JPS58136626A - Polycarbosilane partially containing siloxane bond - Google Patents

Polycarbosilane partially containing siloxane bond

Info

Publication number
JPS58136626A
JPS58136626A JP58002817A JP281783A JPS58136626A JP S58136626 A JPS58136626 A JP S58136626A JP 58002817 A JP58002817 A JP 58002817A JP 281783 A JP281783 A JP 281783A JP S58136626 A JPS58136626 A JP S58136626A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polycarbosilane
present
reaction
polysilane
molecular weight
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP58002817A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS6126930B2 (en
Inventor
Seishi Yajima
矢島 聖使
Kiyoto Okamura
清人 岡村
Yoshio Hasegawa
良雄 長谷川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TOKUSHU MUKI ZAIRYO KENKYUSHO
Original Assignee
TOKUSHU MUKI ZAIRYO KENKYUSHO
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TOKUSHU MUKI ZAIRYO KENKYUSHO filed Critical TOKUSHU MUKI ZAIRYO KENKYUSHO
Priority to JP58002817A priority Critical patent/JPS58136626A/en
Publication of JPS58136626A publication Critical patent/JPS58136626A/en
Publication of JPS6126930B2 publication Critical patent/JPS6126930B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Ceramic Products (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Abstract

PURPOSE:The titled polycarbosilane being excellent in heat and oxidation resistance and generating much burning residue in a non-oxidizing atmosphere, prepared by polymerizing a mixture of a specified polysilane and a polyborosilane containing phenyl groups in at least part of the Si side chains. CONSTITUTION:A polysilane of formulaI(wherein R1 and R2 are each H, CH3, C2H5 or C6H5 and n >=3) is mixed with 0.01-15wt% polyborosilane, number- average MW of 500-10,000, which has skeletal components containing B, Si and O, and has phenyl groups on at least part of the Si side chains, and the mixture is polymerized at 250-500 deg.C for 3-10hr in an atmosphere inert to the reactions to obtain a polycarbosilane partially containing siloxane bonds, comprising structural units of formulas II and III (wherein R3 and R4 are each R1) and having a ratio of formula II/formula III of 5-200:1, a number-average MW of 500-10,000, and an intrinsic viscosity of 0.01-1.50.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、その一部にシロキサン結合を含む新規なポリ
カルボシラン参妾伊牟≠幸書に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a novel polycarbosilane compound containing a siloxane bond as a part thereof.

により構成されるポリマーであり、その用途は、このポ
リマーが焼成により無機炭化物SiCに転換することか
らSiCの原料として用いられ、例えばSiC繊維、フ
ィルム、被覆膜、焼結結合剤、含浸剤、SiC粉末など
として利用されている。
This polymer is converted into inorganic carbide SiC by firing, so it is used as a raw material for SiC, such as SiC fibers, films, coatings, sintering binders, impregnating agents, It is used as SiC powder.

他にポリマー自体としての用途も種々傷えられている。In addition, various uses of the polymer itself have been affected.

従来知られているポリカルボシランとしては、モノシラ
ンをそのit重合して得られるポリカルボシランと、モ
ノシランを−Hポリシランとしたのちこれを重合して得
られるポリカルボ7ランとの二種類がある。前者はFr
1tz;Angew、 Chem。
There are two types of conventionally known polycarbosilanes: polycarbosilane obtained by in-it polymerization of monosilane, and polycarbo7lane obtained by converting monosilane into -H polysilane and then polymerizing this. The former is Fr
1tz;Angew, Chem.

79p、657 (1967)等によりh示された方法
で製造することができ、後者は、本発明者ら特開昭52
−74000号および特開昭52−112700号に記
載の方法で製造することができる。しかしながら、従来
の製法で耐熱性や耐酸化性に優れ、しかも非酸化性雰囲
気中における焼成残留率の高いポリカルがシランを得る
ためには、オートクレーブのような加圧容器を用いるか
、あるいはリサイクルのできる流通式装置itを用いな
ければならなかった。前者の加圧容器を用いて重合する
方法では、例えばオートクレーブ等管用いて、400〜
470℃の温度に加熱し、80〜110気圧の圧力下で
10〜15時間の反応を行なわせる必要があり、耐圧設
備や防災対策が不可欠である上に、大量生産VcFi適
していないという欠点がめる。また、後者のリサイクル
のできる流通式装置を用いて重合する方法では、加熱反
応塔、生成物分離塔等の付IJI器機を備えた装置で生
成する低分子量分を分離しこれを強制循塩させて、繰返
し加熱反応塔で反応させなけれはならないため、600
〜800°Cの如き高い温度に加熱することが必要であ
り、また反応時間も20〜50時間のような長時間を必
要とするなど工業的に不利な点が多い。
79p, 657 (1967), etc., and the latter can be produced by the method disclosed by the present inventors in JP-A No. 52
-74000 and JP-A-52-112700. However, in order to obtain polycal silane, which has excellent heat resistance and oxidation resistance and has a high firing residue rate in a non-oxidizing atmosphere, using conventional manufacturing methods, it is necessary to use a pressurized container such as an autoclave or to recycle it. It was necessary to use a flow-through device that could be used. In the former method of polymerization using a pressurized container, for example, using a tube such as an autoclave,
It is necessary to heat it to a temperature of 470°C and carry out a reaction for 10 to 15 hours under a pressure of 80 to 110 atm, which requires pressure-resistant equipment and disaster prevention measures, and it has the disadvantage that VcFi is not suitable for mass production. . In addition, in the latter method of polymerization using a flow-type device that can be recycled, the low molecular weight components produced are separated in a device equipped with IJI equipment such as a heating reaction tower and a product separation tower, and this is forcedly circulated. Because the reaction must be repeated in a heated reaction tower, the
There are many industrial disadvantages, such as the need for heating to a high temperature of ~800°C and the long reaction time of 20 to 50 hours.

