JPS6090853A - 光フアイバガラスの処理方法 - Google Patents

光フアイバガラスの処理方法

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和昭 吉田
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顕 飯野
Motohiro Nakahara
基博 中原
Nobuo Inagaki
稲垣　伸夫
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は通信、画像伝送、エネルギ伝送などに用いられ
る光ファイバの製造技術に関し、特に耐放射線性に優れ
た光ファイバが得られるガラス処理方法に関する。
石英系ガラスをコアとする光ファイバが−Ａ用される分
野の１つとして、１京子力発電所内のような放射線環境
下での用途が急増しつつある。
これの理由どして、通信用の場合は光ファイバの軽量、
細径、無誘導性が、イメージガイドやライトガイドの場
合はその優れた低損失性が大きなメリットとなるためで
ある。
特にイメージガイドの場合、従来多用されていた多成分
系ガラスに比べ、石英系光ファイバは放射線照射による
損失増がきわめて小さい利点を有しており、これの実用
化が急速に拡がりつつある。
しかしながら、γ線、中性子線、Ｘ線、電子線など、高
エネルギの放射線環境下では石英系光ファイバといえど
も放射線にともなう伝送損失増を免がれることかできな
い。
この伝送損失の増加を少しでも抑制するため種々の検討
がなされており、例えばコア中のＯＨ基が多いものは上
記損失増が比較的小さいとか、光ファイバの紡糸条件が
上記損失の増加量に大きな影響をおよぼすことなどが既
知の事項となっている。
このような検討結果から、例えば、コア中にＯＨ基を数
１００　ｐｐｍ程度含有する、しかも最適の条件で紡糸
された光ファイバが原子力分野での使用に耐え得ると考
えられたが、放射線照射による損失増は依然として大き
く、更なる特性の改善が必要となる。
殊に多孔質ガラス母材を水蒸気雰囲気中で透明ガラス化
することにより、ガラス中にＯＨ基を含有さ亡る従来法
の場合、ガラス中のＯＨ基含有量を多くすることはでき
るが水蒸気雰囲気中においてガラスの結晶化が進行する
常置によりガラス失透が起こり、良質のガラスが得られ
ないことも判明している。
本発明はＯＨ基を含有する石英系の光フアイバガラスに
つき、より耐放射線性の優れた、しかも良質のガラスが
得られる処理方法を新規に提供しようとするものである
。
本発明の処理方法は・、石英系のガラスを水素含有雰囲
気にさらして処理することを特徴としている。
以下、本発明方法の具体的実施例について説明する。
本発明における光フアイバガラスとは、光フアイバ用の
多孔質ガラス母材粒径０２μｍ以下、比面積３０ｍ’／
ｆ以下を構成している石英系のガラススート成形体、光
フアイバ用の透明ガラス母材を構成している石英系のガ
ラス成形体、光ファイバを構成しているガラス成形体な
どを含む総称であり、気相あるいは液相のガラス原料な
どは含まない。
上記光フアイバガラスに関して、これが多孔質ガラス母
材であるとき、公知のＶＡＤ法、ＯＶＤ法、ゾルゲル法
などによりつくられ、透明ガラス母材は、これら各法に
よりつくられた多孔質ガラス母材を透明ガラス化するこ
とにより、または公知のＭＣＶＤ法、ＰＣＶＤ法により
得られ、さらに光ファイバは透明ガラス母材を加熱延伸
することにより得られる。
また、光フアイバガラスが上記母材段階にあるとき、ガ
ラスパイプが必要に応じてジャケットされることがある
。
最終製品としての光フアイバガラスは上記光ファイバで
あり、これにはモノコアをもっ単心型、マルチコアをも
つ多心型などがある。
光ファイバのコアを構成するガラスは石英系であるが、
そのクラッドに関しては石英系のほか、シリコーンゴム
や弗素系樹脂のごとき低屈折率プラスチック材料からな
るときもある。
用途別にいうと、上記光ファイバは通信用、イメージガ
イド用、ライトガイド用としてつくられる。
光ファイバのフ７は純粋なＳ　ｉ　Ｏｘであると、放射
線照射による損失増が小さく、好ましい。
コア中のＯＨ基含有量は、１３μｍや１．５５μｍなど
の長波長域で用いる場合、少ないことが好ましいが、０
．８５μｍのごとき短波長域、あるいはイメージガイド
のごとき可視光領域で用いるとき、コアがあらかじめ、
ある程度のＯＨ基を含有していると、耐放射線特性上、
好結果を得ることが多い。
長波長域で用いる場合、ＯＨ基が必要以上多いと初期ロ
スが大きくなり、好ましくないが、本発明によれば゛添
加された水素が欠陥部のみと結合し、こうした必要最小
限のＯＨ基により耐放射線特性が改良できるので好まし
い。
通信用光ファイバでは広帯域性を要求されることがあり
、このような場合、フ７　Ｆ　＊　Ｇ　ｅ　ｓＰなどが
ドープされｋＧｌ型屈折屈折率分布−プト石英であって
もよい。
コアが上記ドープト石英であるとき、石英系クラッドと
しては純Ｓ　ｉ　Ｏ！でもよいが、コアの屈折率がＳ　
ｉ　Ｏｘと同程度もしくはそれ以下であると、クラッド
はＦ％Ｂなどがドープされたドープト石英が用いられる
。
もちろん光ファイバはＳＩ型の場合もあり、単一モード
伝送型、多モード伝送型のいずれもがより得る。
上述の光フアイバガラスはＨ３含有雰囲気中にさらされ
、これによりそのガラス中にＯＨ基を含有することとな
る。
この際の処理は、既述の説明から理解できるように、多
孔質ガラス母材の段階、透明ガラス母材の段階、光ファ
イバの段階、光フアイバ紡糸工程と同期する段階など、
任意１の段階で、または任意２以上の段階で、あるいは
すべての段階で行なわれる。
また、コア用ガラスがクラッド用ガラスよりも先行して
、あるいはクラッド用ガラスと別工程でつくられるよう
な場合とか、クラッドがプラスチック製である場合は、
コア用ガラスのみが上記処理を受けることもある。
好ましい処理段階は光フアイバ形成後であり２、その理
由は最終の欠陥部をＯＨ基によって埋めることができる
からである。
