JPS5813632A - 耐熱性薄膜形成能を有するラダ−状低級アルキルポリシルセスキオキサン - Google Patents
耐熱性薄膜形成能を有するラダ−状低級アルキルポリシルセスキオキサンInfo
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- JPS5813632A JPS5813632A JP11073681A JP11073681A JPS5813632A JP S5813632 A JPS5813632 A JP S5813632A JP 11073681 A JP11073681 A JP 11073681A JP 11073681 A JP11073681 A JP 11073681A JP S5813632 A JPS5813632 A JP S5813632A
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- Granted
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- Silicon Polymers (AREA)
- Formation Of Insulating Films (AREA)
Priority Applications (4)
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---|---|---|---|
JP11073681A JPS5813632A (ja) | 1981-07-17 | 1981-07-17 | 耐熱性薄膜形成能を有するラダ−状低級アルキルポリシルセスキオキサン |
DE8181303911T DE3173441D1 (en) | 1980-08-26 | 1981-08-26 | Ladder-like lower alkylpolysilsesquioxanes and process for their preparation |
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US06/353,811 US4399266A (en) | 1980-08-26 | 1982-03-02 | Laddery lower alkylpolysilsesquioxane having heat-resistant thin film-formability and process for preparing same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP11073681A JPS5813632A (ja) | 1981-07-17 | 1981-07-17 | 耐熱性薄膜形成能を有するラダ−状低級アルキルポリシルセスキオキサン |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5813632A true JPS5813632A (ja) | 1983-01-26 |
JPH0143773B2 JPH0143773B2 (GUID-C5D7CC26-194C-43D0-91A1-9AE8C70A9BFF.html) | 1989-09-22 |
Family
ID=14543210
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11073681A Granted JPS5813632A (ja) | 1980-08-26 | 1981-07-17 | 耐熱性薄膜形成能を有するラダ−状低級アルキルポリシルセスキオキサン |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5813632A (GUID-C5D7CC26-194C-43D0-91A1-9AE8C70A9BFF.html) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Families Citing this family (4)
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-
1981
- 1981-07-17 JP JP11073681A patent/JPS5813632A/ja active Granted
Patent Citations (3)
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0143773B2 (GUID-C5D7CC26-194C-43D0-91A1-9AE8C70A9BFF.html) | 1989-09-22 |
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