JPS6123932B2 - - Google Patents
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- JPS6123932B2 JPS6123932B2 JP55055472A JP5547280A JPS6123932B2 JP S6123932 B2 JPS6123932 B2 JP S6123932B2 JP 55055472 A JP55055472 A JP 55055472A JP 5547280 A JP5547280 A JP 5547280A JP S6123932 B2 JPS6123932 B2 JP S6123932B2
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Landscapes
- Silicon Polymers (AREA)
Description
本発明は、その一部にメタロキサン結合を含む
新規なポリカルボシランおよびその製法に関す
る。 ポリカルボシランとは、骨格が−Si−C−結合
により構成されるポリマーであり、その用途は、
このポリマーが焼成により無機炭化物sicに転換
することからsicの原料として用いられ、例えば
sic繊維,フイルム,被覆膜,焼結結合剤,含浸
剤,sic粉末などとして利用されている。 従来知られているポリカルボシランとしては、
モノシランをそのまま重合して得られるポリカル
ボシランと、モノシランを一旦ポリシランとした
のち、これと重合して得られるポリカルボシラン
との二種類がある。前者はFritz;Angew.
chem.79 P.657(1967)等により開示された方法
で製造することができ、後者は、本発明の一部が
先に出願した特開昭51−126300号公報、特開昭51
−139929号公報等に記載の方法で製造することが
できる。しかしながら前記の製法でポリカルボシ
ランを高収率で得るためには、オートクレーブの
ような加圧容器を用いるか、あるいはルサイクル
のできる流通式装置を用いて600〜800℃の如き高
温に加熱し、20〜50時間のような長時間の反応時
間を必要とするなど工業的に不利な点が多い。 本発明者は、その後、ポリシランからポリカル
ボシランを製造する研究を鋭意検討した結果、今
回一般の酸化還元反応または重合反応等に有効な
触媒の活性種である各種元素からなるメタロキサ
ン結合単位(−M−O)−の1種または2種以上とシ
ロキサン結合単位(−Si−O)−とからなるポリメタ
ロキサンを、ポリシランに添加し、通常の常圧装
置を用いて重合することにより、高収率でメタロ
キサン結合を一部含むポリカルボシランが得られ
ることを見出した。且つこのポリマーは、製造課
程でポリメタロキサンのメタロキサン結合単位お
よびシロキサン結合単位がポリカルボシランの1
部に組み込まれたランダム重合体および/または
架橋重合体であるため、これを成形し、非酸化性
雰囲気中で焼成すると、従来のポリカルボシラン
から得られたsic成形体よりも一層性能のすぐれ
た、主としてsicおよび各種炭化物からなり、し
かもsicと各種炭化物が一部固溶した複合炭化物
成形体を得ることができるので、極めて有用な新
規なポリマーであることを見出し本発明に到達し
た。 本発明によれば、
新規なポリカルボシランおよびその製法に関す
る。 ポリカルボシランとは、骨格が−Si−C−結合
により構成されるポリマーであり、その用途は、
このポリマーが焼成により無機炭化物sicに転換
することからsicの原料として用いられ、例えば
sic繊維,フイルム,被覆膜,焼結結合剤,含浸
剤,sic粉末などとして利用されている。 従来知られているポリカルボシランとしては、
モノシランをそのまま重合して得られるポリカル
ボシランと、モノシランを一旦ポリシランとした
のち、これと重合して得られるポリカルボシラン
との二種類がある。前者はFritz;Angew.
chem.79 P.657(1967)等により開示された方法
で製造することができ、後者は、本発明の一部が
先に出願した特開昭51−126300号公報、特開昭51
−139929号公報等に記載の方法で製造することが
できる。しかしながら前記の製法でポリカルボシ
ランを高収率で得るためには、オートクレーブの
ような加圧容器を用いるか、あるいはルサイクル
のできる流通式装置を用いて600〜800℃の如き高
温に加熱し、20〜50時間のような長時間の反応時
間を必要とするなど工業的に不利な点が多い。 本発明者は、その後、ポリシランからポリカル
ボシランを製造する研究を鋭意検討した結果、今
回一般の酸化還元反応または重合反応等に有効な
触媒の活性種である各種元素からなるメタロキサ
ン結合単位(−M−O)−の1種または2種以上とシ
ロキサン結合単位(−Si−O)−とからなるポリメタ
ロキサンを、ポリシランに添加し、通常の常圧装
置を用いて重合することにより、高収率でメタロ
キサン結合を一部含むポリカルボシランが得られ
ることを見出した。且つこのポリマーは、製造課
程でポリメタロキサンのメタロキサン結合単位お
よびシロキサン結合単位がポリカルボシランの1
部に組み込まれたランダム重合体および/または
架橋重合体であるため、これを成形し、非酸化性
雰囲気中で焼成すると、従来のポリカルボシラン
から得られたsic成形体よりも一層性能のすぐれ
た、主としてsicおよび各種炭化物からなり、し
かもsicと各種炭化物が一部固溶した複合炭化物
成形体を得ることができるので、極めて有用な新
規なポリマーであることを見出し本発明に到達し
た。 本発明によれば、
【式】なる構造を有す
るポリシラン
(但し、n≧3、R1およびR2はそれぞれ独立に水
素、アルキル基またはフエニル基を表わす。)に
対して (2) 数平均分子量が約500〜100000の、メタロキ
サン結合単位(−M−O)−〔但し、MはTi、Zr、
Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Ru、Os、Co、
Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Zn、Cd、B、
Ca、In、Ge、Sn、Pb、P、As、SbまたはBiの
元素を示す〕の1種または2種以上とシロキサン
結合単位外Si−O外とからなる主鎖骨格を有し、
且つメタロキサン結合単位の全数対シロキサン結
合の全数の比率が50:1乃至1:50の範囲内にあ
り、該シロキサン結合単位のケイ素原子の大部分
が、低級アルキル基、フエニル基、アルコキシ基
および水酸基からなる群から選ばれた側鎖基を1
個または2個有し、そして場合によつては該メタ
ロキサン結合単位の元素の少なくとも1部分が側
鎖基として低級アルコキシ基、フエノキシ基また
は水酸基を少なくとも1個有するポリメタロキサ
ンを、0.1〜30重量%添加混合し、反応に対して
不活性な雰囲気下において、前記ポリシランと前
記ポリメタロキサンの混合物を加熱して重合させ
ることを特徴とする、メタロキサン結合を一部含
むポリカルボシランの製造方法が提供される。 前記の方法によつて得られる本発明のポリカル
ボシランは下記(A)のカルボシラン結合単位、(B)の
シロキサン結合単位および1種または2種以上の
(C)のシロキサン結合単位から主としてなり、 (A):(−Si−CH2)− (但し、ケイ素原子の大部分は低級アルキル
基、フエニル基および水素からなる群から選ば
れた側鎖基を1個または2個有する) (B):(−Si−O)− (但し、ケイ素原子の大部分は、低級アルキ
ル基、フエニル基および低級アルコキシ基から
なる群から選ばれた側鎖基を1個または2個有
する) (C):(−M−O)− (但し、MはTi、Zr、Cr、Mo、W、Mn、
Re、Fe、Ru、Os、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、
Pt、Cu、Ag、Zn、Cd、B、Ca、In、Ge、
Sn、Pb、P、As、SbまたはBiの元素を示し、
場合によつては該各元素の少なくとも1部分が
側鎖基として低級アルコキシ基またはフエノキ
シ基を少なくとも1個有する) 該(A),(B)および(C)の各結合単位が主鎖骨格中
でランダムに結合した重合体、および/または
該(A)の結合単位のケイ素原子の少なくとも1部
が該(B)の結合単位のケイ素原子または該(C)の結
合単位の前記各元素と酸素原子を介して結合
し、これによつて前記ランダム重合体中の該(A)
の結合単位の連鎖により得られるポリカルボシ
ラン部分が該(B)の結合単位および/または該(C)
の結合単位によつて架橋された重合体であり;
該(A)の結合単位の全数対該(B)の結合単位の全数
の比率が4:1乃至200:1の範囲内にあり、
又該(A)の結合単位の全数対該(C)の結合単位の全
数の比率が4:1乃至20000:1の範囲内にあ
る;数平均分子量が400〜50000であることを特
徴とするメタロキサン結合を一部含むポリカル
ボシランである。 以下に本発明をより詳細に説明する。 本発明の方法において使用する出発原料の一つ
は、
素、アルキル基またはフエニル基を表わす。)に
対して (2) 数平均分子量が約500〜100000の、メタロキ
サン結合単位(−M−O)−〔但し、MはTi、Zr、
Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Ru、Os、Co、
Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Zn、Cd、B、
Ca、In、Ge、Sn、Pb、P、As、SbまたはBiの
元素を示す〕の1種または2種以上とシロキサン
結合単位外Si−O外とからなる主鎖骨格を有し、