本発明者らは、従来法における上記の欠点を克服するた
め鋭意研究を行なった結果、加圧容器や流通式装置等の
特殊な装置をなんら用いる必要がなく、シかも低い加熱
温度において比較的短時間でポリカルボシランを得るこ
とのできる新規且つ有利な製造法を発見した。更に本発
明者らは上記の方法によって得られるポリカルボ7ラン
は、凱来法で得られるポリカルボシランよりも唆れた耐
熱性と耐酸化性を有し、かつ非酸化性雰囲気中での焼成
残留率が高いというすぐれた性能の新規なポリカルボシ
ランであることを見出した。
The present inventors have conducted extensive research to overcome the above-mentioned drawbacks of conventional methods, and have found that there is no need to use any special equipment such as a pressurized container or a flow-through device, and the method can be used at relatively low heating temperatures. A new and advantageous production method has been discovered that allows polycarbosilane to be obtained in a short time. Furthermore, the present inventors have found that the polycarbosilane obtained by the above method has better heat resistance and oxidation resistance than the polycarbosilane obtained by the Kairai method, and it is easier to sinter in a non-oxidizing atmosphere. It has been discovered that this is a new polycarbosilane with excellent performance and a high residual rate.

2 するポリシラン(n≧3、RI及びR2はそれぞれ独立
にはCH3、C2H5、C6H,またはHを表わす)に
対して、骨格成分がB、SiおよびOよりなり、Siの
側鎖の少くとも一部にフェニル基を有するポリボロシロ
キサンを、0.01−15重量%添加混合し、反応に対
して不活性な雰囲気下において、前記ポリマーの混合物
を加熱して重合させることを特徴とするシロキサン結合
を一部含むポリカルボシランの弊造方法が提供される。
2 (n≧3, RI and R2 each independently represent CH3, C2H5, C6H, or H), the skeleton consists of B, Si, and O, and at least one of the Si side chains A siloxane bond characterized in that 0.01-15% by weight of polyborosiloxane having a phenyl group is added and mixed, and the mixture of the polymers is heated and polymerized in an atmosphere inert to the reaction. A method for producing a polycarbosilane containing a portion of is provided.

上記の方法によって得られる本発明のポリカルボシラン
は、下記(A)およびl)なる構造単位から主としてな
り、 (A):    RI 一8i−CH2− 2 <B):′Rs l 5i−0− 4 (RIXR2、R3及びR4はそれぞれ独立にCH3、
C2H6、C6B、まだはHを表わす)(A)とl)と
の比率が5:1〜200:1であり、数平均分子量が5
00〜10,000、固有粘度が0.O1〜1.50で
あり、耐熱性および耐酸化性に優れ、かつ非酸化性雰囲
気中における焼成残留率の高いことを特徴とするンロキ
サン結合を一部含むポリカルボシランである。
The polycarbosilane of the present invention obtained by the above method mainly consists of the following structural units (A) and l), (A): RI-8i-CH2-2<B):'Rsl5i-0- 4 (RIXR2, R3 and R4 are each independently CH3,
The ratio of C2H6, C6B, which still represents H) (A) and l) is 5:1 to 200:1, and the number average molecular weight is 5.
00-10,000, intrinsic viscosity is 0. It is a polycarbosilane containing a portion of a polycarbosilane bond, which is characterized by having an O1 to 1.50, excellent heat resistance and oxidation resistance, and a high firing residue rate in a non-oxidizing atmosphere.

以下に本発明をより詳細に説明する。The present invention will be explained in more detail below.

2 C2へ、C6μ6、H)を有するポリシランであり、こ
のポリシランの+19造は直鎖状あるいは環状のいずれ
であってもよく、更にこの二種の構造が混合したもので
あってもよい。上記の式においてn〉3であり、好まし
くは5<:n<100である。側鎖のR8、R2、R3
及びR4は、それぞれ独立にメチル基、エチル基、フェ
ニル基まだは水素を表わし、即ち、ポリシランの骨格を
形成する各Si原子に結合するR、及びR2は、互いに
同一もしくは異なっていてもよく、ポリシランの側鎖が
メチル、エチル、フェニル及び水素のうちの2種以上か
らなる時は、ポリシラン中における異種の側鎖の配列順
序は任意の順序であってよい。
2 to C2, C6μ6, H), and the +19 structure of this polysilane may be either linear or cyclic, or it may be a mixture of these two types of structures. In the above formula, n>3, preferably 5<:n<100. Side chain R8, R2, R3
and R4 each independently represent a methyl group, an ethyl group, a phenyl group, or hydrogen, that is, R and R2 bonded to each Si atom forming the skeleton of the polysilane may be the same or different from each other, When the side chains of the polysilane are composed of two or more types of methyl, ethyl, phenyl and hydrogen, the different side chains in the polysilane may be arranged in any order.

本発明の方法において出発原料として使用するOH3 のに特に好適なポリシランは、−8i−のみを単、、I OH3 位構造として有するポリシラン、あるいはポリシラン中
の側鎖の50チ以上がメチル基であり残余の側鎖がフ望
ニル基および/もしくは水素であるポリシランである。
A particularly suitable polysilane for OH3 used as a starting material in the method of the present invention is a polysilane having only -8i- as a single, IOH3-position structure, or a polysilane in which 50 or more of the side chains are methyl groups. It is a polysilane in which the remaining side chains are a phenyl group and/or hydrogen.

また直鎖状のポリシランの場合には、末端基はOHまた
はCH3であることが好ましい。
In the case of linear polysilane, the terminal group is preferably OH or CH3.

本発明で使用するポリシランは例えは煎出らの共著によ
る「有機ケイ素化合物の化学」化学同人社(1972)
等に記載されている極々な方法によって合成することが
できるが、通常は一種または二種以上のジクロロシラン
をナトリウムにより脱塩素することによって製造される
。一種のジクロロシランの脱塩素反応を式で示せば下記
の如くである。
The polysilane used in the present invention is, for example, published in "Chemistry of Organosilicon Compounds" co-authored by Ishide et al., Kagaku Dojinsha (1972).
Although it can be synthesized by various methods such as those described in et al., it is usually produced by dechlorinating one or more dichlorosilanes with sodium. The dechlorination reaction of one type of dichlorosilane is expressed as follows.

