JPS58128137A - シ−ト状物質の連続減圧処理装置 - Google Patents
シ−ト状物質の連続減圧処理装置Info
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- JPS58128137A JPS58128137A JP57010443A JP1044382A JPS58128137A JP S58128137 A JPS58128137 A JP S58128137A JP 57010443 A JP57010443 A JP 57010443A JP 1044382 A JP1044382 A JP 1044382A JP S58128137 A JPS58128137 A JP S58128137A
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- Japan
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- evacuated
- sheet
- chamber
- seal
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J3/00—Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
- B01J3/006—Processes utilising sub-atmospheric pressure; Apparatus therefor
-
- D—TEXTILES; PAPER
- D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- D06B—TREATING TEXTILE MATERIALS USING LIQUIDS, GASES OR VAPOURS
- D06B23/00—Component parts, details, or accessories of apparatus or machines, specially adapted for the treating of textile materials, not restricted to a particular kind of apparatus, provided for in groups D06B1/00 - D06B21/00
- D06B23/14—Containers, e.g. vats
- D06B23/16—Containers, e.g. vats with means for introducing or removing textile materials without modifying container pressure
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、シート状物質Ｏ連続減圧旭聰装置に関するも
のである。
のである。
さらに、詳しくは、シート状物質すなわち布帛、不織布
、フィル五などを、高度な減圧状１１に保持されゐ滅５
ＥＩＩ＆恩寵で連続的ＫＪ６履て龜る装置に関するもの
である・ 従来ｔシート状物質を、高度の減圧に保持する減圧処履
寵内でＪ６１１する装置には、パッチ式躯鳳機が多く製
造されてい九が、連続式把履機はＷ＊も少なく、しかも
構造％複雑化される勢のむとでほとんど製造されていな
か９た。
、フィル五などを、高度な減圧状１１に保持されゐ滅５
ＥＩＩ＆恩寵で連続的ＫＪ６履て龜る装置に関するもの
である・ 従来ｔシート状物質を、高度の減圧に保持する減圧処履
寵内でＪ６１１する装置には、パッチ式躯鳳機が多く製
造されてい九が、連続式把履機はＷ＊も少なく、しかも
構造％複雑化される勢のむとでほとんど製造されていな
か９た。
しかゐに、ＩＩ＆履物の用過Ｒ発が拡□大するにりれて
、最近シート状物質を高度真空で連続？＆思を必要とす
る加工、すなわち、シート状物質Ｏ低温プラズマ旭履真
窒蒸着処履、スΔシタリングＪ６１１゜減圧乾燥ｍＩｌ
等を連続で６履する一１Ｉが高まって龜た。
、最近シート状物質を高度真空で連続？＆思を必要とす
る加工、すなわち、シート状物質Ｏ低温プラズマ旭履真
窒蒸着処履、スΔシタリングＪ６１１゜減圧乾燥ｍＩｌ
等を連続で６履する一１Ｉが高まって龜た。
本ｌｉ＠紘かかることに鑑みてなされ友もので、筐体シ
ールとメカニカルシールとの組合せにょ〕減圧度を段階
的に上昇せしめる複数０減圧室を形成すると共に、最終
