JPH0579488A - 乾燥圧縮型の多段式の真空ポンプの運転法および該運転法を実施するための真空ポンプ - Google Patents

乾燥圧縮型の多段式の真空ポンプの運転法および該運転法を実施するための真空ポンプ

Info

Publication number
JPH0579488A
JPH0579488A JP3061687A JP6168791A JPH0579488A JP H0579488 A JPH0579488 A JP H0579488A JP 3061687 A JP3061687 A JP 3061687A JP 6168791 A JP6168791 A JP 6168791A JP H0579488 A JPH0579488 A JP H0579488A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vacuum pump
reaction chamber
stage
pressure
chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP3061687A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2825673B2 (ja
Inventor
Paul Bachmann
バツハマン パウル
Lothar Brenner
ブレンナー ロタール
Hartmut Kriehn
クリエーン ハルトムート
Monika Kuhn
クーン モニカ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Balzers und Leybold Deutschland Holding AG
Original Assignee
Leybold AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=8203820&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JPH0579488(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Leybold AG filed Critical Leybold AG
Publication of JPH0579488A publication Critical patent/JPH0579488A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2825673B2 publication Critical patent/JP2825673B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C28/00—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids
    • F04C28/28—Safety arrangements; Monitoring
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/02—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography
    • B01D53/04—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography with stationary adsorbents
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/32—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by electrical effects other than those provided for in group B01D61/00
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/46—Removing components of defined structure
    • B01D53/68—Halogens or halogen compounds
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C23/00—Combinations of two or more pumps, each being of rotary-piston or oscillating-piston type, specially adapted for elastic fluids; Pumping installations specially adapted for elastic fluids; Multi-stage pumps specially adapted for elastic fluids
    • F04C23/001—Combinations of two or more pumps, each being of rotary-piston or oscillating-piston type, specially adapted for elastic fluids; Pumping installations specially adapted for elastic fluids; Multi-stage pumps specially adapted for elastic fluids of similar working principle
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C29/00—Component parts, details or accessories of pumps or pumping installations, not provided for in groups F04C18/00 - F04C28/00
    • F04C29/0092—Removing solid or liquid contaminants from the gas under pumping, e.g. by filtering or deposition; Purging; Scrubbing; Cleaning
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2253/00—Adsorbents used in seperation treatment of gases and vapours
    • B01D2253/10—Inorganic adsorbents
    • B01D2253/102—Carbon
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2253/00—Adsorbents used in seperation treatment of gases and vapours
    • B01D2253/10—Inorganic adsorbents
    • B01D2253/104—Alumina
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2253/00—Adsorbents used in seperation treatment of gases and vapours
    • B01D2253/10—Inorganic adsorbents
    • B01D2253/106—Silica or silicates
    • B01D2253/108—Zeolites
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2257/00—Components to be removed
    • B01D2257/20—Halogens or halogen compounds
    • B01D2257/204—Inorganic halogen compounds
    • B01D2257/2045—Hydrochloric acid
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2257/00—Components to be removed
    • B01D2257/20—Halogens or halogen compounds
    • B01D2257/204—Inorganic halogen compounds
    • B01D2257/2047—Hydrofluoric acid
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2257/00—Components to be removed
    • B01D2257/20—Halogens or halogen compounds
    • B01D2257/206—Organic halogen compounds
    • B01D2257/2064—Chlorine
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D2257/00—Components to be removed
    • B01D2257/20—Halogens or halogen compounds
    • B01D2257/206—Organic halogen compounds
    • B01D2257/2066—Fluorine
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/02—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography
    • B01D53/04—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography with stationary adsorbents
    • B01D53/0407—Constructional details of adsorbing systems
    • B01D53/0446—Means for feeding or distributing gases
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
    • F04C2210/00—Fluid
    • F04C2210/60—Condition
    • F04C2210/62—Purity