RR 本発明の方法において使用するもう一つの出発W、料で
ある、骨格成分がB、SiおよびO工りなり、Siの側
鎖の少なくとも一部にフェニル基全有するポリがロンロ
キサン(以下単にフェニル基含有ポリがロシロキサンと
呼ぶことがある)は、本発明者らが、先に特許出願した
特開昭53−42300および特開昭53−50299
にその製造法、構造及び物性が詳細に開示されているも
のでるり、例えばホウ酸と一種または二種以上のジオル
ガノジクロロシラン(儂し該ジオルガノジクロロシラン
のオルガノ基の少くとも一部はフェニル基である)との
脱塩酸縮合反応によって製造されるものでめる。このさ
い縮合反応がどのようにして進行するかを、ジフェニル
ジクロロシランとホウ酸との反応ヲ例にとって示せば、
主要な反応は次の如きものであろうと考えられる。
RR Another starting material W used in the method of the present invention is a polysiloxane (hereinafter simply phenyl The group-containing poly (sometimes referred to as rosiloxane) is disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. 53-42300 and No. 53-50299, for which the present inventors previously filed patent applications.
For example, boric acid and one or more diorganodichlorosilanes (if at least a portion of the organo groups of the diorganodichlorosilanes are It is produced by dehydrochloric acid condensation reaction with phenyl group). To illustrate how the condensation reaction proceeds in this case, take the reaction of diphenyldichlorosilane and boric acid as an example.
The main reactions are thought to be as follows.

C,H。C, H.

警 C@M。Police C@M.

本発明の方法の出発原料であるフェニル基含有ポリがロ
シロ中すン管上記の反応により製造する場合に使用する
ジオルガノジクロロシランとして好ましいものは、ゾフ
ェニルVクロロシラン及ヒ/又ハメチルフェニルVクロ
ロシラン、又はこれらとりメチルジクロロシランとの混
合物である。
Preferred diorganodichlorosilanes used when the phenyl group-containing poly, which is the starting material for the method of the present invention, is produced by the above reaction are zophenyl V chlorosilane and/or hamethylphenyl V chlorosilane. , or a mixture of these with methyldichlorosilane.

本発明の方法で出発原料の一つとして使用する塩酸縮合
反応のほかに、例えばホウ酸と一種または二種以上のジ
オルガノジアルコキシシランとの脱アルコール縮合反応
や、例えばB(OCH8)、の如きホウ酸汗ステルとジ
オルガノジアルコキシシランとの脱エステル縮合反応(
但しこれらの反応で使用するジオルガノジアルコキシシ
ランのオルガノ基の少くとも一部はフェニル基である)
等によっても製造することができる。
In addition to the hydrochloric acid condensation reaction used as one of the starting materials in the method of the present invention, for example, the dealcoholization condensation reaction of boric acid and one or more diorganodialkoxysilanes, and the Deesterification condensation reaction between boric acid sweat stellate and diorganodialkoxysilane (
However, at least some of the organo groups in the diorganodialkoxysilane used in these reactions are phenyl groups)
It can also be manufactured by

上記の製造法における縮合反応はかなり複雑であるから
、縮合反応生成物であるフェニル基・含有ポリボロシロ
キサンの構造を完全に解明すること4 構造単位からなり、この構造単位が複雑に組み合わされ
て全体のポリマーが構成されている1本発明の方法で出
発原料として使用するフェニル基含有ポリボロシロキサ
ンは、ポリマー中における少くとも一部の構造単位にお
けるR5及びR4の少くとも一部がフェニル基でなけれ
(句ならない。
Since the condensation reaction in the above production method is quite complex, it is necessary to completely elucidate the structure of the condensation reaction product, phenyl group-containing polyborosiloxane. In the phenyl group-containing polyborosiloxane used as a starting material in the method of the present invention, at least some of R5 and R4 in at least some of the structural units in the polymer are composed of phenyl groups. Without it (there is no phrase.

好−1いポリボロシロキサンは、ポリマー中に存在する
Siに結合する全側鎖の509b以上刃;フェニル基で
あり、残余の側鎖がメチル基の4口き低級アルキル基、
又は水素であるようなポリボロシロキサンである。
The preferred polyborosiloxane is a 4-unit lower alkyl group in which all the side chains bonded to Si present in the polymer are phenyl groups, and the remaining side chains are methyl groups;
or a polyborosiloxane such as hydrogen.

本発明で使用するジフェニル含有ポリボロシロキサンの
例示を下記に示すが、これは本発明の理解を容易ならし
めるためのものであって、本発明を限定するためのもの
ではない。
Examples of diphenyl-containing polyborosiloxanes used in the present invention are shown below, but these are provided to facilitate understanding of the present invention, and are not intended to limit the present invention.

上記に示したような線状、分岐状または環状の構造を有
するポリボロシロキサンのほかに、これらが更に架橋し
た複雑な構造のポリボロシロキサンも、本発明で使用す
るジフェニル含有ポリボロシロキサンに包含される。
In addition to polyborosiloxanes having linear, branched or cyclic structures as shown above, polyborosiloxanes having complex structures in which these are further crosslinked are also included in the diphenyl-containing polyborosiloxanes used in the present invention. be done.

本発明で出発原料として使用するフェニル基含有ポリボ
ロシロキサンは、通常数平均分子量が500〜10,0
00であり、耐加水分解れや耐熱性に優れているのが特
徴である。例えば、分子量2350のポリボロジフェニ
ルシロキサンの分N温度は800 ’Oである。   
  R1本発明の方法においては、前記±Si+nなる
構2 造単位を有するポリシラン類の少くとも一種に対して、
前記フェニル基含有ポリボロシロキサンを0.01−1
5重量%添加混合し、その混合物を反応に対して不活性
な雰囲気下において加熱して重合せしめる。
The phenyl group-containing polyborosiloxane used as a starting material in the present invention usually has a number average molecular weight of 500 to 10,0.
00, and is characterized by excellent resistance to hydrolysis and heat resistance. For example, polyborodiphenylsiloxane with a molecular weight of 2350 has a molecular temperature of 800'O.
R1 In the method of the present invention, at least one of the polysilanes having the structural unit ±Si+n,
The phenyl group-containing polyborosiloxane is 0.01-1
5% by weight was added and mixed, and the mixture was heated and polymerized in an atmosphere inert to the reaction.

合する装置として特殊な装置を要しないことであり、例
えば第1図に示すような簡単な装置を用いることができ
る。
A special device is not required as a matching device; for example, a simple device as shown in FIG. 1 can be used.

第1図において、αは例えば通常の電気炉等による加熱
炉であり、bは例えば硬質ガラス製で冷却水を用いる還
流器具であり、Cは例えば石英もしくはステンレスの缶
状の反応容器であり、d。
In FIG. 1, α is a heating furnace such as a normal electric furnace, b is a reflux device made of hard glass and uses cooling water, and C is a can-shaped reaction vessel made of, for example, quartz or stainless steel. d.

