JPS5811775A - 銅の化学メッキ廃液の再生方法 - Google Patents
銅の化学メッキ廃液の再生方法Info
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- JPS5811775A JPS5811775A JP10988781A JP10988781A JPS5811775A JP S5811775 A JPS5811775 A JP S5811775A JP 10988781 A JP10988781 A JP 10988781A JP 10988781 A JP10988781 A JP 10988781A JP S5811775 A JPS5811775 A JP S5811775A
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- plating
- tank
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は錯化剤としてエチレンジアミンテトラ酢酸を用
いる銅の化学メッキ廃液の再生方法に関するもので、化
学メッキ廃液からメッキの阻害要因となる各種イオンを
イオン交換膜によって分離除去し、廃水処理を妨害する
エチレンジアミンテトラ酢酸含有の精製液は回収再利用
化することによって廃水処理への悪影響を排除すること
を王な目的とするものである。
いる銅の化学メッキ廃液の再生方法に関するもので、化
学メッキ廃液からメッキの阻害要因となる各種イオンを
イオン交換膜によって分離除去し、廃水処理を妨害する
エチレンジアミンテトラ酢酸含有の精製液は回収再利用
化することによって廃水処理への悪影響を排除すること
を王な目的とするものである。
メッキ液の錯化剤として用いられているエチレンジアミ
ンテトラ酢酸は、薬品として比較的高価な材料であるこ
と、あるいは、廃水処理の際、この錯化剤が多量に混入
すると他の金属イオンと容易にキレート化物を形成する
ため通常の中和法では廃水処理ができなくなること、更
には、エチレンシアミンテトラ酢酸自身通常の手段では
容易に分解しない有機物質であることなどの理由から、
この化学メッキ廃液から、できるだけ多くのエチレンジ
アミンテトラ酢酸を回収し、再利用することが行なわれ
ている。
ンテトラ酢酸は、薬品として比較的高価な材料であるこ
と、あるいは、廃水処理の際、この錯化剤が多量に混入
すると他の金属イオンと容易にキレート化物を形成する
ため通常の中和法では廃水処理ができなくなること、更
には、エチレンシアミンテトラ酢酸自身通常の手段では
容易に分解しない有機物質であることなどの理由から、
この化学メッキ廃液から、できるだけ多くのエチレンジ
アミンテトラ酢酸を回収し、再利用することが行なわれ
ている。
ソノ方法としては、エチレンジアミンテトラ酢酸錯化鋼
を含有する化学メッキ廃液に、先ず、還元剤としてホル
マリンを添加、次に、苛性ソーダを加えｐＨを１３以上
とし、更に反応速度を高めるために、反応温度を７ｏ′
Ｃ以上にして、場合によっては種晶として銅粉、鉄粉等
添加し、銀錯化物を、固型状の金属鋼、又は酸化銅とし
て、廃液から分離除去する。この銅の除去は次工程のエ
チレンジアミンテトラ酢酸の回収を良くするために行な
う前処理工程で、除去率は高い程よいのであるが、その
処理廃液に残存する銅濃度は通常５０ｐｐｍす、下であ
る。
を含有する化学メッキ廃液に、先ず、還元剤としてホル
マリンを添加、次に、苛性ソーダを加えｐＨを１３以上
とし、更に反応速度を高めるために、反応温度を７ｏ′
Ｃ以上にして、場合によっては種晶として銅粉、鉄粉等
添加し、銀錯化物を、固型状の金属鋼、又は酸化銅とし
て、廃液から分離除去する。この銅の除去は次工程のエ
チレンジアミンテトラ酢酸の回収を良くするために行な
う前処理工程で、除去率は高い程よいのであるが、その
処理廃液に残存する銅濃度は通常５０ｐｐｍす、下であ
る。
次に、還元反応によって、強制的に、銅分を分離、除去
した前処理済廃液に、硫酸、塩酸等の酸を加えて、ｐＨ
を０．６〜２に調整、更に、除銅工程で昇温化しだ液温
を、常温以下に充分に冷却し溶解度を下げて、処理済廃
液から、固型状の工゛チレンジアミンテトラ酢酸を析出
、分離回収している。
した前処理済廃液に、硫酸、塩酸等の酸を加えて、ｐＨ
を０．６〜２に調整、更に、除銅工程で昇温化しだ液温
を、常温以下に充分に冷却し溶解度を下げて、処理済廃
液から、固型状の工゛チレンジアミンテトラ酢酸を析出
、分離回収している。
エチレンジアミンテトラ酢酸の回収は、従来こ０ような
方法で行なわれでいるが、エチレンジアミンテトラ酢酸
の回収に先だって行なわれる化学メッキ廃液の前処理工
程、すなわち、除銅工程において、還元剤であるホルマ
