定
した数平均分子量が５００〜Ｉ　Ｏ，０００であり、固
有粘度はｏ、ｏｉ〜１．５０である。

本発明のシロキサン結合を含むポリカルボシランは、従
来法により製造したポリカルボ７ランに比べて、分解温
度が高く（即ち、耐熱性に唆れる）、耐酸化性にも優れ
、しかも焼成残留率が大きいという優れた特性を有して
いる。

この事実は下記表１の実級結果から明らかである。１％
、　１表には、従来法により加圧客器（オートクレーブ
）を用いてアルゴン雰囲気中容器内の最終圧力１１０気
圧、４７０°０，１４時間でポリンメチルシランから合
成されたポリカルボシランと、本発明の方法により窒素
気流中、４００°Ｃ５時間でポリジメチルシランと３．
８５重ｉ％に当るポリボロジフェニルシロキサンとから
合成されたシロキサン結合を含むポリカルボンランとの
性質の比較が示されている。

本発明のポリカルボシランは、５０〜８００　’０の加
熱により溶融する熱可塑性物質であり、まだベンゼン、
ノルマルヘキサン、キシレン、テトラヒドロフラン等の
溶媒に可溶性であるから、様々な形状を有する成型体と
することができ、これを７００°Ｃ以上の温度で加熱焼
成して、主として蕪機炭化物ＳｉＣ成形体に転換させる
ことができる。

このような例としては、主としてシリコンカーバイドよ
りなる連続繊維、フイ、ルム、被Ｆｂｌ＆、粉末などが
挙げられる。本発明のポリカルボシランは焼成残留率が
大きいため、これらのＳｉＣ’ｇ１４品を得る際の歩留
りがよいので極めて有利なポリマーである。まだ、本発
明のポリカルボンランは前記ＳｉＣ製品の他に焼結用結
合剤や含浸剤としても用いることができ、更に耐熱性と
耐酩化注に優れているので、ポリマーのままでも種々の
用途を有するものと期待される。

以下実施例によって本発明を説明する。

実施例１ ５ｔの三ロフラスコに無水キシレン２．５ｔとナトリウ
ム４００りとを入れ、呈素ガス気流下でキシレンの沸点
まで加熱し、ジメチルジクロロシランＩｔを１時間で滴
下した。滴下終了後、１０時間加熱還流し沈殿物を生成
させた。この沈殿を濾過し、まずメタノールで洗浄した
後、水で洗浄して白色粉末のポリジメチルシラ７４２０
１を得た。

このポリジメチルシラン２５０２に、／フェニルンクロ
ロシラン７５９ｖとホウ酸１２４２を窒素ガス雰囲気下
、ｎ−ブチルニー・チル中、１００〜１２０°Ｃの温度
で加熱し、生成した白色樹脂状物を、さらに真空中４０
０　’Ｏで１時間加熱することによって得られたポリボ
ロジフェニルシロキサン０、１２５９を添加混合し、還
流管を備えだ２ｔの石英管中で、窒素気流下で８２０　
’０まで加熱し、８時間重合し、本発明の有機ケイ素高
分子化合物。

を得た。室温で放冷後ｎ−ヘキサンを加えて溶液として
取り出、Ｌ、”−へキサンを蒸発させ、゛　　２８０’
Ｏまで真空で濃縮して８４２の固体を寿た。

このものはベンゼンに可溶であり、平ガＪ分子蓋９６０
、固南粘度０．０２であった。さらに窒素ガス雰囲気中
で１３００°Ｃまで５　’Ｃ／　ｍｉ　ｎ　の昇温速度
で焼成した結果残留率は４５％であった。

実施例２ 実施例１で合成したポリジメチルシラン２５０Ｖにポリ
ボロジフェニルシロキサン１０．Ｏｆを６５加混合し実
施例１と同じ装置で窒素気流中８７０°Ｃまで加熱し、
５時間重合し、本発明の有機ケイ素高分子化合物を得た
。室温で放冷Ｌ　ｎ−ヘキサンを加えて溶液として取り
出し、ｎ−ヘキサンを蒸発させて１７６ｆの固体を得た
。このものはベンゼンに可溶であり、平均分子ｉｉｉ′
１７２０、固有粘度０．０４であった。さらに窒素ガス
雰囲気中で１８００°Ｃまで５°Ｏ／ｍｉｎ　の昇温速
度で焼成した結果残留率は７９％ヤあった。

実施例３ Ｓｉの側鎖の２−がフェニル基で残部の＠鎖がメチル基
であるポリシラ７２５０９に実施例１で合成シた４リ−
ロゾフェニルシロキサン８．０ｆｖＩ−添加混合し、実
施例１と同じｔ＆置で窒素気流中３６０℃萱で加熱し、
７時間重合し、本発明の有機ケイ素高分子化合物を得た
。室温で放冷稜、笥−へ中サンを加えて鑓液として取出
し、算−へ中サンｔＪＩ発させて！１３９の固体を得た
。このものはベンゼンに可溶でるり、平均分子＠ａ、ｉ
ｏｏ、固有粘度０．０６であった。さらに窒素ガス雰囲
気中で１３００’Ｃまで５℃／　ｍ　ｉ　ｎの昇温連間
で焼成した結果残留率は８８−であった。

上記の実ｓｉ例１〜３のそれぞれにおいて得られた有機
ケイ素高分子化会物における構造単位の比率、（Ａ）：
　（＃）、をＮＭＲスペクトルによって測定したところ
、下記表２に示すような結果が得られた。

表２

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の４リカル？シランを合成する装置の１
ｆＩｌであり、図中、ａは加熱炉、ｂＦｉ還流器、６は
反応容器、ｄｉｆＪ不活性ガスの火入口、第２図は実施
例２で合ｌ戎した本発明のポリカルボシランのＩＲ吸収
スペクトル（ＫＢｒ錠剤法）を示す。 手続補正書く自発） 昭和５８年２月１７日 特許庁長官　　若杉和夫殿 ２、発明の名称 シロキサン結合を一部含むポリカルボシラン３、補正を
する者 事件との関係　　　特許出願人 住所　茨城県鹿島郡旭村大字鹿田字山野８７３番地の３
名称　財団法人　特殊無機材料研究所 ５、補正命令の日付　　　　　な　し ７、補正の内容 図面の浄書（内容に変更なし）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 王妃（Ａ）および（Ｂ）なる構造本位から主としてなり
   、 （Ａ）：　　　　　Ｒ１ 一８ｉ−ＣＨ，− Ｒ１ １）：　　　　　Ｒｓ 言 ５ｉ−０− ４ （Ｒｍ　、Ｒｍ　−Ｒｓ及びＲ，Ｆｉそれぞれ独立Ｋ　
   ＣＨ１％Ｃ１Ｍ１、Ｃ・ＨＩまたはＨを表わす）（Ａ）
   と（Ｊ？）との比率が５：１〜２００：　ｔであり、数
   平均分子量がＳＯＯ〜ｌへ０００、固有粘度がα０１−
   １４０であり、耐熱性および耐酸化性に優れ、かつ非酸
   化性雰囲気中における焼成残留率の高いことを特徴とす
   るシロ中サン結合を一部含むポリカル−シラン。