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biomedical Technology (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Applications Or Details Of Rotary Compressors (AREA)
  • Treating Waste Gases (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 吸い込まれたガスが、真空ポンプの運転を危
うくするガス状の成分を含有しているような、吸込口と
吐出し口とを備えた乾燥圧縮型の多段式の真空ポンプを
運転する方法において、層形成に基づく損害を回避す
る。 【構成】 真空室８から吸い出されて真空ポンプ１を貫
流するガスを反応室１４に通して案内し、該反応室で、
真空ポンプの運転を危うくするガス成分を真空ポンプの
吸込圧と吐出圧との間に位置する圧力で化学的または物
理的に処理する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、吸い込まれたガスが、
真空ポンプの運転を危うくするガス状の成分を含有して
いるような、吸込口と吐出し口とを備えた乾燥圧縮型の
多段式の真空ポンプを運転する方法に関する。さらに、
本発明はこのような方法を実施するために適した真空ポ
ンプに関する。
【０００２】
【従来の技術】乾燥圧縮型の多段式の真空ポンプはドイ
ツ連邦共和国特許出願公開第３１４７８２４号明細書な
らびに同第３２４４０９９号明細書に基づいて公知であ
る。このような形式またはこれに類した形式のポンプが
単独で、または別の真空ポンプ、たとえば高真空ポンプ
と組み合わされて、エッチングプロセス、被覆プロセス
または別の真空処理プロセスまたは真空製造プロセスが
行われるような室を排気するために使用されると、しば
しば固形物がポンプ内に入り込んでしまうことが起こ
る。このような固形物は小さなギャップを有する乾燥圧
縮型の真空ポンプでは、層形成をもたらしてしまうの
で、かき取り、遊び消滅、ひいては高められた摩耗現象
が生ぜしめられてしまう。このような摩耗現象の結果、
真空ポンプの可使時間が減少してしまう。
【０００３】固形物の析出と形成は、ポンプにより排出
したいガス成分同士の化学的な反応、表面におけるガス
成分の反応および／または触媒効果に基づいて行われ得
る。このような化学的な反応の他に、圧力上昇または冷
却に基づく凝集状態変化によっても固形物形成が生じ得
る。
【０００４】欧州特許出願公開第３３２７４１号明細書
に基づいて公知の構成では、当該形式の多段式の真空ポ
ンプの２つの段を互いに接続する接続通路が外方から接
近可能であり、これによって汚れが確認されて除去され
得る。このような手段は接続通路自体だけに限定されて
いる。すなわち、ポンプ室および／またはロータで生じ
た層形成は検出することも、除去することもできない訳
である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、冒頭
で述べたような真空ポンプを運転する方法を改良して、
層形成に基づく損害が回避されるような方法を提供する
ことである。さらに、本発明の課題は、このような方法
を実施する有利な真空ポンプを提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明の方法では、真空室から吸い出されて真空ポン
プを貫流するガスを反応室に通して案内し、該反応室
で、真空ポンプの運転を危うくするガス成分を真空ポン
プの吸込圧と吐出圧との間に位置する圧力で化学的また
は物理的に処理するようにした。
【０００７】さらに上記課題を解決するために本発明の
真空ポンプの構成では、真空ポンプの吸込圧と吐出圧と
の間の中間圧下にある反応室が設けられているようにし
た。
【０００８】
【発明の効果】本発明は、真空ポンプの運転を危うくす
る成分を無害にする目的で、真空室から吸い出されるべ
き蒸気を、ガスが真空ポンプに流入する前に（つまり吸
込圧で）化学的または物理的に処理することが極めて困
難であるという認識から出発する。真空ポンプの吸込範