段階間、所望の高減圧ｆ（例えば２０Ｔ＠ｒｒ以下）が
保持で自る減圧処理室を得ることができるシート状物質
の連続減圧躯！ｌ装置を提供することを目的とするもの
である。
ールとメカニカルシールとの組合せにょ〕減圧度を段階
的に上昇せしめる複数０減圧室を形成すると共に、最終
段階間、所望の高減圧ｆ（例えば２０Ｔ＠ｒｒ以下）が
保持で自る減圧処理室を得ることができるシート状物質
の連続減圧躯！ｌ装置を提供することを目的とするもの
である。
以下に本発明を図面に示す実施例に基いて詳細に説明す
る。
る。
第１ＩＩ及び第２図においてｌは連続処理缶であ−りて
、この処理着１ｉ１ｉ１１端部にはシートの導入口２及
び導出口３が形成されてお夛、更にこの導入口２及び導
出口３にはシート物の挿通は許すが部層缶１内をできる
だけ気密に保ｉすることがで龜るシール機構４が設けら
れている。このシール機構４ａ、ｊｌ１図←）に示す如
く互に圧接される一対Ｏシｋ １２ ｋ ５ ａ ｓ
／トこの双方のシールー−ル５ 、５’０両儒端ＷＪＫ
轟接される端面シール板６との組合せＫよって構成され
ている。を九旭履缶ｌの内部は、そＯ導入口２から導出
口３方向に区分形成され良複数個の減圧１１７，８，１
．１０゜１１が設けられてお〕、その減圧室７と８との
間及び減圧！１０と１１との間は遮蔽壁１３．１２によ
りて区分され、更にこの遮□′蔽＠１２に設けられてい
るシート状物質挿通孔１４にはりツブシール機構１５が
設けられている。また減圧１［９と８との間及び減圧室
９と１０との間にはその減圧室９内を高減圧度例えば２
０Ｔ＠ｒｒＫ保持せしめる九めの側面Ｕ字状に形成され
良液体シール槽１６が介装畜れてお夛、この液体シール
槽１６内には、高真空度においても蒸気圧が極めて低く
、かつ、シート状物質に悪影響をおよばさない物質、水
銀、低融点金属たとえばケミカルアブストラクト４９巻
３５４８頁１９５５年に記載されている８ｎ１３．３憾
。
、この処理着１ｉ１ｉ１１端部にはシートの導入口２及
び導出口３が形成されてお夛、更にこの導入口２及び導
出口３にはシート物の挿通は許すが部層缶１内をできる
だけ気密に保ｉすることがで龜るシール機構４が設けら
れている。このシール機構４ａ、ｊｌ１図←）に示す如
く互に圧接される一対Ｏシｋ １２ ｋ ５ ａ ｓ
／トこの双方のシールー−ル５ 、５’０両儒端ＷＪＫ
轟接される端面シール板６との組合せＫよって構成され
ている。を九旭履缶ｌの内部は、そＯ導入口２から導出
口３方向に区分形成され良複数個の減圧１１７，８，１
．１０゜１１が設けられてお〕、その減圧室７と８との
間及び減圧！１０と１１との間は遮蔽壁１３．１２によ
りて区分され、更にこの遮□′蔽＠１２に設けられてい
るシート状物質挿通孔１４にはりツブシール機構１５が
設けられている。また減圧１［９と８との間及び減圧室
９と１０との間にはその減圧室９内を高減圧度例えば２
０Ｔ＠ｒｒＫ保持せしめる九めの側面Ｕ字状に形成され
良液体シール槽１６が介装畜れてお夛、この液体シール
槽１６内には、高真空度においても蒸気圧が極めて低く
、かつ、シート状物質に悪影響をおよばさない物質、水
銀、低融点金属たとえばケミカルアブストラクト４９巻
３５４８頁１９５５年に記載されている８ｎ１３．３憾
。
Ｐｂ２６．７％、Ｂ１５０％、ＣｄｌＯ％Ｏ溶融金属浴
あるいは、液体シリコｙなどを使用する。
あるいは、液体シリコｙなどを使用する。
更に各減圧室の夫々には個別に設は九真空−ンプ（図示
せず）に接続されるパキ島−ムロ１７゜１８．１９，２
０．２１が設けられているが、各減圧室は、導入口２、
導出口３よシ中夫の減圧室９に近くなるはど減圧ｆが高
くなるように設定され、その減圧室９内の減圧度が最も
高くなるようになっている。
せず）に接続されるパキ島−ムロ１７゜１８．１９，２
０．２１が設けられているが、各減圧室は、導入口２、
導出口３よシ中夫の減圧室９に近くなるはど減圧ｆが高
くなるように設定され、その減圧室９内の減圧度が最も
高くなるようになっている。
すなかち、減圧Ｗｉ７ 、 ｌ １０排気には減圧度は
比較的小さいが排気量の大きい排気装置を使用する。
比較的小さいが排気量の大きい排気装置を使用する。
また、中央の減圧１ｉ！ ９０＃気する真空１ｙグは、
高真空度が保てるＩンプで排気量の比較的小さいポンプ
が適している。
高真空度が保てるＩンプで排気量の比較的小さいポンプ
が適している。
まえ減圧！８ 、１０（Ｄ／ソング上述の中間性能を有
