JPS58125635A - 耐放射線光フアイバ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は放射線環境下で用いられる１１１・↑放射線光
ファイバ（こ関する。

放射線の影響（こよって光〕”７′イハの伝送損失か増
大することは既（こ知られているところである０ 　１− 既知の通り純粋な石英ガラスをコアとＬ′ｆｃ光ファイ
バは１０・１放射線特性に優れているが、さら（こ優れ
た特性を得るべく実験、研究か進められている。

その成果として高純度の石英ガシスコγにＯＴＩ基を添
加するととによりさらに優れた！１）性が得られること
か明らかになっている。

そこで次に問題となるのかＯＩＩ基の含有隈か光ファイ
バの伝送損失（こ及はす：；ｌ；　響である。

ＯＩｌ濃度２ｐｐｍの元ファイバＡと８０　ｐｐｍの元
ファイバＢにγ線を］　Ｍｒａｄ　（放射線の線量）１
１（１射した。

この時の損失増加量を表に示す。

表かられかるように、ＡＸ　Ｈを比較した場合、九ンγ
」バ１３の方か明らか（こ少ない。

表 このことよりＯＩＩ基の含有量を増大させれば耐放射線
特性が改善されるということかわかる反面、８０　ｐｐ
ｍ　　程度では改善の度合が顕著でないということも明
らかになった。

この程度の改善では高線量率の放射線を受けた場合、か
なりの損失増が生じることか予想される。

本発明は石英ガラスからなるコアにおる量の０１１基を
添加することによ一層て光ファイバの耐放射線特性を向
上させようというもので、これを図面に示す実施例を参
照しながら説明すると、第２図においてｔｌｌはＯＨ基
が添加された石英ガラスのコア、（２）はクラッドであ
り、ＯＩ］基濃度を違えて同様の構造の光ファイバを所
定数作製し、これらにγ線を照射線量率Ｉ　Ｍｒａｄ／
ｈで１１．０射して損失増を調べたところ、著しく優れ
た酊・１放射線特性を示すＯＩＩ基濃度範囲の存するこ
とが明らかになった。

そこで１１α射＃ｊ量を５Ｍｒａｄに設定してより厳密
に実験を重ねたところ、第３図に示すような結果が得ら
れた〇 同図において縦軸は損失増加量α（ｄＢ／Ｋｍ　）、横
軸はＯＨ基の濃度ρ（ｐｐｍ　）を表わしている。

同図かられかるようにＯＨ基濃度が１．０００ｐｐｍ　
　以上になると損失増加量αが急激に減少しており、こ
のことは耐放射線特性の著しい向上を示すものである。

したがって耐放射線特性を向上させるうえで、ＯＨ基濃
度１０００　ｐｐｍ　　という値は開裂な指標となる。

このようにＯＨ基濃度の増大は耐放射線特性の向上をも
たらすのであるが、他面光ファイバの強度劣化をもたら
すものであるということも充分に考慮されなければなら
ない〇 そこでＯＨ基濃度の上限が数チに設定されることになる
。

なお、耐放射線特性の向上に、より一層寄与するものと
してフッ素、塩素があり、コア（１１にＯＨ基の他、こ
れらのうち一方または両方を添加するとより特性が向上
することになる。

またクラッド（２）としては、ホウ素またはフッ素が添
加されたもの、あるいはプラスチッククラッド等が好ま
しい。

以上のように本発明（こおいては高純度の石英ガラスか
らなるコアに０１〜数係のＯＨ基を添加することｌこよ
り耐放射線特性を飛珀的に向上させたので、高線量率の
放射線場にあっても損失の増大がそれ程みられない九フ
ァ４バが得られることになる。

【図面の簡単な説明】

第１図はＯＨ基を添加した構造の光ファイバの断面図、
第２図は損失増とＯＨ基濃度との関係を示すグラフでる
る。 （１）・・・・・コア （２）・・・・・クラッド 第；図 第２回 ｒ→　　　　　　　（Ｆ’ＰＭ）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （ｌ］　　０．１〜数嘱の０１１基か添加された高純度
   の石英ガラスからなる二ｌアを有していることを特徴と
   する朗放射線光ファイバ。 （２）　　コγ１こはフッ素と塩素の何れか一方一また
   は両刀か添加されていることを特徴とする特ｒ１請求の
   範囲第１項記戦の１１１１放射線光フアイバ。 （３）　　ホウ素またはフッ素か添加されたクラッド−
   またはプラスチッククラッドを有することを特徴とする
   特許請求の範囲第１項丑たは）１２項記載の向」放射線
   光フγづハ。