JPS58128137A - シ−ト状物質の連続減圧処理装置 - Google Patents
シ−ト状物質の連続減圧処理装置Info
- Publication number
- JPS58128137A JPS58128137A JP57010443A JP1044382A JPS58128137A JP S58128137 A JPS58128137 A JP S58128137A JP 57010443 A JP57010443 A JP 57010443A JP 1044382 A JP1044382 A JP 1044382A JP S58128137 A JPS58128137 A JP S58128137A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- evacuated
- sheet
- chamber
- seal
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J3/00—Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
- B01J3/006—Processes utilising sub-atmospheric pressure; Apparatus therefor
-
- D—TEXTILES; PAPER
- D06—TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- D06B—TREATING TEXTILE MATERIALS USING LIQUIDS, GASES OR VAPOURS
- D06B23/00—Component parts, details, or accessories of apparatus or machines, specially adapted for the treating of textile materials, not restricted to a particular kind of apparatus, provided for in groups D06B1/00 - D06B21/00
- D06B23/14—Containers, e.g. vats
- D06B23/16—Containers, e.g. vats with means for introducing or removing textile materials without modifying container pressure
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Textile Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Treatment Of Fiber Materials (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、シート状物質O連続減圧旭聰装置に関するも
のである。
のである。
さらに、詳しくは、シート状物質すなわち布帛、不織布
、フィル五などを、高度な減圧状11に保持されゐ滅5
EII&恩寵で連続的KJ6履て龜る装置に関するもの
である・ 従来tシート状物質を、高度の減圧に保持する減圧処履
寵内でJ611する装置には、パッチ式躯鳳機が多く製
造されてい九が、連続式把履機はW*も少なく、しかも
構造%複雑化される勢のむとでほとんど製造されていな
か9た。
、フィル五などを、高度な減圧状11に保持されゐ滅5
EII&恩寵で連続的KJ6履て龜る装置に関するもの
である・ 従来tシート状物質を、高度の減圧に保持する減圧処履
寵内でJ611する装置には、パッチ式躯鳳機が多く製
造されてい九が、連続式把履機はW*も少なく、しかも
構造%複雑化される勢のむとでほとんど製造されていな
か9た。
しかゐに、II&履物の用過R発が拡□大するにりれて
、最近シート状物質を高度真空で連続?&思を必要とす
る加工、すなわち、シート状物質O低温プラズマ旭履真
窒蒸着処履、スΔシタリングJ611゜減圧乾燥mIl
等を連続で6履する一1Iが高まって龜た。
、最近シート状物質を高度真空で連続?&思を必要とす
る加工、すなわち、シート状物質O低温プラズマ旭履真
窒蒸着処履、スΔシタリングJ611゜減圧乾燥mIl
等を連続で6履する一1Iが高まって龜た。
本li@紘かかることに鑑みてなされ友もので、筐体シ