は反応に不活性なガスの流入口であり、d はその流出
口である。
is the inlet of the gas inert to the reaction, and d is its outlet.

すなわち、本発明の製法においては、簡単な加熱炉、反
応容器、還流器具等を用いるだけでも十分に優れたポリ
カルボシランを合成することのできるものであり、前述
した如く、従来のポリカルボシランの製法における如く
、加圧容器やリサイクル可能な流通式装置等の特殊な装
置を使用する必要がない。
That is, in the production method of the present invention, it is possible to synthesize sufficiently excellent polycarbosilane by using a simple heating furnace, reaction vessel, reflux equipment, etc. It is not necessary to use special equipment such as pressurized containers or recyclable flow-through equipment as in the manufacturing method of .

本発明の方法においては、加熱による重合反応を、反応
に不活性なガス雰囲気下において行なうことが必要であ
る。重合反応を空気中の如き酸化性雰囲気中で行なうと
、原料のポリシランの酸化が生じるため、反応が十分に
進行しないので好ましくない。反応に不活性なガスとし
ては窒素、アルゴン、水素が特に好適である。
In the method of the present invention, it is necessary to carry out the polymerization reaction by heating under a gas atmosphere inert to the reaction. If the polymerization reaction is carried out in an oxidizing atmosphere such as air, the raw material polysilane will be oxidized and the reaction will not proceed sufficiently, which is not preferable. Nitrogen, argon, and hydrogen are particularly suitable as the gas inert to the reaction.

また重合反応は一般に常圧付近で行なうことが好ましく
、真空中や高、い減圧中で重合反応を行なうと、生成し
た低分子成分が系外に留出するため著しく収率が低下す
るので好ましくない。本発明の方法を実施するためには
、不活性ガスを反応部に気流として送りこみながら重合
反応を行なうことが好ましく、その理由は、これKより
反応器内の圧力が#1ぼ常圧に保たれ、温度上昇や反応
中に放出される例えばメタンのようなガスによる圧力上
昇を防ぐことができるからである。
In addition, it is generally preferable to carry out the polymerization reaction near normal pressure. If the polymerization reaction is carried out in a vacuum or under high or reduced pressure, the produced low molecular weight components will be distilled out of the system, resulting in a significant decrease in yield, so it is preferable. do not have. In order to carry out the method of the present invention, it is preferable to carry out the polymerization reaction while feeding an inert gas into the reaction section as a gas stream. This is because it is possible to prevent temperature rise and pressure rise due to gases such as methane released during the reaction.

本発明の方法における加熱温度は、従来法に比べて低温
であり、通常250°C以上、好ましくは800〜50
0Cであることが本発明の方法の利点の1つである。反
応温度が250C以下では重合が進行しにくく、500
°C以上では、生成したポリカルボシランの無機質化す
なわち側鎖成分の飛散が徐々に開始しはじめるだめ好ま
しくない。
The heating temperature in the method of the present invention is lower than that in conventional methods, usually 250°C or higher, preferably 800 to 50°C.
0C is one of the advantages of the method of the invention. If the reaction temperature is below 250C, polymerization will be difficult to proceed;
If the temperature is above .degree. C., mineralization of the produced polycarbosilane, that is, scattering of the side chain components, begins gradually, which is not preferable.

また、本発明の方法における加熱重合は通常3〜10時
間の如き比較的短時間で完了することも本発明の重要な
利点の1つである。10時間以上加熱しても得られるポ
リカルボシランに何ら実質的な向上は見られない。
Another important advantage of the present invention is that the thermal polymerization in the method of the present invention is usually completed in a relatively short time, such as 3 to 10 hours. No substantial improvement is observed in the polycarbosilane obtained even after heating for more than 10 hours.

以上のような重合反応により得られたポリカルボシラン
は、溶媒に溶かして濾過し、その後溶媒を蒸発させて精
製することができる。必要ならば、50〜450 ’O
の温度範囲で、常圧、あるいは減圧下で蒸留し濃縮する
ことにより平均分子量を上げることができる。かかる溶
媒としては例えばノルマルヘキサン、ベンゼン、キンレ
ン、テトラヒドロフランなどが挙けられる。
The polycarbosilane obtained by the above polymerization reaction can be purified by dissolving it in a solvent, filtering it, and then evaporating the solvent. If necessary, 50-450'O
The average molecular weight can be increased by distilling and concentrating under normal pressure or reduced pressure within a temperature range of . Examples of such solvents include normal hexane, benzene, quinolene, and tetrahydrofuran.

本発明の方法の新規な特徴は、ポリシランに小量のフェ
ニル基含有ポリボロシロキサンを添加した混合物からポ
リカルボシランを製造するという点に存する。このよう
な新規な出発原料を採用したことが、本発明の方法の利
点、即ち特殊な反応装置を必要とせず、加熱温度も比較
的低く、加熱時間も短かいという利点をもたらしたもの
と考えられる。以下に、ポリシランに小部のフェニル基
含有ポリボロシロキサンを添加することによって、何故
上記のような利点がもたらされるかという機構について
の考察を述べるが、これは単に一つの推論を述べたに過
ぎないも5のであり、この理論によって本発明がなんら
限定されるものではない。
The novel feature of the process of the invention is that polycarbosilanes are produced from mixtures of polysilanes with the addition of small amounts of phenyl-containing polyborosiloxanes. It is believed that the adoption of such a new starting material brings about the advantages of the method of the present invention, namely, no special reaction equipment is required, the heating temperature is relatively low, and the heating time is short. It will be done. Below, we will discuss the mechanism of why the above advantages are brought about by adding a small amount of phenyl group-containing polyborosiloxane to polysilane, but this is just one speculation. This theory does not limit the present invention in any way.