するもＯがよい、具体例としては、真ａｆ。
するもＯがよい、具体例としては、真ａｆ。
低い場合は単段ま１１段蒸気エジェクター、あるい紘水
封式真空４ンプが適している。ｔた、減圧度の高い、即
ち真空度の高い反応減圧室９に使用する真空装置として
紘、多段蒸気エジェクター、油回転真空−ンｌ、油拡散
真空４ングなどが適している。
封式真空４ンプが適している。ｔた、減圧度の高い、即
ち真空度の高い反応減圧室９に使用する真空装置として
紘、多段蒸気エジェクター、油回転真空−ンｌ、油拡散
真空４ングなどが適している。
従って、シート状物質２２社、導入側シール機構４を通
ヤ低減圧の減圧室７．＄よ）高減圧度が保持される減圧
室９内に導かれるが、そＯ減圧室ではパキ為−ムロ１７
．１ｇを通じて各減圧室に適し九排気装置すなわち、真
空ポンプによ）排気されるが、排気する気体は導入口２
から、シート状物質２２と共に：ｉ！！５）込まれる空
気、あるいはシート状物質２２に含有する揮発性物質の
大部分である。すなわち、減圧室７．邸内の減圧力によ
り液体シール１６の負荷を少なくすることと、シート状
物質２２の高度真ｇに対する予備処理を行うことがで自
る・ついで、そのシート状物質２２拡箪体シール１６を
通りて減圧室９に入〕、こＯ減圧室９内で、例えば低温
ｌラズマによる反応部層が行なわれるものである。
ヤ低減圧の減圧室７．＄よ）高減圧度が保持される減圧
室９内に導かれるが、そＯ減圧室ではパキ為−ムロ１７
．１ｇを通じて各減圧室に適し九排気装置すなわち、真
空ポンプによ）排気されるが、排気する気体は導入口２
から、シート状物質２２と共に：ｉ！！５）込まれる空
気、あるいはシート状物質２２に含有する揮発性物質の
大部分である。すなわち、減圧室７．邸内の減圧力によ
り液体シール１６の負荷を少なくすることと、シート状
物質２２の高度真ｇに対する予備処理を行うことがで自
る・ついで、そのシート状物質２２拡箪体シール１６を
通りて減圧室９に入〕、こＯ減圧室９内で、例えば低温
ｌラズマによる反応部層が行なわれるものである。
以上のように本発明０４１１１ｍとするとζろ祉、為真
空度例えば２０Ｔ＠ｒｒ以下に減圧室を形成する時点で
この液体シール１６を使用する点にある・すなわち、シ
ート状物質を連続的に搬入出する装置において一一ルシ
ール、あるいは、リップシールなど機絨的なシールでは
２０テ・ｒｒ以下の高度真空室にシート状物質を連続的
に導く経済的な遮蔽装置を得ることが極めて困難であ〕
、このため鋭意研究の結果本発明装置が考えだされえ新
規な装置である。
空度例えば２０Ｔ＠ｒｒ以下に減圧室を形成する時点で
この液体シール１６を使用する点にある・すなわち、シ
ート状物質を連続的に搬入出する装置において一一ルシ
ール、あるいは、リップシールなど機絨的なシールでは
２０テ・ｒｒ以下の高度真空室にシート状物質を連続的
に導く経済的な遮蔽装置を得ることが極めて困難であ〕
、このため鋭意研究の結果本発明装置が考えだされえ新
規な装置である。
即ち、減圧ｌＩＯ減圧度ｔ２０Ｔ＠ｒｖ以下にする時点
で液体シールを使用する理由は、２０ ’！’＠ｒｒ以
下になるとロールシール、リップシールでは連続書入出
におけるシールが極めて困難になること。また、２０テ
・ｒｒ以下になると排気する真空ｄ：／ｆ。
で液体シールを使用する理由は、２０ ’！’＠ｒｒ以
下になるとロールシール、リップシールでは連続書入出
におけるシールが極めて困難になること。また、２０テ
・ｒｒ以下になると排気する真空ｄ：／ｆ。
機構が低真空度の場合と全く異なってくるからである。
壕九、雪圧よ〕液体シールを使って一段で高度真空にし
ない理由紘シート状物質Ｋｔまれている揮発物質の除去
が必畳なこと、一段ですると液体シールの液体の落差が
大きくなシールロールが困難Ｋすること、シールする液
体の容量が大暑くな）コスト高になること等によりトー
タルコストとしてみえ場合、ロールシールまたは、リッ
プシールによる低真空度量を設けた方が有利であ１九め
である。
ない理由紘シート状物質Ｋｔまれている揮発物質の除去
が必畳なこと、一段ですると液体シールの液体の落差が
大きくなシールロールが困難Ｋすること、シールする液
体の容量が大暑くな）コスト高になること等によりトー
タルコストとしてみえ場合、ロールシールまたは、リッ
プシールによる低真空度量を設けた方が有利であ１九め
である。
第３１１に示す実施例は、上記実施例におけるシールロ
ールによるシール機構４にかえてリップシール機構２３