且つメタロキサン結合単位の全数対シロキサン結
合の全数の比率が50:1乃至1:50の範囲内にあ
り、該シロキサン結合単位のケイ素原子の大部分
が、低級アルキル基、フエニル基、アルコキシ基
および水酸基からなる群から選ばれた側鎖基を1
個または2個有し、そして場合によつては該メタ
ロキサン結合単位の元素の少なくとも1部分が側
鎖基として低級アルコキシ基、フエノキシ基また
は水酸基を少なくとも1個有するポリメタロキサ
ンを、0.1〜30重量%添加混合し、反応に対して
不活性な雰囲気下において、前記ポリシランと前
記ポリメタロキサンの混合物を加熱して重合させ
ることを特徴とする、メタロキサン結合を一部含
むポリカルボシランの製造方法が提供される。 前記の方法によつて得られる本発明のポリカル
ボシランは下記(A)のカルボシラン結合単位、(B)の
シロキサン結合単位および1種または2種以上の
(C)のシロキサン結合単位から主としてなり、 (A):(−Si−CH2)− (但し、ケイ素原子の大部分は低級アルキル
基、フエニル基および水素からなる群から選ば
れた側鎖基を1個または2個有する) (B):(−Si−O)− (但し、ケイ素原子の大部分は、低級アルキ
ル基、フエニル基および低級アルコキシ基から
なる群から選ばれた側鎖基を1個または2個有
する) (C):(−M−O)− (但し、MはTi、Zr、Cr、Mo、W、Mn、
Re、Fe、Ru、Os、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、
Pt、Cu、Ag、Zn、Cd、B、Ca、In、Ge、
Sn、Pb、P、As、SbまたはBiの元素を示し、
場合によつては該各元素の少なくとも1部分が
側鎖基として低級アルコキシ基またはフエノキ
シ基を少なくとも1個有する) 該(A),(B)および(C)の各結合単位が主鎖骨格中
でランダムに結合した重合体、および/または
該(A)の結合単位のケイ素原子の少なくとも1部
が該(B)の結合単位のケイ素原子または該(C)の結
合単位の前記各元素と酸素原子を介して結合
し、これによつて前記ランダム重合体中の該(A)
の結合単位の連鎖により得られるポリカルボシ
ラン部分が該(B)の結合単位および/または該(C)
の結合単位によつて架橋された重合体であり;
該(A)の結合単位の全数対該(B)の結合単位の全数
の比率が4:1乃至200:1の範囲内にあり、
又該(A)の結合単位の全数対該(C)の結合単位の全
数の比率が4:1乃至20000:1の範囲内にあ
る;数平均分子量が400〜50000であることを特
徴とするメタロキサン結合を一部含むポリカル
ボシランである。 以下に本発明をより詳細に説明する。 本発明の方法において使用する出発原料の一つ
は、
【式】なる構造単位(n≧3、R1お
よびR2はそれぞれ独立に低級アルキル基、フエ
ニル基または水素を有するポリシランであり、こ
のポリシランの構造は直鎖状あるいは環状のいず
れであつてもよく、更にこの二種の構造が混合し
たものであつてもよい。上記の式においてn≧3
であり、好ましくは5≦n≦100である。側鎖の
R1およびR2は、それぞれ独立に低級アルキル
基、フエニル基または水素を表わし、即ち、ポリ
シランの骨格を形成する各Si原子に結合するR1お
よびR2は、互いに同一もしくは異なつていても
よく、ポリシランの側鎖が低級アルキル基、フエ
ニル基および水素のうちの2種以上からなる時
は、ポリシラン中における異種の側鎖の配列純序
は任意の順序であつてよい。 本発明の方法において出発原料として使用する
のに特に好適なポリシランは、
ニル基または水素を有するポリシランであり、こ
のポリシランの構造は直鎖状あるいは環状のいず
れであつてもよく、更にこの二種の構造が混合し
たものであつてもよい。上記の式においてn≧3
であり、好ましくは5≦n≦100である。側鎖の
R1およびR2は、それぞれ独立に低級アルキル
基、フエニル基または水素を表わし、即ち、ポリ
シランの骨格を形成する各Si原子に結合するR1お
よびR2は、互いに同一もしくは異なつていても
よく、ポリシランの側鎖が低級アルキル基、フエ
ニル基および水素のうちの2種以上からなる時
は、ポリシラン中における異種の側鎖の配列純序
は任意の順序であつてよい。 本発明の方法において出発原料として使用する
のに特に好適なポリシランは、
【式】のみを
単位構造として有するポリシラン、あるいはポリ
シラン中の側鎖の50%以上がメチル基であり残余
の側鎖がフエニル基および/もしくは水素である
ポリシランである。また直鎖状のポリシランの場
合には、末端基はOHまたはCH3であることが好
ましい。 本発明で使用するポリシランは例えば熊田らの
共著による「有機ケイ素化合物」化学同人社
(1972)等に記載されている種々な方法によつて
合成することができるが、通常は一種または二種
以上のジクロロシランをナトリウムにより脱塩素
することによつて製造される。一種のジクロロシ
ランの脱塩素反応を式で示せば下記の如くであ
る。 本発明の方法において使用するもう一つの出発
原料であるポリメタロキサンは、メタロキサン結
合単位(−M−O)−〔但し、MはTi、Zr、Cr、
Mo、W、Mn、Re、Fe、Ru、Os、Co、Rh、
Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Zn、Cd、B、Ca、
In、Ge、Sn、Pb、P、As、SbまたはBiの元素を
示す〕の1種または2種以上とシロキサン結合単
位(−Si−O)−とからなる主鎖骨格を有し、且つメ
タロキサン結合単位の全数対シロキサン結合の全
数の比率が50:1乃至1:50の範囲内にあり、該
シロキサン結合単位のケイ素原子の大部分が、低
級アルキル基、フエニル基、アルコキシ基および
水酸基からなる群から選ばれた側鎖基を1個また
は2個有し、そして場合によつては該メタロキサ
ン結合単位の元素の少なくとも1部分が側鎖基と
して低級アルコキシ基、フエノキシ基または水酸
基を少なくとも1個を有するポリマーである。 本明細書では慣用の記述法に従つてシロキサン
結合単位を(−Si−O)−という簡略式で表わすが、
当業者には周知の如く、上記の式で表わされたシ
ロキサン結合単位は、二官能性基
シラン中の側鎖の50%以上がメチル基であり残余
の側鎖がフエニル基および/もしくは水素である
ポリシランである。また直鎖状のポリシランの場
合には、末端基はOHまたはCH3であることが好
ましい。 本発明で使用するポリシランは例えば熊田らの
共著による「有機ケイ素化合物」化学同人社
(1972)等に記載されている種々な方法によつて
合成することができるが、通常は一種または二種
以上のジクロロシランをナトリウムにより脱塩素
することによつて製造される。一種のジクロロシ
ランの脱塩素反応を式で示せば下記の如くであ
る。 本発明の方法において使用するもう一つの出発
原料であるポリメタロキサンは、メタロキサン結
合単位(−M−O)−〔但し、MはTi、Zr、Cr、
Mo、W、Mn、Re、Fe、Ru、Os、Co、Rh、
Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Zn、Cd、B、Ca、
In、Ge、Sn、Pb、P、As、SbまたはBiの元素を
示す〕の1種または2種以上とシロキサン結合単
位(−Si−O)−とからなる主鎖骨格を有し、且つメ
タロキサン結合単位の全数対シロキサン結合の全
数の比率が50:1乃至1:50の範囲内にあり、該
シロキサン結合単位のケイ素原子の大部分が、低
級アルキル基、フエニル基、アルコキシ基および
水酸基からなる群から選ばれた側鎖基を1個また
は2個有し、そして場合によつては該メタロキサ
ン結合単位の元素の少なくとも1部分が側鎖基と
して低級アルコキシ基、フエノキシ基または水酸
基を少なくとも1個を有するポリマーである。 本明細書では慣用の記述法に従つてシロキサン
結合単位を(−Si−O)−という簡略式で表わすが、
当業者には周知の如く、上記の式で表わされたシ
ロキサン結合単位は、二官能性基
【式】三官能性基
【式】及び四官能性基
【式】(式中のRは有機基である)の
3種のシロキサン結合を包含しており、これら3
種のシロキサン結合単位はポリメタロシロキサン
の骨格を形成する構造単位である。本発明の方法
において使用する一つの出発原料であるポリメタ
ロシロキサンは、シロキサン結合単位(−Si−O)−
のケイ素原子の大部分が少なくとも1個の側鎖有
機基R(低級アルキル基、低級アルコキシ基また
はフエニル基)を結合すべきであると特定されて
いるが、これは上記のポリマーにおけるシロキサ
ン結合の大部分が二官能性または三官能性のシロ
キサン結合単位であり、四官能性シロキサンは小
量であることを意味している。一般に、四官能性
シロキサン結合単位の含有量が多くなると、ポリ
マーは架橋構造に富んだものとなり、加熱しても
不融なものとなる。本発明で使用するポリメタロ
シロキサンは四官能性シロキサン結合単位を小量
ならば含んでいてもよいが、その含有量は加熱に
対するポリマーの溶融性を阻害しない限度内でな
ければならない。本発明で使用するポリメタロシ
ロキサンのシロキサン結合単位は、実質的に二官
能性および/または三官能性シロキサン結合から
なることが好ましい。 また、式(−M−O)−で表わしたメタロキサン結
合単位は、一官能性基または二官能性基以上の多
官能性基を包含している(官能性基の最高数はメ
タロキサン結合単位を構成する元素の原子価に対
応)が、このさい場合により各元素の少なくとも
1部に結合する少なくとも1個の側鎖は、低級ア
ルコキシ基またはフエノキシ基である。 本発明で使用するポリメタロシロキサンにおい
て、メタロキサン結合単位の全数対シロキサン結
合単位の全数の比率は50:1乃至1:50の範囲内