本発明の方法の1つの出発原料であるボリアう熱分解す
る。その結果生じた低分子量のポリシラあるいはこれら
の混合物からなる低分子量生成物が生成する。さらに温
度が上がり200〜aOOCになると、フェニル基含有
ポリボロシロキサンのB−0結合の熱切断が部分的に生
起し、その切断部に前記低分子量生成物が結合し、中間
生成物を形成する。この中間生成物の形成は立体障害を
小さくするだめより低分子のものに対して選択的のは熱
的に不安定であるので、更に加熱温度が上がり250〜
500 ’C!になり、安定な一8i−CH,、−結合
が促進されてゆく過程でホウ素は解岨されて、這 低沸点のアルキルホウ素(R−B−R)あるいはホウ素
の水素化物として反応系外に放出されるものと思われる
。ただし、重合’(KPjAlによれば一部のホウ素は
B−0−8i結合を有したままポリカルボシラン中に小
量残存している可能性もある。
One starting material for the process of the invention, boria, is pyrolyzed. The result is a low molecular weight product consisting of low molecular weight polysilas or mixtures thereof. When the temperature further increases to 200 to aOOC, partial thermal cleavage of the B-0 bond of the phenyl group-containing polyborosiloxane occurs, and the low molecular weight product binds to the cleaved portion to form an intermediate product. . The formation of this intermediate product is selective for lower molecular weight products in order to reduce steric hindrance, but since it is thermally unstable, the heating temperature is further increased to 250~250°C.
500'C! In the process of promoting stable -8i-CH,,- bonds, boron is decomposed and released from the reaction system as low-boiling alkylboron (R-B-R) or boron hydride. It is thought that it will be released. However, according to polymerization (KPjAl), there is a possibility that a small amount of boron remains in the polycarbosilane with a B-0-8i bond.

所で、ポリシランだけを出発原料として使用した場合に
は、その熱分解により生じた前記の低分子量生成物は反
応系外に放出され易いものであるから、重合反応を収率
よ〈実施するだめには低分子量生成物の飛散を防止する
ために、加圧許1閉容器または低分子量成分をリサイク
ルして徐々に高分子化するだめの流通式装置等の特殊な
装置が必要である。
By the way, when only polysilane is used as a starting material, the low molecular weight products generated by its thermal decomposition are easily released outside the reaction system, so the polymerization reaction may not be carried out in terms of yield. In order to prevent scattering of low molecular weight products, special equipment such as a pressurized closed container or a flow system for recycling low molecular weight components and gradually converting them into polymers is required.

然しなから本発明の方法に従がい、ポリシランとポリボ
ロシロキサンの混合物を出発原料として使用する場合に
は、先に説明したように、ポリボロシロキサンのB−0
結合の切断部にポリシランの熱分解により生じた低分子
量生成物が捕獲されるので、これによって低分子量生成
物の反応系外への散逸が有効に防止できる。しかもポリ
ボロシロキサンは反応に対して一種の触媒的効果を呈す
るので、本発明の方法においては、加圧密閉容器や特殊
なリサイクル装置を用いることなく、開放系の反応容器
を用いて常圧で比較的低温度において反応を実施しても
、重合反応を円滑に且つ高い収率で行なうことが可能と
なり、その結果5i−0結合をポリマー骨格の一部に含
むポリカルボンランが得られる。
However, when following the method of the present invention and using a mixture of polysilane and polyborosiloxane as a starting material, as explained above, the B-0
Since the low molecular weight products generated by thermal decomposition of polysilane are captured at the bond cutting site, it is possible to effectively prevent the low molecular weight products from escaping out of the reaction system. Moreover, since polyborosiloxane exhibits a kind of catalytic effect on the reaction, in the method of the present invention, an open reaction vessel is used at normal pressure without using a pressurized sealed vessel or special recycling equipment. Even if the reaction is carried out at a relatively low temperature, it is possible to carry out the polymerization reaction smoothly and in high yield, and as a result, a polycarbonane containing a 5i-0 bond as a part of the polymer skeleton can be obtained.

本発明の方法においてポリボロシロキサンの添加量はポ
リシランに対して0.01〜15重量係とする。その理
由は、0.01%以下では、前記の低分子量成分の捕獲
効果が充分に行なわれないため、低分子量成分の放出都
が多くなり反応収率が悪くなり、他方15重量%以上加
えると、得られたポリカルボシラン中におdる5i−0
結合の割合が増加するため、ポリカルボシランが本来壱
する性質や有用性をそこなうため好ましくないからであ
る。
In the method of the present invention, the amount of polyborosiloxane added is 0.01 to 15% by weight relative to polysilane. The reason for this is that if the amount is less than 0.01%, the above-mentioned effect of trapping the low molecular weight components will not be sufficiently achieved, and the amount of low molecular weight components released will increase, resulting in poor reaction yield.On the other hand, if more than 15% by weight is added, , 5i-0 in the obtained polycarbosilane
This is because the increase in the bonding ratio impairs the original properties and usefulness of polycarbosilane, which is undesirable.

好適なポリボロシロキサンの添加量は0,05〜10重
量%の範囲である。
Suitable amounts of polyborosiloxane added range from 0.05 to 10% by weight.

本発明の方法における重合反応は、加熱だけでも進行す
るが、所望ならば、例えば過酸化べ/ジイルの如きラジ
カル開始剤またはアルミニウムやホウ素などを含む触媒
を添加する重合法、あるいは照射による重合法などを併
用することもできる。
The polymerization reaction in the method of the present invention proceeds by heating alone, but if desired, a polymerization method by adding a radical initiator such as be/diyl peroxide or a catalyst containing aluminum or boron, or a polymerization method by irradiation can be used. etc. can also be used together.

次に上記の製造法によって得られる本発明のシロキサン
結合を一部含むポリカルボシランについて説明する。出
発原料のポリシランとしてポリ7ポリカルポ7ランのJ
R吸収スペクトルは例えば−に示すごとく、波数800
crn−’ 付近と1250m−1、の5i−CH3;
 1400.2900.2950 cm −’のC−H
; 2100cm−’の5z−H;1020.1855
m−’の5i−CH2−8i ; l 050cm−’
付近の5i−Cj;’too、1120.1480cr
n−’のS i −C6H,Hの各結合に基づく吸収を
示す。然しなから、波数・1840cr++−’のB−
0−(Si)、あるいは8220crn−’ のB−O
Hによる吸収は通常検出されず、従ってIRスペクトル
によっては、ポリカルボシラン中におけるB−0結合の
存在は不明である。
Next, the polycarbosilane partially containing siloxane bonds of the present invention obtained by the above production method will be explained. Poly7 polycarpo7 run J as the starting material polysilane
For example, as shown in -, the R absorption spectrum has a wave number of 800.
5i-CH3 near crn-' and 1250 m-1;
C-H of 1400.2900.2950 cm −'
; 5z-H at 2100 cm-'; 1020.1855
5i-CH2-8i of m-'; l 050cm-'
Nearby 5i-Cj;'too, 1120.1480cr
It shows the absorption based on each bond of S i -C6H and H of n-'. However, B- of the wave number 1840cr++-'
0-(Si) or 8220crn-' B-O
Absorption due to H is usually not detected, so the presence of B-0 bonds in polycarbosilanes is unknown depending on the IR spectra.