ールとメカニカルシールとの組合せにょ〕減圧度を段階
的に上昇せしめる複数0減圧室を形成すると共に、最終
段階間、所望の高減圧f(例えば20T@rr以下)が
保持で自る減圧処理室を得ることができるシート状物質
の連続減圧躯!l装置を提供することを目的とするもの
である。
ールとメカニカルシールとの組合せにょ〕減圧度を段階
的に上昇せしめる複数0減圧室を形成すると共に、最終
段階間、所望の高減圧f(例えば20T@rr以下)が
保持で自る減圧処理室を得ることができるシート状物質
の連続減圧躯!l装置を提供することを目的とするもの
である。
以下に本発明を図面に示す実施例に基いて詳細に説明す
る。
る。
第1II及び第2図においてlは連続処理缶であ−りて
、この処理着1i1i11端部にはシートの導入口2及
び導出口3が形成されてお夛、更にこの導入口2及び導
出口3にはシート物の挿通は許すが部層缶1内をできる
だけ気密に保iすることがで龜るシール機構4が設けら
れている。このシール機構4a、jl1図←)に示す如
く互に圧接される一対Oシk 12 k 5 a s
/トこの双方のシールー−ル5 、5’0両儒端WJK
轟接される端面シール板6との組合せKよって構成され
ている。を九旭履缶lの内部は、そO導入口2から導出
口3方向に区分形成され良複数個の減圧117,8,1
.10゜11が設けられてお〕、その減圧室7と8との
間及び減圧!10と11との間は遮蔽壁13.12によ
りて区分され、更にこの遮□′蔽@12に設けられてい
るシート状物質挿通孔14にはりツブシール機構15が
設けられている。また減圧1[9と8との間及び減圧室
9と10との間にはその減圧室9内を高減圧度例えば2
0T@rrK保持せしめる九めの側面U字状に形成され
良液体シール槽16が介装畜れてお夛、この液体シール
槽16内には、高真空度においても蒸気圧が極めて低く
、かつ、シート状物質に悪影響をおよばさない物質、水
銀、低融点金属たとえばケミカルアブストラクト49巻
3548頁1955年に記載されている8n13.3憾
。
、この処理着1i1i11端部にはシートの導入口2及
び導出口3が形成されてお夛、更にこの導入口2及び導
出口3にはシート物の挿通は許すが部層缶1内をできる
だけ気密に保iすることがで龜るシール機構4が設けら
れている。このシール機構4a、jl1図←)に示す如
く互に圧接される一対Oシk 12 k 5 a s
/トこの双方のシールー−ル5 、5’0両儒端WJK
轟接される端面シール板6との組合せKよって構成され
ている。を九旭履缶lの内部は、そO導入口2から導出
口3方向に区分形成され良複数個の減圧117,8,1
.10゜11が設けられてお〕、その減圧室7と8との
間及び減圧!10と11との間は遮蔽壁13.12によ
りて区分され、更にこの遮□′蔽@12に設けられてい
るシート状物質挿通孔14にはりツブシール機構15が
設けられている。また減圧1[9と8との間及び減圧室
9と10との間にはその減圧室9内を高減圧度例えば2
0T@rrK保持せしめる九めの側面U字状に形成され
良液体シール槽16が介装畜れてお夛、この液体シール
槽16内には、高真空度においても蒸気圧が極めて低く
、かつ、シート状物質に悪影響をおよばさない物質、水
銀、低融点金属たとえばケミカルアブストラクト49巻
3548頁1955年に記載されている8n13.3憾
。
Pb26.7%、B150%、CdlO%O溶融金属浴
あるいは、液体シリコyなどを使用する。
あるいは、液体シリコyなどを使用する。
更に各減圧室の夫々には個別に設は九真空−ンプ(図示
せず)に接続されるパキ島−ムロ17゜18.19,2
0.21が設けられているが、各減圧室は、導入口2、
導出口3よシ中夫の減圧室9に近くなるはど減圧fが高
くなるように設定され、その減圧室9内の減圧度が最も
高くなるようになっている。
せず)に接続されるパキ島−ムロ17゜18.19,2
0.21が設けられているが、各減圧室は、導入口2、
導出口3よシ中夫の減圧室9に近くなるはど減圧fが高
くなるように設定され、その減圧室9内の減圧度が最も
高くなるようになっている。
すなかち、減圧Wi7 、 l 10排気には減圧度は
比較的小さいが排気量の大きい排気装置を使用する。
比較的小さいが排気量の大きい排気装置を使用する。
また、中央の減圧1i! 90#気する真空1yグは、
高真空度が保てるIンプで排気量の比較的小さいポンプ
が適している。
高真空度が保てるIンプで排気量の比較的小さいポンプ
