JPS58116487A - 新規なβ−ラクタム化合物及びその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は一般式［１３ 〔式中、Ｒ１は水素原子、１′−ヒドロキシヱチＪし基
又はその水酸基が通常の保護基に保護された１′−ヒド
ロキシエチル基を示し、Ｒｉは（１）一般式％式％ （式中、Ｒ４は水素原子又は通常のアミノ基の保護基を
示す。ｎ及びｍはそれぞれＯ〜４を示す。）で表わされ
る置換基、 （２）　　一般式 ％式％ （式中、Ｒ４、ｎ及びｍは前述と同じ意味を有する。） で表わされる置換基、 ω）　一般式 （式中、艮は前述と同じ意味を有し、Ｌは０〜２を示す
。） で表わされるシクロヘキサン環を有する置換基、（４）
一般式 （式中、Ｒ４は前述と同じ意味を有し、Ｘ及び！は、Ｘ
が水素原子でＹが式 ％式％ −ｃａ＝ｘｃａ−（式中りは０〜２を示す。）で表わさ
れる置換基又は、 Ｘと！で 一０Ｒ＝ を示す。）で表わされる置換基 （５）一般式 （式中、損は前述と同じ意味を有し、Ｘｌ及びＹｌはｘ
ｌが水素原子でＹｌが式 で表わされる置換基、又はＸｌとＹｌで式−ＣＨ＝ を示す。）で表わされる置換基 （６）一般式 ％式％ 〔（式中Ｒ５は　式 −（ＯＨ２）ｎ’　−ＮＨＲａ　　−Ｃ（ＣｆＨａ）ｓ
−（ＣＨｇ）ｎ’　−ＮＨＲａ（式中Ｒ４は前述と同じ
意味を有し、ｎ′は１または２を示す。） で表わされる置換基、又は式 ％式％ （式中、石は水素原子、通常のカルボキシル基の保護基
を示す。）〕 で表わされる置換基、 （７）一般式 ％式％ （式中Ｒ７は低級アルコキシ基（例えば、メトキシ、エ
トキシ等＞低級アルキルカルボニルオキシ基（例えば、
アセトキシ、エチルカルボニルオキシ等）、水酸基又は
通常の保護基で保護された水酸基の置換した低級アルキ
ル基あるいは式 で表わされる置換基を示す。なお式中Ｒ４は前述と同じ
意味を有する。） で示され、る置換基、 （８）　　アリール基、又は ω）式 ％式％ （式中、ＲＩは前述と同じ意味を有し、ｍ′は２又は８
を示す、） で表わされる置換基を示す。 Ｒ３は水素原子、通常のカルボキシル基の保護基を示す
。〕 で表わされるβ−ラクータム化合物およびその製造方法
に関するものである。 前記一般式〔Ｉ〕中Ｒｔ　、　Ｒｇ　、　Ｒｓを詳細に
述べる。 Ｒ１が通常の保護基に保護された１′−ヒドロキシエチ
ル基を示す場合の水酸基の保護基としては、好適には、
ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニルのような低級アルコ
キシカルボニル基、２−ヨウ化エチルオキシカルボニル
、２．２．２−トリクロロエチルオキシカルボニルのよ
うなハロゲノアルコキシカルボニル基、ベンジルオキシ
カルボニル、Ｐ−メトキシベシジルオキシカルボニル、
０−ニトロベンジルオキシカルボニル、Ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルのよウナアラルキルオキシカルボ
ニル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルのようなトリ
アルキルシリル基、ｔ−ブチル基等三級の０４〜Ｃｓｏ
のアルキル基、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、
ジフェニルメチル基、ジ（ｐ−アニリル）メチル基、ト
リチル基などのモノ、ジ又はトリーアリールメチル基で
ある。 Ｒｇが前述の一般式 ％式％ で表わされる置換基である場合の例として、たとえば −８（ＣＨｔ戸０（Ｃ５Ｈｓ　）　＊　ＮＨＲａ−８（
（Ｘｉｓ　）　ｔｃ（ＣＨｓ　）　ｇ（ｍｔＮＨＲｔ−
８（ＣＨｇ　）＋０（＜ＩＩｓ　）ｇＮＨＲ４−８０Ｈ
ｓＣ（ＣＥ畠）！顕現 一８ｃｆ１霊Ｃ（ＯＥｉｓ　）！　（５Ｈ背Ｂ４−８　
ＣＨＨＯ２ＣＵｓ　）Ｉ　ＣｆＨ＊（ＸｐＭＢルー８　
（ＣｕＳ　）Ｉ　Ｃ（ＯＨ自）　ｓ　（ｃＨｓ＋　）　
ｔＮＨＲａ−８（ＣＨｓ）２（ＣＩＩす５（ＣＥすｓ　
ＮＨＲａ〔式中、Ｒ４は前述と同意味を有する。〕等を
挙げることができる。 −が前述の一般式 ％式％ で表わされる置換基である場合において、その例として
は、たとえば −ＣＨｇ　Ｃ（Ｃ！Ｈｓ　）ｘｃＨｔＮＨＲ４−ＣＨｘ
　０（ＣＨｓ　）ｇＮＨＲ４ −ＯＨｉＣｆｉｔＣ（ＣＨｓ　）ｔＮＨＲ４−Ｃｕｔ（
Ｉｇｃ（ＣＨｓ　）　ｇｃＨｚ斑１ａ−ＣＨｔＣＨｉＣ
Ｈ２０（ＣＨｓ　）ｓＮＨＲ４−ＣＨｇＣＨ＊ＣＨ＊Ｃ
（ＣＨｓ　）＊ＣＨｘＮＨＲ４−ＯＨ２Ｃ（Ｃｋｌ畠）
ｘＣＨｇＯＨ！　ＮＨＲ４−ＣＨｉＣ（ＣＨｓ　）ｉｃ
ＨｇｃＨ＊ＣＨｓＮＨＲａ〔式中、Ｒ４は前述のとおり
である。〕等を挙げることができる。 Ｒ２が前述の一般式 で表わされる置換基である場合において、その例として
は、たとえば、式 、（式中、Ｒ４、Ａは前述と同じ意味を有する。）で表
わさ、れる置換基を挙げることができる。 Ｒｇｉ）Ｅ前述の一般式 である場合の例としては、 （式中、Ｒ４は前述と同じ意味を有する。）で表わされ
る置換基をあげることができる。 ルの好適な例としては、水素原子、ｔａｒｔ−ブチルオ
キシカルボニルのような低級アルコキシカルボニル基、
２−Ｍつ化エチルオキシカルボニル、２，２．２−）リ
クロロエチルオキシカルボニルのようなハロゲノアルコ
キシカルボニ（ ル基、ベンジルオキシカルボニル、ｐ−メトキシベンジ
ルオキシカルボニル、Ｏ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル、Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルのようなア
クルキルオキシカルボニル基等であるが、翫は、ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリル基のようなトリアルキルシリ
ル基、ｔ−ブチル基などの三級の０４〜ＣＩＯのアルキ
ル基、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ジフェニ
ルメチル基、ジ（ｐ−アニリル）メチル基などのモノ−
、ジー又はトリアリールメチル基であってもよい。 勧がアリール基である場合の例としては、例えば、 〔式中、Ｄは、水素原子、−国２ＮＨ−絢、−ＣＨｚ都
２ＮＨ−几４、−（８）シ、また、ここにおいて、Ｒ４
、Ｒ１、及びｍ′は前述のとおりである。〕 で表わされる置換基を挙げることができろ。 −は好適には水素原子、メチル、エチル、イソプロピル
、ｔａｒｔ−ブチルのような直鎖状、若しくは分校鎖状
の低級アルキル゛基、２−ミラ化ｘチアｋ、１２．２−
トリクロロエチルのようなハロゲノ低級アルキル基、メ
トキシメチル、ニドキシメチル、イソブトキシメチルの
ような低級アルコキシメチル基、アセトキシメチル、プ
ロピオニルオキシメチル、ブチリルオキシメチルピパロ
イルオキシメチルのような低級脂肪族アシルオキシメチ
ル基、１−メトキシカルボニルオキシエチル、１−エト
キシカルボニルオキシエチルのよりな１−低級アルコキ
シカルボニルオキシエチル基、ベンジル、Ｐ−メトキシ
ベンジル、０−ニトロベンジル、Ｐ−ニトロベンジルの
ようなアラルキル基、ベンズヒドリル基、またはフタリ
ジル基である。 前記一般式〔Ｉ〕においてＲｓが水素原子であるカルボ
ン酸化合物は必要に応じて薬理学上、許容される塩の形
にすることができる。そのような塩としてはリチウム、
ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウムのよ
うな無機金１１の塩あるいはアンモニウム、シクロヘキ
シルアンモニウム、ジイソプロピルアンモニウム、トリ
エチルアンモニウムのようなアンモニウム塩類をあげる
ことができるが好適にはナトリウム塩およびカリウム塩
である。 本発明の一般式〔工〕で表わされるβ−ラクタム化合物
はペネム誘導体に属しその２位に各種置換基を有する新
規な化合物であり、これらの化合物は優れた抗菌活性を
有し医薬として有用な化合物である。 また、抗菌活性を有する有用な化合物の重要中間体とし
ても有用であることを見出し本発明を完成した。 以下、本発明化合物の製造方法について詳細に述べる。 前記一般式［Ｉ］で表わされる化合物中、一般式［１−
１１ 〔式中、Ｒ１は前述と同じ意味を有し、６は一般式 ％式％） （式中、瑣は−と同意味を有する。ただし、水素原子は
除（、ｎ、ｍはθ〜４を示す。）で表わされる置換基、 一般式 ％式％ （式中、Ｒ４，ｎ０ｍは前述と同じ意味を有する。）で
表わされる置換基、 一般式 ％式％） （式中、蹟は前述と同じ意味を有し、ｔはθ〜２を示す
。） で表わされるシクロヘキサン環を有する置換基、 一般式 （式中、Ｘ、Ｙ及びＲ−は前述と同意味を有する。）で
表わされる置換基、 一般式 （式中、ＸＩ　、　Ｙｔ及びＲ′４は前述の意味を有す
る。）で表わされる置換基、 一般式 ％式％ （式中、Ｒｓは前述の意味を有する。）で表わされろ置
換基、 一般式 ％式％ （式中、Ｒｓは前述のとおり。）で表わされる置換基、 一般式 一（ａｎ黛）ｎ１１−αηシ （式中、ｍ′及びＲｓは前述のとおり）で表わされる置