また、紫外線゛吸収スペクトルの測定により、−8i−
8i−成分はほぼ消失していることが確認された。
In addition, by measuring the ultraviolet absorption spectrum, -8i-
It was confirmed that the 8i-component had almost disappeared.

化学分析による元素比率は一般にSi:80〜60、C
:20〜60、O: o、 s〜5、H:5〜10重昂
饅である。
The elemental ratio according to chemical analysis is generally Si: 80-60, C
: 20-60, O: o, s-5, H: 5-10.

上記のIRスペクトル、紫外紺吸収スペクトル、化学分
析の結果より、本発明のシロキサン結合を一部含むポリ
カルボシランの+h造について次の如き結論が得られる
。すなわち、JRスペクトルの測定結果からポリカルボ
シランを構成する要素が1 す、紫外線吸収スペクトルの測定結果から1 いることから、本発明のポリカルボシランは、その構造
単位が実質的に下記<A>及び(B)からなるものであ
る。
From the results of the above-mentioned IR spectrum, ultraviolet navy absorption spectrum, and chemical analysis, the following conclusions can be drawn regarding the +h structure of the polycarbosilane partially containing siloxane bonds of the present invention. That is, from the measurement results of the JR spectrum, there are 1 elements constituting the polycarbosilane, and from the measurement results of the ultraviolet absorption spectrum, there are 1 elements, so the polycarbosilane of the present invention has substantially the following structural units: <A> and (B).

(A):R。(A):R.

一8i−CH2− 2 (B):R3 −8i −0− 4 (但しR8、R2、R3及びR4はそれぞれCH5、C
2私、C6H,またはHで艇る) 更に化学分析による元素比率の測定結果から、(A)と
(Z?)の構造単位の比率は5:1乃至200:1であ
る。
-8i-CH2-2 (B): R3 -8i -0-4 (However, R8, R2, R3 and R4 are CH5, C
Furthermore, the ratio of the structural units of (A) and (Z?) is 5:1 to 200:1 from the results of chemical analysis of the element ratios.

マタ、ポリボロシロキサンの分解が(Si+O−B結合
で生ずることから、構造単位1)はポリカルボシラン中
に無秩序に分布し、ポリボロシロキサンのSiの側鎖と
して存在していたフェニル基は、そのまま残るものと考
えられる。
As a result, the decomposition of polyborosiloxane occurs through Si+O-B bonds, so structural unit 1) is randomly distributed in polycarbosilane, and the phenyl group that was present as a side chain of Si in polyborosiloxane is It is assumed that it will remain as is.

以上により、本発明の方法において、恍えは出発原料と
してポリ/メチルシランとポリボロ/フェニルシロキサ
ンを用いた場合に得られるポリカルボシランの構造は、
下記のように推定できる。
From the above, in the method of the present invention, the structure of the polycarbosilane obtained when poly/methylsilane and polyboro/phenylsiloxane are used as starting materials is as follows:
It can be estimated as follows.

本発明のポリカルボ7ランは、蒸気圧浸透法により測定
した数平均分子量が500〜I O,000であり、固
有粘度はo、oi〜1.50である。
The polycarbo-7 run of the present invention has a number average molecular weight of 500 to IO,000 as measured by vapor pressure osmosis, and an intrinsic viscosity of o,oi to 1.50.

本発明のシロキサン結合を含むポリカルボシランは、従
来法により製造したポリカルボ7ランに比べて、分解温
度が高く(即ち、耐熱性に唆れる)、耐酸化性にも優れ
、しかも焼成残留率が大きいという優れた特性を有して
いる。
The polycarbosilane containing siloxane bonds of the present invention has a higher decomposition temperature (that is, improved heat resistance), excellent oxidation resistance, and a lower firing residue rate than polycarbosilane produced by conventional methods. It has an excellent characteristic of being large.

この事実は下記表1の実級結果から明らかである。1%
、 1表には、従来法により加圧客器(オートクレーブ
)を用いてアルゴン雰囲気中容器内の最終圧力110気
圧、470°0,14時間でポリンメチルシランから合
成されたポリカルボシランと、本発明の方法により窒素
気流中、400°C5時間でポリジメチルシランと3.
85重i%に当るポリボロジフェニルシロキサンとから
合成されたシロキサン結合を含むポリカルボンランとの
性質の比較が示されている。
This fact is clear from the practical results shown in Table 1 below. 1%
, Table 1 shows polycarbosilane synthesized from polymethylsilane using a conventional method in a pressurized container (autoclave) at a final pressure of 110 atm in an argon atmosphere container for 14 hours at 470°C, and this polycarbosilane. 3. Polydimethylsilane and polydimethylsilane at 400°C for 5 hours in a nitrogen stream by the method of the invention.
Comparison of properties with polycarbonane containing siloxane bonds synthesized from 85 weight i% of polyborodiphenylsiloxane is shown.

本発明のポリカルボシランは、50〜800 ’0の加
熱により溶融する熱可塑性物質であり、まだベンゼン、
ノルマルヘキサン、キシレン、テトラヒドロフラン等の
溶媒に可溶性であるから、様々な形状を有する成型体と
することができ、これを700°C以上の温度で加熱焼
成して、主として蕪機炭化物SiC成形体に転換させる
ことができる。
The polycarbosilane of the present invention is a thermoplastic material that melts by heating between 50 and 800'0, and still contains benzene,
Since it is soluble in solvents such as n-hexane, xylene, and tetrahydrofuran, it can be made into molded bodies with various shapes, which are heated and fired at temperatures of 700°C or higher to mainly form Kabuki carbide SiC molded bodies. It can be converted.