にある。 本発明で使用するポリメタロシロキサンは、前
記のようなシロキサン結合単位(−Si−O)−と、1
種または2種以上のメタロキサン結合単位 (−Si−O)−(MはTi、Zr、Cr、Mo、W、Mn、
Re、Fe、Ru、Os、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、
Cu、Ag、Zn、Cd、B、Ca、In、Ge、Sn、Pb、
P、As、SbまたはBi)とがランダムに結合した
骨格からなるポリマーであり、鎖状、環状、はし
ご状、かご状、または網目状の種々の構造を取り
得るものである。 本発明で使用するポリマーは通常、50〜500℃
の軟化点を有し、数平均分子量は約500〜100000
である。 本発明で使用するポリメタロシロキサンは、ポ
リメタロシロキサンを得るために通常行なわれて
いる合成法によつて製造することができる。代表
的な合成法としては、例えば、 (イ) オルガノクロルシランと金属アルコキシドの
共加水分解による合成法、 (ロ) オルガノシラノールと金属塩化物の脱塩酸の
縮合反応による合成法、 あるいは (ハ) オルガノシラノールと金属アルコキシドの脱
アルコール縮合反応による合成法 をあげることができる。 上記(イ)〜(ハ)の合成法によつて、本発明で使用す
るポリメタロシロキサンを合成する場合、 −Si−O−M−O−結合の生成を式で示せば下記
の如くである(Mは前記の各元素を表わす)。 ポリメタロオルガノシロキサンの合成法は、例
えば、Inorganic Polymers(F.G.A.stone,
Academic Press,1962)に詳細に開示されてい
る。 本発明の方法においては、前記
種のシロキサン結合単位はポリメタロシロキサン
の骨格を形成する構造単位である。本発明の方法
において使用する一つの出発原料であるポリメタ
ロシロキサンは、シロキサン結合単位(−Si−O)−
のケイ素原子の大部分が少なくとも1個の側鎖有
機基R(低級アルキル基、低級アルコキシ基また
はフエニル基)を結合すべきであると特定されて
いるが、これは上記のポリマーにおけるシロキサ
ン結合の大部分が二官能性または三官能性のシロ
キサン結合単位であり、四官能性シロキサンは小
量であることを意味している。一般に、四官能性
シロキサン結合単位の含有量が多くなると、ポリ
マーは架橋構造に富んだものとなり、加熱しても
不融なものとなる。本発明で使用するポリメタロ
シロキサンは四官能性シロキサン結合単位を小量
ならば含んでいてもよいが、その含有量は加熱に
対するポリマーの溶融性を阻害しない限度内でな
ければならない。本発明で使用するポリメタロシ
ロキサンのシロキサン結合単位は、実質的に二官
能性および/または三官能性シロキサン結合から
なることが好ましい。 また、式(−M−O)−で表わしたメタロキサン結
合単位は、一官能性基または二官能性基以上の多
官能性基を包含している(官能性基の最高数はメ
タロキサン結合単位を構成する元素の原子価に対
応)が、このさい場合により各元素の少なくとも
1部に結合する少なくとも1個の側鎖は、低級ア
ルコキシ基またはフエノキシ基である。 本発明で使用するポリメタロシロキサンにおい
て、メタロキサン結合単位の全数対シロキサン結
合単位の全数の比率は50:1乃至1:50の範囲内
にある。 本発明で使用するポリメタロシロキサンは、前
記のようなシロキサン結合単位(−Si−O)−と、1
種または2種以上のメタロキサン結合単位 (−Si−O)−(MはTi、Zr、Cr、Mo、W、Mn、
Re、Fe、Ru、Os、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、
Cu、Ag、Zn、Cd、B、Ca、In、Ge、Sn、Pb、
P、As、SbまたはBi)とがランダムに結合した
骨格からなるポリマーであり、鎖状、環状、はし
ご状、かご状、または網目状の種々の構造を取り
得るものである。 本発明で使用するポリマーは通常、50〜500℃
の軟化点を有し、数平均分子量は約500〜100000
である。 本発明で使用するポリメタロシロキサンは、ポ
リメタロシロキサンを得るために通常行なわれて
いる合成法によつて製造することができる。代表
的な合成法としては、例えば、 (イ) オルガノクロルシランと金属アルコキシドの
共加水分解による合成法、 (ロ) オルガノシラノールと金属塩化物の脱塩酸の
縮合反応による合成法、 あるいは (ハ) オルガノシラノールと金属アルコキシドの脱
アルコール縮合反応による合成法 をあげることができる。 上記(イ)〜(ハ)の合成法によつて、本発明で使用す
るポリメタロシロキサンを合成する場合、 −Si−O−M−O−結合の生成を式で示せば下記
の如くである(Mは前記の各元素を表わす)。 ポリメタロオルガノシロキサンの合成法は、例
えば、Inorganic Polymers(F.G.A.stone,
Academic Press,1962)に詳細に開示されてい
る。 本発明の方法においては、前記
【式】な
る構造単位を有するポリシラン類の少くとも一種
に対して、前記ポリメタロシロキサンを0.1〜30
重量%添加混合し、その混合物を反応に対して不
活性な雰囲気下において加熱して重合せしめる。 本発明の方法の重要な利点は、混合物を加熱重
合する装置として特殊な装置を要しないことであ
り、簡単な加熱炉、反応容器、還流器具等を用い
るだけでも十分に優れたポリカルボシランを合成
することのできるものであり、前述した如く、従
来のポリカルボシランの製法における如く、加圧
容器やリサイクル可能な流通式装置等の特殊な装
置を使用する必要がない。 本発明の方法においては、加熱による重合反応
を、反応に不活性なガス雰囲気下において行なう
ことが必要である。重合反応を空気中の如き酸化
性雰囲気中で行なうと、原料のポリシランの酸化
が生じるため、反応が十分に進行しないので好ま
しくない。反応に不活性なガスとしては窒素、ア
ルゴン、水素が特に好適である。 また重合反応は一般に常圧付近で行なうことが
好ましく、真空中や高い減圧中で重合反応を行な
うと、生成した低分子成分が系外に留出するため
著しく収率が低下するので好ましくない。本発明
の方法を実施するためには、不活性ガスを反応部
に気流として送りこみながら重合反応を行なうこ
とが好ましく、その理由は、これにより反応器内
の圧力がほぼ常圧に保たれ、温度上昇や反応中に
放出される例えばメタンのようなガスによる圧力
上昇を防ぐことができるからである。 本発明の方法における加熱温度は、従来法に比
べて低温であり、通常250℃以上、好ましくは300
〜500℃であることが本発明の方法の利点の1つ
である。反応温度が250℃以下では重合が進行し
にくく、500℃以上では、生成したポリカルボシ
ランの無機質化すなわち側鎖成分の飛散が徐々に
開始しはじめるため好ましくない。 また、本発明の方法における加熱重合は通常3
〜10時間の如き比較的短時間で完了することも本
発明の重要な利点の1つである。10時間以上加熱
しても得られるポリカルボシランに何ら実質的な
向上は見られない。 以上のような重合反応により得られたポリカル
ボシランは、溶媒に溶かして過し、その後溶媒
を蒸発させて精製することができる。必要なら
ば、50〜450℃の温度範囲で、常圧、あるいは減
圧下で蒸留し濃縮することにより平均分子量を上
げることができる。かかる溶媒としては例えばノ
ルマンヘキサン、ベンゼン、キシレン、テトラヒ
ドロフランなどが挙げられる。 また、本発明者が、先に特願昭55−12026号明
細書において記述したように、前記の重合反応に
より得られたポリカルボシランを、ポリカルボシ
ランに対する良溶媒に溶解させた後、この溶液に
高分子量のポリカルボシランに対する貧溶媒を混
合し、高分子量のポリカルボシランのみを折出さ
せて分離取得することができる。かかる良溶媒と
しては、ベンゼン、トルエン、キシレン、n−ペ
ンタン、n−ヘキサン、クロロホルム、テトラヒ
ドロフランなどが挙げられ、またかかる貧溶媒と
しては、メタノール、エタノール、アセトン、ジ
オキサンなどが挙げられる。 本発明の方法の特徴は、ポリシランにポリメタ
ロシロキサンを添加した混合物からポリカルボシ
ランを製造するという点に存する。このようなポ
リメタロシロキサンを出発原料として採用したこ
とが、本発明の方法の利点、即ち特殊な反応装置
を必要とせず、加熱温度も比較的低く、加熱時間
も短かいという利点をもたらしたものと考えられ
る。以下に、ポリシランにポリメタロシロキサン
を添加することによつて、何故上記のような利点
がもたらされるかという機構についての考察を述
べるが、これは単に一つの推論を述べたに過ぎな
いものであり、この理論によつて本発明がなんら
限定されるものではない。 本発明の方法の1つの出発原料であるポリシラ
ンは通常150〜250℃の加熱温度において、熱分解
する。その結果生じた低分子量のポリシラン、
に対して、前記ポリメタロシロキサンを0.1〜30
重量%添加混合し、その混合物を反応に対して不
活性な雰囲気下において加熱して重合せしめる。 本発明の方法の重要な利点は、混合物を加熱重
合する装置として特殊な装置を要しないことであ
り、簡単な加熱炉、反応容器、還流器具等を用い
るだけでも十分に優れたポリカルボシランを合成
することのできるものであり、前述した如く、従
来のポリカルボシランの製法における如く、加圧
容器やリサイクル可能な流通式装置等の特殊な装
置を使用する必要がない。 本発明の方法においては、加熱による重合反応
を、反応に不活性なガス雰囲気下において行なう
ことが必要である。重合反応を空気中の如き酸化
性雰囲気中で行なうと、原料のポリシランの酸化
が生じるため、反応が十分に進行しないので好ま