イメージガイドの場合は、透明ガラス母材を−たん直径
数■〜０．数簡に加熱延伸し、これにより得られた細棒
を数千〜数百本引きそろえて溶融一体化し、さらにその
一体化物を直径０数■〜数簡のファイバに加熱延伸する
工程をとるのであり、このイメージガイドでは、上記細
棒をつくっているとき、あるいはその細棒をつくった後
、これを溶融一体化するまでの間に上記処理を行なうの
も好ましい。
市含有雰囲気中での処理温度は５０℃以上であり、より
高温であると処理時間が短縮でき、また、欠陥部へのＯ
Ｈ基の結合が強固となるので好ましい。
光ファイバの段階では、１次被覆材料の劣化を防ぐ上で
処理温度を１００〜２５０℃程度とするのがよ（、透明
ガラス母材、多孔質ガラス母材の段階では１００〜１６
００℃程度の処理温度が選ばれる。
また、透明ガラス母材の処理時ではこれを延伸し得る温
度（例えば２０００〜２１００℃）での処理も可能であ
り、多孔質ガラス母材の処理ではこれを焼結し得るまで
の処理温度が好ましい。
本発明において、光フアイバガラスをＨ１含有雰囲気中
にさらして処理するとき、例えばその処理温度が室温で
あるとｓ　Ｈｚが光フアイバガラス中に入るだけでＯＨ
基は生成されがたい。
したがってその処理温度を室温よりも高くすることが大
切である。
比較的低温にて光フアイバガラスをＨｌと接触させ、こ
れによりその山を光フアイバガラス中に含浸させた後、
該ガラスを高温に加熱することも有効である。
ＨＩ含有雰囲気における水素分圧、全圧はいずれも高い
ほど拡散が速く、処理時間も短縮できる。
Ｈ２含有雰囲気は、Ｈ１単独か、またはＨｔと不活性ガ
ス（Ｈｅ、　Ａ　ｒ、　Ｎ−）との清介ガス龜こ上り形
成される。
また、光フアイバガラスに分子構造上の欠陥が多くある
と都合よい場合があり、このような場合はＨ３処理前の
透明ガラス母材を加熱延伸するとか、放射線照射するな
どして上記欠陥を増加させる。
なお、前記光フアイバガラスの原料は５ｉＣｔＧ　ｅ　
Ｃｌａのようなハロゲン化物、Ｓ　ｉ　（ＯＣＨＩ）４
、Ｇｅ（ＯＣＨｓ）４のような有機金属化合物である。
つぎに本発明の具体例とその比較例について説明する。
具体例Ｉ ＶＡＤ法により、純粋Ｓ　ｉ　Ｏｘからなる外径６０目
、長さ５００ｍの多孔質ガラス母材をつくり、該母材を
、リング状のヒータを備えた電気炉中へ降下させながら
透明ガラス化した３゜このときの温度は１４５０℃とし
、雰囲気はＨｅ９５．ｏ％、Ｈ２Ｓｘとし、母材降下速
度は６Ｗ／顛とした。
これにより得られた透明ガラス母料は透明度がきわめて
高いものであった。
また、この透明ガラス母材中のＯＨ基は波長２、７　Ａ
ｍの吸光度測定により約１１０００ｐｐと多く含有して
いることがわかった。
具体例２ ＶＡＤ法により、純粋５ｉｎｓからなるコア用多孔質母
材をつくり、これを常法により透明力゛ラス化する一方
、ＭＣＶＤ法により、ＢおよびＦをドープしたドープト
、石英を石英管の外周に堆積させてクラッド用ガラスを
つくり、この石英管を上記コア用透明ガラス母材の外周
にジャケットした後、当該母材を紡糸するとともに１次
コートしてコア直径５０μｍ１外径１２５μｍ１シリコ
ーンゴムによる被覆外径４００μｍの光ファイバを得た
。
この光ファイバは比屈折率差０．６％、コア中のＯＨ基
基台量ｔｐｐｍ以下であった。
つぎに上記光ファイバを２００℃、ｔＫｆ／−の水素雰
囲気中にて５時間処理した。
その後、上記光ファイバにγ線（Ｃｏ”、　１０’ｒａ
ｄ／ｈｒ）　を照射したところ、１時間後の損失増は１
２ｄＢ／Ｋｍであった（使用波長１３μｍ）。
比較例 具体例２と同様の光ファイバをつくり、これをＨ７処理
することなく上記と同様の放射線照射を行なったところ
、１時間後の損失増がａ　４　ｄＢＪｍにもなってしま
った。
以上説明した通り、本発明の処理方法によれば、光フア
イバガラス中に充分かつ効果的にＯＨ基を含有させるこ
とができ、これにより光フアイバガラスの耐放射線性を
満足させ得るとともに失透などのない良質の光フアイバ
ガラスにすることができる。
殊に本発明では、水素が石英ガラス中へ拡散していき、
これが該ガラス中のσなどの欠陥部と結合してＯＨ基を
形成し、これによりその欠陥部が消去されるため、光フ
アイバガラスの優れた耐放射線性が得られると考えられ
る。
特許出願人 代理人　弁理士　井　藤　誠 特許庁長官殿 １．事件の表示　特願昭５８−１９７９４６２、発明の
名称　光フアイバガラスの処理方法３、補正をする者 事件との関係　特許出願人 古河電気工業株式会社 ４、献理人〒１００ 住　所　東京都千代田区有楽町１丁目６番６号小谷ビル
６、補正の対象 明細書全文、委任番。
７、補正の内容 別紙の通シ、委任状、タイプ浄書した明細書全文（内容
に変更なし）を提出します。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）石英系の光フアイバガラスを水素含有雰囲気中に
    さらして処理することを特徴とする光フアイバガラスの
    処理方法。
  2. （２）光フアイバ用の多孔質ガラス母材を構成している
    光フアイバガラスを所定雰囲気中にさらす特許請求の範
    囲第１項記載の光フアイバガラスの処理方法。
  3. （３）光フアイバ用の透明ガラス母材を構成している光
    フアイバガラスを所定雰囲気中にさらす特許請求の範囲
    第１項記載の光フアイバガラスの処理方法。
  4. （４）光ファイバを構成している光フアイバガラスを所
    定雰囲気中にさらす特許請求の範囲第１項記載の光フア
    イバガラスの処理方法。
  5. （５）氷菓含有雰囲気が室温よりも高い特許請求の範囲
    第１項ないし第４項いずれかに記載の光フアイバガラス
    の処理方法。
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01167258A (ja) * 1987-12-23 1989-06-30 Shinetsu Sekiei Kk レーザ光学系素体