このような例としては、主としてシリコンカーバイドよ
りなる連続繊維、フイ、ルム、被Fbl&、粉末などが
挙げられる。本発明のポリカルボシランは焼成残留率が
大きいため、これらのSiC’g14品を得る際の歩留
りがよいので極めて有利なポリマーである。まだ、本発
明のポリカルボンランは前記SiC製品の他に焼結用結
合剤や含浸剤としても用いることができ、更に耐熱性と
耐酩化注に優れているので、ポリマーのままでも種々の
用途を有するものと期待される。
Examples of such fibers include continuous fibers, fibers, lumes, Fbl&, powders, etc. mainly made of silicon carbide. The polycarbosilane of the present invention has a high firing residual rate, so it is an extremely advantageous polymer because the yield when obtaining these SiC'g14 products is high. In addition to the above-mentioned SiC products, the polycarbonate of the present invention can also be used as a sintering binder and an impregnating agent, and furthermore, it has excellent heat resistance and intoxication resistance, so it can be used in various applications even as a polymer. It is expected that it will have many uses.

以下実施例によって本発明を説明する。The present invention will be explained below with reference to Examples.

実施例1 5tの三ロフラスコに無水キシレン2.5tとナトリウ
ム400りとを入れ、呈素ガス気流下でキシレンの沸点
まで加熱し、ジメチルジクロロシランItを1時間で滴
下した。滴下終了後、10時間加熱還流し沈殿物を生成
させた。この沈殿を濾過し、まずメタノールで洗浄した
後、水で洗浄して白色粉末のポリジメチルシラ7420
1を得た。
Example 1 2.5 t of anhydrous xylene and 400 liters of sodium were placed in a 5 t three-hole flask, heated to the boiling point of xylene under a nitrogen gas flow, and dimethyldichlorosilane It was added dropwise over 1 hour. After the dropwise addition was completed, the mixture was heated under reflux for 10 hours to form a precipitate. This precipitate was filtered and washed first with methanol and then with water to obtain a white powder of polydimethylsilane 7420.
I got 1.

このポリジメチルシラン2502に、/フェニルンクロ
ロシラン759vとホウ酸1242を窒素ガス雰囲気下
、n−ブチルニー・チル中、100〜120°Cの温度
で加熱し、生成した白色樹脂状物を、さらに真空中40
0 ’Oで1時間加熱することによって得られたポリボ
ロジフェニルシロキサン0、1259を添加混合し、還
流管を備えだ2tの石英管中で、窒素気流下で820 
’0まで加熱し、8時間重合し、本発明の有機ケイ素高
分子化合物。
To this polydimethylsilane 2502, 759v of /phenylonchlorosilane and 1242% of boric acid were heated at a temperature of 100 to 120°C in n-butyl ni-chill under a nitrogen gas atmosphere, and the resulting white resinous material was further vacuum-treated. Middle school 40
Polyborodiphenylsiloxane 0,1259 obtained by heating at 0'O for 1 hour was added and mixed, and the mixture was heated at 820 °C under a nitrogen stream in a 2t quartz tube equipped with a reflux tube.
The organosilicon polymer compound of the present invention is obtained by heating to 0 and polymerizing for 8 hours.

を得た。室温で放冷後n−ヘキサンを加えて溶液として
取り出、L、”−へキサンを蒸発させ、゛  280’
Oまで真空で濃縮して842の固体を寿た。
I got it. After cooling at room temperature, add n-hexane and take out as a solution, evaporate L,''-hexane, and obtain ``280''
Concentration in vacuo to O gave 842 solids.

このものはベンゼンに可溶であり、平ガJ分子蓋960
、固南粘度0.02であった。さらに窒素ガス雰囲気中
で1300°Cまで5 ’C/ mi n の昇温速度
で焼成した結果残留率は45%であった。
This substance is soluble in benzene, and Hiraga J Molecular Lid 960
, and the hardness viscosity was 0.02. Furthermore, as a result of firing in a nitrogen gas atmosphere up to 1300°C at a heating rate of 5'C/min, the residual rate was 45%.

実施例2 実施例1で合成したポリジメチルシラン250Vにポリ
ボロジフェニルシロキサン10.Ofを65加混合し実
施例1と同じ装置で窒素気流中870°Cまで加熱し、
5時間重合し、本発明の有機ケイ素高分子化合物を得た
。室温で放冷L n−ヘキサンを加えて溶液として取り
出し、n−ヘキサンを蒸発させて176fの固体を得た
。このものはベンゼンに可溶であり、平均分子iii′
1720、固有粘度0.04であった。さらに窒素ガス
雰囲気中で1800°Cまで5°O/min の昇温速
度で焼成した結果残留率は79%ヤあった。
Example 2 Polyborodiphenylsiloxane 10% was added to 250V of polydimethylsilane synthesized in Example 1. 65% of was added and mixed and heated to 870°C in a nitrogen stream using the same equipment as in Example 1.
Polymerization was carried out for 5 hours to obtain an organosilicon polymer compound of the present invention. Cooled L n-hexane was added to the mixture at room temperature and taken out as a solution, and the n-hexane was evaporated to obtain 176f as a solid. This substance is soluble in benzene and has an average molecular iii'
1720, and the intrinsic viscosity was 0.04. Furthermore, as a result of firing in a nitrogen gas atmosphere to 1800°C at a heating rate of 5°O/min, the residual rate was 79%.

実施例3 Siの側鎖の2−がフェニル基で残部の@鎖がメチル基
であるポリシラ72509に実施例1で合成シた4リ−
ロゾフェニルシロキサン8.0fvI−添加混合し、実
施例1と同じt&置で窒素気流中360℃萱で加熱し、
7時間重合し、本発明の有機ケイ素高分子化合物を得た
。室温で放冷稜、笥−へ中サンを加えて鑓液として取出
し、算−へ中サンtJI発させて!139の固体を得た
。このものはベンゼンに可溶でるり、平均分子@a、i
oo、固有粘度0.06であった。さらに窒素ガス雰囲
気中で1300’Cまで5℃/ m i nの昇温連間
で焼成した結果残留率は88−であった。
Example 3 Polysila 72509, in which the 2- side chain of Si is a phenyl group and the remaining @ chain is a methyl group, was treated with the 4-lion synthesized in Example 1.
8.0fvI of rosophenylsiloxane was added and mixed, heated at 360°C in a nitrogen stream at the same temperature as in Example 1,
Polymerization was carried out for 7 hours to obtain an organosilicon polymer compound of the present invention. Let it cool at room temperature, add the middle san to the bowl, take it out as a liquid, and let the middle san tJI go to the bottom! 139 solids were obtained. This substance is soluble in benzene, average molecular @a, i
oo, and the intrinsic viscosity was 0.06. Furthermore, as a result of firing in a nitrogen gas atmosphere at a temperature increase of 5°C/min up to 1300'C, the residual rate was 88-.