囲に生ぜしめられた圧力特性下では、反応に影響を与え
るような極端な条件、たとえば極めて高い温度、長い滞
留時間または高反応性の反応成分が提供されない限り、
所要の反応が極めて緩慢に行われる。このような手段は
手間がかかり、コストもかかってしまう。その上、この
ような手段は真空ポンプの運転確実性や吸込能力に不都
合に作用するおそれがある。望ましくない化学的副反応
も排除されていない。
【０００９】真空ポンプの運転を危うくするガス成分の
処理が吸込圧よりも高い圧力で行われることによって、
有害なガス成分を無害にするかまたは除去するために必
要となる反応は迅速に行われる。多段式のポンプでは、
１つの段から次の段へ移行する際に規定された圧力上昇
が行われる。このような事実はそれどころか、最適な圧
力条件下で反応を進行させるために利用され得る。
【００１０】
【実施例】以下に、本発明の実施例を図面につき詳しく
説明する。
【００１１】図１に示した真空ポンプ１は４つの段２，
３，４，５を有している。各段の内部に位置するロータ
は共通のモータ６によって駆動される。真空ポンプ１の
第１の段２の吸込口７はブロックとして図示された構成
部分８に接続されている。この構成部分８はたとえば高
真空ポンプ、分離器、フィルタ、凝縮器または真空室自
体であってもよく、この真空室では真空処理プロセスま
たは真空製造プロセスが実施される。通常、真空ポンプ
１は大気圧に抗して作業する。
【００１２】真空ポンプ１の個々の段２，３，４，５は
接続導管１１，１２，１３を介して互いに接続されてい
る。この実施例では、段３と段４との間に反応室１４が
設けられている。この反応室１４は、吸い込まれたガス
と共に真空ポンプ１に流入して真空ポンプ１の運転を危
ぶむようなガス成分を無害にする役目をもっているの
で、反応室１４に続いている段４，５において摩耗、遊
び消滅またはこれに類したものが回避されている。
【００１３】図２は２軸式の真空ポンプ２２の支承シー
ルド２１の部分断面図を示している。この真空ポンプの
軸は符号２５，２６で示されている。支承シールド２１
は２つのポンプ室２７，２８を隔離するために働き、こ
れらのポンプ室は支承シールド２１に並んで、つまりこ
の支承シールドの上下に位置している。ポンプ室２７，
２８の輪郭は一点鎖線で示されている。前記ポンプ室２
７，２８には各１つのロータ対３１，３２もしくは３
３，３４が位置しており、これらのロータ対の輪郭は破
線で示されている。ロータを支持する軸２５，２６は支
承シールド２１を貫通している。両軸の回転方向は矢印
３５，３６で示されている。
【００１４】搬送媒体に吸込側のポンプ室から吐出側の
ポンプ室への貫流を可能にさせるために、通流通路４１
が設けられている。この通流通路は吸込側のポンプ室の
端面側に設けられた流出スリット４３と、吐出側のポン
プ室の同じく端面側に設けられた流入スリット４４とを
接続している。吸込側のポンプ室の流出スリット４３
と、吐出側のポンプ室の流入スリット４４とは板１６に
設けられたアーチ状の切欠きによって形成される。通流
通路４１は支承シールド２１に設けられた盲孔４５によ
って形成され、この盲孔は流出スリット４３と流入スリ
ット４４とに交差していて、両スリットの接続を形成し
ている。
【００１５】吸込側のポンプ室の流出スリット４３と吐
出側のポンプ室の流入スリット４４との間に反応室１４
を配置するためには、盲孔４５に二重導管装置４６が設
けられており、この二重導管装置は図示の実施例では外
側のスリーブ４７と、このスリーブ内に同心的に配置さ
れた管４８とを有している。スリーブ４７と管４８とに
よって形成された環状室４９は盲孔４５に差し込まれた
前記二重導管装置４６の端部の範囲で閉鎖されているの
で、流出スリット４３から流出したガスは管４８に流入
する。管４８によってこのガスは反応室１４に供給され
る。反応室１４を去るガスは環状室４９に流入して、逐
次段の流入スリット４４に供給される。このためには二
重導管装置の外側のスリーブ４７が流入スリット４４の
高さに貫通孔５１を有しているので、反応室１４で処理
されたガスは前真空側のポンプ室に流入することができ
る。
【００１６】反応室１４は外部の反応器５２に位置して
おり、この反応器は二重導管装置４６もしくはスリーブ