しくない。反応に不活性なガスとしては窒素、ア
ルゴン、水素が特に好適である。 また重合反応は一般に常圧付近で行なうことが
好ましく、真空中や高い減圧中で重合反応を行な
うと、生成した低分子成分が系外に留出するため
著しく収率が低下するので好ましくない。本発明
の方法を実施するためには、不活性ガスを反応部
に気流として送りこみながら重合反応を行なうこ
とが好ましく、その理由は、これにより反応器内
の圧力がほぼ常圧に保たれ、温度上昇や反応中に
放出される例えばメタンのようなガスによる圧力
上昇を防ぐことができるからである。 本発明の方法における加熱温度は、従来法に比
べて低温であり、通常250℃以上、好ましくは300
〜500℃であることが本発明の方法の利点の1つ
である。反応温度が250℃以下では重合が進行し
にくく、500℃以上では、生成したポリカルボシ
ランの無機質化すなわち側鎖成分の飛散が徐々に
開始しはじめるため好ましくない。 また、本発明の方法における加熱重合は通常3
〜10時間の如き比較的短時間で完了することも本
発明の重要な利点の1つである。10時間以上加熱
しても得られるポリカルボシランに何ら実質的な
向上は見られない。 以上のような重合反応により得られたポリカル
ボシランは、溶媒に溶かして過し、その後溶媒
を蒸発させて精製することができる。必要なら
ば、50〜450℃の温度範囲で、常圧、あるいは減
圧下で蒸留し濃縮することにより平均分子量を上
げることができる。かかる溶媒としては例えばノ
ルマンヘキサン、ベンゼン、キシレン、テトラヒ
ドロフランなどが挙げられる。 また、本発明者が、先に特願昭55−12026号明
細書において記述したように、前記の重合反応に
より得られたポリカルボシランを、ポリカルボシ
ランに対する良溶媒に溶解させた後、この溶液に
高分子量のポリカルボシランに対する貧溶媒を混
合し、高分子量のポリカルボシランのみを折出さ
せて分離取得することができる。かかる良溶媒と
しては、ベンゼン、トルエン、キシレン、n−ペ
ンタン、n−ヘキサン、クロロホルム、テトラヒ
ドロフランなどが挙げられ、またかかる貧溶媒と
しては、メタノール、エタノール、アセトン、ジ
オキサンなどが挙げられる。 本発明の方法の特徴は、ポリシランにポリメタ
ロシロキサンを添加した混合物からポリカルボシ
ランを製造するという点に存する。このようなポ
リメタロシロキサンを出発原料として採用したこ
とが、本発明の方法の利点、即ち特殊な反応装置
を必要とせず、加熱温度も比較的低く、加熱時間
も短かいという利点をもたらしたものと考えられ
る。以下に、ポリシランにポリメタロシロキサン
を添加することによつて、何故上記のような利点
がもたらされるかという機構についての考察を述
べるが、これは単に一つの推論を述べたに過ぎな
いものであり、この理論によつて本発明がなんら
限定されるものではない。 本発明の方法の1つの出発原料であるポリシラ
ンは通常150〜250℃の加熱温度において、熱分解
する。その結果生じた低分子量のポリシラン、
【式】または一部カルボシラン化し
た低分子量のカルボシラン、
【式】あるいはこれらの混合物か
らなる低分子量生成物が生成する。さらに温度が
上がり200〜300℃になると、ポリメタロシロキサ
ンの(−M−O)−結合の熱切断が部分的に生起し、
その切断部に前記低分子量生成物が結合し、中間
生成物を形成する。この中間生成物の形成は立体
障害を小さくするためより低分子のものに対して
選択的であることが推察される。この中間生成物
は、例えば、ポリメタロシロキサンを構成する元
素の原子価が3価の場合には、
上がり200〜300℃になると、ポリメタロシロキサ
ンの(−M−O)−結合の熱切断が部分的に生起し、
その切断部に前記低分子量生成物が結合し、中間
生成物を形成する。この中間生成物の形成は立体
障害を小さくするためより低分子のものに対して
選択的であることが推察される。この中間生成物
は、例えば、ポリメタロシロキサンを構成する元
素の原子価が3価の場合には、
【式】あるい
は
【式】等の結合様式を有してい
る。これらの内
【式】結合を有するもの
は熱的に不安定であるので、更に加熱温度が上が
り250〜500℃になり、安定な
り250〜500℃になり、安定な
【式】結
合が促進されてゆく過程でMは解離されて、低沸
点のアルキル化合物
点のアルキル化合物
【式】あるいは水素
化物として反応系外に放出されるものと思われ
る。ただし、ポリメタロシロキサンの種類および
添加量、重合温度等の重合条件により一部の元素
はM−O−Si結合の形でポリカルボシラン中に残
存するようになる。 所で、ポリシランだけを出発原料として使用し
た場合には、その熱分解により生じた前記の低分
子量生成物は反応系外に放出され易いものである
から、重合反応を収率よく実施するためには低分
子量生成物の飛散を防止するために、加圧密閉容
器または低分子量成分をリサイクルして徐々に高
分子化するための流通式装置等の特殊な装置が必
要である。 然しながら本発明の方法に従がい、ポリシラン
とポリメタロシロキサンの混合物を出発原料とし
て使用する場合には、先に説明したように、ポリ
メタロシロキサンの(−M−O)−結合の切断部にポ
リシランの熱分解により生じた低分子量生成物が
捕獲されるので、これによつて低分子量生成物の
反応系外への散逸が有効に防止できる。しかもポ
リメタロシロキサンは反応に対して一種の触媒的
効果を呈するので、本発明の方法においては、加
圧密閉容器や特殊なリサイクル装置を用いること
なく、開放系の反応容器を用いて常圧で比較的低
温度において反応を実施しても、重合反応を円滑
に且つ高い収率で行なうことが可能となり、その
結果(−M−O)−結合をポリマー骨格の一部に含む
ポリカルボシランが得られる。 本発明の方法においてポリメタロシロキサンの
添加量はポリシランに対して0.1〜30重量%とす
る。その理由は、0.1%以下では、前記の低分子
量成分の捕獲効果が充分に行なわれないため、低
分子量成分の放出量が多くなり反応収率が悪くな
り、他方30重量%以上加えると、ポリメタロシロ
キサンの切断、再結合が顕著に起こり、重合反応
の活性種があまりに多くなり、ポリシランの重合
が円滑に行なわれにくくなるため好ましくないか
らである。 本発明の方法における重合反応は、加熱だけで
も進行するが、所望ならば、例えば過酸化ベンゾ
イルの如きラジカル開始剤または照射による重合
法などを併用することもできる。 次に上記の製造法によつて得られる本発明のメ
タロキサン結合を一部含むポリカルボシランにつ
いて説明する。例えば出発原料のポリシランとし
てポリジメチルシランを使用し、またポリメタロ
シロキサンとして、ジフエニルシランジオールと
チタンテトラブトキシドとから得られるポリチタ
ノシロキサンを使用して、実施例1の方法で得ら
れた本発明のシロキサン結合及びチタノキサン結
合を一部含むポリカルボシランの赤外吸収スペク
トル(IR)は、第3図に示す如く、波数800cm-1
付近と1250cm-1、のSi−CH3;1400、2900、2950
cm-1のC−H;2100cm-1のSi−H;1020、1355cm
-1のSi−CH2−Si;1080cm-1付近のSi−O;600〜
700cm-1のSi−C6H5;900cm-1付近のTi−O−
(Si)の各結合に基づく吸収を示す。 また化学分析およびケイ光X線分析の結果よ
り、実施例1の方法で得られたポリマーは、(−Si
−CH2)−結合単位の全数対(−Si−O)−結合単位の
全数の比率がほぼ5:1、且つ(−Si−CH2)−結合
単位の全数対(−Ti−O)−結合単位の全数がほぼ
17:1のシロキサン結合およびチタノキサン結合
を一部含む、ポリカルボシランである。 上記のIRスペクトル、化学分析、ケイ光X線
分析の結果より、実施例1の方法で得られた本発
明のシロキサン結合およびチタノキサン結合一部
含むポリカルボシランは構成する要素が
る。ただし、ポリメタロシロキサンの種類および
添加量、重合温度等の重合条件により一部の元素
はM−O−Si結合の形でポリカルボシラン中に残
存するようになる。 所で、ポリシランだけを出発原料として使用し
た場合には、その熱分解により生じた前記の低分
子量生成物は反応系外に放出され易いものである
から、重合反応を収率よく実施するためには低分
子量生成物の飛散を防止するために、加圧密閉容
器または低分子量成分をリサイクルして徐々に高
分子化するための流通式装置等の特殊な装置が必
要である。 然しながら本発明の方法に従がい、ポリシラン
とポリメタロシロキサンの混合物を出発原料とし
て使用する場合には、先に説明したように、ポリ
メタロシロキサンの(−M−O)−結合の切断部にポ
リシランの熱分解により生じた低分子量生成物が
捕獲されるので、これによつて低分子量生成物の
反応系外への散逸が有効に防止できる。しかもポ
リメタロシロキサンは反応に対して一種の触媒的
効果を呈するので、本発明の方法においては、加
圧密閉容器や特殊なリサイクル装置を用いること
なく、開放系の反応容器を用いて常圧で比較的低
温度において反応を実施しても、重合反応を円滑
に且つ高い収率で行なうことが可能となり、その
結果(−M−O)−結合をポリマー骨格の一部に含む
ポリカルボシランが得られる。 本発明の方法においてポリメタロシロキサンの
添加量はポリシランに対して0.1〜30重量%とす
る。その理由は、0.1%以下では、前記の低分子
量成分の捕獲効果が充分に行なわれないため、低
分子量成分の放出量が多くなり反応収率が悪くな
り、他方30重量%以上加えると、ポリメタロシロ
キサンの切断、再結合が顕著に起こり、重合反応
の活性種があまりに多くなり、ポリシランの重合
が円滑に行なわれにくくなるため好ましくないか