上記の実si例1〜3のそれぞれにおいて得られた有機
ケイ素高分子化会物における構造単位の比率、(A):
 (#)、をNMRスペクトルによって測定したところ
、下記表2に示すような結果が得られた。
Ratio of structural units in organosilicon polymerized compounds obtained in each of the above practical examples 1 to 3, (A):
(#) was measured by NMR spectrum, and the results shown in Table 2 below were obtained.

表2Table 2

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の4リカル?シランを合成する装置の1
fIlであり、図中、aは加熱炉、bFi還流器、6は
反応容器、difJ不活性ガスの火入口、第2図は実施
例2で合l戎した本発明のポリカルボシランのIR吸収
スペクトル(KBr錠剤法)を示す。 手続補正書く自発) 昭和58年2月17日 特許庁長官  若杉和夫殿 2、発明の名称 シロキサン結合を一部含むポリカルボシラン3、補正を
する者 事件との関係   特許出願人 住所 茨城県鹿島郡旭村大字鹿田字山野873番地の3
名称 財団法人 特殊無機材料研究所 5、補正命令の日付     な し 7、補正の内容 図面の浄書(内容に変更なし)
Figure 1 shows the 4 Ricards of the present invention? 1 of the equipment that synthesizes silane
In the figure, a is a heating furnace, b is a Fi reflux device, 6 is a reaction vessel, and a difJ inert gas inlet; The spectrum (KBr tablet method) is shown. (Volunteer to write procedural amendments) February 17, 1980 Commissioner of the Japan Patent Office Kazuo Wakasugi 2 Name of the invention Polycarbosilane containing a portion of siloxane bonds 3 Relationship with the person making the amendment Patent applicant address Kashima District, Ibaraki Prefecture Asahimura Oaza Shikata Yamano 873-3
Name Special Inorganic Materials Research Institute 5 Date of amendment order None 7 Contents of amendment Engraving of drawings (no change in content)

Claims (1)

【特許請求の範囲】 王妃(A)および(B)なる構造本位から主としてなり
、 (A):     R1 一8i−CH,− R1 1):     Rs 言 5i−0− 4 (Rm 、Rm −Rs及びR,Fiそれぞれ独立K 
CH1%C1M1、C・HIまたはHを表わす)(A)
と(J?)との比率が5:1〜200: tであり、数
平均分子量がSOO〜lへ000、固有粘度がα01−
140であり、耐熱性および耐酸化性に優れ、かつ非酸
化性雰囲気中における焼成残留率の高いことを特徴とす
るシロ中サン結合を一部含むポリカル−シラン。
[Claims] It mainly consists of the structural elements of queens (A) and (B), (A): R1-8i-CH, - R1 1): Rs 5i-0-4 (Rm, Rm -Rs and R, Fi each independent K
Represents CH1%C1M1, C・HI or H) (A)
The ratio of (J?) is 5:1 to 200:t, the number average molecular weight is SOO~l000, and the intrinsic viscosity is α01-
140, and is characterized by excellent heat resistance and oxidation resistance, and a high firing residue rate in a non-oxidizing atmosphere.
JP58002817A 1983-01-13 1983-01-13 Polycarbosilane partially containing siloxane bond Granted JPS58136626A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58002817A JPS58136626A (en) 1983-01-13 1983-01-13 Polycarbosilane partially containing siloxane bond

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58002817A JPS58136626A (en) 1983-01-13 1983-01-13 Polycarbosilane partially containing siloxane bond

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12763077A Division JPS5461299A (en) 1977-10-26 1977-10-26 Polycarbosilane partially containing siloxane linkage and method of making same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58136626A true JPS58136626A (en) 1983-08-13
JPS6126930B2 JPS6126930B2 (en) 1986-06-23

Family

ID=11539955

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58002817A Granted JPS58136626A (en) 1983-01-13 1983-01-13 Polycarbosilane partially containing siloxane bond

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS58136626A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3790151C2 (en) * 1986-03-11 1991-04-04 The Research Institute For Special Inorganic Materials, Asahi, Ibaraki, Jp

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3790151C2 (en) * 1986-03-11 1991-04-04 The Research Institute For Special Inorganic Materials, Asahi, Ibaraki, Jp

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6126930B2 (en) 1986-06-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4455414A (en) Process for producing an organometallic copolymer
EP0152704B1 (en) Polyhydridosilanes and their conversion to pyropolymers
EP0217539A1 (en) Method for forming new preceramic polymers containing silicon
US4611035A (en) Polyhydridosilanes and their conversion to pyropolymers
EP0030105B1 (en) Polymetallocarbosilane, process for its production and shaped articles of inorganic carbide derived therefrom
JPS62201933A (en) Production of novel silicon-containing preceramic polymer
GB1593511A (en) Borosiloxane polymers and a method for producing same
EP0295062B1 (en) Polysilacyclobutasilazanes
US4704444A (en) Polyhydridosilanes and their conversion to pyropolymers
US4590253A (en) Organosilicon polymer and process for production thereof
JPS6149334B2 (en)
CA1281477C (en) Method for converting si-h containing polysiloxanes to new and useful preceramic polymers and ceramic materials
US5312649A (en) Diorganosilacetylene-alt-diorganosilvinylene polymers and a process densifying porous silicon-carbide bodies
KR940007325B1 (en) Process for preparation of polysila methylrenosilane
JPS6158086B2 (en)
Boury et al. Stoichiometric silicon carbide from borate‐catalyzed polymethylsilane–polyvinylsilane formulations
JPS58136626A (en) Polycarbosilane partially containing siloxane bond
JPS6123932B2 (en)
KR100776251B1 (en) Method of producing polyphenylcarbosilane using multistage reaction process and polyphenylcarbosilane prepared thereby
JPS6260414B2 (en)
EP0184123B1 (en) Ceramic materials from polycarbosilanes
JPS6249299B2 (en)
JPS60188429A (en) Manufacture of polyhydridesilane and pyropolymer of same
JPH0233733B2 (en) SHIRIKONTOCHITANMATAHAJIRUKONIUMUTOOGANJUSURUJUKIKINZOKUKAKYOJUGOTAIOYOBISONOSEIZOHOHO
RU2125579C1 (en) Polycarbosilanes containing metallic clusters and process for preparing thereof