４７と着脱可能に結合されている。このためには、反応
器５２とスリーブ４７とがそれぞれフランジ５３，５４
を備えている。
【００１７】反応器５２は流入室５５を有しており、こ
の流入室には内側の管４８が開口している。流入室５５
に続いて、底範囲にまで延びて下方に開いた管区分５６
が設けられている。この管区分５６の内室と、この管区
分５６と反応器５２の外側のケーシング５７との間の環
状室とが、真空ポンプの運転を危険にするガス成分の反
応を実施しようとする反応室１４を形成している。前記
環状室に続いて流出室５８が設けられており、この流出
室は二重導管装置４６に設けられた環状室４９と、ひい
ては真空ポンプの逐次段の流入スリット４４と接続され
ている。
【００１８】反応室１４を貫流するガスの処理は熱処理
であってよい。このような熱処理はたとえば反応器５２
のケーシング５７に装着された冷却または加熱のための
コイル５９を用いるか、または中心の管区分に設けられ
た加熱外被６１を用いて（両手段とも破線で示す）達成
され得る。別の処理（吸着、中和、触媒作用等）は、反
応室１４に持ち込まれる材料を用いて実施され得る。
【００１９】例１ デサブリメーション（Ｄｅｓｕｂｌｉｍａｔｉｏｎ）を
得るための冷却によるガスの処理：アルミニウムまたは
別の金属のエッチングおよびＣＶＤ法におけるケイ素化
合物の析出において、プロセスガスとして塩化物とフッ
化物とが生じる。これらの塩は高い圧力と低い温度で固
形物を形成する。反応室１４の冷却によって析出を意図
的にこの場所で行うことができる。生成した固形物を反
応室１４内に位置するフィルタ材料に引き止めることが
できる。
【００２０】例２ ガス成分の吸着：ＨＣｌ、ＨＦ、ＳｉＨ2Ｃｌ2のような
腐食性ガスのポンプ排出においては、ポンプ内に固体の
腐食性生成物が生成し得る。前記ガスを、反応室１４内
に位置する活性炭、ゼオライトまたはＡｌ2Ｏ3に結合さ
せることができる。
【００２１】例３ 化学反応：白熱ランプ製造においては、ポンプ排出され
なければならない水銀蒸気が生じる。ポンプ内での凝縮
を回避するためには、水銀をヨウ化炭素または亜鉛末と
の化学的な反応によってガス流から除去することができ
る。
【００２２】例４ 金属によるガス成分の還元：ハロゲン化水素を卑金属、
たとえば鉄とレドックス反応により反応させて金属ハロ
ゲン化物を形成することができる。金属は屑の形で反応
室１４に収納されると有利である。
【００２３】例５ 熱分解による処理：金属化合物、たとえば水素化物、ハ
ロゲン化物、カルボニル化合物または金属有機化合物を
熱反応によって反応室１４に金属で析出させることがで
きる。この反応は自由な金属性表面の存在で促進され、
２００ミリバールの圧力で実施されると有利である。
【００２４】例６ ガス成分の中和：たとえばプリント配線板クリーニング
においてＣＦ4を用いたプラズマエッチングプロセスで
生成したハロゲン化水素の吸い込まれた痕跡をイオン交
換体または金属酸化物の使用によって中和することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による多段式の真空ポンプの概略図であ
る。
【図２】つめ付きロータ式の本発明による真空ポンプの
部分断面図である。
【符号の説明】
１ 真空ポンプ ２，３，４，５ 段 ６ モータ ７ 吸込口 ８ 構成部分 ９ 吐出し口 １１，１２，１３ 接続導管 １４ 反応室 １６ 板 ２１ 支承シールド ２２ 真空ポンプ ２５，２６ 軸 ２７，２８ ポンプ室 ３１，３２，３３，３４ ロータ ３５，３６ 矢印 ４１ 通流通路 ４３ 流出スリット ４４ 流入スリット ４５ 盲孔 ４６ 二重導管装置 ４７ スリーブ ４８ 管 ４９ 環状室 ５１ 貫通孔 ５２ 反応器 ５３，５４ フランジ ５５ 流入室 ５６ 管区分 ５７ ケーシング ５９ コイル ６１ 加熱外被
フロントページの続き (72)発明者 ロタール ブレンナー ドイツ連邦共和国 バート ミユンスター アイフエル ビツトブルガー シユトラー セ 14 (72)発明者 ハルトムート クリエーン ドイツ連邦共和国 ケルン 51 ギースド ルフアー シユトラーセ 31 (72)発明者 モニカ クーン ドイツ連邦共和国 ケルン １ ギルバツ ハシユトラーセ 15