らである。 本発明の方法における重合反応は、加熱だけで
も進行するが、所望ならば、例えば過酸化ベンゾ
イルの如きラジカル開始剤または照射による重合
法などを併用することもできる。 次に上記の製造法によつて得られる本発明のメ
タロキサン結合を一部含むポリカルボシランにつ
いて説明する。例えば出発原料のポリシランとし
てポリジメチルシランを使用し、またポリメタロ
シロキサンとして、ジフエニルシランジオールと
チタンテトラブトキシドとから得られるポリチタ
ノシロキサンを使用して、実施例1の方法で得ら
れた本発明のシロキサン結合及びチタノキサン結
合を一部含むポリカルボシランの赤外吸収スペク
トル(IR)は、第3図に示す如く、波数800cm-1
付近と1250cm-1、のSi−CH3;1400、2900、2950
cm-1のC−H;2100cm-1のSi−H;1020、1355cm
-1のSi−CH2−Si;1080cm-1付近のSi−O;600〜
700cm-1のSi−C6H5;900cm-1付近のTi−O−
(Si)の各結合に基づく吸収を示す。 また化学分析およびケイ光X線分析の結果よ
り、実施例1の方法で得られたポリマーは、(−Si
−CH2)−結合単位の全数対(−Si−O)−結合単位の
全数の比率がほぼ5:1、且つ(−Si−CH2)−結合
単位の全数対(−Ti−O)−結合単位の全数がほぼ
17:1のシロキサン結合およびチタノキサン結合
を一部含む、ポリカルボシランである。 上記のIRスペクトル、化学分析、ケイ光X線
分析の結果より、実施例1の方法で得られた本発
明のシロキサン結合およびチタノキサン結合一部
含むポリカルボシランは構成する要素が
【式】
【式】
【式】
【式】
であることが結論として得られる。
以上のことから、一般に、本発明のポリカルボ
シランは、実質的に下記(A)のカルボシラン結合単
位、(B)のシロキサン結合単位および1種または2
種以上の(C)のメタロキサン結合単位からなるもの
である。 (A):(−Si−CH2)− (但し、ケイ素原子の大部分は低級アルキル
基、フエニル基および水素からなる群から選ば
れた側鎖基を1個または2個有する) (B):(−Si−O)− (但し、ケイ素原子の大部分は、低級アルキ
ル基、フエニル基および低級アルコキシ基から
なる群から選ばれた側鎖基を1個または2個有
する) (C):(−M−O)− (但し、MはTi、Zr、Cr、Mo、W、Mn、
Re、Fe、Ru、Os、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、
Pt、Cu、Ag、Zn、Cd、B、Ca、In、Ge、
Sn、Pb、P、As、SbまたはBiの元素を示し、
場合によつては該各元素の少なくとも1部分が
側鎖基として低級アルコキシ基またはフエノキ
シ基を少なくとも1個有する) 更に化学分析、ケイ光X線分析による元素比率
の測定結果から、(A)の結合単位の全数対(B)の結合
単位の全数の比率は4:1乃至200:1の範囲内
であり、又(A)の結合単位の全数対(C)の結合単位の
全数の比率は4:1乃至20000:1の範囲内であ
る。 また、重合反応時におけるポリメタロシロキサ
ンの分解が(Si)−O−M結合〔Mは上記の各元素
を示す〕で生じ、該分解物が、重合反応に直接関
与するため、本発明の方法で得られるポリカルボ
シランは、前記(A)、(B)および(C)の各結合単位がラ
ンダムに結合した重合体、および/または前記(A)
の結合単位のケイ素原子の少なくとも1部が前記
(B)の結合単位のケイ素原子または前記(C)の結合単
位の各元素と酸素原子を介して結合し、これによ
つて前記(A)の結合単位の連鎖により得られるポリ
カルボシラン部分が前記(B)の結合単位または前記
(C)の結合単位によつて架橋された重合体でであ
る。 以上により、本発明の方法において、例えば出
発原料としてポリジメチルシランと、ケイ素原子
の側鎖に1個または2個のフエニル基を有し、原
子価が4価の元素の側鎖に少なくとも1個のブト
キシ基を有するポリメタロシロキサンを用いた場
合に得られるポリカルボシランの構造は、下記の
ように表わされる。 またポリマーの末端は
シランは、実質的に下記(A)のカルボシラン結合単
位、(B)のシロキサン結合単位および1種または2
種以上の(C)のメタロキサン結合単位からなるもの
である。 (A):(−Si−CH2)− (但し、ケイ素原子の大部分は低級アルキル
基、フエニル基および水素からなる群から選ば
れた側鎖基を1個または2個有する) (B):(−Si−O)− (但し、ケイ素原子の大部分は、低級アルキ
ル基、フエニル基および低級アルコキシ基から
なる群から選ばれた側鎖基を1個または2個有
する) (C):(−M−O)− (但し、MはTi、Zr、Cr、Mo、W、Mn、
Re、Fe、Ru、Os、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、
Pt、Cu、Ag、Zn、Cd、B、Ca、In、Ge、
Sn、Pb、P、As、SbまたはBiの元素を示し、
場合によつては該各元素の少なくとも1部分が
側鎖基として低級アルコキシ基またはフエノキ
シ基を少なくとも1個有する) 更に化学分析、ケイ光X線分析による元素比率
の測定結果から、(A)の結合単位の全数対(B)の結合
単位の全数の比率は4:1乃至200:1の範囲内
であり、又(A)の結合単位の全数対(C)の結合単位の
全数の比率は4:1乃至20000:1の範囲内であ
る。 また、重合反応時におけるポリメタロシロキサ
ンの分解が(Si)−O−M結合〔Mは上記の各元素
を示す〕で生じ、該分解物が、重合反応に直接関
与するため、本発明の方法で得られるポリカルボ
シランは、前記(A)、(B)および(C)の各結合単位がラ
ンダムに結合した重合体、および/または前記(A)
の結合単位のケイ素原子の少なくとも1部が前記
(B)の結合単位のケイ素原子または前記(C)の結合単
位の各元素と酸素原子を介して結合し、これによ
つて前記(A)の結合単位の連鎖により得られるポリ
カルボシラン部分が前記(B)の結合単位または前記
(C)の結合単位によつて架橋された重合体でであ
る。 以上により、本発明の方法において、例えば出
発原料としてポリジメチルシランと、ケイ素原子
の側鎖に1個または2個のフエニル基を有し、原
子価が4価の元素の側鎖に少なくとも1個のブト
キシ基を有するポリメタロシロキサンを用いた場
合に得られるポリカルボシランの構造は、下記の
ように表わされる。 またポリマーの末端は
【式】
【式】
等である。
本発明の方法で製造されるメタロキサン結合を
一部含むポリカルボシランは、蒸気圧浸透法によ
り測定した数平均分子量が400〜50000である。 本発明のメタロキサン結合を一部含むポリカル
ボシランは、前記のように、製造過程でポリメタ
ロシロキサンのメタロキサン結合単位およびシロ
キサン結合単位がポリカルボシランの1部に組み
込まれたランダム重合体および/または架橋重合
体であるため、これを成形し、非酸化性雰囲気中
で焼成すると、従来のポリカルボシランまたはシ
ロキサン結合を一部含むポリカルボシランから得
られたSiC成形体よりも、機械的強度、耐熱性等
の面で一層性能のすぐれた、主として、SiCおよ
び各種炭化物からなり、しかもSiCと各種炭化物
が一部固溶した結晶質超微粒子集合体からなる複
合炭化物成形体を得ることができる極めて有用な
新規ポリマーである。 本発明により製造されるメタロキサン結合を一
部含むポリカルボシランを成形し、非酸化性雰囲
気中で焼成して得られる成形体が、β−SiC、各
種炭化物、およびβ−SiCと各種炭化物の固容体
の結晶質超微粒子集合体からなる複合炭化物によ
つて構成されていることは、成形体のX線回析図
形によつて確認することができる。例えば、第5
図は、後述の実施例1に記載の本発明のシロキ
サン結合およびチタノキサン結合を一部含むポリ
カルボシランを、成形し、N2雰囲気中で1700℃
まで焼成して得られた成形体のX線粉末回析図形
である。そしてこの第5図のX線回析図形で
は、2Θ=35.8゜にβ−SiCの(111)回折線、2
Θ=60.2゜にβ−SiCの(220)回折線および2Θ
=72.1゜にβ−SiCの(311)回折線が、また2Θ
=42.4゜にTiCの(200)回折線、2Θ=36.4゜に
TiCの(111)回折線および2Θ=61.4゜にTiCの
(220)回折線が現われており、特に注目すべき点
は、TiCの各回折線はいずれも従来のTiCに観察
される各回折線の2Θよりも高角度側にシフトし
ており、該TiCは従来のTiCと格子定数が異なつ
ていることである。 上記のX線回析図形のデータは、実施例1に記
載の本発明のポリマーを成形し、N2雰囲気中で
焼成して得られる成形体を構成する結晶質超微粒
子が、主としてβ−SiCおよびTiCからなり、し
かもβ−sicとTiCが固溶しているもの、および
TiC1-X(ただし0<x<1)を一部含むような
複合炭化物であることを示しており、また上記X
線回折より、上記結晶質超微粒子の平均粒径は、
約160Åであることが判明した。 以上のような成形体の例としては、主としてこ
の複合炭化物よりなる連続繊維、フイルム、被覆
膜、微粉末焼成成形体があげられ、また研摩剤と
して該複合炭化物の粉末をそのまま用いることが
できる。また、本発明のポリマーは、前記複合炭
化物製品の他に、本発明のポリマーの大部分が一
般の有機溶媒に可溶であることから焼結用結合
剤、含浸剤および表面コーテイング剤としても用
いることができ、更に耐熱性にすぐれているの
で、耐熱性プラスチツク等ポリマーのままでも
種々の用途を有する。 以下実施例によつて本発明を説明する。 参考例 1 5の三口フラスコに無水キシレン2.5とナ
トリウム400gとを入れ、窒素ガス気流下でキシ