換基、又はアリール基ただし、アミノ基を有するアリー
ル基においては瑣で示される保護基によって保護された
アリール基を示す。 で表わされる罷導体は、一般式（Ｉｔ］〔式中、Ｒ１、
Ｒ’ｇ　、　１ｍは前述と同じ意味を有し、ｐｈはベン
ゼン環を示す。Ａは酸素原子または硫黄原子を示す。〕 で表わされる化合物を不活性溶媒中加熱することにより
製造することができる。不活性溶媒としてはベンゼン、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が好適である
が、ジオ走サン、チトラヒドロフラン等のエーテル類、
シクロヘキサン、クロロホルム等の各種の溶媒を用いる
ことも可能である。反応温度としては適宜冷却または加
熱することにより、反応を抑制または促進することが可
能であり、好適反応温度は４０〜２００℃である。 一般式［Ｉ−ｂｌ ［式中、Ｒｔ　、　Ｒｓは前述と同じ意味を有し、第は
、低級アルコキシ基、低級アルキルカルボニルオキシ基
、通常の保護基で保護された水酸基の置換した低級アル
キル基、あるいは式 （式中　Ｒ２は前述と同じ意味を有する。）で表わされ
る置換基を示す。〕 で表わされる誘導体は、一般式〔ニーＣ〕ｃ式中、　Ｒ
１及び島は前述のとおり］で表わされろアルコール誘導
体を一般式％式％ 〔式中綺は前述と同じ意味を有する。〕で表わされる誘
導体あるいは、その活性酸無水物誘導体との反応によっ
ても製造することができる。 その具体的な方法としては、脱水剤の存在下、カルボン
酸誘導体と式ｒＩ−Ｃ〕で表わされるアルコール誘導体
を直接脱水縮合する方法、又はカルボン酸誘導体を酸ク
ロリド誘導体等活性酸無水物誘導体に導びき塩基存在下
反応させる方法等、通常、アルコール誘導体のアシル化
法として用いられる各種の態様が可能である。 一般式ＣＩ　−ｄ　］ 〔式中、Ｒ１，槁は前述と同じ意味を有する〕で表わさ
れる誘導体は、一般式［Ｉ−ｃｌで表わされるアルコー
ル誘導体を酸化し、一般式〔！−ｅ］ で表わされるアルデヒド誘導体へ誘導後、一般式％式％ 〔式中、惑は前述と同じ意味を有し、Ｙはフェニル基あ
るいは、メトキシ基、エトキシ基等の低級アルコキシ基
を示す。〕 で表わされる化合物を塩基で処理後誘導体［Ｉ−ｅ］と
ウィテッヒタイプ反応（Ｗｉｔｔｉ／　−ｔｙｐｅＲｅ
ａｏｔｉｏｎ　）を行うことによっても製造することが
できる。 また、一般式Ｅｘ−ｆｌ 〔式中Ｒｔ　、　ｒａ　、　ｍ’は前述と同じ意味を有
する。〕 で表わされる誘導体は一般式ＣＩ　−ｆ　］〔式中、Ｒ
１、Ｒｓは前述のとおり。〕で表わされる誘導体と一般
式 〔式中、ｍ′は前述と同じ意味を有する。〕で表わされ
るアミン誘導体を脱水縮合することによっても製造する
ことができる。脱水縮合の方法としては、通常に用いら
れる各種の態様を用いることができる。 その他の一般式［Ｄの化合物、即ち、 〔式中、Ｒ’１は、水素原子、又は１′−ヒドロキシエ
チル基を示す。Ｒｓｐｒは、 一般式 ％式％ （ｎ及びｍは、各々θ〜４を示す。） で表わされる置換基、 一般式 ％式％ （ｎ及びｍは、前述のとおり） で表わされる置換基、 一般式　　　１、ユ （ｔはＯ〜２を示す。）で表わされるシクロヘキサン環
を有する置換基、 一般式 （式中、Ｘ及びＹは前述の意味を有する。）で表わされ
る置換基、 （式中、Ｘｌ及びＹｌは、前述の意味を有する。）で表
わされる置換基、 一般式 ％式％： （式中、Ｒ′５は、−（ＣＨ８）、ＮＨｇ　　又は−Ｃ
（（］（ｓ）ｓ＋−（（ＩＩり　／　−ＮＨｓ　　を表
わす。ココニおイテ、ｎ′は１又は２を意味する。）で
表わされる置換基、 一般式 ％式％ （式中、Ｒ７７は低級アルコキシ基、低級アルキルカル
ボニルオキシ基、低級ヒドロキシアルキル基、あるいは
−Ｃｒ”ＨｔＣＭ＊Ｎｕｘ又は一般式 ％式％ （ｍは前述のとおり） 表わされる置換基、又はアリール基（ただし、水酸基、
カルボキシル基、アミノ基を有する場合は、それらは保
護基が除去されたフリーのもの）を意味する。〕 で表わされる化合物は、上記一般式［Ｉ−８］、および
ＣＩ−ｂ〕で表わされる化合物のカルボキシル基、水酸
基、アミノ基の各保護基（１′−ヒドロキシエチル基等
で用いられている水酸基の保護基、ｆａ　、　Ｒ’４等
）の除去処理を行なうことにより製造することができる
。 こ４れらの基の除去は酸、塩基、環元剤等で処理するそ
れ自体公知の方法で行なうことができる。 酸としては好適にはトリフロロ酢酸、ギ酸、三フッ化硼
素、塩化アルミニウム等またはその混合したものをあげ
ることができる。 塩基としては好適には炭酸オトリラム、炭酸カリウム等
のアルカリ金属炭酸塩、硫化ナトリウムあるいは硫化カ
リウム等のアルカリ金属硫化物、あるいはフッ化テトラ
ブチルアンモニウムをあけることができる。 還元による方法としては、好ましくは亜鉛および酢酸、
水素およびパラジウム−炭素あるいは白金等による接触
還元等があげられる。 使用される溶媒としては、本反応に関与しないものであ
れば特に限定はないが、好適にはメタノール、エタノー
ル等のアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサン
等のエーテル類、酢酸等の脂肪酸およびこれらと水の混
合溶媒を用いることができる。 反応温度としては適宜冷却または加熱することにより反
応を抑制または促進することが可能であり、好適温度と
しては０°〜室温であるということができる。 なお、各々反応終了後は通常の有機化学的手法により成
層体をとり出す仁とができる。 なお、前記一般式（Ｉ）を有する化合物は、不斉炭素を
有しており、それに基く光学異性体および立体異性体が
存在し、それら異性体すべてが単一の式で示されている
が、これによって本発明の記載の範囲は限定されるもの
ではない。 しかしながら、好適には５位の炭素原子がペニシリン類
と同一配位すなわち几配位を有する化合物を選択するこ
とができる。 前記一般式（Ｉ）のうち、一般式（ｌ−ｈ　）（式中、
勧、Ｒｅは前述と同じ意味を有し、２は水素原子または
前述した通常の水酸基の保護基を示す。） で表わされる誘導体について述べると、好適に＄！（５
Ｒ，６Ｂ、８Ｂ）配位、（５Ｂ、６８．ｇＲ）配位、（
５Ｂ、　６Ｒ，８８）配位、（５Ｒ，＠８．　ｇ８　）
配位を有する化合物をあげることができ、（５Ｒ。 ６Ｒ，８Ｂ）配位、（５Ｒ，＠８１ｇＲ）配位の化合物
が特に好適なものとして選択することができる。 前記一般式ＣＭ〕で表わされる原料化合物は例えば以下
に示すルートで製造することができる。 ＣＨ３（ｖｌ ［Ｗ］　　　　　　　　　　［Ｉ［］ 〔式中鯖は水素原子、通常の保護基で保護゛された１′
−ヒドロキシエチル基を示し、飾。 惑及び人は前述と同じ意味を有す。〕 ｒａ）　　化合物〔ｖ〕の製造方法 上記の一般式［Ｖ］で表わされる化合物は、上記の一般
式〔Ｗ］で表わされる化合物を一般式〔■〕 Ｍ　−８０−Ｒ’ｇ ［ＶＩ］ 〔式中、ｉｔ、Ａは前述と同じ意味を有し、′Ｍは、リ
チウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属原子を
示す。〕 で表わされる金属塩と不活性溶媒中で反応させることに
よって製造することができる。本反応に用いる不活性溶
媒としては、各種溶媒を用いることが可能であるが、好
適にには、水、メタノール、エタノール、ｎ−プロパツ
ール等のアルコール類、ジオキサン、テトラハイドロフ
ラン、ジエチルエーテル等のエーテル等類あるいはそれ
らの混合溶媒をあげることができる。 （ｂ）　　化合物（［１の製造方法 上記化合物（ｗｌは、一般式〔ｖ〕で表わされる化合物
と一般式［Ｋ） ＯＨＣ−ＣＯＯＲｓ　　　　　　　　　　　　　［Ｋ］
〔式中、８−は前述と同じ意味を有する。〕で表わされ
るグリオキシル酸エステル誘導体を不活性溶媒中、酸あ
るいは塩基の存在下処理することにより製造することが
できる。また化合物［Ｖ］と化合物［Ｋ］を無水条件下
、不活性溶媒中、加熱することによっても目的を達する
ことが可能である。 酸としては各種の酸を用いることができるが、好適には
三フッ化硼素、塩化アルミニウム等があげられる。 塩基としては各種の塩、好適にはトリエチルアミン、ジ
イソブロビルエチルアξン、ピリジン、１．５−ジアザ
ビシクロ（５・４・０）ウンデシー５−エン（ＤＢＵ　
）等の有Ｍ［基をあげることができる。 不活性溶媒としては好適にはテトラヒドロフラン、ジオ
キサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン等の芳香族
炭化水素類があげられる。 （ｅ）　　一般式〔Ｉ［］の製造方法 一般式［１１で表わされる化合物の水酸基をハロゲン化
剤とそのままあるいは塩基の存在下反応させ、ハライド
に誘導後、トリフェニルホスフィンと塩基で処理するこ
とにより一般式〔π〕で表わされる化合物を得ることが
できる。 ハロゲン化剤としては塩化チオニル、臭化チオニル等の
ハロペン化チオニル、オキシ塩化リン等のオキシハロゲ
ン化リン、五塩化リン等のハロゲン化リンまたはオキザ
リルクロリド等のオキザリルハライドが好適である。 また塩基としては好適には、トリエチルアミン、ジイソ