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 吸い込まれたガスが、真空ポンプ（１）
    の運転を危うくするガス状の成分を含有しているよう
    な、吸込口（７）と吐出し口（９）とを備えた乾燥圧縮
    型の多段式の真空ポンプ（１）を運転する方法におい
    て、真空室（８）から吸い出されて真空ポンプ（１）を
    貫流するガスを反応室（１４）に通して案内し、該反応
    室で、真空ポンプの運転を危うくするガス成分を真空ポ
    ンプの吸込圧と吐出圧との間に位置する圧力で化学的ま
    たは物理的に処理することを特徴とする、乾燥圧縮型の
    多段式の真空ポンプの運転法。
  2. 【請求項２】 前記処理によって生成した生成物を反応
    室（１４）に引き止める、請求項１記載の運転法。
  3. 【請求項３】 固形物形成傾向のある成分を反応室（１
    ４）で、固形物形成が行われるように処理し、形成され
    た固形物を前記反応室に引き止める、請求項２記載の運
    転法。
  4. 【請求項４】 請求項１から３までのいずれか１項記載
    の運転法を実施するための真空ポンプにおいて、真空ポ
    ンプの吸込圧と吐出圧との間の中間圧下にある反応室
    （１４）が設けられていることを特徴とする真空ポン
    プ。
  5. 【請求項５】 真空ポンプの各段（２，３，４，５）が
    各１つの流入部と流出部とを有しており、１つのポンプ
    段の流出部と逐次段の流入部との間に反応室（１４）が
    位置している、請求項４記載の真空ポンプ。
  6. 【請求項６】 反応室（１４）が真空ポンプ（１）とは
    別個の反応器（５２）に設けられている、請求項４また
    は５記載の真空ポンプ。
  7. 【請求項７】 前記反応器（５２）の流入部が１つのポ
    ンプ段の流出部（４３）に接続されており、前記反応器
    の流出部が逐次段の流入部（４４）と接続されている、
    請求項６記載の真空ポンプ。
  8. 【請求項８】 真空ポンプ（１）と前記反応器（５２）
    との間の接続装置として、二重導管装置（４６）が設け
    られている、請求項６または７記載の真空ポンプ。
  9. 【請求項９】 前記二重導管装置が外側のスリーブ（４
    ７）と、該スリーブ内に配置された管（４８）とを有し
    ている、請求項８記載の真空ポンプ。
  10. 【請求項１０】 前記反応室に加熱および／または冷却
    のための手段（５９，６１）が配属されている、請求項
    ４から９までのいずれか１項記載の真空ポンプ。
  11. 【請求項１１】 真空ポンプが２軸式の真空ポンプとし
    て構成されていて、ロータ対を備えた段が接続孔（４
    ５）、通路（４１）またはこれに類したものを介して互
    いに接続されており、少なくとも１つの反応室（１４）
    が設けられていて、該反応室が、前記真空ポンプの２つ
    の段の間の接続導管の構成要素である、請求項４から１
    ０までのいずれか１項記載の真空ポンプ。
  12. 【請求項１２】 真空ポンプ（１）の少なくとも吸込側
    の両段（２，３）がつめ付ロータ対を備えており、つめ
    付ロータを備えた複数の段の間に、流出スリット（４
    ３）もしくは流入スリット（４４）と接続孔（４５）と
    を備えた支承シールド（２１）が設けられており、反応
    器（５２）が二重導管装置（４６）を介して前記接続孔
    （４５）のうちの１つに接続されている、請求項１１記
    載の真空ポンプ。
JP3061687A 1990-03-27 1991-03-26 乾燥圧縮型の多段式の真空ポンプの運転法および該運転法を実施するための真空ポンプ Expired - Fee Related JP2825673B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP90105783A EP0448750B1 (de) 1990-03-27 1990-03-27 Mehrstufige trockenverdichtende Vakuumpumpe und Verfahren zu ihrem Betrieb
DE90105783.6 1990-03-27