レンの沸点まで加熱し、ジメチルジクロロシラン
1を1時間で滴下した。滴下終了後、10時間加
熱還流し沈殿物を生成させた。この沈殿を過
し、まずメタノールで洗浄した後、水で洗浄し
て、白色粉末のポリジメチルシラン420gを得
た。 参考例 2 ジフエニルシランジオール648gとチタンテト
ラブトキシド681gを秤取し、これにキシレンを
加え窒素ガス下で、150℃1時間還流反応を行な
つた。反応終了後不溶物は過し、また溶媒のキ
シレンをエバポレーターで除去した後、得られた
中間生成物をさらに320℃窒素ガス下で1時間加
熱重合して、本発明のポリカルボシランの原料と
して用いるポリチタノシロキサンで、チタノキサ
ン結合の全数対シロキサン結合の全数の比率が
2:3であるポリマーを得た。数平均分子量は蒸
気圧浸透法(VPO法)により2000であつた。こ
の物質の赤外線吸収スペクトルを測定したところ
第1図に示す如く〜3600cm-1付近にSi−OHの吸
収、2950〜2900cm-1にC4H9の吸収、1600cm-1、
1430cm-1にベンゼン核の吸収1150〜1000cm-1にSi
−Oの吸収、900cm-1付近にTi−O−Siの結合に
おけるTi−Oの吸収、700cm-1、500cm-1付近にSi
−C6H5の吸収が認められ、得られたポリマー
は、Ti、Si、Oを骨格とし、Siの側鎖にフエニル
基、Tiの側鎖にブトキシ基を有するポリマーで
ある。 参考例 3 ジフエニルシランジオール216gとジルコニウ
ムテトラブトキシド383gを秤取し、これにキシ
レンを加えアルゴンガス下で、150℃1時間還流
反応を行なつた。反応終了後不溶物は過し、ま
た溶媒のキシレンをエバポレーターで除去した
後、得られた中間生成物をさらに350℃アルゴン
ガス下で1時間加熱重合して、本発明のポリカル
ボシランの原料として用いるポリジルコノシロキ
サンで、ジルコノキサン結合の全数対シロキサン
結合の全数の比率が1:1であるポリマーを得
た。数平均分子量はVPO法により2600であつ
た。この物質の赤外線吸収スペクトルを測定した
ところ第2図に示す如く〜3600cm-1付近にSi−
OHの吸収、2900cm-1付近にC4H9の吸収、3000cm
-1付近および1600〜1350cm-1にベンゼン核の吸
収、1150〜1000cm-1にSi−Oの吸収、950cm-1付
近にZr−O−Siの結合におけるZr−Oの吸収、
700cm-1および500cm-1付近にSi−C6H5の吸収が認
められ、得られたポリマーは、Zr、Si、Oを骨格
とし、Siの側鎖にフエニル基、Zrの側鎖にブトキ
シ基を有するポリマーである。 参考例 4〜16 第1表に掲げた有機ケイ素化合物と各種化合物
とを第1表の割合で秤取し、これに溶媒を加え窒
素ガス下で、80〜190℃で1時間還流反応を行な
つた。反応終了後不溶物は過し、また溶媒を除
去した後、得られた中間生成物をさらに300〜400
℃窒素ガス下で1〜10時間加熱重合して、本発明
のポリカルボシランの原料として用いる各種のポ
リメタロシロキサンを得た(但しPdC2を用い
る場合には、還流反応を行なわないで直接加熱重
合してポリマーをを得た)。各種ポリメタロシロ
キサンの、製造条件、シロキサン結合の全数対メ
タロキサン結合の全数の比率および数平均分子量
をまとめて第1表に示す。 得られた各種ポリマーは、参考例2または参考
例3の場合と同様に、これらのポリマーの赤外線
吸収スペクトルの測定結果から、Si、M、O(但
しMは第1表に掲げた各種化合物の元素を示す)
を骨格とし、Siの側鎖に低級アルキル基、フエニ
ル基、アルコキシ基および水酸基からなる群から
選ばれた側鎖基を1個または2個有し、Mの側鎖
に場合によつては低級アルコキシ基、または水酸
基を少なくとも1個以上有するポリマーである。 実施例 1 参考例1で得られたポリジメチルシランン100
gに、参考例2で得られたポリチタノシロキサン
10gを添加混合し、還流管を備えた1の石英管
中で、窒素気流下で310℃まで加熱し、5時間重
合し、本発明のシロキサン結合およびチタノキサ
ン結合を一部含むポリカルボシランを得た。室温
で放冷後キシレンを加えて溶液として取り出し、
キシレンを蒸発させ、83gの粘稠物を得た。この
ポリマーの数平均分子量はVPO法により測定し
たところ600であつた。この物質のIRスペクトル
を測定したところ、第3図に示すように、シロキ
サン結合およびチタノキサン結合を1部含むポリ
カルボシランに基づく各吸収ピークが認められ
た。このポリマーは、ケイ光X線分析および化学
分析の結果から(−Si−CH2)−結合の全数対(−Si−
O)−結合の全数の比率が約5:1であり、(−Si−
CH2)−結合の全数対(−Ti−O)−結合の全数の比率
が約17:1であるポリマーであることが判明し
た。 ここで得られたポリマーを、窒素雰囲気中で、
1700℃まで8.5時間で加熱し、1700℃で1時間焼
成して、黒色の固体を得た。この物質のX線粉末
回析測定を行なつたところ、第5図に示す如
く、β−SiCおよびTiCの各回折線が認められ、
特にTiCの各回折線はいずれも従来のTiCに観察
される各回折線の2Θよりも高角度側にシフトし
ており、従来のTiCと格子定数が異なることから
得られた物質は、主としてβ−SiC、TiC、β−
SiCとTiCの固溶体およびTiC1-X(ただし0<x
<1)からなる複合炭化物であると推定される。 実施例 2 参考例1で得られたポリジメチルシランン100
gに、参考例3で得られたポリジルコノシロキサ
ン15gを添加混合し、実施例1と同じ装置でアル
ゴン気流中340℃まで加熱し、8時間重合し、本
発明のシロキサン結合およびジルコノキサン結合
を一部含むポリカルボシランを得た。室温で放冷
後n−ヘキサンを加えて溶液として取り出し、n
−ヘキサンを蒸発させ、300℃までアルゴン雰囲
気中で濃縮して70gの固体を得た。このポリマー
の数平均分子量はVPO法により測定したところ
1800であつた。この物質のIRスペクトルを測定
したところ、第4図に示すように、シロキサン結
合およびジルコノキサン結合を1部含むポリカル
ボシランに基づく各吸収ピークが認められた(但
し、950cm-1付近に認められるはずのZr−O(−
Si)結合に基づく吸収ピークは、Si−CH2−Si結
合に基づく吸収ピークと重なるため検知できな
い)。このポリマーは、ケイ光X線分析および化
学分析の結果から、(−Si−CH2)−結合の全数対(−
Si−O)−結合の全数の比率が約8:1であり(−Si
−CH2)−結合の全数対(−Zr−O)−結合の全数の比
率が約15:1であるポリマーであることがわかつ
た。 ここで得られた重合体を、窒素雰囲気中で、
1700℃まで8.5時間で加熱し、1700℃で1時間焼
成して、黒色の固体を得た。この物質のX線粉末
回析測定を行なつたところ、第5図に示す如
く、2Θ=35.8゜にβ−SiCの(111)回折線、2
Θ=60.1゜にβ−SiCの(220)回折線および2Θ
=72.1゜にβ−SiCの(311)回折線がまた2Θ=
33.7゜にZrCの(111)回折線、2Θ=39.1゜に
ZrCの(200)回折線、2Θ=56.3゜にZrCの
(220)回折線および2Θ=67.0゜にZrCの
(311)回折線が認められた。特にZrCの各回折線
はいずれも従来のZrCに観察される各回折線の2
Θよりも高角度側にシフトしており、従来のZrC
と格子定数が異なることから、得られた物質は、
主としてβ−SiC、ZrC、β−SiCとZrCの固溶体
およびZrC1-X(ただし0<x<1)よりなる複
合炭化物であると推定される。 実施例 3〜15 参考例1で得られたポリジメチルシランン100
gに、参考例4〜16で得られた第1表で示すポリ
メタロシロキサン所定量を添加混合し、実施例1
と同じ装置で窒素気流中270〜390℃まで加熱し、
4〜10時間重合し、本発明のメタロキサンを一部
含むポリカルボシランを得た。室温で放冷後、そ
のまま固体として取り出すか、あるいはキシレン
を加えて溶液として取り出しキシレンを蒸発さ
せ、さらに場合によつては280〜350℃まで窒素雰
囲気で濃縮して本発明のポリマーを得た。これら
の物質のIRスペクトルを測定したところ、実施
例1および実施例2と同様に、メタロキサン結合
を一部含むポリカルボシランに基づく各吸収ピー
クがいずれも認められた。得られた各種メタロキ
サン結合を一部含むポリカルボシランの、製造条
件、収量、数平均分子量およびケイ光X線分析、
化学分析結果に基づく(−Si−CH2)−結合の全数対
メタロキサン結合の(−M−O)−全数の比率をまと
めて第2表に示す。
一部含むポリカルボシランは、蒸気圧浸透法によ
り測定した数平均分子量が400〜50000である。 本発明のメタロキサン結合を一部含むポリカル
ボシランは、前記のように、製造過程でポリメタ
ロシロキサンのメタロキサン結合単位およびシロ
キサン結合単位がポリカルボシランの1部に組み
込まれたランダム重合体および/または架橋重合
体であるため、これを成形し、非酸化性雰囲気中
で焼成すると、従来のポリカルボシランまたはシ
ロキサン結合を一部含むポリカルボシランから得
られたSiC成形体よりも、機械的強度、耐熱性等
の面で一層性能のすぐれた、主として、SiCおよ
び各種炭化物からなり、しかもSiCと各種炭化物
が一部固溶した結晶質超微粒子集合体からなる複
合炭化物成形体を得ることができる極めて有用な
新規ポリマーである。 本発明により製造されるメタロキサン結合を一
部含むポリカルボシランを成形し、非酸化性雰囲
気中で焼成して得られる成形体が、β−SiC、各
種炭化物、およびβ−SiCと各種炭化物の固容体
の結晶質超微粒子集合体からなる複合炭化物によ