プロピルアミン、ピリジン、ルチジン等の有機塩基をあ
げることができる。 また、使用される不活性溶媒としては好適にはテトラヒ
ドロフラン、ジオキサン等のエーテル類があげられる。 あるいは一般式［Ｉ］で表わされる化合物のあるものは
、一般式 〔式中、Ｒ１，ｆｓは前述と同じ意味を有する。〕 で表わされるメルカプタンの銀塩をアシル化する方法に
よっても製造することができろ。 に準じて合成することもできるが、下記一連の新規誘導
体を経る全く新規な製造方法によって容易に製造するこ
とができる。 （６１（ｂ）　　　　　　　　　　　　（ｅ）（ｄ）　
　　　　　　　　　　　　（ｅ）〔式中、Ｒ１１は低級
アルキル基、アリ−Ｊし低級アルキル基を、Ｒｔｔはモ
ノアリールメチルあるいはジアリールメチル基を示し、
２′は通常の水酸基の保護基を示す。］（１）工　程： グリオキシル酸のエステル誘導体と一級アミン誘導体か
ら公知の方法により導びいたシッフ塩基（ｂ）を塩化ク
ロトノイルで不活性溶媒中、塩基の存在下処理すること
によって、β−ラクタム化合物（（Ｓ）を製造すること
ができる、不活性溶媒としては各種の溶媒を用いること
が可能であるが、好適には塩化メチレン、クロロホルム
等ハロゲン化炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエン等芳
香族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル ドロフラン等エーテル系溶媒、あるいはその混合溶媒を
あげることができる。塩基としては、好適には、トリエ
チルアミン、ピリジン、ルチジン、１．５−ジアザビシ
クロ［　５．　４。 ０〕ウンデセン−５　（　ＤＢＵ　）等有機塩基をあげ
ることができる。好適な反応温度としては、０〜１００
℃であるということができる。 伐）工　程： β−ラクタム化合物（（Ｉｌｌのエステル基を酸あるい
はアルカリで加水分解することによってカルボン酸誘導
体（ｄ）に導くことができる。工ステル基のカルボン酸
へのその他公知方法として各種の態様が知られているが
、もちろんそれらの方法によっても本反応を達成するこ
とは可能である。 （８）工　程： カルボン酸誘導体（ｄ）を不活性溶媒中、四酢酸鉛で処
理することによりアセテート誘導体（１５３に導びくこ
とができる。酸化剤の量としては、反応が十分進行する
だけの壷が必要であるが、通常は１〜８倍モル用いるこ
とにより達成することができろ。反応温度としては、適
宜冷却または加熱することにより、反応を抑制または促
進することが可能７あるが、好適には、０〜１００℃で
あるということができる。不活性溶媒としては、各種溶
媒を用いることが可能であるが、好適にはベンゼン、ト
ルエン等芳香族炭化水素、酢酸、ジメチルホルムアミド
、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル
等エーテル系溶媒、ヘキサメチルホスホリックトリアミ
ドあるいはその混合溶媒をあげること、ができる。また
、ピリジン、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等反応補助
剤を必要に応じ加えることもできる。 （４）工　　ｌ！： アセテート誘導体ｔｅｌ）を不活性溶媒酢＃Ｍ！第二水
銀ついで、水素化ホウ素ナトリウムで処理することによ
って、とドロキシエチル誘導体（ｒｌに導くことができ
る。不活性溶媒としては各種溶媒を用いることができる
が、好適にはテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチ
ルエーテル、アセトニトリル、水、あるいはその混合溶
媒をあげることができる。酢酸第二水銀処理においては
、酸化剤の好適量としては、１〜２倍モルであり、その
好適湿度としては０〜１００℃ということができる。次
に還元工程は上記反応液に水素化ホウ素ナトリウムを水
酸化ナトリウム等の水酸化アルカリ金属の存在下、加え
ることにより達成することができる。 還元剤の好適量としては１７４〜５倍モルということが
でき、好適湿度は一１０℃〜４０℃ということができる
。またアルカリ添加はアルカリ水溶液として、あるいは
粉末状にて加えることができ、好適添加量は１７２〜５
倍モルといえる。 （６）工　程： 水酸基を有する誘導体（０をたとえば、ｐ−ニトロベン
ジルクロロホーメート等のアシル化剤等で水酸基を保禮
し、それをＤＭＦ、アセトニトリル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、エタノール、水あるいはそれらの混合
溶媒といった不活性溶媒中Ｏ〜６０℃で２〜４倍モルの
セリツク・アシそニウムナイトレイト（ｅｅｒｉｅ　ａ
ｍｍｏｎｉｕｍ　ｎ１ｔｒａｔｅ　）　テ処理すること
によって、化合物〔ｆ−ａ］に導びくことができる。 また同様に先に述べた各反応の組合せをかえた下記ルー
トによってもアセテート誘導体〔Ｗ−纂〕は製造するこ
とができろ。 員　　　　　　　　　　愉） 山）（ｉ） ［１−畠〕 〔式中、１Ｌｔｔ　、　Ｚ’は前述と同じ意味を有する
。〕 （１）′オキシマーキュレージ替ンー脱マーキュレージ
１ン反応による水酸基の導入反応（り′カルボキシル基
の７セトキシル基への変換反応　ｍｌ保護基の導入反応
　（４（置換基Ｒｏの脱離反応であるが、いずれも前述
と同様の反応方法により達成することができる。 尚、ここで述べたこれらのβ−ラクタム誘導体（Ｗ−４
）の製造法は新規な製造法であり、また８位の保護され
たとドロキシエチル基の水酸基の立体構造としてはスレ
オ体とエリスロ体とがあるがここで述べたこれらの方法
では、選択性良く、スレオ体を製造することができると
いう特徴を有している。 原料化合物である一般式〔■〕で表わされる化合物にお
いて、たとえば 〔式中、Ｍ　、　Ｒ４は前述と同じ意味を有する。〕で
表わされるトリチオ炭酸エステルアルカリ金属塩は常法
に従い、一般式〔Ｘ−１ Ｈ８０Ｈｚ　ＯＲ’４ 〔式中、禎は前述と同じ意味を有する。〕で表わされる
メルカプタン化合物、二硫化炭等の金属水酸化物もしく
はナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリ
ウムエトキシド等のアルカリ金属アルコキシドを用いて
製造することができる。 なお、原料メルカプタン誘導体〔Ｘ−ａ］は、たとえば
、下記ルートで容易に製造することができる。 き ［式中、ＰＮＢはｐ−ニトロベンジル基を示す。］ また、 〔式中、Ｍ、Ｒ−は前述と同じ意味を有する。〕で表わ
される金属塩は、常法に従い一般式％式％ 〔式中、Ｒ−は前述と同じ意味を有する。〕で表わされ
るチオールカルボン酸誘導体と水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム等の金属水酸化物、ナトリウムメトキシド、
ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド等アルカリ
金属アルコキシド、水素化ナトリウム等水素化アルカリ
金属等を用いて製造することができろ。 なお原料化合物（、ｘ−ｂ）はたとえば、ｎｏｏｃ（二
ン’Ｊ−Ｒ’４ ｃ式中槁は前述と同じ意味を有する。〕の活性酸無水物
体と硫化水素から容易に製造することができる。 一般式〔■〕で表わされる他の誘導体も、上述の方法に
準じ製造することができる。 本発明の前記一般式［Ｄで表わされる新規なβ−ラクタ
ム化合物は、スタフィロコッカス。 オウレウス、スタフィロコッカス・エビデルミゾイス、
ストレプトコッカス・パイジエンス、ストレプトコッカ
ス・フェカーリスなどのダラム陽性ＷＭ、エシェリキア
・コリ、プロテウスミラビリス、セラシア・マルセッセ
ンス、シュードモナス・エルギノーザなどのダラム陰性
菌を包含する広範囲な病原菌に対し、すぐれた抗菌活性
を有し、抗菌剤として有用な化合物あるいは、それらの
抗菌作用を表わす化合物の重要合成中間体′である。 本発明化合物を細菌Ｓ染症を治療する抗菌剤として用い
るための投与形態としては、例えば錠剤、カプセル剤、
散剤、シロップ剤等によろ経口投与あるいは静脈内注射
、筋肉内注射、直腸投与などにより非経口投与があげら
れる。投与量は症状、年令、体重、投与形態、投与回数
等によって異なるが、通常は成人に対し１日約２００〜
ｓ　ｏ　ｏ　ｏｑを１回または数回に分けて投与する。 必要に応じて減量あるいは増量することができる。 次に実施例、参考例をあげて本発明をさらに具体的に説
明するが、本発明はもちろんこれらによって何ら限定さ
れるものではない。 ａ）８−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオ
キシエチル）−４−（４−（１−ｐ−二トロベンジルオ
キシ力ルポニルビペリジニル）−メチルチオ）−チオカ
ルボニルチオ−１−（ｔ−ｐ−二トロベンジルオキシ力
ルポニルトリフェニルホスホラニリデンメチル）−２−
アゼチジノン１．０ｇを乾燥０−キシレン２００−に溶
解させこれに触媒量のハイドロキノンを加え窒素気流下
５時間還流し溶媒留去残渣をシリカゲルクロマト１１１