リンの酸化で生成するギ酸の蓄積により析出銅が再溶解
するのを防ぎかつ、還元反応を速く完了させるために、
反応当敬の数倍に相当するホルマリンが添加されてぃて
テトラ酢酸分離回収後の処理廃液に、除銅工程で多量に
投入したホルマリンあるいはその分解物がそのまま移行
して汚染負荷量、すなわち公害規制項目であるＢＯＤあ
るいはＣＯＤ値を高め最終の廃水処理を困難にする。■
従来の方法で１、廃水処理に悪影響を与えるエチレンジ
アミンテトラ酢酸を廃液から完全に回収することは困難
、効率よく回収して＠、 ３ｏｏｍｇ〜９ｏｏｍｙ／ｌ
は残留し、他から混入する重金属イオンの種類、濃度、
あるいは、廃水量によっては、金属イオン濃度、ＣＯＤ
値が公害規制基準をこえる場合もある。その防止対策と
して、完全回収困難なこの残留エチレンジアミンテトラ
酢酸を次亜塩素酸ソーダ、過酸化水素等の酸化剤を併用
して紫外線照射により分解したり、オゾン酸化、薬品酸
化（例、過マ／ガ／酸カリ〕等により分解したりする方
法が採用されて 、（いるがこれらはいずれの
場合もランニングコストが極めて高い。■酸あるいはア
ルカリ性にと変化する腐蝕性の強いメッキ廃液を、昇温
あるいは冷却したりするのに、大がかりな装置を必要と
し、エネルギーの消耗も太きい。■ホルマリンの多量使
用、高温での処理・一作業環境を悪化させる。等の欠臭
を有していた。
方法で行なわれでいるが、エチレンジアミンテトラ酢酸
の回収に先だって行なわれる化学メッキ廃液の前処理工
程、すなわち、除銅工程において、還元剤であるホルマ
リンの酸化で生成するギ酸の蓄積により析出銅が再溶解
するのを防ぎかつ、還元反応を速く完了させるために、
反応当敬の数倍に相当するホルマリンが添加されてぃて
テトラ酢酸分離回収後の処理廃液に、除銅工程で多量に
投入したホルマリンあるいはその分解物がそのまま移行
して汚染負荷量、すなわち公害規制項目であるＢＯＤあ
るいはＣＯＤ値を高め最終の廃水処理を困難にする。■
従来の方法で１、廃水処理に悪影響を与えるエチレンジ
アミンテトラ酢酸を廃液から完全に回収することは困難
、効率よく回収して＠、 ３ｏｏｍｇ〜９ｏｏｍｙ／ｌ
は残留し、他から混入する重金属イオンの種類、濃度、
あるいは、廃水量によっては、金属イオン濃度、ＣＯＤ
値が公害規制基準をこえる場合もある。その防止対策と
して、完全回収困難なこの残留エチレンジアミンテトラ
酢酸を次亜塩素酸ソーダ、過酸化水素等の酸化剤を併用
して紫外線照射により分解したり、オゾン酸化、薬品酸
化（例、過マ／ガ／酸カリ〕等により分解したりする方
法が採用されて 、（いるがこれらはいずれの
場合もランニングコストが極めて高い。■酸あるいはア
ルカリ性にと変化する腐蝕性の強いメッキ廃液を、昇温
あるいは冷却したりするのに、大がかりな装置を必要と
し、エネルギーの消耗も太きい。■ホルマリンの多量使
用、高温での処理・一作業環境を悪化させる。等の欠臭
を有していた。
本発明は、メッキの阻害イオンを除去する電気透析の際
、問題となる化学メッキ廃液に残存すβ未′反応の還元
剤、例えば、スルフオキシ酸塩、ヒドラジンヒトラード
、ホルマリン等の還元作用′ヲ。
、問題となる化学メッキ廃液に残存すβ未′反応の還元
剤、例えば、スルフオキシ酸塩、ヒドラジンヒトラード
、ホルマリン等の還元作用′ヲ。
塩素２次亜塩素酸ソーダ、過酸化水素等の酸化剤で、酸
化喪失させてから、電気透析法によってエチレンジアミ
ンテトラ酢酸含有液を精゛製回収し、メッキ液として再
利用さ七ることを暫憚としたものである。。
化喪失させてから、電気透析法によってエチレンジアミ
ンテトラ酢酸含有液を精゛製回収し、メッキ液として再
利用さ七ることを暫憚としたものである。。
すなわち、廃液中の還元性物質を未処理で、電気透析を
行なった場合、電気゛透析装置のイオン透析膜自身が銅
メッキされ閉塞し透析分離機能を失うのを、この酸化処
理によって取除く方法を採用することによって、エチレ
ンジアミンテトラ酢酸の精製回収を可能にした。
行なった場合、電気゛透析装置のイオン透析膜自身が銅
メッキされ閉塞し透析分離機能を失うのを、この酸化処
理によって取除く方法を採用することによって、エチレ
ンジアミンテトラ酢酸の精製回収を可能にした。
次に本発明を一実施例に従って詳細に説明する。
図において、１はメッキ槽で、老化した化学メッキ廃液
はポンプＰ１、により酸化反応槽２に噂びか扛る。３は
廃゛液に残存する未反応渾元剤であるホルマリン（約１
’ ｙ−、／、、ｌ ）を酸化する過酸化水素を貯えた
過酸化水素槽で、ＯＲＩ’計で確認しながら必要量添加
し、酸化処理が完了したなら、電解透析し易いｐＨ値に
処理液のｐＨを調整（ｐＨキ１２→ｐＨ＝８へ）シ、砂
ろ過装置４を介してイオン交換膜で複数の室に仕切ら扛
た・電気透析装置６に１この調整液をポンプＰ２によっ
て供給して、メッキ、の阻害要因となるイオン、例えば
、ｓｏ；−、（Ｊ−。
はポンプＰ１、により酸化反応槽２に噂びか扛る。３は
廃゛液に残存する未反応渾元剤であるホルマリン（約１
’ ｙ−、／、、ｌ ）を酸化する過酸化水素を貯えた
過酸化水素槽で、ＯＲＩ’計で確認しながら必要量添加
し、酸化処理が完了したなら、電解透析し易いｐＨ値に
処理液のｐＨを調整（ｐＨキ１２→ｐＨ＝８へ）シ、砂
ろ過装置４を介してイオン交換膜で複数の室に仕切ら扛
た・電気透析装置６に１この調整液をポンプＰ２によっ
て供給して、メッキ、の阻害要因となるイオン、例えば
、ｓｏ；−、（Ｊ−。
ＨＣＯＯＨ等を、阻害にならない程度の濃度まで分離除
去する。エチレンジアミンテトラ酢酸ｋ Ｍ ’Ｈする
精製液は調整槽６で銅イオン７、ホルマリン８、苛性ソ
ーダ（’ ｐ Ｈ調整）、等を添加し、各々を所要濃度
に調整して、・メッキ液として再利用する・。なお、図
中９は電気透析の際分離除去した廃液で、この廃液９に
含まれるギ酸を主成分とする有機物は通常の生物、処理
によって容易に分解する。
去する。エチレンジアミンテトラ酢酸ｋ Ｍ ’Ｈする
精製液は調整槽６で銅イオン７、ホルマリン８、苛性ソ
ーダ（’ ｐ Ｈ調整）、等を添加し、各々を所要濃度
に調整して、・メッキ液として再利用する・。なお、図
中９は電気透析の際分離除去した廃液で、この廃液９に
含まれるギ酸を主成分とする有機物は通常の生物、処理
によって容易に分解する。
本発明の実施例の雇組成の変化を次表に示す。
ここで精製しだ液をメッキ液として調整再利用してみた
が、加工品に影響を及ぼさなかった。
が、加工品に影響を及ぼさなかった。
以上述べたことから明らかなように、本発明は廃水処理
に多大の影響を及ぼすエチレンジアミンテトラ酢酸を、
電気透析法によって精製回収、再利用化をはかることに
よって、取り除くようにしたもので、この方法によれば
、従来のように、多量のホルマリンを添加することによ
って起る前述のさまざまな問題も同時に解決できる。比
較例として、エチレンジアミンテトラ酢酸回収法のちが
いによる廃水処理への負荷量の変化を次表に示す。
に多大の影響を及ぼすエチレンジアミンテトラ酢酸を、
電気透析法によって精製回収、再利用化をはかることに
よって、取り除くようにしたもので、この方法によれば
、従来のように、多量のホルマリンを添加することによ
って起る前述のさまざまな問題も同時に解決できる。比
較例として、エチレンジアミンテトラ酢酸回収法のちが
いによる廃水処理への負荷量の変化を次表に示す。
この表にも示されているように、本発明の実施例は従来
法に比べ負荷量が極めて小さくなるばかりでなく、エチ
レンジアミンテトラ酢酸の透過持ち出し量がほとんどな
い方式であるためその後の処理も極めて容易である。
法に比べ負荷量が極めて小さくなるばかりでなく、エチ
レンジアミンテトラ酢酸の透過持ち出し量がほとんどな
い方式であるためその後の処理も極めて容易である。
従来法において、分離除去していた廃液中の銅分けほと
んど再利用できる方式であり、かつ、廃液中に浮遊蓄積
する還元鋼、亜酸化銅のメッキを妨害する微粒子も、電
気透析に先だち行なう酸化反応工程で、溶解消失できる
。
んど再利用できる方式であり、かつ、廃液中に浮遊蓄積
する還元鋼、亜酸化銅のメッキを妨害する微粒子も、電
気透析に先だち行なう酸化反応工程で、溶解消失できる
。
以上のように、本発明は、廃水処理に対する負荷量の削
減という公害防止面の効果のみならず、エチレンジアミ
ンテトラ酢酸鋼の高い回収率とすることができ、ホルマ
リン、酸、アルカリ等の処理薬品の使用量が少なくてす
むとともに昇温、冷却が不必要であるなど省資源、省エ
ネルギーにも効果があり、工業的価値の犬なるものであ
る。
減という公害防止面の効果のみならず、エチレンジアミ
ンテトラ酢酸鋼の高い回収率とすることができ、ホルマ
リン、酸、アルカリ等の処理薬品の使用量が少なくてす
むとともに昇温、冷却が不必要であるなど省資源、省エ
ネルギーにも効果があり、工業的価値の犬なるものであ
る。
図面は本発明の銅の化学メッキ廃液の再生方法の一実施
例を示す概略構成図である。 １・・・・・・メッキ槽、２・・・・・・酸化反応槽、
３・・・・・・過酸化水素槽、４・・・・・・砂ろ過装
置、５・・・・・・電気透析装置、６・・・・・・調整
槽、７・・・・・・銅イオン、８・・・・・・ホルマリ
ン、９・・・・・・廃液、ｐ、 、 ｐ、・・・・・・
ポンプ。
例を示す概略構成図である。 １・・・・・・メッキ槽、２・・・・・・酸化反応槽、
３・・・・・・過酸化水素槽、４・・・・・・砂ろ過装
置、５・・・・・・電気透析装置、６・・・・・・調整
槽、７・・・・・・銅イオン、８・・・・・・ホルマリ
ン、９・・・・・・廃液、ｐ、 、 ｐ、・・・・・・
ポンプ。
Claims (1)
- 銅の化学メッキ廃液に残存する未反応の還元剤を塩素２
次亜塩素酸ソーダ、過酸化水素等の酸化剤で酸化して、
還元作用を喪失させ、しかる後、この化学メッキ廃液に
蓄積するｓｏ； 、ｃＮ＋ＨＣＯＯ−等のメッキ阻害イ
オンを電気透析法によって選択的に分離除去し、不透過
のエチレンジアミンテトラ酢酸含有精製液をメッキ液と
して再利用するようにしたことを特徴とする銅の化学メ
ッキ廃液の再生方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10988781A JPS5811775A (ja) | 1981-07-13 | 1981-07-13 | 銅の化学メッキ廃液の再生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10988781A JPS5811775A (ja) | 1981-07-13 | 1981-07-13 | 銅の化学メッキ廃液の再生方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5811775A true JPS5811775A (ja) | 1983-01-22 |
Family
ID=14521673
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10988781A Pending JPS5811775A (ja) | 1981-07-13 | 1981-07-13 | 銅の化学メッキ廃液の再生方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5811775A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0397874A (ja) * | 1989-09-01 | 1991-04-23 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 無電解銅めっきのプロセス水から連続的にエチレンジアミン四酢酸を除去しそして取得する方法 |
| US8057678B2 (en) | 2004-01-20 | 2011-11-15 | Enthone Inc. | Maintenance of metallization baths |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5223530A (en) * | 1975-08-17 | 1977-02-22 | Inoue Japax Res | Treating method of chemical copper plating solution |
| JPS563666A (en) * | 1979-06-19 | 1981-01-14 | Hitachi Ltd | Method and apparatus for regenerating chemical copper plating solution |
-
1981
- 1981-07-13 JP JP10988781A patent/JPS5811775A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5223530A (en) * | 1975-08-17 | 1977-02-22 | Inoue Japax Res | Treating method of chemical copper plating solution |
| JPS563666A (en) * | 1979-06-19 | 1981-01-14 | Hitachi Ltd | Method and apparatus for regenerating chemical copper plating solution |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0397874A (ja) * | 1989-09-01 | 1991-04-23 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 無電解銅めっきのプロセス水から連続的にエチレンジアミン四酢酸を除去しそして取得する方法 |
| US8057678B2 (en) | 2004-01-20 | 2011-11-15 | Enthone Inc. | Maintenance of metallization baths |
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