を設けると共に、前記実施例における減圧１１９の内部
に、リップシール機構２４と、隔１１２５とＫよりて区
分形成される減圧室２６を形成し、更にこの減圧室２６
にはパキ為−ムロ２７を設けたものである。このリップ
シール機構２３．２４及び前記実施例におけるリップシ
ール機構１５は、第２図げ）Ｋ示す如く、互に圧接され
る２枚のシール片２８によって構成されているが、この
シール片２８は、可―弾性を有し、しかもシート状物質
２２との摩擦係数の小さい材料からなっておル、一般に
はテアａンｆム、あるい紘ステンレス等の金属片を使用
する・ 以上のように本実施例では筐体シール槽１６によって仕
切られる減圧室９の内部にリップシール機構２４によフ
て更に仕切られる減圧１１２６を形成したものであるか
ら、この減圧室２６内の減圧度を高めることが容量にで
亀、従って高真空度の減圧室を要するときに有効である
。
ールによるシール機構４にかえてリップシール機構２３
を設けると共に、前記実施例における減圧１１９の内部
に、リップシール機構２４と、隔１１２５とＫよりて区
分形成される減圧室２６を形成し、更にこの減圧室２６
にはパキ為−ムロ２７を設けたものである。このリップ
シール機構２３．２４及び前記実施例におけるリップシ
ール機構１５は、第２図げ）Ｋ示す如く、互に圧接され
る２枚のシール片２８によって構成されているが、この
シール片２８は、可―弾性を有し、しかもシート状物質
２２との摩擦係数の小さい材料からなっておル、一般に
はテアａンｆム、あるい紘ステンレス等の金属片を使用
する・ 以上のように本実施例では筐体シール槽１６によって仕
切られる減圧室９の内部にリップシール機構２４によフ
て更に仕切られる減圧１１２６を形成したものであるか
ら、この減圧室２６内の減圧度を高めることが容量にで
亀、従って高真空度の減圧室を要するときに有効である
。
以上のように本発明は、シート状物質を減圧下で連続処
理を行う装置において、この４６１１缶内を、シート状
物質Ｏ移送方向に複数個Ｏ減圧室に区分形成し、更に各
減圧ｉｉａ液体シールとメカニカルタールとの龜会せに
よりで減圧度が段階的に異る容置に構成し友減圧Ｉ＆場
装置であるから、この装置によれに１多段のシール、即
ち筐体シール及びメカニカルシールを経て形成されてい
る減圧室の真！２度を高めることがで自、従ってこの高
真９ｆの減圧室において例えば減圧乾燥処理、蒸着処理
低温グラズマ処理、スパッタリング処理等が有効に打電
える効果がある。また上記の流体シール及びメカニカル
シールは、その構造が簡単であハしかも多段のシール機
構の設置によ）真空−ンｌの駆動エネルギーが削減でき
ることから、製品コスト及び稼動コストの安い減圧地理
装置が提供できる効果がある。
理を行う装置において、この４６１１缶内を、シート状
物質Ｏ移送方向に複数個Ｏ減圧室に区分形成し、更に各
減圧ｉｉａ液体シールとメカニカルタールとの龜会せに
よりで減圧度が段階的に異る容置に構成し友減圧Ｉ＆場
装置であるから、この装置によれに１多段のシール、即
ち筐体シール及びメカニカルシールを経て形成されてい
る減圧室の真！２度を高めることがで自、従ってこの高
真９ｆの減圧室において例えば減圧乾燥処理、蒸着処理
低温グラズマ処理、スパッタリング処理等が有効に打電
える効果がある。また上記の流体シール及びメカニカル
シールは、その構造が簡単であハしかも多段のシール機
構の設置によ）真空−ンｌの駆動エネルギーが削減でき
ることから、製品コスト及び稼動コストの安い減圧地理
装置が提供できる効果がある。
図面はいずれも本発明よシなる連続減圧部層義置ｏＩｊ
ｌ施例を示し、第１１１ｉはその第１実施例を示した断
面図、第２図げ）及び（ロ）はリップシール及びロール
シールの拡大説Ｉｊ１ｔｉｏ、第３ＷＡは本発明の第２
実施例を示した断面図である。 ｌ・・・連続処理缶 ２・・・導入口３・・・導
出口 ４・・・シール機構５．５・・・シー
ルロール ６・・・端面シール板７．８，９，１
０，１１，２６・・・減圧＠ １２，１３・・・遮蔽壁
１４・・・シート状物質挿通孔 １５・・・リップシ
ール機構１６・・・液体シール槽
ｌ施例を示し、第１１１ｉはその第１実施例を示した断
面図、第２図げ）及び（ロ）はリップシール及びロール
シールの拡大説Ｉｊ１ｔｉｏ、第３ＷＡは本発明の第２
実施例を示した断面図である。 ｌ・・・連続処理缶 ２・・・導入口３・・・導
出口 ４・・・シール機構５．５・・・シー
ルロール ６・・・端面シール板７．８，９，１