１１．２−（４−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニルビペリジニル）−メチルチオ）−６−（１−ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニルオキシエチル）ペネム
−８−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステルのトラン
ス異性体及びシス異性体を得た。 ５．６−トランス異性体 ＩＲｏｆｉｏろ（ｚ　１）　　１７９０．１７５０．１
６８７．１６０８゜ａＸ １５２０、１４４０．１８４７．１２６０゜１１１４、
８５Ｏ ＮＭＲδ（ＣＤｃｔｓ）　　１．５１（８Ｈ，ｄ、Ｊ＝
６．５Ｈｚ）２．８９（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６：ＥＩｚ）
８．９２（ＩＨ，ｄａ　Ｊ　＝１．５ａｎｄ　ｇＨｚ）
５．２２（２Ｈ，８） ５．２５（２Ｈ，８） ５．４５（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１８，５Ｈ２）５．６６（
ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１．５Ｈｚ）７．５１　（４Ｈ，ｄ、
　Ｊ　＝ｇＨｚ　）７．６１（２Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝９Ｈ
ｚ）８．１１（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝９Ｈｚ） ８．１８　（４Ｈ，ｄ　、　Ｊ＝９Ｈｚ　）５．６−シ
ス異性体 ＩＲ”０Ｌ”（ｃｙ−”）　１７８７．１？４０．１６
８５．１６０５゜ａＸ １５１５、１８４５．１２４０．１１６０゜１１１２、
８４７ ＮＭＲδ（ＣＤｃｚｍ　）　：　１．６２（８Ｈ，ｄ、
　Ｊ＝６．５Ｈｚ　）４．１１（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝４
ａｎｄ　１Ｑｎｚ）５．２２（２Ｈ，ｓ）、５．２６（
２Ｈ，！Ｉ）５．４６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１４Ｈｚ） ５．７７（ＩＨ，ｄ、　Ｊ　＝４Ｈｚ）７．５１（２１
（、ｄ、Ｊ＝ｇ、５Ｈｚ）７．６４（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝３
．５Ｈｚ）７．６１（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．５Ｈｚ）８．
２２（４Ｈ，ｄ、Ｊ＝８ＪＨ２） ８．２４（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝３．５Ｈｚ）ｂ−１）２−（
４−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルビペリ
ジニル）−メチルチオ）−６−（１−ｐ−二トロベンジ
ルオキシヵルポニルオキシエチル）ペネム−８−カルボ
ン酸ｐ−ニトロベンジルエステルの５．６−）ランス異
性体１６０■をテトラヒドロフラン９−にとかし、さら
にエタノール１　ｍ　、０．０２５Ｍ−りン酸緩衝液（
ｐａｅ、ｇ　）　１０−を加え、５％パラジウム〜炭素
４５０ｗｆを用いて常千水素下１時間攪拌した。反応終
了後触媒をＰ去し、触媒を水洗後、Ｐ液、洗液を合わせ
、５〜１０−まで減圧上濃縮し、ＭＣＩ−ＧＥＬＣＨＰ
−２０Ｐ１５−を用いるカラムクロマトグラフィーに付
し、１５％メタノール−水で溶出するフラクシ短ンを集
め、凍結乾燥を行い無色粉末の２−（４−ピペリジニル
メチルチオ）−６−（１−ヒドロキシエチル）ペネム−
８−カルボン酸の５．６−）ランス異性体（８１Ｗｑ）
を得た。 ＩＲＫＢｒ（ｃｙｒ＋−”）　：　１７６５．１５６８
．１８６６ａｘ ＵＶ　ｘ９：’ｊ　ｎｍ　：　２５（Ｌ　８２０帛住δ
（ＤｓＯ）　−：　１．２１（８Ｈ，ｄ、Ｊ＝６−４出
）、３Ｊｌ　ｌ（ＩＨ，ｄ、ｄ、Ｊ　＝　１．２　ａｎ
ｄ　６．４ｎＺ　）４．１５　（ＩＨ，ｑｕｉｎｔｅｔ
　、　Ｊ＝６．４Ｈｚ　）５．５７（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝
１．２Ｈ２）ｂ２）５．６一シス異性体ノエステル体（
１８０■）から同様にして無色粉末の２−（４−ピペリ
ジニルメチルチオ−６−（１−ヒドロキシエチル）ペネ
ム−８−カルボン酸の５．６−シス異性体（２６Ｗｑ）
を得た。 また、（８８４Ｒ）−８−［（Ｒ）−１−Ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルオキシエチル）−４−（４−（
１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルビペリジニル
）−メチルチオ）−チオカルボニルチオ−１−（１−ｐ
−二トロベンジルオキシカルボニルトリフェ二Ｊレホス
ホラニリデンメチル）−２−アゼチジノンを上述のａ）
と同様に処理することによって、（５Ｒ，６８）−２−
［４−（１−ｐ−二トロベンジルオキシヵルボニルビペ
リジニル）−メチルチオ）　−６−（（Ｒ）−１−ｐ−
二トロベンジルオキシヵルボニルオキシエチ７Ｌ／　）
　ヘ４　ム−３−カルポジ酸ｐ−ニトロベンジルエステ
ル （比旋光度Ｃａｌ”＋７１．６°（０＝０．４５７、Ｃ
ＨｃＩＩ）、ＩＲ，ＮＭＲは前述のトランス体と一致）
と（５８，６８）−２−［４−（１−ｐ−二トロペシジ
ルオキシカルボニルビペリジニル）−メチルチオ）−６
（（Ｒ）−１−ｐ−二トロベンジルオキシカＪレポニＪ
レオキシエチル）ペネム−８−カルボン酸ｐ−ニトロベ
ンジルエステル （比旋光度［ａ〕Ｄ−６８，０’　（Ｃ＝０．２２　（
ｎＯｔｓ　）、ＩＲ，ＮＭＲは前述のシス体のそれと一
致。）を得た。 更に（５Ｒ，６８）−２−（４−（１−Ｐ−二トロペン
ジルオキシカルボニルピペリジニル）−メチルチオ）−
６−（（Ｒ）−１−Ｐ−二トロペンジルオキシヵルボニ
ルオキシェチル）ペネム−８−カルボン酸ｐ−ニトロベ
ンジルエステルから　ｂ−１）と同様の処理によって（
５Ｒ，６８）−２−（４−ピペリジニルメチルチオ）−
６−（（Ｒ）−１−ヒドロキシエチル）ペネム−８−カ
ルボン酸を得た。 （比旋光度〔α］　　＋１０２．７°ＣＣ＝０．２７、
ＨｔＯ）ＩＲ９Ｕｖは上述の５．６−トランス異性体ト
一致） 実施例２ ａ）ａ−（ｔ−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオ
キシエチル）−４−（４−（１−ｐ−二トロペンジルオ
キシカルボニルビペリジニル）−チオ）−チオカルボニ
ルチオ−１−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシヵルボニ
ルトリフェニルホスホラニリデシメチル−２−アゼチジ
ノン１．７５ｆを乾燥Ｏ−キシレン５７８艷に溶解させ
これに触媒量の１１イドロキノンを加え窒素気流下９時
間還流し溶媒留去残ｆをシリカゲルクロマト精製し２−
（４−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルポニルビペ
リジニル）−チオ）−６−（１−Ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニルオキシエチル）ペネム−８−カルシボン
酸Ｐ−ニトロベンジルエステルの５．６−）ランス異性
体及ヒ５．６−シス異性葎を得た。 ５．６−）ランス異性体 ０ｆｌＯ２ｓ　　　　１　　　＊ ■Ｒｍｔｓｘ　　（ｃｍ　）　−１７８５−１７２２−
１６９５−１６０１゜１５１８、１８４０．１１０５ ＮＭＭｌ１０５Ｎ、１）　：　１．５０（８Ｈ，ｄ、Ｊ
＝６．５ＨｊＺ）９．９１（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ−７，５
ａｎｃ１２Ｈｊｚ）５．２１（２Ｈ，８）、６．２４（
２Ｈ，Ｓ）５．８０（２Ｈ，ＡＢ（ｌ剃沁、Ｊ＝１４Ｈ
−心５．６５（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝２Ｉｉ荀 ５．６−シス異性体 ＣｋＩＣｔｓ　　　−ｔ　　　＠ ＩＲｍａＸ（５１）’　、　１７８５．１？４０．１７
６０．１６０５゜１５２０．１８４２．１１０５ 協Ｂδ（ＣＤＣｚ胞）　：　１．６０（８Ｈ，ｄ、Ｊ＝
６．５ｆｌｌ）４．１８（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ−＝ｌＱ、
５ａｎｄ４Ｈ＠）５．２１（２Ｈ，８）　、　５．２４
（２Ｈ−ｓ）５−２６　（２１１，ＡＢｑの中心、　Ｊ
＝　１４．５均０λ ５．７８（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝４ＨＬ） ｂ−１）２−（４−（１−Ｐ−ニトロペンジルオキシカ