EP0747327A1 (en) * 1995-06-07 1996-12-11 Corning Incorporated Method of thermally treating and consolidating silica preforms for reducing laser-induced optical damage in silica
WO1997037951A1 (en) * 1996-04-10 1997-10-16 Dsm N.V. A method of increasing the adhesion between radiation-cured, inner primary coatings and optical glass fibers
EP0879799A3 (en) * 1997-05-16 1999-07-21 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Silica glass article and manufacturing process therefor
US6333283B1 (en) 1997-05-16 2001-12-25 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Silica glass article and manufacturing process therefor
WO2002046114A1 (fr) * 2000-12-05 2002-06-13 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Procede de fabrication d'une fibre optique
EP1270522A1 (en) * 2001-06-26 2003-01-02 FITEL USA CORPORATION (a Delaware Corporation) Method for fabricating optical fiber from preforms, using control of the partial pressure of oxygen during preform dehydration
US6532767B1 (en) 1998-09-22 2003-03-18 Corning Incorporated Methods for producing fused silica glass
US6619073B2 (en) 1996-03-05 2003-09-16 Corning Incorporated Method of increasing the initial transmittance of optical glass
US7422307B2 (en) 2002-09-30 2008-09-09 Hamamatsu Photonics K.K. Droplet forming method for mixed liquid and droplet forming device, and ink jet printing method and device, and ink jet printing electrode-carrying nozzle
US7588641B2 (en) 2001-08-30 2009-09-15 Hamamatsu Photonics K.K. Method of forming liquid-drops of mixed liquid, and device for forming liquid-drops of mixed liquid
US7607753B2 (en) 2004-08-20 2009-10-27 Hamamatsu Photonics K.K. Liquid droplet forming method and liquid droplet forming device
US11988940B2 (en) 2008-07-11 2024-05-21 Nkt Photonics A/S Lifetime extending and performance improvements of optical fibers via loading

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5551729A (en) * 1978-10-04 1980-04-15 Siemens Ag Manufacture of optical fiber
JPS5890601A (ja) * 1981-11-25 1983-05-30 Furukawa Electric Co Ltd:The イメ−ジフアイバの製造方法
JPS5924743A (ja) * 1982-08-02 1984-02-08 Matsushita Electric Works Ltd 固型状アミノ系樹脂

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5551729A (en) * 1978-10-04 1980-04-15 Siemens Ag Manufacture of optical fiber
JPS5890601A (ja) * 1981-11-25 1983-05-30 Furukawa Electric Co Ltd:The イメ−ジフアイバの製造方法
JPS5924743A (ja) * 1982-08-02 1984-02-08 Matsushita Electric Works Ltd 固型状アミノ系樹脂

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01167258A (ja) * 1987-12-23 1989-06-30 Shinetsu Sekiei Kk レーザ光学系素体
JPH0463019B2 (ja) * 1987-12-23 1992-10-08 Shinetsu Sekiei Kk