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0579488A true JPH0579488A (ja) 1993-03-30
JP2825673B2 JP2825673B2 (ja) 1998-11-18

Family

ID=8203820

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3061687A Expired - Fee Related JP2825673B2 (ja) 1990-03-27 1991-03-26 乾燥圧縮型の多段式の真空ポンプの運転法および該運転法を実施するための真空ポンプ

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5131825A (ja)
EP (2) EP0692635B1 (ja)
JP (1) JP2825673B2 (ja)
DE (1) DE59010310D1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150108327A (ko) * 2014-03-17 2015-09-25 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 제해 기능을 갖는 진공 펌프
KR20150108328A (ko) * 2014-03-17 2015-09-25 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 제해 기능을 갖는 진공 펌프

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2537696B2 (ja) * 1990-09-21 1996-09-25 株式会社荏原製作所 多段真空ポンプ
EP0541929A1 (en) * 1991-11-12 1993-05-19 SAVANT INSTRUMENTS, Inc. Gas pumping system with liquid elimination feature
NL9200076A (nl) * 1992-01-16 1993-08-16 Leybold B V Werkwijze, droge meertrapspomp en plasmascrubber voor het omvormen van reactieve gassen.
DE4234169A1 (de) * 1992-10-12 1994-04-14 Leybold Ag Verfahren zum Betrieb einer trockenverdichteten Vakuumpumpe sowie für dieses Betriebsverfahren geeignete Vakuumpumpe
US5879552A (en) * 1996-01-15 1999-03-09 Bradfield; Michael T. Method and apparatus for a self-purifying filter system
DE19623757A1 (de) 1996-06-14 1997-12-18 Bosch Gmbh Robert Druckmittelbetätigbarer Arbeitszylinder
GB9902083D0 (en) * 1999-01-29 1999-03-24 Boc Group Plc Vacuum pump systems
DE10110368A1 (de) * 2001-03-03 2002-09-12 Leybold Vakuum Gmbh Vakuumpumpe mit Schöpfraum und Austritt
FR2863103B1 (fr) * 2003-12-01 2006-07-14 Cit Alcatel Systeme de traitement des gaz par plasma integre dans une pompe a vide
EP2458218A1 (en) * 2010-11-30 2012-05-30 Converteam Technology Ltd A system for maintaining a high vacuum
FR2981705B1 (fr) * 2011-10-19 2013-11-22 Adixen Vacuum Products Dispositif de pompage et de traitement des gaz
EP2644264A1 (de) 2012-03-28 2013-10-02 Aurotec GmbH Druckreguliertes Mehrreaktorsystem
DE202012012359U1 (de) * 2012-12-22 2014-03-24 Oerlikon Leybold Vacuum Gmbh Pumpstand zum Pumpen leichter Gase
DE202013003819U1 (de) * 2013-04-24 2014-07-25 Oerlikon Leybold Vacuum Gmbh Vakuumpumpen-System