ルボニルビペリジニル）−チオ）−６−（１−Ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニルオキシエチル）ペネム−８
−カルボン酸Ｐ−ニトロベンジルエステルの５．６−ト
ランス異性体２００１１Ｉｇをテトラヒドロフラン９−
にとかし、さらにエタノール１−１０．０２５　Ｍ−リ
ン酸緩衝液（ＰＨ６，８）１０−を加え、５％パラジウ
ム−炭素６００”ＩＰを用いて常圧水素下１時間攪拌し
た。反応終了後触媒をＰ□ 去し、触媒を水洗後、Ｐ液、洗液を合わせ、６〜１０−
まで減圧上濃縮し、ＭＣＩ−ＧＥＬ　ＣＥＩＰ−２０ｆ
５ｍを用いるカラムクロマトグラフィーに付し、１０Ｘ
メタノール−水で溶出するフラクシヨンを集め、凍結乾
燥を行い無色粉末の２−（４−ピペリジニルチオ）−６
Ｔ（１−ヒドロキシエチル）ペネム−８−カルボン酸の
５．６−）ランス異性体（２２１１Ｐ）を得た。 ＩＲ”ｒ（ｍ−’）　：　８４００（ｂｒ）、　１７６
５．１６２５．１５６０゜ｍａＸ １８７０、１２８２ ［２０ 石λｎ１ａＸｎ１１１：２５５．８２０畠化δ（Ｄ２０
）　：　１．８９（８Ｉ（、ａ、　Ｊ＝６Ｈ１）４．０
６（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝１．５ａｎｄ　６Ｈｙ）ｂ−２
）　　２−（４−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ポニルビペリジニル）−チオ）−６−（１−Ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルオキシエチル）ペネム−８−
カルボン酸Ｐ−二トロベンジルエステルの５．６−シス
異性体（１４０１ｑ）から　ｂ−１）と同様の処理によ
り２−（４−ピペリジニルチオ）−６−（１−ヒドロキ
シエチル）ペネム−８−カルボン酸の５．６−シス異性
体（ａｏｌｑ）を得た。 ＩＲ”ｒ（ｍ−’）　：　１７７０．１６１２．１５６
５．１８７２゜ｍａＸ １２７ｇ、　１１２５．１０７５ ＩｓＯ αλｆｎａＸｎｒｎ：２５５．８１８ ＮＭＲδ（ＤＩＩＯ）　：　１．８２（８Ｈ，ｄ、　Ｊ
　＝７Ｈｚ）８＝９１（１ｆ１．ｄｄ、Ｊ＝４．５　ａ
ｎｄ　１ＱＨｚ　）５．７０（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝４．５
Ｈｚ）また（８８．４Ｒ）−８−［（Ｒ）−１−Ｐ−ニ
トロベシジルオキシカルボニルオキシ）−４−（４−（
１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルビペリジニル
）−チオ）−チオカルボニルチオ−１−（１−Ｐ−ニト
ロペンジルオキシカルボニルトリフェニルホスホラニリ
テンメチル）−２−アゼチジノンを上述と同様に処理す
ることによって、（５Ｒ，６８）−２−［４−（１−Ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニルビペリジニル）−チ
オ）−６−（（Ｒ）−１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルオキシエチル）ペネム−８−カルボン酸Ｐ−ニ
トロベンジルエステル （比ｗ光度〔ａ〕；＋ｓｏ、ｓ°（０＝Ｑ、１２４　、
　（ＸＩＣｔｓ　）、ＩＲ，ＮＭＲは前述のトランス体
と一致）と（５８，６８）−２−［４−（１−Ｐ−ニト
ロペンジルオキシヵルボニルビペリジニル）・−チオ）
−６−ｒ（Ｒ）−１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシエチル）ペネム−８−カルボン酸Ｐ−ニトロ
ベンジルエステル （比旋光度ＣＱ〕：、’−７１，９°（０＝０．０９５
　、　ＣＨｃｚｓ　）ＩＲ，ＮＭＲは前述のシス体のそ
れと一致）を得た。 更に、（５Ｒ，６８）−２−（４−（１−Ｐ−ニトロペ
ンジルオキシヵルボニルビペリジニル）−チオ）−６−
（（Ｒ）−１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオ
キシエチル）ペネム−８−カルボン酸Ｐ−ニトロベンジ
Ｊレエステルから、上述と同様の処理によって（５ｆｔ
、６８）−２−（４−ピペリジニルチオ）−６−（（Ｒ
）−１−ヒドロキシエチル）ペネム−８−カルボン酸を
得た。 ＩＲ，ＮＭＲ，ＵＶ（Ｊ上述の５．６−　トランＸ体と
一致） 実施例８ ａ）　　８−（１−ｐ−＝トロベンジルオキシカルボニ
ルオキシ゛）エチル−４−（４−（１−Ｐ−二トロペン
ジルオキシヵルボニル）ピペリジニル）メチルカルボニ
ルチオ−１−Ｐ−二トロベンジルオキシヵルボニルフォ
スフォラニリデシメチル２−アセチジノン１．７０ｆを
乾燥Ｏ−キシレン８５−に溶解させ、触媒量のＰ−ハイ
ドロキノンを加え、窒素気流下８．５時間還流゛し、溶
媒留去残渣をシリカゲルクロマト精製し、２−（４−（
１−Ｐ−二トロベンジルオキシカルボニル）ピペリジニ
ル）メチル−６−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニルオキシエチル）ペネム−８−カルホンｆｉｌ　Ｐ
−ニトロベンジルエステルの５．６−シス、トランス異
性体を得た。 ５．６−トランス異性体

【ＲＯＨ０″８（♂’）　：　１７８Ｂ、　１７４５．
１７００．１６８５゜ａｘ １６０８、１５２０．１４８８．１８４５゜１８１２、
１２６０．１１０７．１００５゜４５ ＮＭＲδ（ＯＤＯｚｓ）　：　１．４９（８Ｈ，ｄ、　
Ｊ＝６．５Ｈ２）３、ｇ２（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝１．５
ａｎｄ７．５Ｈｚ）５．２０（２Ｈ，８）、５．２８（
２Ｈ，８）５．８６（ＩＨ，ｄ、　Ｊ　＝１４Ｈｚ）５
．６１（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１．５） ７．４７（４Ｈ，ｄ、Ｊ＝３．５Ｈｚ）７．５７（２Ｈ
，ｄ、　Ｊ＝３．５１１ｚ）８　、１８（６Ｈ，ｄ、　
Ｊ＝８．５Ｈ１）５．６−シス異性体 ＩＲ”””（ｚ−”）　：　１７８４．１７５０．１６
９５．１６１０゜ａｘ １５８０、１５２６．１４４０．１８５０゜１Ｂ１５．
１２４５．１１６８．１１１４゜１０１０、８５Ｏ ＮＭＲδ（ＣＤＣｚｍ）　：　１．６０（８Ｈ，ｄ、　
Ｊ＝６．Ｈｚ）５．２１（２Ｕ、　８）、５．２６（２
７（、８）５．４１（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１３，５ｔｉｚ
）５．７０（ｌｆｌ、　ｄ、　Ｊ＝４Ｈｚ　）７．５０
（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝３．５Ｈｚ）７．５４（２Ｈ，ｄ、
　Ｊ＝８．５Ｈｚ）７．６０（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝８．５
Ｈｚ）８．２２（６Ｈ，ｄ、　Ｊ＝３，５Ｈｚ）ｂ）２
−（４−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）
ピペリジニル）メチル−６−（１−Ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルオキシエチル）ペネム−８−カルボン
酸−Ｐ−二トロペンジルエステルの５．６−トランス異
性体２００■をテトラヒドロフラン９ｄにとかし、更に
エタノール１−１０．０２５　Ｍ　−リン酸緩衝液（ｐ
Ｈ６，８）　１０−を加え、５％パラジウム−炭素６０
０■を用いて常圧水素Ｆ１時間攪拌した。反応終了後触
媒を炉去し、触媒を水洗後、炉液、洗液を合わせ、５〜
１゜−まで減圧上濃縮し、ＭＣＩ　−ＧＥＬ　ＣＨＰ−
２ｏＰ２０−を用いるカラムクロマトグラフィーに付し
、１０％メタノール−水で溶出するフラクシジシを集め
、凍結乾燥を行い無色粉末の２−（４−ピペリジニル）
メチル−６−（１−ヒドロキシエチル）ペネム−８−カ
ルボン酸の５．６−）ランス異性体を得た。 １２０ ｔｒｖλｍａｘｎｍ：２６０，８０２ 実施例弘 しυ０ＰＮＢ ａ）８−（１−ｐ−二トロペンジルオキシ力ルポニルオ
キシ）エチル−４−（２−（４−（１−ｐ−二トロベン
ジルオキシヵルボニル）ピペリジニル）エチニル）カル
ボニルチオ−１−ｐ−二トロベンジルオキシヵルボニル
フォスフォラニリデシメチル−２−アゼチジノン０．８
４１を乾燥トルエン４２−を溶解させｐ−ハイドロキノ
ジ０．０２８１を加え、窒素気流下１０時間還流し、溶
媒留去、残渣をシリカゲルクロマト精製し、２−（２−
（４−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピ
ペリジニル）エチニル）−６−（１−ｐ−ニトロベンジ
ノレオキシカルボニルオキシエチルルエステルの５．６
ーシス、トランス異性体を得た。 ５、、６−）ランス異性体ＩＲ，ＮＭＲＩＲ認０７ｓ　
（ｍ″”）　：　１７８８．　１７４５．−１６９０．
　１６０５。 １５２０、　１４４０．　１８４６．　１Ｂ１４。 １２４５、　１１７０．　１１８４．　１１０８。 １０１２、　８４５ ＮＭＲδ（ＣＤｃｔｊｌ）　：　１．５０（８Ｈ，　ｄ
，　Ｊ　＝６．５Ｈｚ）３、９Ｑ（ＩＨ，　ｄｄ，　Ｊ
＝ｌ，５ａｎｄｇＨｚ）５、２８（２Ｈ，　８）、５．
２６（２Ｈ，　Ｓ）５、５８（ＩＨ，　ｄ，　Ｊ＝ｌ　
、５Ｈｚ）６　、０２　（　ｌｆｌ，　ｄｄ　、　Ｊ　
＝６．５　ａｎｄ　１６Ｈｚ　）７、２１（ＩＨ，ｄｄ
，Ｊ　＝１ａｎｄ１６Ｈｚ）７、５２（２Ｈ，　ｄ，　
Ｊ＝３．５Ｈｚ）７、５２（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ　＝ｇ．
５１ｉｚ）７　、６２（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ　＝ｇ　、５
Ｈｚ　）８、２１（６Ｈ，　ｄ，　Ｊ＝３．５Ｈｚ）５
、６−シス異性体 Ｉ几＋ｎ？ｇ’　”　（ｕ「’　）　　：　　１７　８
　４　ｅ　１７　４　０　（ｓｈ）　＊　’　１７　０
　２　。 １６１０、　１５２４．　１４４２．　１Ｂ４９。 １８１５、　１２５０．　１１６８．　１０１５。 ９６５、　８５０ ｂ）　　２−（　２−（　４−（　１−ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニル）ピペリジニル）エチニル）−６
−（１−ｐ−二トロベンジルオキシカルボニルオキシエ
チル）ペネム−８−カルボン酸−ｐ−ニトロベンジルエ
ステルの５。 ６−トランス異性体ｔｓｏ＋ｖをテトラヒドロフラン７
−にとかし、更にエタノール１ｍｇ、０、０２５　Ｍ−
リン酸緩衝液（　ｐＨ６．８　）　８　ｗｔを加え、５
％パラジウム−炭素５００＋１９を用いて常圧水素下１
時間攪拌した。反応終了後触媒をＰ去し、触媒を水洗後
、ろ液、洗液を合わせ５〜１０−まで減圧上濃縮し、Ｍ
ＣＩ−ＧＥＬ・ＣＨＰ−２０Ｐ　２０−を用いるカラム
クロマトグラフィーに付し、１５Ｘメタノール−水で溶
出するフラクシ習ンを集め凍結乾燥を行い、無色を末の
２−（２−（４−ピペリジニル）エチニル）−６−（１
−ヒドロキシエチル）ペネム−８−カルボン酸の５．６
−トランス異性体を得た。 ＩＲ　ＫＢｒＣｃＷｌ−’）　：　１７６０．１５８０
．１１５８ａｘ ＵＶλ忠ｇ　ｎｍ　：　２６０．８８ＯＮＭＲδ（Ｄ２
０）　：　　１．２１（８ｕ、ｔｌ、、Ｔ　＝ＱＨｇ）
８．７５（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝＝ｌ　、５ａｎｄ５Ｈ１
ｆ）４．１６（ｌｆｌ、　ｑｕｉｎｔｅｔ、　Ｊ＝６Ｈ
ｊ）５．４７（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１．５Ｈ＊）５、ｇ６
（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ　＝５ａｎｄ　１６Ｈｊ）シ フ、１５（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１６Ｈ４）ｃ）　　２−、
（２−（４−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル）ピペリジニル）エチニル）＝６−（１−ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルオキシエチル）ペネム−８−
カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステルの６位１−ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニルオキシエチル基の立体
構造の異なる誘導体（エリスロ体）は１−（ジーＰ−ア
ニシルメチル）−８−ヒドロキシエチル−４−ア士トキ
シー２−７ゼチジノシの８位・ヒドロキシエチル基の水
酸基の立体構造がスレオ体、エリスロ体約１＝１の混合
物から導いた８−（１−ｐ−二トロベシジルオキシカル
ボニルオキシ）エチル−４−（２−（４−（１−ｐ−二
トロペンジルオキシカルボニル）ピペリジニル）エチニ
ル）カルボニルチオ−１−ｐ−ニトロペンジルオキシヵ
ルポニルホスポラニリデンメチル−２−アゼチジノンを
前述の如く、閉環後シリカゲルクロマトにて分離するこ
とにより得た。 ＩＲ児Ｌ８Ｃｔｒｔｒ　’　）　：　１７９０　ｅ　１
７４５（”ｈ）、１７０５−１６１０、１５２５．１４
４０．１８５０゜１Ｂ１８．１２５０．１１７８．１１
４０゜１０１６、８５８ ＮＭＡδ（ＣＤＣｚｓ　）　：　１．４５（８Ｈ，ｄ、
　Ｊ　＝６．５Ｈｚ　）Ｆ３．９Ｂ（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ
　＝ｌ、５ａｎｄ　４Ｈｚ　）５．１４（２Ｈ，８）、
５．１９（２Ｈ９８）５．８６（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１４
Ｈ１）５．８６（ＩＨ，ｄ、　Ｊ　＝１．５Ｈｚ）５．
９５（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝６．５ａｎｄ　１５′Ｅｈ）
７．２１（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１５Ｈす ７−４２（２Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝３．５ｆｌｚ）７．４５
（２Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝８．５Ｈ７）７．５４（２Ｈ，ｄ
、　Ｊ＝３．５Ｈｚ）８−１８（６Ｈ，ｄ、　Ｊ＝３．
５Ｈｚ）実施例５ ａ）　　４−（４−（Ｉ　　Ｐ−ニトロベシジルオキシ
カルボニルビペリジニル）チオ）チオカルボニルチオ−
１−ｐ−二トロベンジルオキシ力ルポニルフォスフォラ
ニリデンメチル−２−アゼチジノン１．６８Ｆを０−キ
シレン５４８−に溶解させ、触媒量のＰ−ハイドロキノ
ンを加え、窒素気流ｒ４．５時間還流させ、溶媒留去、
残渣をシリカゲルクロマト精製し、２−（４−（１−ｐ
−二トロベンジルオキシ力ルポニルビペリジニル）チオ
）ペネム−３−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル
を得た。 、Ｒｃｓｃｔｍ　　−ｔ　　。 ｍ、ｘＣｃＩＩＫ）　、　１７９０．１６９ｇ、１６０
８．１５２２゜１８４８、１ｇ２５．１２５０．１１９
２゜１１０ ｍδ（ＯＤＣｚｓ）　：　１．８７−２−４８（４Ｈ，
ｍ）２．８８−４．８７（７Ｈ，ｍ） ５．２８（２Ｈ，ｓ）、５．２８（ＩＨ，ｄ。 Ｊ＝１４Ｈ２）、５．４６（ＩＨ，；、Ｊ　＝１４ｔｉ
ｚ）５．７５（ＩＨ，ａａ、　Ｊ　＝２ａｎｄ４Ｈｚ）
７−５８（２Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝８Ｈｚ）７−６４（２Ｈ
，ｄ、　Ｊ　＝８Ｈｚ）８．２８（４Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝
８ＨＱ ｂ）　　２−（４−（１−ｐ−ニトロベシジルオキシカ
ルボニルビペリジニル）チオ）ペネム−８−カルボン酸
ｐ−ニトロベンジルエステル１５０１１ｖをテトラヒド
ロフラン７−にとかし、更にエタノールｌｓｄ、　０．
０２５Ｍ−リン酸轡衝液（ｐＨ６・８）１０−を加え、
６Ｘパラジウム−炭素２５０キを用いて常圧水素下１時
間攪拌した。反応終了後触媒を炉去し、触媒を水洗後、
Ｐ液、洗液を合わせ、５〜１０ｄまで減圧Ｆ濃縮ｔ、、
ＭＣＩ−ＧＥＬ　ＣＵＰ−２０Ｐ　１０−を用いるカラ
ムクロマトグラフィーに付し、１０％メタノール−水で
溶出するフラクシッンを集め、凍結乾燥を行い、無色粉
末の２−（４−ピペリジニル）チオペネム−８−カルボ
ン酸を得た。 Ｂｒ ＩＲ−ｓ　　：　１７６２．１６２０．１８６０．１２
７０ａＸ　Ｑｎ ＵＶ　Ａ＝ｇ　ｎｍ　：　２５（Ｌ８１８以下同様にし
て各々対応するホスホラン誘導体から以下の化合物を得
た。 なお、閉環工程の反応溶媒は、表中に記述の反応温度に
準じ、ベンゼン、トルエン、キシレン、オルトキシレン
等から選択して用いた。 実施例４４ ２−ヒドロキシメチル−ペネム−８−カルボン酸ｐ−ニ
トロベンジルエステル１６８’９を乾燥塩イヒメチレン
４−に浴解し、トリエチルアミン６０ｑを加え、次に水
冷下メトキシアセチルクロリド０．０５ｍを加え窒素気
流下１時間攪拌し、塩化メチレンで希刺し水、重曹水、
水で洗浄し芒硝乾燥後俗媒留去、残渣を薄層クロマトグ
ラフィにて精製し、２−メトキシアセトキシメチル−ペ
ネム−８−カルボン酸Ｐ−ニトロベンジルエステルを得
た。 ＩＢｆｉｌｍ　　−ｔ ｍＨｌ　（ｃＷＩ）　：　１７８０．１７２５．１６０
４．１５Ｆ［）。 １５１５、　８６Ｏ ＮＭＲδ（ＣＤＯｚす：　８．４８（８Ｈ＃　Ｓ）８．
６２（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝２ａｎｄ１７１１ｚ　）９．
７９（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ　＝４ａｎｄ１７Ｈｚ　）４．
１０（２Ｂ、ｓ）、５．８２（２ｔｌ、Ｆ）５．７２（
ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝２ａｎｄ４Ｈｚ　）７．６５（２Ｈ
，ｄ、　Ｊ　＝８．５Ｈｚ）８．２５Ｃ２ｎ、　ｄ、　
Ｊ　＝ｇ、５Ｈｚ　）実施例４５ ２−ヒドロキシメチル−ペネム−８−カルボン酸ｐ−ニ
トロベンジルエステル１５０’ＦとＮ−ｐ−二トロベン
ジルオキシ力ルポニルフェニルグリシシ−１５２１９を
乾燥テトラヒト０７７　ン１５　ｍｌ　ｆ（浴解し、ジ
シクロへキシルカルボジイミド（ｉ）Ｃ！０）１２０Ｗ
ｑを加、ＩＬ、菫素気流ド室温で８０時間攪拌後、不溶
物を戸去しＰ液を濃縮。残渣を薄層クロマトグラフィー
ｔ（て１１１１１．２−Ｎ−Ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルフェニルグリシルオキシメチル−ペネム−８
−カルボン酸−ｐ−ニトロベンジルエステルヲ得り。 ＩＢ　Ｓ：ＨＣＬｍ　（♂’）　：　８４４０：噌７９
５．１７２５．１６０６゜１５２０．１Ｂ５０．１８１
９．１１６２゜１０５８．　９０６ ＮＭＲδ（ＣＤｃｔｓ　）　：　Ｂ　、５１（Ｉｎ、　
ｄｄ、　Ｊ＝２ａｎｄ　１６．５ｔｌｚ　）Ｌ７２（Ｉ
Ｌ　ａａ、、ｒ　＝３３，５ａｎｄ１６．５Ｌｌｚ）５
．１７（２Ｍ、す、５．４１（２Ｈ，ｆｉ）、７．８８
（５Ｈ，り、７−５５（２１１，ｄ、　Ｊ＝９Ｈｚ　）
８、１７（４ｆｉ、　ｄ、　Ｊ　＝９Ｈｚ　）実施例４
６ グリコール酸、７６０４とトリエチルアミン１．１Ｆの
乾燥テトラヒドロフラン溶液にｐ−ニトロベンジルクロ
ロホルメー）　２．２６　Ｆを加え、室温１時間攪拌後
酢酸エチルで希釈し、希塩酸、水で順次洗浄、芒硝乾燥
し、溶媒留去後、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
オキシ酢酸を得た。次いで水晶８００ｑを乾燥酢酸エチ
ル７．５−にとかし次に１．１−ジクロロジメチルエー
テル１−を加え、５時間還流後、溶媒留去して、ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニルオキシアセチルクロリド
を得た。これを、２−ヒドロキシメチル−ペネム−８−
カルボン酸−ｐ−ニトロベンジルエステル（１６８ｑ）
とトリエチルアミン０．１−の乾燥塩化メチレン溶［１
０−に氷冷Ｆ加え、以下実施例４４と同様の処理により
２−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシアセト
キシメチル−ペネム−８−カルボ＞Ｈ−ｐ−ニトロベン
ジルエステルヲ４　ｙ、＝。 ＩＲ費￥″′（副−’）　：　１７９０．１７５２．１
７０５．１６００゜１５１９、１８４２．１Ｂ１２．１
２７７゜１２６０．１１７８．９０２ ＮＭＲδ（ＯＤｃｔｓ　）　：　８．６４　（ＩＨ，ｄ
ｄ　、　Ｊ　＝２ａｎｄ　ｔｓ、ｓｎｚ　）Ｂ　、Ｂ２
（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ　＝４ａｎｄｌ（３，５Ｈｚ　）４
．７０（２Ｈ，８）、５．８０（４Ｈ，Ｓ）、５．６７
（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ　＝２ａｎｄ４Ｈｚ）、７．５２（
２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝ｇＨｚ　）、７．５７　（２Ｈ，ｄ　
、　Ｊ＝９Ｈ２）、８　、１７（４Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝ｇ
Ｈｚ　）実施例４７ β−アラニン１．１４ｆと４Ｎ−水酸化ナトリウム水溶
液７．８−からなる溶液に氷冷ドＰ−ニトロベンジルク
ロロホルメート３ｇのジオキサン（８−）溶液を加え、
１時間攪拌後不溶物をＦ去、Ｆ液を塩酸で中和し、生じ
た結果を集め、Ｎ−ｐ−二トロペンジルオキシカルボニ
ルーβ−アラニンを得１こ。水晶（８００Ｗ）を実施例
５４に記載の方法と同様の方法により酸クロリドに変換
後２−ヒドロキシメチル−ペネム−８−カルボン酸−Ｐ
−ニトロベンジルと反応させ、２−（２−Ｎ−ｐ−二ト
ロベシジルオキシカルボニルアミノプロピオニル）オキ
シメチル−ペネム−８−カルボンｔａ−ｐ−ニトロベン
ジルエステルを得た。 ＩＲ！、’、’：　ＣｃＩＩ４’　）　：　８８８０ｓ
　１７８２．１７１０．１６０２゜１５７５．１５１２
．１ｇ４１．１０６２゜１０００．８４５ ＮＭＲδ（（３ＤｃＡｓ）　：　２．５８（２Ｈ，ｔ、
　Ｊ＝６［ｚ）、８．４４（２Ｒ，ｔ、　Ｊ＝６ｉ１ｚ
）、８．６０（ｌｊｉ、　ｄｄ、　Ｊ　＝２ａｗｘｌ　
１（３１１ｚ　）、８．７８（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ　＝４
Ｂｎｄ　１５Ｈｚ）、５．１８（ｉｎ、ｄ、Ｊ＝１４Ｈ
ｚ）、５．１６（２ｋＬ、１り、５．２１（ＩＨ，ｄ、
　Ｊ＝１３Ｈｚ）５．４１（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝ｌ１３Ｈ
ｚ）、５．４４（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝１４Ｈｚ）、５．６４
（ｔＨ，ａｃｔ、　Ｊ　＝２ａｎｄ４Ｈｚ）、７．４４
（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、 ７．５５（２に、　ｄ、　Ｊ　＝９ｊｉｚ）、８−１５
（４Ｌ　ｄ、　Ｊ　＝９ｔＬｚ　）実施例４８ アセトキシ酢酸８００１１Ｉを、実施例５４に記載の方
法と同様の方法により酸クロリドに交換後、２−ヒドロ
キシメチル−ペネム−８−カルボン酸−ｐ−二トロベン
ジルエステルと反応させ、２−アセトキシアセトキシメ
チ７ｔ、−ペネム−８−カルボン酸−Ｐ−ニトロベンジ
ルエステルヲ得り。 ＩＲ，４４’、”　（５−”）　：　１７８０．　ｔｙ
ａｏ、　１６００．１５７５゜１５１５、８４Ｏ ＮＭＲＪ（ＣＤＣｚａ）　：　２．ｔ７（８Ｌ　ｓ）８
．６５（ｌｌｉ、　ｄｄ、　Ｊ＝２ａｎｄｌ　６ｉ１ｚ
）８．８２（ＩＬ　ａａ、　Ｊ　＝４ａｎｄ１６）１ｘ
）４−６５（２，ａ、ｓ）、５．２１　（ＩＨ，ｄ、　
Ｊ　＝１４ｍ）５．２７（１）ｉ、　ｄ、　Ｊ＝１８Ｍ
Ｚ）５．４４（ｌｌｉ、　ｄ、　Ｊ＝１８ｆｉＺ）５．
５６（ｌＨ，ｄ、　Ｊ＝１４Ｈｚ）５．７４（ｔＨ，ｃ
ｔａ、　Ｊ　＝２ａｎｄ４Ｈｚ）７．６２（２１１，ｄ
、　Ｊ＝８．５Ｈｚ　）８．２２（２］１１．　ｄ、　
Ｊ＝８，５１ｉｚ）実施例４９ ２−メトキシアセトキシメチル−ペネム−８−カルボン
酸ｐ−ニトロベンジルエステル６５■を酢酸エチル４．
５−にとかし、これに水２ｄを加え、５％パラジウム−
炭素１２０〜を用いて常圧水素下１時間攪拌した。反応
路Ｉ後触媒を炉去し、触媒を水洗後、Ｐ液、洗液を合わ
せ、これに重ｇｓｏ’ｘｑを加え、水層を約２−まで濃
縮しバイオゲルｐ−２（１０−）を用いるカラムクロマ
トグラフィーに付し、水で溶出したフラクシロンを集め
、凍結乾燥ヲ行い、無色粉末の２−メトキシアセトキシ
メチル−ペネム−８−カルボン酸ナトリウム塩を得た。 ＩＨメ、（ｆｆｉ”）　：　１７８８．１７４０−１５
８０．１２２０αλＷニジｎｍ　：　２５５１８０８ 実施例５０ 前述の実施例と同様に対応する原料化合物から以下の化
合物を得た。 実施例５１ ２−（４−カルボニルフェニル）−ペネム−８−カルボ
ン酸ｐ−ニトロベンジルエステル５００ｑを乾燥テトラ
ヒドロフラン１〇−にとかし、これにカルボニルジイミ
ダゾ−Ｊし２１０”ｆを加え、室温下６時間攪拌。これ
に２−（２−アミノエチル）ピリジン２１５ｗＩＩを加
え、更に室温で８時間撹拌し、酢酸エチルで希釈し、水
洗、芒硝乾燥後溶媒留去。残渣を薄層クロマトにて精製
し、２−（４−（２−ピリジルエチルアミノ）カルボニ
ルフェニル）−ペネム−８−カルボン酸ｐ−ニトロベン
ジルエステルを得た。 ＩＲ瀧１’（ｃｍ−１）　：　８８５０．１７９５．１
７１２．１６４２゜１５２０、１Ｂ４５．１２７８．１
１８ＯＮＭＲδ（ＣＤＣ４ｓ　）　：　８　、１０（２
ｆｔ、　ｔ　、　Ｊ＝６Ｈｚ　）５．０８（ＩＨ，ｄ、
　Ｊ＝１４Ｈｚ　）５．２５（ｌｆｉ、　ｄ、　Ｊ＝］
４Ｈｚ）５．８０（Ｉｎ、ｍ）、８．５１（ＩＨ，ｍ）
実施例５２ （ ａ）オキザリルクロリド（０，５ｔＩＩｌ）の乾燥環化
メチレン（８０ｄ）液に窒素気流下、−５０〜−６０℃
でジメチルスルホキシド（０，８５−）を滴下、１０分
後、２−ヒドロキシメチル−ペネム−８−カルボン酸Ｐ
−ニトロベンジルエステルの乾燥塩化メチレン（８０ｍ
）液を滴下し、１６分攪拌。次にトリエチルアミン（８
，５ｍ　）を滴下し、更に１５分攪拌。 氷水で希釈し、エーテル抽出。エーテル層を希塩酸水洗
、水洗し、芒硝乾燥、溶媒留去し、２−ホルミル−ペネ
ム−８−カルボン酸ｐ−二トロベンジルエステルを得ｆ
こ。 ＩＲＲ？￥”（ｔＭ−’）：　１８００．１７２０．１
６６５．１５２０゜１８５０．１Ｂ１２．１０５０．９