つて構成されていることは、成形体のX線回析図
形によつて確認することができる。例えば、第5
図は、後述の実施例1に記載の本発明のシロキ
サン結合およびチタノキサン結合を一部含むポリ
カルボシランを、成形し、N2雰囲気中で1700℃
まで焼成して得られた成形体のX線粉末回析図形
である。そしてこの第5図のX線回析図形で
は、2Θ=35.8゜にβ−SiCの(111)回折線、2
Θ=60.2゜にβ−SiCの(220)回折線および2Θ
=72.1゜にβ−SiCの(311)回折線が、また2Θ
=42.4゜にTiCの(200)回折線、2Θ=36.4゜に
TiCの(111)回折線および2Θ=61.4゜にTiCの
(220)回折線が現われており、特に注目すべき点
は、TiCの各回折線はいずれも従来のTiCに観察
される各回折線の2Θよりも高角度側にシフトし
ており、該TiCは従来のTiCと格子定数が異なつ
ていることである。 上記のX線回析図形のデータは、実施例1に記
載の本発明のポリマーを成形し、N2雰囲気中で
焼成して得られる成形体を構成する結晶質超微粒
子が、主としてβ−SiCおよびTiCからなり、し
かもβ−sicとTiCが固溶しているもの、および
TiC1-X(ただし0<x<1)を一部含むような
複合炭化物であることを示しており、また上記X
線回折より、上記結晶質超微粒子の平均粒径は、
約160Åであることが判明した。 以上のような成形体の例としては、主としてこ
の複合炭化物よりなる連続繊維、フイルム、被覆
膜、微粉末焼成成形体があげられ、また研摩剤と
して該複合炭化物の粉末をそのまま用いることが
できる。また、本発明のポリマーは、前記複合炭
化物製品の他に、本発明のポリマーの大部分が一
般の有機溶媒に可溶であることから焼結用結合
剤、含浸剤および表面コーテイング剤としても用
いることができ、更に耐熱性にすぐれているの
で、耐熱性プラスチツク等ポリマーのままでも
種々の用途を有する。 以下実施例によつて本発明を説明する。 参考例 1 5の三口フラスコに無水キシレン2.5とナ
トリウム400gとを入れ、窒素ガス気流下でキシ
レンの沸点まで加熱し、ジメチルジクロロシラン
1を1時間で滴下した。滴下終了後、10時間加
熱還流し沈殿物を生成させた。この沈殿を過
し、まずメタノールで洗浄した後、水で洗浄し
て、白色粉末のポリジメチルシラン420gを得
た。 参考例 2 ジフエニルシランジオール648gとチタンテト
ラブトキシド681gを秤取し、これにキシレンを
加え窒素ガス下で、150℃1時間還流反応を行な
つた。反応終了後不溶物は過し、また溶媒のキ
シレンをエバポレーターで除去した後、得られた
中間生成物をさらに320℃窒素ガス下で1時間加
熱重合して、本発明のポリカルボシランの原料と
して用いるポリチタノシロキサンで、チタノキサ
ン結合の全数対シロキサン結合の全数の比率が
2:3であるポリマーを得た。数平均分子量は蒸
気圧浸透法(VPO法)により2000であつた。こ
の物質の赤外線吸収スペクトルを測定したところ
第1図に示す如く〜3600cm-1付近にSi−OHの吸
収、2950〜2900cm-1にC4H9の吸収、1600cm-1、
1430cm-1にベンゼン核の吸収1150〜1000cm-1にSi
−Oの吸収、900cm-1付近にTi−O−Siの結合に
おけるTi−Oの吸収、700cm-1、500cm-1付近にSi
−C6H5の吸収が認められ、得られたポリマー
は、Ti、Si、Oを骨格とし、Siの側鎖にフエニル
基、Tiの側鎖にブトキシ基を有するポリマーで
ある。 参考例 3 ジフエニルシランジオール216gとジルコニウ
ムテトラブトキシド383gを秤取し、これにキシ
レンを加えアルゴンガス下で、150℃1時間還流
反応を行なつた。反応終了後不溶物は過し、ま
た溶媒のキシレンをエバポレーターで除去した
後、得られた中間生成物をさらに350℃アルゴン
ガス下で1時間加熱重合して、本発明のポリカル
ボシランの原料として用いるポリジルコノシロキ
サンで、ジルコノキサン結合の全数対シロキサン
結合の全数の比率が1:1であるポリマーを得
た。数平均分子量はVPO法により2600であつ
た。この物質の赤外線吸収スペクトルを測定した
ところ第2図に示す如く〜3600cm-1付近にSi−
OHの吸収、2900cm-1付近にC4H9の吸収、3000cm
-1付近および1600〜1350cm-1にベンゼン核の吸
収、1150〜1000cm-1にSi−Oの吸収、950cm-1付
近にZr−O−Siの結合におけるZr−Oの吸収、
700cm-1および500cm-1付近にSi−C6H5の吸収が認
められ、得られたポリマーは、Zr、Si、Oを骨格
とし、Siの側鎖にフエニル基、Zrの側鎖にブトキ
シ基を有するポリマーである。 参考例 4〜16 第1表に掲げた有機ケイ素化合物と各種化合物
とを第1表の割合で秤取し、これに溶媒を加え窒
素ガス下で、80〜190℃で1時間還流反応を行な
つた。反応終了後不溶物は過し、また溶媒を除
去した後、得られた中間生成物をさらに300〜400
℃窒素ガス下で1〜10時間加熱重合して、本発明
のポリカルボシランの原料として用いる各種のポ
リメタロシロキサンを得た(但しPdC2を用い
る場合には、還流反応を行なわないで直接加熱重
合してポリマーをを得た)。各種ポリメタロシロ
キサンの、製造条件、シロキサン結合の全数対メ
タロキサン結合の全数の比率および数平均分子量
をまとめて第1表に示す。 得られた各種ポリマーは、参考例2または参考
例3の場合と同様に、これらのポリマーの赤外線
吸収スペクトルの測定結果から、Si、M、O(但
しMは第1表に掲げた各種化合物の元素を示す)
を骨格とし、Siの側鎖に低級アルキル基、フエニ
ル基、アルコキシ基および水酸基からなる群から
選ばれた側鎖基を1個または2個有し、Mの側鎖
に場合によつては低級アルコキシ基、または水酸
基を少なくとも1個以上有するポリマーである。 実施例 1 参考例1で得られたポリジメチルシランン100
gに、参考例2で得られたポリチタノシロキサン
10gを添加混合し、還流管を備えた1の石英管
中で、窒素気流下で310℃まで加熱し、5時間重
合し、本発明のシロキサン結合およびチタノキサ
ン結合を一部含むポリカルボシランを得た。室温
で放冷後キシレンを加えて溶液として取り出し、
キシレンを蒸発させ、83gの粘稠物を得た。この
ポリマーの数平均分子量はVPO法により測定し
たところ600であつた。この物質のIRスペクトル
を測定したところ、第3図に示すように、シロキ
サン結合およびチタノキサン結合を1部含むポリ
カルボシランに基づく各吸収ピークが認められ
た。このポリマーは、ケイ光X線分析および化学
分析の結果から(−Si−CH2)−結合の全数対(−Si−
O)−結合の全数の比率が約5:1であり、(−Si−
CH2)−結合の全数対(−Ti−O)−結合の全数の比率
が約17:1であるポリマーであることが判明し
た。 ここで得られたポリマーを、窒素雰囲気中で、
1700℃まで8.5時間で加熱し、1700℃で1時間焼
成して、黒色の固体を得た。この物質のX線粉末
回析測定を行なつたところ、第5図に示す如
く、β−SiCおよびTiCの各回折線が認められ、
特にTiCの各回折線はいずれも従来のTiCに観察
される各回折線の2Θよりも高角度側にシフトし
ており、従来のTiCと格子定数が異なることから
得られた物質は、主としてβ−SiC、TiC、β−
SiCとTiCの固溶体およびTiC1-X(ただし0<x
<1)からなる複合炭化物であると推定される。 実施例 2 参考例1で得られたポリジメチルシランン100
gに、参考例3で得られたポリジルコノシロキサ
ン15gを添加混合し、実施例1と同じ装置でアル
ゴン気流中340℃まで加熱し、8時間重合し、本
発明のシロキサン結合およびジルコノキサン結合
を一部含むポリカルボシランを得た。室温で放冷
後n−ヘキサンを加えて溶液として取り出し、n
−ヘキサンを蒸発させ、300℃までアルゴン雰囲
気中で濃縮して70gの固体を得た。このポリマー
の数平均分子量はVPO法により測定したところ
1800であつた。この物質のIRスペクトルを測定
したところ、第4図に示すように、シロキサン結
合およびジルコノキサン結合を1部含むポリカル
ボシランに基づく各吸収ピークが認められた(但
し、950cm-1付近に認められるはずのZr−O(−
Si)結合に基づく吸収ピークは、Si−CH2−Si結
合に基づく吸収ピークと重なるため検知できな
い)。このポリマーは、ケイ光X線分析および化
学分析の結果から、(−Si−CH2)−結合の全数対(−
Si−O)−結合の全数の比率が約8:1であり(−Si
−CH2)−結合の全数対(−Zr−O)−結合の全数の比
率が約15:1であるポリマーであることがわかつ
た。 ここで得られた重合体を、窒素雰囲気中で、
1700℃まで8.5時間で加熱し、1700℃で1時間焼
成して、黒色の固体を得た。この物質のX線粉末
回析測定を行なつたところ、第5図に示す如
く、2Θ=35.8゜にβ−SiCの(111)回折線、2
Θ=60.1゜にβ−SiCの(220)回折線および2Θ
=72.1゜にβ−SiCの(311)回折線がまた2Θ=
33.7゜にZrCの(111)回折線、2Θ=39.1゜に
ZrCの(200)回折線、2Θ=56.3゜にZrCの
(220)回折線および2Θ=67.0゜にZrCの
(311)回折線が認められた。特にZrCの各回折線
はいずれも従来のZrCに観察される各回折線の2
Θよりも高角度側にシフトしており、従来のZrC
と格子定数が異なることから、得られた物質は、
主としてβ−SiC、ZrC、β−SiCとZrCの固溶体
およびZrC1-X(ただし0<x<1)よりなる複
合炭化物であると推定される。 実施例 3〜15 参考例1で得られたポリジメチルシランン100