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1769153A (en) * 1928-03-07 1930-07-01 Meyer William Warren Rotary blower or pump
US2971691A (en) * 1955-08-16 1961-02-14 Heraeus Gmbh W C Pumping system
US3535058A (en) * 1969-01-02 1970-10-20 Verbol J Devine Method and apparatus for compressing a fluid
US4010016A (en) * 1975-05-27 1977-03-01 Ingersoll-Rand Company Gas compressor
GB1551725A (en) * 1975-09-06 1979-08-30 Rolls Royce Primary systems for pumps
GB2088957B (en) 1980-12-05 1984-12-12 Boc Ltd Rotary positive-displacement fluidmachines
GB2111126A (en) 1981-12-09 1983-06-29 British Oxygen Co Ltd Rotary positive-displacement fluid-machines
JPS59229072A (ja) * 1983-06-09 1984-12-22 Mitsui Toatsu Chem Inc 天然ガス井戸用ガス圧縮機
JPS61197793A (ja) * 1985-02-26 1986-09-02 Ebara Corp 多段複葉型真空ポンプにおける冷却方法
JPS62107287A (ja) * 1985-11-01 1987-05-18 Hitachi Ltd 真空ポンプ
DE3627956A1 (de) * 1986-08-18 1988-03-03 Wankel Gmbh Exzenterwelle einer rotationskolbenbrennkraftmaschine
JPH0733834B2 (ja) * 1986-12-18 1995-04-12 株式会社宇野澤組鐵工所 ロータ内蔵ハウジングの外周温度が安定化された内部分流逆流冷却多段式の三葉式真空ポンプ
JPH01247787A (ja) * 1988-02-29 1989-10-03 Leybold Ag 多段真空ポンプ
GB8809621D0 (en) * 1988-04-22 1988-05-25 Boc Group Plc Dry pump with closed loop filter
FR2642479B1 (fr) * 1989-02-02 1994-03-18 Alcatel Cit Pompe a vide du type roots, multietagee

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150108327A (ko) * 2014-03-17 2015-09-25 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 제해 기능을 갖는 진공 펌프
KR20150108328A (ko) * 2014-03-17 2015-09-25 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 제해 기능을 갖는 진공 펌프
JP2015194150A (ja) * 2014-03-17 2015-11-05 株式会社荏原製作所 除害機能付真空ポンプ
US10641272B2 (en) 2014-03-17 2020-05-05 Ebara Corporation Vacuum pump with abatement function

Also Published As

Publication number Publication date
EP0448750B1 (de) 1996-05-01
EP0692635A3 (de) 1997-04-02
JP2825673B2 (ja) 1998-11-18
DE59010310D1 (de) 1996-06-05
US5131825A (en) 1992-07-21
EP0448750A1 (de) 1991-10-02
EP0692635B1 (de) 1999-09-08
EP0692635A2 (de) 1996-01-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0579488A (ja) 乾燥圧縮型の多段式の真空ポンプの運転法および該運転法を実施するための真空ポンプ
US7278831B2 (en) Apparatus and method for control, pumping and abatement for vacuum process chambers
JP5996834B2 (ja) 真空排気装置
JP2010504847A5 (ja)
JP2002513888A (ja) 金属マトリックス複合材料のロータとステータを有するターボ分子ポンプ
JPH0339198B2 (ja)
JP5264784B2 (ja) ガス流を処理する方法
KR100884115B1 (ko) 진공하에서 물체를 가공하기 위한 다중 챔버 장치, 상기 장치를 진공화하기 위한 방법 및 상기 방법을 위한 진공화 시스템
US7052259B2 (en) Vacuum exhausting apparatus
EP2499374B1 (en) Corrosion resistant shaft sealing for a vacuum pump
JP4232505B2 (ja) 真空ポンプ
JP2018047424A (ja) 排ガス除害排出システム
JP2005171766A (ja) ドライポンプ及びドライポンプの運転方法
JP4111763B2 (ja) 縦置きスクリュー式真空ポンプ
JPH118200A (ja) 半導体製造排ガスの除害方法と除害装置
JPH11210621A (ja) トラップ装置
JPH0529798B2 (ja)
JP2017031892A (ja) 真空排気装置及びその運転方法
JPS6044025A (ja) ドライエッチング排ガスの処理方法
JPS63266813A (ja) 半導体装置の製造方法及びそれに使用する処理装置
JPH07213844A (ja) 濾過装置及びそれによる真空ポンプ系保護方法
Troup et al. Eli “il E-JéiollklP—I it Al _| TH E n—
International Small diffusion pump now water-cooled
JPH07265685A (ja) 真空排気管及び真空排気方法
Holman Tegal improves quality and throughout with silicon dioxide etch process

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees