JPS6096765A - めつき廃水の浄化処理方法 - Google Patents

めつき廃水の浄化処理方法

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JPS6096765A
JPS6096765A JP20310983A JP20310983A JPS6096765A JP S6096765 A JPS6096765 A JP S6096765A JP 20310983 A JP20310983 A JP 20310983A JP 20310983 A JP20310983 A JP 20310983A JP S6096765 A JPS6096765 A JP S6096765A
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Japan
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edta
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water
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Masaharu Kataoka
片岡 正治
Hitoshi Sato
等 佐藤
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Hitachi Plant Construction Co Ltd
Hitachi Plant Technologies Ltd
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Hitachi Plant Construction Co Ltd
Hitachi Plant Technologies Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1617Purification and regeneration of coating baths

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  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Removal Of Specific Substances (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (1)発明の属する分野 この発明はめつき廃水の浄化処理方法に係り。
特にEDTA、銅などを含む老めっき液から有価物であ
る銅EDTAを回収した後の有価物回収残廃水および有
価物を洗浄した後の洗浄廃水からなるめっき廃水(以下
、単にめっき廃水という。)の浄化処理方法に関する。
(2)従来技術 化学銅めっき液、たとえばEDTA、ホルムアルデヒド
、メタノール、銅などを含むめっき液を使用するめつき
処理においては、これらの化学成分を含有する老めっき
液が排出される。
この老めっき液中の有価物である銅とEDTA・は互い
に結びついて錯化合物を形成しており、老めっき液にホ
ルムアルデヒド、水酸化ナトリウムを添加し加熱下で銅
を金属単体として析出回収した後、硫酸などの鉱酸を添
加してEDTAを溶解度の小さい遊離酸の形態として回
収している。
これら回収工程後の残廃水および回収物を洗浄した後の
洗浄水が廃水として排出される。
従来、この廃水の浄化方法として生物処即、電解酸化や
薬品(過酸化水素1次亜塩素酸など)添加による酸化お
よびこれらの組合せによって行われていた。
しかし、これらの方法では廃水のCODが高く例えば生
物処理ではCOD除去率が30〜60%が限界であシ、
電解処理では大きな電気量が必要であった。さらにCO
Dを除去するためには過酸化水素などの薬品を多量使用
する必要があった。
(3)発明の目的 この発明の目的は前記従来技術の欠点を解消し。
高い除去率及び使用薬品の低減を得ることができる浄化
処理方法を提供することにある。
b)発明の要点 この発明は、廃水中に含まれる有機化生成物のうち未回
収のEDTAおよび有価物の洗浄水中のEDTAが廃水
のCODの30〜40%占めていることに着目し、この
EDTAを予じめ除去する手段としてEDTA回収工程
で回収したEDTAを一部添加し、鉱酸を加えてpHを
2以下に調節することによって、すみやかにED’rA
が固液分離できることを実験によって確認し、前記ED
TAを固液分離した上澄水を生物処理および化学酸化(
酸化剤添加)などによシ処理するようにしたものである
(5)発明の実施例 以下本発明の実施例を図面をもって説明する。
第1図に本発明に係る廃水の浄化方法の実施例を示す図
でちる。
老めっき液1は銅回収工程2で水酸化す) IJウム、
ホルムアルデヒドを添加し、加熱下で金属鋼を回収した
後、上澄液はEDTA回収工程5に移され硫酸を添加し
EDTAが回収される。この回収1暉では9回収物を工
業用水またはイオン交換水なt肴で洗浄し回収工程外に
回収@31回収EDTA6として引抜かれ、おのおのの
洗浄廃水4おJ:び7はEDTA回収工程5でEDTA
を回収した後の有価物回収残廃水8とともにEDTA除
去反応槽9に移される。
EDTA除去反応槽9では鉱酸(好ましくは硫酸)でp
Hを2以下に調整し攪拌機10で攪拌した後。
EDTA沈でん槽11に移してEDTAk除去できるが
、EDTAをその溶解度近くまで除去するには第2図に
示すようにEDTA除去反応槽9の反応時間が5時間と
長時間髪する。
そこで本実施例ではEDTA回収工程5から回収された
EDTA(洗浄前でよい)6を乾物基準で3?/1添加
することによって第2図に示すように反応時間を05〜
1時間に短縮できる。この効果は一種の晶析作用による
ものと推定されるEDTA沈でん槽11は、固液分離が
できる遠心分離機などの分離機および脱水機でも構わな
いまたろ過などの分離方法を組み合わせるとさらによい
この回収FJDTA 6を一部添加して行うEDTA除
実によってめっき廃水のCODは第3図に示すように大
巾に低減され、後の廃水処理が容易となシ処理薬品量が
低減できる。
EDTA沈でん槽11からの上澄水は本実施例では工業
用水または生活系廃水(トイレ、ジャワ。
食堂廃水など)で希釈した後、微生物によって好気性条
件下で有機物を分解する生物処理装置12で処理し、さ
らに排出基準によっては過酸化水素と硫酸第1鉄を同時
に添加し1強酸化剤である・OHラジカルを発生させて
酸化処理するフェントン酸化装置13で処理し、処理水
14とするEDTA沈でん槽11からの上澄水は他のC
OD除去方法によって処理してもよい。
実施例1 有価物回収残廃水89回収銅洗浄廃水41回収E2DT
A洗浄廃水7からなるC0D5500■/lのめつき廃
水を、第1図に従い処理した。EDTA除去反応槽9で
は2回収EDTA6を乾物基準で3り/を添加し、硫酸
を加えてpHを1.8に調節し。
算応時間は30分とした。Ei)TA沈でん槽11力λ
bの上澄水のCODは3500■/lであり、原水に対
するCOD除去率は36%であった。この上澄水を10
倍に希釈し生物処理装置12で活性汚泥処理(滞留時間
7 hr、 IVILss 4ooomy/l )した
結果、処理水のCODは931ng/lであり。
原水に対するCOD総量除去率は83%であった。
この活性汚泥処理水を、さらにフェントン酸化装置で処
理(H1102添加量210 W / t 、 FeS
O4添別置1340■7t、反応時間15分8反応時の
pH3,5,凝集時のPI(5,0)l、た結果、処理
水のCODは20m9/lであり、原水に対するCOD
総量除去率は96%となった。
比較例1 実施例1と同様のめつき廃水に対して、EDTAを除去
せずに、直接10倍に希釈し、以下、実施例1と同様の
条件で処理した。その結果、活性汚泥処理水のCODは
250■/lであり、原水に対するCOD総量除去率は
54%、フェントン酸化処理水のCODは120■/l
であり、原水に制するC’OD総量除去率は78%であ
った。また。
“実施例1と同等のCOD総量除去率を得るためには、
フェントン酸化処理におけるH2O2,FeSO4の添
加量を実施例1の場合の3倍を必要とした。
実施例2 実施例1と同様のめつき廃水から、実施例1と同様にE
DTAを除去したのち、希釈せずにそのまま電解酸化処
理(電流密度5 A / d、m2 、極間距離10叫
、電気量90.7 X 103クーロン/l)した結果
、処理水のCODは2100■/lであり、原水に対す
るCOD除去率は62%であ1つた。
比較例2 実施例1と同様のめつき廃水を用い、 ED’rAを除
去せずに、そのまま実施例2と同様の条件で電解酸化処
理した。その結果、処理水のCODは2900■/lで
あシ、原水に対するCOD除去率は47%であった。ま
た、実施例2と同等のCOD除去率を得るためには、1
63X10”クーロン/lの電気量が必要であることが
判明した。
(6)発明の効果 本発明によれば、めっき廃水のCot)のうち30−4
0%を占めるEDTA’(rすみやかに除去し。
その後廃水処理を行うようにしたので、めっき廃水のC
OD除去率を高くすることができ、また使用薬品、電気
量を低減できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例を示す装置系統図、第2図、第
3図はそれぞれ、gDTA除去反応工程において1回収
EDTAを添加した場合、添加しない場合の反応時間と
残留EDTA、残留CODの関係を示すグラフである。 1・・・老めっき液 2・・・銅回収工程4・・回収鍋
洗浄廃水 5・・・EDTA回収工程7・・・回収ED
TA洗浄廃水 8・・・有価物回収残廃水9・・・ED
TA除去反応槽 11・・・EDTA沈でん槽12・・
・生物処理装置 13・・・フェントン酸化装置。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 EDTA、@を含む電化学めっき液から有価物としてQ
    、EDTAを回収した後の有価物回収残廃水および回収
    物を洗浄した後の洗浄廃水からなるめっき廃水の浄化処
    理方法において、上記めっき廃水に前記回収したEDT
    Aを一部添加し、鉱!r輩を加えてpHを2以下に調節
    して、EDTAを゛固形物として固液分離して除去する
    工程を設け。 EDTAを除去した後、廃水処理を行うように構成した
    ことを特徴とするめつき廃水の浄化処理方法。
JP20310983A 1983-10-28 1983-10-28 めつき廃水の浄化処理方法 Granted JPS6096765A (ja)

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JPS6096765A true JPS6096765A (ja) 1985-05-30
JPH0223235B2 JPH0223235B2 (ja) 1990-05-23

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US4802993A (en) * 1984-07-13 1989-02-07 Hitachi, Ltd. Method of treating liquid wastes containing heavy metal chelate compounds
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