が適している。
まえ減圧!8 、10(D/ソング上述の中間性能を有
するもOがよい、具体例としては、真af。
するもOがよい、具体例としては、真af。
低い場合は単段ま11段蒸気エジェクター、あるい紘水
封式真空4ンプが適している。tた、減圧度の高い、即
ち真空度の高い反応減圧室9に使用する真空装置として
紘、多段蒸気エジェクター、油回転真空−ンl、油拡散
真空4ングなどが適している。
封式真空4ンプが適している。tた、減圧度の高い、即
ち真空度の高い反応減圧室9に使用する真空装置として
紘、多段蒸気エジェクター、油回転真空−ンl、油拡散
真空4ングなどが適している。
従って、シート状物質22社、導入側シール機構4を通
ヤ低減圧の減圧室7.$よ)高減圧度が保持される減圧
室9内に導かれるが、そO減圧室ではパキ為−ムロ17
.1gを通じて各減圧室に適し九排気装置すなわち、真
空ポンプによ)排気されるが、排気する気体は導入口2
から、シート状物質22と共に:i!!5)込まれる空
気、あるいはシート状物質22に含有する揮発性物質の
大部分である。すなわち、減圧室7.邸内の減圧力によ
り液体シール16の負荷を少なくすることと、シート状
物質22の高度真gに対する予備処理を行うことがで自
る・ついで、そのシート状物質22拡箪体シール16を
通りて減圧室9に入〕、こO減圧室9内で、例えば低温
lラズマによる反応部層が行なわれるものである。
ヤ低減圧の減圧室7.$よ)高減圧度が保持される減圧
室9内に導かれるが、そO減圧室ではパキ為−ムロ17
.1gを通じて各減圧室に適し九排気装置すなわち、真
空ポンプによ)排気されるが、排気する気体は導入口2
から、シート状物質22と共に:i!!5)込まれる空
気、あるいはシート状物質22に含有する揮発性物質の
大部分である。すなわち、減圧室7.邸内の減圧力によ
り液体シール16の負荷を少なくすることと、シート状
物質22の高度真gに対する予備処理を行うことがで自
る・ついで、そのシート状物質22拡箪体シール16を
通りて減圧室9に入〕、こO減圧室9内で、例えば低温
lラズマによる反応部層が行なわれるものである。
以上のように本発明04111mとするとζろ祉、為真
空度例えば20T@rr以下に減圧室を形成する時点で
この液体シール16を使用する点にある・すなわち、シ
ート状物質を連続的に搬入出する装置において一一ルシ
ール、あるいは、リップシールなど機絨的なシールでは
20テ・rr以下の高度真空室にシート状物質を連続的
に導く経済的な遮蔽装置を得ることが極めて困難であ〕
、このため鋭意研究の結果本発明装置が考えだされえ新
規な装置である。
空度例えば20T@rr以下に減圧室を形成する時点で
この液体シール16を使用する点にある・すなわち、シ
ート状物質を連続的に搬入出する装置において一一ルシ
ール、あるいは、リップシールなど機絨的なシールでは
20テ・rr以下の高度真空室にシート状物質を連続的
に導く経済的な遮蔽装置を得ることが極めて困難であ〕
、このため鋭意研究の結果本発明装置が考えだされえ新
規な装置である。
即ち、減圧lIO減圧度t20T@rv以下にする時点
で液体シールを使用する理由は、20 ’!’@rr以
下になるとロールシール、リップシールでは連続書入出
におけるシールが極めて困難になること。また、20テ
・rr以下になると排気する真空d:/f。
で液体シールを使用する理由は、20 ’!’@rr以
下になるとロールシール、リップシールでは連続書入出
におけるシールが極めて困難になること。また、20テ
・rr以下になると排気する真空d:/f。
機構が低真空度の場合と全く異なってくるからである。
壕九、雪圧よ〕液体シールを使って一段で高度真空にし
ない理由紘シート状物質Ktまれている揮発物質の除去
が必畳なこと、一段ですると液体シールの液体の落差が
大きくなシールロールが困難Kすること、シールする液
体の容量が大暑くな)コスト高になること等によりトー
タルコストとしてみえ場合、ロールシールまたは、リッ
プシールによる低真空度量を設けた方が有利であ1九め
である。
ない理由紘シート状物質Ktまれている揮発物質の除去
が必畳なこと、一段ですると液体シールの液体の落差が
大きくなシールロールが困難Kすること、シールする液
体の容量が大暑くな)コスト高になること等によりトー
タルコストとしてみえ場合、ロールシールまたは、リッ
プシールによる低真空度量を設けた方が有利であ1九め
である。
第311に示す実施例は、上記実施例におけるシールロ
ールによるシール機構4にかえてリップシール機構23
を設けると共に、前記実施例における減圧119の内部
に、リップシール機構24と、隔1125とKよりて区
分形成される減圧室26を形成し、更にこの減圧室26
にはパキ為−ムロ27を設けたものである。このリップ
シール機構23.24及び前記実施例におけるリップシ
ール機構15は、第2図げ)K示す如く、互に圧接され
る2枚のシール片28によって構成されているが、この
シール片28は、可―弾性を有し、しかもシート状物質
22との摩擦係数の小さい材料からなっておル、一般に
はテアaンfム、あるい紘ステンレス等の金属片を使用
する・ 以上のように本実施例では筐体シール槽16によって仕
切られる減圧室9の内部にリップシール機構24によフ
て更に仕切られる減圧1126を形成したものであるか
ら、この減圧室26内の減圧度を高めることが容量にで
亀、従って高真空度の減圧室を要するときに有効である
。
ールによるシール機構4にかえてリップシール機構23
を設けると共に、前記実施例における減圧119の内部
に、リップシール機構24と、隔1125とKよりて区
分形成される減圧室26を形成し、更にこの減圧室26
にはパキ為−ムロ27を設けたものである。このリップ
シール機構23.24及び前記実施例におけるリップシ
ール機構15は、第2図げ)K示す如く、互に圧接され
る2枚のシール片28によって構成されているが、この
シール片28は、可―弾性を有し、しかもシート状物質
22との摩擦係数の小さい材料からなっておル、一般に
はテアaンfム、あるい紘ステンレス等の金属片を使用
する・ 以上のように本実施例では筐体シール槽16によって仕
切られる減圧室9の内部にリップシール機構24によフ
て更に仕切られる減圧1126を形成したものであるか
ら、この減圧室26内の減圧度を高めることが容量にで
亀、従って高真空度の減圧室を要するときに有効である
。
以上のように本発明は、シート状物質を減圧下で連続処
理を行う装置において、この4611缶内を、シート状
物質O移送方向に複数個O減圧室に区分形成し、更に各
減圧iia液体シールとメカニカルタールとの龜会せに
よりで減圧度が段階的に異る容置に構成し友減圧I&場
装置であるから、この装置によれに1多段のシール、即
ち筐体シール及びメカニカルシールを経て形成されてい
る減圧室の真!2度を高めることがで自、従ってこの高
真9fの減圧室において例えば減圧乾燥処理、蒸着処理
低温グラズマ処理、スパッタリング処理等が有効に打電
える効果がある。また上記の流体シール及びメカニカル
シールは、その構造が簡単であハしかも多段のシール機
構の設置によ)真空−ンlの駆動エネルギーが削減でき
ることから、製品コスト及び稼動コストの安い減圧地理
装置が提供できる効果がある。
理を行う装置において、この4611缶内を、シート状
物質O移送方向に複数個O減圧室に区分形成し、更に各
減圧iia液体シールとメカニカルタールとの龜会せに
よりで減圧度が段階的に異る容置に構成し友減圧I&場
装置であるから、この装置によれに1多段のシール、即
ち筐体シール及びメカニカルシールを経て形成されてい
る減圧室の真!2度を高めることがで自、従ってこの高
真9fの減圧室において例えば減圧乾燥処理、蒸着処理
低温グラズマ処理、スパッタリング処理等が有効に打電
える効果がある。また上記の流体シール及びメカニカル
シールは、その構造が簡単であハしかも多段のシール機
構の設置によ)真空−ンlの駆動エネルギーが削減でき
ることから、製品コスト及び稼動コストの安い減圧地理
装置が提供できる効果がある。
図面はいずれも本発明よシなる連続減圧部層義置oIj
l施例を示し、第111iはその第1実施例を示した断
面図、第2図げ)及び(ロ)はリップシール及びロール
シールの拡大説Ij1tio、第3WAは本発明の第2
実施例を示した断面図である。 l・・・連続処理缶 2・・・導入口3・・・導
出口 4・・・シール機構5.5・・・シー
ルロール 6・・・端面シール板7.8,9,1
0,11,26・・・減圧@ 12,13・・・遮蔽壁
14・・・シート状物質挿通孔 15・・・リップシ
ール機構16・・・液体シール槽
l施例を示し、第111iはその第1実施例を示した断
面図、第2図げ)及び(ロ)はリップシール及びロール
シールの拡大説Ij1tio、第3WAは本発明の第2
実施例を示した断面図である。 l・・・連続処理缶 2・・・導入口3・・・導
出口 4・・・シール機構5.5・・・シー
ルロール 6・・・端面シール板7.8,9,1
0,11,26・・・減圧@ 12,13・・・遮蔽壁
14・・・シート状物質挿通孔 15・・・リップシ
ール機構16・・・液体シール槽
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 シート状物質を減圧下で連続#&堰を行う装置にお
いて、この熟思缶内を、シート状物質O移送方崗に複数
個O減圧室に区分形成し、IK41r減圧寵は液体シー
ルとメカニカルシールとの組合せによって減圧度がR8
1的に異る各wIに構威畜れていることを特徴とするシ
ート状物質の連続減圧旭理装置。 2 メカニカルシールは、ロールシールtえは、リフl
シールによりて構成されていることを特徴とする特許請
求0IK−第1a記載のシート状物質の連続減圧461
1装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57010443A JPS58128137A (ja) | 1982-01-26 | 1982-01-26 | シ−ト状物質の連続減圧処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57010443A JPS58128137A (ja) | 1982-01-26 | 1982-01-26 | シ−ト状物質の連続減圧処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58128137A true JPS58128137A (ja) | 1983-07-30 |
Family
ID=11750291
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57010443A Pending JPS58128137A (ja) | 1982-01-26 | 1982-01-26 | シ−ト状物質の連続減圧処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58128137A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109843448A (zh) * | 2016-10-19 | 2019-06-04 | 鲍德温·伊梅克股份公司 | 喷嘴腔室的结构 |
JP2019151882A (ja) * | 2018-03-02 | 2019-09-12 | 株式会社豊田中央研究所 | 気密処理装置 |
US11478802B2 (en) | 2016-10-19 | 2022-10-25 | Baldwin Jimek Ab | Spray nozzle arrangement |
US11712709B2 (en) | 2020-02-28 | 2023-08-01 | Baldwin Jimek Ab | Spray applicator and spray unit |
-
1982
- 1982-01-26 JP JP57010443A patent/JPS58128137A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109843448A (zh) * | 2016-10-19 | 2019-06-04 | 鲍德温·伊梅克股份公司 | 喷嘴腔室的结构 |
US11077458B2 (en) | 2016-10-19 | 2021-08-03 | Baldwin Jimek Ab | Arrangement at spray nozzle chamber |
CN109843448B (zh) * | 2016-10-19 | 2021-11-12 | 鲍德温·伊梅克股份公司 | 喷嘴腔室的结构 |
US11478802B2 (en) | 2016-10-19 | 2022-10-25 | Baldwin Jimek Ab | Spray nozzle arrangement |
JP2019151882A (ja) * | 2018-03-02 | 2019-09-12 | 株式会社豊田中央研究所 | 気密処理装置 |
US11712709B2 (en) | 2020-02-28 | 2023-08-01 | Baldwin Jimek Ab | Spray applicator and spray unit |
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