gに、参考例4〜16で得られた第1表で示すポリ
メタロシロキサン所定量を添加混合し、実施例1
と同じ装置で窒素気流中270〜390℃まで加熱し、
4〜10時間重合し、本発明のメタロキサンを一部
含むポリカルボシランを得た。室温で放冷後、そ
のまま固体として取り出すか、あるいはキシレン
を加えて溶液として取り出しキシレンを蒸発さ
せ、さらに場合によつては280〜350℃まで窒素雰
囲気で濃縮して本発明のポリマーを得た。これら
の物質のIRスペクトルを測定したところ、実施
例1および実施例2と同様に、メタロキサン結合
を一部含むポリカルボシランに基づく各吸収ピー
クがいずれも認められた。得られた各種メタロキ
サン結合を一部含むポリカルボシランの、製造条
件、収量、数平均分子量およびケイ光X線分析、
化学分析結果に基づく(−Si−CH2)−結合の全数対
メタロキサン結合の(−M−O)−全数の比率をまと
めて第2表に示す。
【表】
第1図は参考例2のポリチタノシロキサンの赤
外線吸収スペクトル(IR)、第2図は参考例3の
ポリジルコノシロキサンのIR、第3図は実施例
1のシロキサン結合およびチタノキサン結合を一
部含むポリカルボシランのIR、第4図はシロキ
サン結合およびジルコノキサン結合を一部含むポ
リカルボシランのIR、第5図は実施例1のポ
リマーを1700℃で焼成することによつて得られた
複合炭化物のX線粉末回折図、第5図は実施例
2のポリマーを1700℃で焼成することによつて得
られた複合炭化物のX線粉末回折図である。
外線吸収スペクトル(IR)、第2図は参考例3の
ポリジルコノシロキサンのIR、第3図は実施例
1のシロキサン結合およびチタノキサン結合を一
部含むポリカルボシランのIR、第4図はシロキ
サン結合およびジルコノキサン結合を一部含むポ
リカルボシランのIR、第5図は実施例1のポ
リマーを1700℃で焼成することによつて得られた
複合炭化物のX線粉末回折図、第5図は実施例
2のポリマーを1700℃で焼成することによつて得
られた複合炭化物のX線粉末回折図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下記(A)のカルボシラン結合単位、(B)のシロキ
サン結合単位および1種または2種以上の(C)のシ
ロキサン結合単位から主としてなり、 (A):(−Si−CH2)− (但し、ケイ素原子の大部分は低級アルキル
基、フエニル基および水素からなる群から選ば
れた側鎖基を1個または2個有する) (B):(−Si−O)− (但し、ケイ素原子の大部分は、低級アルキ
ル基、フエニル基および低級アルコキシ基から
なる群から選ばれた側鎖基を1個または2個有
する) (C):(−M−O)− (但し、MはTi、Zr、Cr、Mo、W、Mn、
Re、Fe、Ru、Os、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、
Pt、Cu、Ag、Zn、Cd、B、Ca、In、Ge、
Sn、Pb、P、As、SbまたはBiの元素を示し、
場合によつては該各元素の少なくとも1部分が
側鎖基として低級アルコキシ基またはフエノキ
シ基を少なくとも1個有する) 該(A),(B)および(C)の各結合単位が主鎖骨格中
でランダムに結合した重合体、および/または
該(A)の結合単位のケイ素原子の少なくとも1部
が該(B)の結合単位のケイ素原子または該(C)の結
合単位の前記各元素と酸素原子を介して結合
し、これによつて前記ランダム重合体中の該(A)
の結合単位の連鎖により得られるポリカルボシ
ラン部分が該(B)の結合単位およびまたは該(C)の
結合単位によつて架橋された重合体であり;該
(A)の結合単位の全数対該(B)の結合単位の全数の
比率が4:1乃至200:1の範囲内にあり、又
該(A)の結合単位の全数対該(C)の結合単位の全数
の比率が4:1乃至20000:1の範囲内にあ
る;数平均分子量が400〜50000であることを特
徴とするメタロキサン結合を一部含むポリカル
ボシラン。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5547280A JPS56151732A (en) | 1980-04-28 | 1980-04-28 | Polycarbosilane containing metalloxane bond partly and its preparation |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5547280A JPS56151732A (en) | 1980-04-28 | 1980-04-28 | Polycarbosilane containing metalloxane bond partly and its preparation |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP220086A Division JPS61171734A (ja) | 1986-01-10 | 1986-01-10 | メタロキサン結合を一部含むポリカルボシランの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS56151732A JPS56151732A (en) | 1981-11-24 |
JPS6123932B2 true JPS6123932B2 (ja) | 1986-06-09 |
Family
ID=12999540
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5547280A Granted JPS56151732A (en) | 1980-04-28 | 1980-04-28 | Polycarbosilane containing metalloxane bond partly and its preparation |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS56151732A (ja) |
Families Citing this family (7)
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---|---|---|---|---|
JPS6248773A (ja) * | 1985-08-27 | 1987-03-03 | Ube Ind Ltd | 耐熱性塗料 |
JPS6254768A (ja) * | 1985-09-04 | 1987-03-10 | Ube Ind Ltd | 耐熱性塗料 |
JPH0791110B2 (ja) * | 1991-08-07 | 1995-10-04 | 有限会社テー・エス・ビー | 無機系被膜の形成方法 |
WO2001019753A1 (fr) * | 1999-09-13 | 2001-03-22 | Japan Science And Technology Corporation | Polymere organometallique ponte utilisable dans la preparation de materiau ceramique composite et procede de production |
JP2005322810A (ja) * | 2004-05-10 | 2005-11-17 | Tdk Corp | 希土類磁石 |
JP2007116139A (ja) * | 2005-09-22 | 2007-05-10 | Mitsubishi Chemicals Corp | 半導体発光デバイス用部材及びその製造方法、並びにそれを用いた半導体発光デバイス |
JP5118495B2 (ja) * | 2005-12-21 | 2013-01-16 | 日本碍子株式会社 | マーキング用組成物及び情報表示方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS565828A (en) * | 1979-06-28 | 1981-01-21 | Tokushu Muki Zairyo Kenkyusho | Organometallic copolymer and its preparation |
JPS56131628A (en) * | 1980-03-21 | 1981-10-15 | Tokushu Muki Zairyo Kenkyusho | Organometallic copolymer and preparation thereof |
-
1980
- 1980-04-28 JP JP5547280A patent/JPS56151732A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS565828A (en) * | 1979-06-28 | 1981-01-21 | Tokushu Muki Zairyo Kenkyusho | Organometallic copolymer and its preparation |
JPS56131628A (en) * | 1980-03-21 | 1981-10-15 | Tokushu Muki Zairyo Kenkyusho | Organometallic copolymer and preparation thereof |
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---|---|
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