EP0747327A1 (en) * 1995-06-07 1996-12-11 Corning Incorporated Method of thermally treating and consolidating silica preforms for reducing laser-induced optical damage in silica
JPH092835A (ja) * 1995-06-07 1997-01-07 Corning Inc 高純度溶融シリカガラスの非多孔性ボディの製造方法
US5735921A (en) * 1995-06-07 1998-04-07 Corning Incorporated Method of reducing laser-induced optical damage in silica
US6619073B2 (en) 1996-03-05 2003-09-16 Corning Incorporated Method of increasing the initial transmittance of optical glass
WO1997037951A1 (en) * 1996-04-10 1997-10-16 Dsm N.V. A method of increasing the adhesion between radiation-cured, inner primary coatings and optical glass fibers
US5812725A (en) * 1996-04-10 1998-09-22 Dsm N.V. Method for increasing adhesion between a coating and an optical glass fiber electron beam pretreatment
AU709457B2 (en) * 1996-04-10 1999-08-26 Dsm N.V. A method of increasing the adhesion between radiation-cured, inner primary coatings and optical glass fibers
US6333283B1 (en) 1997-05-16 2001-12-25 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Silica glass article and manufacturing process therefor
US5983673A (en) * 1997-05-16 1999-11-16 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Silica glass article and manufacturing process therefor
EP0879799A3 (en) * 1997-05-16 1999-07-21 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Silica glass article and manufacturing process therefor
US6709997B2 (en) 1997-05-16 2004-03-23 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Silica glass article and manufacturing process therefor
US6532767B1 (en) 1998-09-22 2003-03-18 Corning Incorporated Methods for producing fused silica glass
WO2002046114A1 (fr) * 2000-12-05 2002-06-13 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Procede de fabrication d'une fibre optique
EP1270522A1 (en) * 2001-06-26 2003-01-02 FITEL USA CORPORATION (a Delaware Corporation) Method for fabricating optical fiber from preforms, using control of the partial pressure of oxygen during preform dehydration
US7588641B2 (en) 2001-08-30 2009-09-15 Hamamatsu Photonics K.K. Method of forming liquid-drops of mixed liquid, and device for forming liquid-drops of mixed liquid
US7422307B2 (en) 2002-09-30 2008-09-09 Hamamatsu Photonics K.K. Droplet forming method for mixed liquid and droplet forming device, and ink jet printing method and device, and ink jet printing electrode-carrying nozzle
US7607753B2 (en) 2004-08-20 2009-10-27 Hamamatsu Photonics K.K. Liquid droplet forming method and liquid droplet forming device
US11988940B2 (en) 2008-07-11 2024-05-21 Nkt Photonics A/S Lifetime extending and performance improvements of optical fibers via loading

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