０，１１，２６・・・減圧＠ １２，１３・・・遮蔽壁
１４・・・シート状物質挿通孔 １５・・・リップシ
ール機構１６・・・液体シール槽
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ シート状物質を減圧下で連続＃＆堰を行う装置にお
いて、この熟思缶内を、シート状物質Ｏ移送方崗に複数
個Ｏ減圧室に区分形成し、ＩＫ４１ｒ減圧寵は液体シー
ルとメカニカルシールとの組合せによって減圧度がＲ８
１的に異る各ｗＩに構威畜れていることを特徴とするシ
ート状物質の連続減圧旭理装置。 ２ メカニカルシールは、ロールシールｔえは、リフｌ
シールによりて構成されていることを特徴とする特許請
求０ＩＫ−第１ａ記載のシート状物質の連続減圧４６１
１装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57010443A JPS58128137A (ja) | 1982-01-26 | 1982-01-26 | シ−ト状物質の連続減圧処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57010443A JPS58128137A (ja) | 1982-01-26 | 1982-01-26 | シ−ト状物質の連続減圧処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58128137A true JPS58128137A (ja) | 1983-07-30 |
Family
ID=11750291
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57010443A Pending JPS58128137A (ja) | 1982-01-26 | 1982-01-26 | シ−ト状物質の連続減圧処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58128137A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109843448A (zh) * | 2016-10-19 | 2019-06-04 | 鲍德温·伊梅克股份公司 | 喷嘴腔室的结构 |
| JP2019151882A (ja) * | 2018-03-02 | 2019-09-12 | 株式会社豊田中央研究所 | 気密処理装置 |
| US11478802B2 (en) | 2016-10-19 | 2022-10-25 | Baldwin Jimek Ab | Spray nozzle arrangement |
| US11712709B2 (en) | 2020-02-28 | 2023-08-01 | Baldwin Jimek Ab | Spray applicator and spray unit |
-
1982
- 1982-01-26 JP JP57010443A patent/JPS58128137A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109843448A (zh) * | 2016-10-19 | 2019-06-04 | 鲍德温·伊梅克股份公司 | 喷嘴腔室的结构 |
| US11077458B2 (en) | 2016-10-19 | 2021-08-03 | Baldwin Jimek Ab | Arrangement at spray nozzle chamber |
| CN109843448B (zh) * | 2016-10-19 | 2021-11-12 | 鲍德温·伊梅克股份公司 | 喷嘴腔室的结构 |
| US11478802B2 (en) | 2016-10-19 | 2022-10-25 | Baldwin Jimek Ab | Spray nozzle arrangement |
| JP2019151882A (ja) * | 2018-03-02 | 2019-09-12 | 株式会社豊田中央研究所 | 気密処理装置 |
| US11712709B2 (en) | 2020-02-28 | 2023-08-01 | Baldwin Jimek Ab | Spray applicator and spray unit |
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