JPS5812133A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS5812133A JPS5812133A JP10858081A JP10858081A JPS5812133A JP S5812133 A JPS5812133 A JP S5812133A JP 10858081 A JP10858081 A JP 10858081A JP 10858081 A JP10858081 A JP 10858081A JP S5812133 A JPS5812133 A JP S5812133A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- vapor
- magnetic recording
- recording medium
- vapor deposition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は垂直記録方式に用いる磁気記録媒体の製造方法
に関し、長尺の媒体を連続に得る方法の改′良を目的と
する。
に関し、長尺の媒体を連続に得る方法の改′良を目的と
する。
短波長記録特性の優れた磁気記録方式として、垂直記録
方式が注目され、実用化に向けて、記録方式、ヘッド、
媒体等についての技術改良が各方面で進められている。
方式が注目され、実用化に向けて、記録方式、ヘッド、
媒体等についての技術改良が各方面で進められている。
現在用いられている媒体は非磁性基板上に直接に、ある
いは、軟磁性薄膜を介して、ｃｏとＣτを主成分とした
ものか、Ｃ軸配向性を更に改良する目的で他の元素を添
加したＣ ｏ −Ｃｒ系のスパツタ膜が用いられている
。
いは、軟磁性薄膜を介して、ｃｏとＣτを主成分とした
ものか、Ｃ軸配向性を更に改良する目的で他の元素を添
加したＣ ｏ −Ｃｒ系のスパツタ膜が用いられている
。
しかし周知の如く、スパッタリング法における生産性は
低く、そこで真空蒸着、イオンブレーティング法等の他
の蒸着手段が検討され、その結果、数千オングストロー
ム７秒の高速でも、垂直磁化膜を得る条件が見出された
。
低く、そこで真空蒸着、イオンブレーティング法等の他
の蒸着手段が検討され、その結果、数千オングストロー
ム７秒の高速でも、垂直磁化膜を得る条件が見出された
。
一般にディスク、又はシート、そして、テープ状のいず
れの形態の媒体を製造する場合も、広幅の長尺の媒体を
得てから、それぞれの形状に分割するのが生産の基本に
なりている。
れの形態の媒体を製造する場合も、広幅の長尺の媒体を
得てから、それぞれの形状に分割するのが生産の基本に
なりている。
第１図に、基本通常用いられる磁気記録媒体の製造装置
を示したが、これを用いた場合に生じる問題の解決が本
発明の目的とするところである。
を示したが、これを用いた場合に生じる問題の解決が本
発明の目的とするところである。
第１図に示すように、回転キャン６に沿って移動する、
グラスチック、金属シート等の非磁性の可撓性基板１上
へ、入射角制限用の第１．第２マスク３．４で形成され
るスリット（なおここで基板１の進行方向Ａと平行な距
離をスリット間隔Ｓとする）を通過した、蒸発材２を加
熱して得た蒸気により、垂直磁化膜を形成する。
グラスチック、金属シート等の非磁性の可撓性基板１上
へ、入射角制限用の第１．第２マスク３．４で形成され
るスリット（なおここで基板１の進行方向Ａと平行な距
離をスリット間隔Ｓとする）を通過した、蒸発材２を加
熱して得た蒸気により、垂直磁化膜を形成する。
蒸発源は工業規模に於ては、点源ではないので、蒸気の
入射角度を決定するのは、正確にはできないが、開き角
ａの範囲の蒸気流が利用される０６は蒸発材２の保持容
器で、蒸発材は、電子ビームで加熱される。基板１は送
り出し軸７から捲き取り軸８へ移動する。９は金属ロー
ラである。この系で、成膜を続行した時、スリット幅は
時間とともに減少する。そこで結晶成長条件が変化する
不都合を解消するとともに、同一膜厚を得るために、蒸
発源の温度を変化させるか、捲き取り速度を変えるかい
ずれかの制御を必要とし、このため垂直磁化膜を得る条
件範囲を越えることが起り、生産できる記録媒体の長さ
に制約を受けていた。
入射角度を決定するのは、正確にはできないが、開き角
ａの範囲の蒸気流が利用される０６は蒸発材２の保持容
器で、蒸発材は、電子ビームで加熱される。基板１は送
り出し軸７から捲き取り軸８へ移動する。９は金属ロー
ラである。この系で、成膜を続行した時、スリット幅は
時間とともに減少する。そこで結晶成長条件が変化する
不都合を解消するとともに、同一膜厚を得るために、蒸
発源の温度を変化させるか、捲き取り速度を変えるかい
ずれかの制御を必要とし、このため垂直磁化膜を得る条
件範囲を越えることが起り、生産できる記録媒体の長さ
に制約を受けていた。
本発明はかかる点に鑑みなされたもので、スリット間隔
Ｓを絶えず一定に保持し、かつ、Ｃ軸の配向性を更に改
良できる製造方法を提供するもので、第２図に一例を示
すように、入方向に移動する基材１ｏに対して蒸気の入
射角を制限する第１゜第２マスク１２．１３を高温に保
持することを要件とする。
Ｓを絶えず一定に保持し、かつ、Ｃ軸の配向性を更に改
良できる製造方法を提供するもので、第２図に一例を示
すように、入方向に移動する基材１ｏに対して蒸気の入
射角を制限する第１゜第２マスク１２．１３を高温に保
持することを要件とする。
これは具体的には、Ｔａ、Ｗ、Ｍｏ等よりなる耐熱性の
平板状基材を、フィラメン）１４．１５より発生する熱
電子で衝撃して加熱することで実現される。マスクの形
状、蒸発源との相対関係等は適宜工夫されるべきである
が、基板１０に近い方のスリットＳ′より、蒸発源に近
いスリットＳ。
平板状基材を、フィラメン）１４．１５より発生する熱
電子で衝撃して加熱することで実現される。マスクの形
状、蒸発源との相対関係等は適宜工夫されるべきである
が、基板１０に近い方のスリットＳ′より、蒸発源に近
いスリットＳ。
の方が大きく構成されるのが好ましいことは、蒸着効率
を垂直配向性を保持しながら高めることのできる利点か
ら、推察される通りである。
を垂直配向性を保持しながら高めることのできる利点か
ら、推察される通りである。
基板を構成する材料は、Ｃｏ Ｃｒであれば更に好まし
いが、前述した材料に限定されるものでないのは勿論の
こと、加熱手段も直接加熱１間接加熱を問わず選択でき
る。
いが、前述した材料に限定されるものでないのは勿論の
こと、加熱手段も直接加熱１間接加熱を問わず選択でき
る。
次に具体的に本発明の詳細な説明する。
〔実施例１〕
φＳＯＯの回転キャンに沿りて移動するポリアミド基板
（厚さ８μ）にあらかじめ、０．６μのパーマロイ層を
電子ビーム蒸着で蒸着しＣｏ−Ｃｒ蒸発源とキャンの距
離を３００ ｒｒａｎとし、基板から２０団離れた位置
のスリット幅を５０＋ｍとし、蒸発源から貞りにＩＱＯ
＋＋ｍ離れた位置のスリット幅と１８０ｍｍとし、マス
クを構成するＭｏ板（厚さ２．０ｍｍ）を、１０ＫＶ０
．ＩＡで夫々電子衝撃、加熱し、平衡温度１１ｏｏ℃で
、ｃｏ８０％Ｃｒ２Ｏ％合金の蒸着を厚さ０．１６μに
なるまで行なりた。
（厚さ８μ）にあらかじめ、０．６μのパーマロイ層を
電子ビーム蒸着で蒸着しＣｏ−Ｃｒ蒸発源とキャンの距
離を３００ ｒｒａｎとし、基板から２０団離れた位置
のスリット幅を５０＋ｍとし、蒸発源から貞りにＩＱＯ
＋＋ｍ離れた位置のスリット幅と１８０ｍｍとし、マス
クを構成するＭｏ板（厚さ２．０ｍｍ）を、１０ＫＶ０
．ＩＡで夫々電子衝撃、加熱し、平衡温度１１ｏｏ℃で
、ｃｏ８０％Ｃｒ２Ｏ％合金の蒸着を厚さ０．１６μに
なるまで行なりた。
以上の方法により得られたＣｏＣｒ膜は、スリット５０
ｒａｎで従来法にて得たＣｏＣｒ膜と比べてＣ軸配向性
は、蒸着の初期は変らないが、６ｏｏｍの長さにわたる
蒸着後は、本発明の方がすぐれ、１０００ｍ蒸着時には
、従来法では垂直配向がくずれてしまりたのに対し、本
発明は蒸着初期と同じ配向性を示した。
ｒａｎで従来法にて得たＣｏＣｒ膜と比べてＣ軸配向性
は、蒸着の初期は変らないが、６ｏｏｍの長さにわたる
蒸着後は、本発明の方がすぐれ、１０００ｍ蒸着時には
、従来法では垂直配向がくずれてしまりたのに対し、本
発明は蒸着初期と同じ配向性を示した。
一方、蒸着効率も高くなり、基板の送り速度は同一膜厚
比較で従来の２．３倍であった０これらは、マスクに向
りた蒸気が再蒸発する条件に設定して得られるものであ
る。
比較で従来の２．３倍であった０これらは、マスクに向
りた蒸気が再蒸発する条件に設定して得られるものであ
る。
なお本発明はＧｏ−Ｍｏ、Ｃｏ−Ｖ等よりなる垂直磁化
膜の製造にも有効であり、またマスク間に電圧を印加し
て放電状態にして蒸着する場合にも有効であり、さらに
は基板の両面に垂直磁化膜を得る場合にも適用できる。
膜の製造にも有効であり、またマスク間に電圧を印加し
て放電状態にして蒸着する場合にも有効であり、さらに
は基板の両面に垂直磁化膜を得る場合にも適用できる。
以上に説明したことから明らかなように本発明の工業的
有価値は大である。
有価値は大である。
第１図は磁気記録媒体の製造装置を示す図、第２図は本
発明による磁気記録媒体の製造方法を説明するための図
である。
発明による磁気記録媒体の製造方法を説明するための図
である。
Claims (1)
- 磁化容易軸が膜面に垂直方向にある磁性層を移動する基
板上に蒸着手段により形成する際に、入射角を限定する
遮へい板を高温に保持することを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10858081A JPS5812133A (ja) | 1981-07-10 | 1981-07-10 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10858081A JPS5812133A (ja) | 1981-07-10 | 1981-07-10 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5812133A true JPS5812133A (ja) | 1983-01-24 |
Family
ID=14488412
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10858081A Pending JPS5812133A (ja) | 1981-07-10 | 1981-07-10 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5812133A (ja) |
-
1981
- 1981-07-10 JP JP10858081A patent/JPS5812133A/ja active Pending
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