０８ＷＭＲδ（ＯＤＣｚｓ）　：　８．７８（ＩＨ，ｄ
ｄ、　Ｊ＝２ａｎｄ１７Ｈｚ）２３、ｇ５（ｉｎ、　ｄ
ｄ、　Ｊ　＝−４ａｎｄ１７１１ｚ）５．８７（ｌｆｉ
、　ｄ、　Ｊ＝１４１１Ｚ）５．４４（ＩＬ　ｄ、　Ｊ
　＝１４Ｈｚ　）５．７８（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ　＝２ａ
ｎｄ４Ｈ１７，６８（２ｆｉ、　ｄ、　Ｊ＝＝３．５Ｈ
ｚ）８．２８（２Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝＝３．５Ｈｚ）１０
．４１（Ｉｆｌ、　８） ｂ’）　　上述の２−ホルミル−ペネム−８−カルポジ
＃ｐ−ニトロベンジルエステルとｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニルメチレントリフェニルホスホラン２．２
ｆを乾燥テトラヒドロフラン（２００ｍ）中で１５分間
還流し、冷却後溶媒留去。残渣をシリカゲルクロマトに
て精製し、２−（２−（ｐ−５トロベ〉ジルオキシカル
ボニル）エチニル）−ペネム−８−カルボンＨｐ−ニト
ロベンジルエステルを得た。 ＩＲ謬、ｒｎ　（♂’）　：　１７８５．１７２０．１
６００．１５２０゜１８４０、１０６８．１００８．８
４５ＷＭＲδ（ＣＤＣ１ｓ）　：　８．６８（ＩＨ，ｄ
ｄ、　Ｊ　＝２ａｎｄｌＱｆｌｚ）８．８０　（ＩＨ，
ｄｄ、　Ｊ＝８．５ａｎｄ１６Ｈｚ）５．２８（２Ｈ，
ｓ　） ５．６７（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ　＝２ａｎｄ８．５ｆｆｚ
　）６．０８（ＩＨ，ｄ、　Ｊ　＝１６ｉｉＺ）８−１
７（４Ｈ０ｄ、　Ｊ　＝９Ｈｚ　）（Ｓ）　　２−（２
−（ｐ−ニトロベシジルオキシ力ルボニル）エチニル）
−ペネム−８−カルボン酸−ｐ−ニトロベンジルエステ
ル（１４０Ｗ）の酢酸エチル（６ｍ）溶液に５９６パラ
ジウム炭素２６０ｑを加え、更に酢酸エチル１０＋ｄと
水５ｆ！１１を加えて常圧水素ド１時間攪拌、触媒をＰ
去し、触媒を水洗後、Ｐ液、洗液を合わせ、これに２．
５倍モルの重曹を加え、水層を６−まで濃縮し、バイオ
ゲルｐ−２（８０，ｄ）を用いるカラムクロマトグラフ
ィーに付し、水で溶出するフラクシッンを集め、凍結乾
燥を行い無色の粉末状の２−（２−カルボキシエチニル
）ペネム−８〜カルホン酸ナトリウム塩を得た。 αλＭ：♀ｎｍ　：　２５５．８８８ 参考例１ ジ−ｐ−アユシルメチルアミン（１０ｇ）とｎ−ブチル
グリオキシレート（７，８１）からトルエン共沸脱水に
よりシラＩ塩基を作りソノトルエン溶液（約ｅｏｏｖ）
に、トリエチルアミン（６，２Ｆ　）を加え、塩化クロ
トノイル（５，１Ｆ　）をトルエン（２５−）に溶解し
た液を７０℃で約１時間かけて滴下し、そのまま２時間
攪拌した。冷却後、水洗、２Ｎ−塩酸洗い、重ソウ水洗
い、水洗、芒硝乾燥、濃縮後、シリカゲルクロマトによ
？）　１−　（シーＰ−アニシルメチル）−８−エチニ
ル−４−Ｄ−ブチルカルボキシル−２−アゼチジノンを
得た。 ＩＨ晃Ｃｔｓ　（♂’）　：　１７５８．１６１５．１
２５２．１１８０゜１０８０、９８０．８２５ ＮＭＲδ（ＯＤＯｔｉ　）　：　０．８７（８Ｈ，ｂｒ
、　ｔ、　Ｊ＝６）１−０〜１．７（４Ｈ，ｍ）、８．
７８（６Ｈ，８）５−１〜５．８（８Ｈ，ｍ）、５．７
７（ＩＨ，ｓ）参考例２ ｎ−ブチルエステル誘導体（０，５１り全ｌＮ−ＮａＯ
Ｈ水溶液（１，２ｄ　）−テトラヒドロフラン（１５ｆ
ｎｔ）−メタノール（１５ｍ）に溶かし、２時間室温で
攪拌した。２Ｎ−ｔｌＪ酸（０，７ｍ　）を加え、約１
７４に濃縮後水を加えエーテル抽出し、アルカリ水で再
抽出後、水層を再抽出した。水層を塩酸酸性にもどし、
エーテル抽出、水洗、芒硝乾燥、溶媒留去により１−（
ジ−ｐ−アユシルメチル）−８−二テニルー４−カルボ
キシルー２−アゼチジオンを得た。 ＩＲ鼻”（ｃＭ−’）　：　１７５８．１６１２．１２
９７．１２４５゜１１７０．１１０９．１０２７．８２
８ＮＭｌ’Ｌδ（（３ＬＸＥｚｓ）　：　８．８０（６
Ｈ，８）、５．１〜５．９（８Ｈ，ｍ’）、５．８８（
１１１１，１１）、８．６４（Ｉｆｆ、８）参考例３ カルホン酸誘導体（１，５１）をジメチルホルムアミド
（７，５ｍ　）に溶解後、酢酸カリ（ｏ、ｓ　ｙ　）を
加え、室温攪拌下、四酢酸鉛（２，１７ｇ）を数回に分
けて加え、１時間室温で攪拌した。水を加え、酢酸エチ
ル抽出、水洗、芒硝乾燥、溶媒留去、シリカゲルクロマ
トにより、１−（ジ−ｐ−アユシルメチル）−８−エチ
ニル−４−アセトキシ−２−アゼチジノンを得た。 ＩＲ！”ｊ”（ｃｆｎ”）　：　１７６０．１６０８．
１２９８．１２４０゜１１７４．１０２４．９７４．９
２８ ＮＭＲδ（ＣＤＣｔｓ）：　１．９０（８Ｈ，り、８．
７９（６Ｈ，Ｓ）、５．７４（ＩＨ，ｂｒ、　ｓ）、５
．９１（１１１，８）参考例４ エチニル誘導体（８，８ＯＮ）をテトラヒドロフラン（
１０＋＋ｄ）に溶解し、水（４ｍｌ　）と酢酸第二水銀
（８，２１）を加え、室温で１時間攪拌後、ｌＮ−Ｎａ
ＯＨ水（９ｗｔ）を０℃で加え水素化ホウ素ナトリウム
（０，４ＩＩ　）をｌＮ−ＮａＯＨ水（２ｍ）に溶解し
た液を滴下し、同温度で５〜６分間攪拌後、希塩酸で中
和し、エーテルを加え、セライト濾過した。エーテル抽
出、重ソウ水洗い、水洗、芒硝乾燥、溶媒留去、シリカ
ゲルクロマトにより、１−（ジ−ｐ−アユシルメチル）
−８−（１−ヒドロキシエチル）−４−アセトキシ−２
−アゼチジノンを得た。 １晃￥″Ｓ（♂１）　：　１７５２．１６０８．１８５
７．１８０２゜１２４２．１１７４．１０２８．　９５
８ＮＭＲδ（ＯＩＸ３ｚａ　）　：　１．２５（８Ｈ，
ｄ、　Ｊ＝７）１．９０（８ｆｉ、　８） ８．０７（ＩＨ，ｂｒ、　ｄ、　Ｊ　＝６．５）８．７
８（６１１，１１）、５．８８（ＩＫ、　８）５．８８
（ＩＨ，ｂｒ、　ｓ） 参考例５ ヒドロキシエチル誘導体（５，８ｆ／　）ヲジクロロメ
タン（１８ｔｄ）に溶解し、４−ジメチルアミノピリジ
ン（１，９８Ｎ）を加え、ｐ−ニトロベンジルクロロホ
ーメート（８，５１）をジクロロメタンＣ９ｔｄ’）に
溶解した液を滴下後、室温で一晩攪拌した。水洗、希塩
酸洗い、水洗、芒硝乾燥、＃！媒留去、シリカゲルクロ
マトにより、１−（ジーＰ−アニシルメチル）−ｇ−（
ｔ−ｐ−二トロペンジルオキシカルボニルオキシエチル
）−４−アセトキシ−２−アゼチジノンを得た。 ＩＲ！Ｗ−ＣｃｒＲ−”　）　：　１７７０（ｓｈｏｕ
ｌｄｅｒ　）、　１７４０．１６１（Ｌ１５８８、１０
２０．８５０．８１８．７８５ＮＭＲδ（ＣＤｃｚｓ　
）　：　１．４２（ＪＩＩｆＩ、ｄ、　Ｊ＝６）、１．
８５（８Ｈ，１１）、８．２８（ＩＨ，ｂｒ、　ｄ、　
Ｊ＝６）、５．２２（２Ｈ，１１）、５．８７（ＩＨ，
１１）、６−１１（ＩＩｉ、　ｂｒ、　ｓ） 参考例６ Ｎ−（ジ−ｐ−アユシルメチル）Ｓ導体（６，０６ｆ）
を１０％Ｈ２Ｏ−ア士トニトリル（９０ｄ）に溶解し、
セリツク・アンモニウム　ナイトレイト（ｏｅｒｉｏ　
ａｍｍｏｎｉｕｍ　ｎ１ｔｒａｔｅ。 １２．１　Ｆ　）を室温で１時間をかけて数回に分けて
加え、更に８０分間攪拌した。水を加え酢酸エチル抽出
、水洗、芒硝乾燥、溶媒留去、シリカゲルクロマトによ
り８−（１−ｐ−二トロペンジルオ算ジカルボニルオキ
シエチル）−４−アセトキシ−２−アゼチジノンを得た
。 ＩＲ！ｖ１ｍ（ｍ−’）　：　１７７４．１７４５．１
６０Ｌ　１５１Ｌ１８４４．１２５８．１０２９．８４
８褐倶δ（ＯＤＯｚｓ）　：　１−４５（８Ｈ，ｄ、Ｊ
＝ｅ６）、２．０９（８Ｈ，８）、８．８７（ＩＨ，ｂ
ｒ、　ｄ、　Ｊ　＝（３，ｂ）、５．８７（ＩＨ，ｂｒ
、　ｓ）、６．９６（ＩＨ，ｂｒ、　ｓ）参考例７ カルボン酸誘導体（ｄｔ体）（１０，２４Ｆ）（７）塩
化メチレン（４５ｄ）ＩＩｉ液に、ジメチルホルムアミ
ド（１滴）、オキザリルクロリド（４，２５ｆ　）の塩
化メチレン（５−）溶液を室温で２０分間滴下した。同
渥度で１．５時間攪拌後、溶媒留去した。残渣を塩化メ
チレン（８０ｍ）に溶解し、１−　（−）−メントール
（４，５９ｆ）、４−ジメチルアミノピリジン（８，５
８１）の塩化メチレン（８０１１１／）溶液に、水冷下
滴下し、２時間攪拌した。反応液を２Ｎ−塩酸、飽和重
曹水で洗浄し、水洗後芒硝乾燥、溶媒留去した。得られ
た残渣にメタノールを加えて、加熱溶解後、冷却するこ
とにより、カルボン酸誘導体（ｄｔ体）の１−（−）−
メントールエステル体（２つの異性体比的１：１）の結
晶（ｍｐ、９６〜９７℃）を得た。 上述の結晶をメタノール（４００ｍｌりに加熱溶解し、
〜−５℃に冷却後、析出結晶をＰ取することにより、（
８１！、４Ｒ）−１−（ジ−ｐ−アユシルメチル）−８
−エチニル−４−１−［−１−メンチルカルボキシル−
２−アゼチジノンが得られた。メタノールで再結晶する
ことにより純品（ｍｐ、１１４〜１１５℃、比旋光度〔
α］、　　＋２０．２°（Ｃ！＝０．２６、（３ｆｉＣ
ＡＩ））を得た。 まＴコ上述の２つの異性体比が約１：１のｔ−（−）−
メントールエステル体は、高速液体クロマトグラフィー
（カラム：　Ｌｉｃｈｒｏｓｏｒｂ８Ｉ−６０、溶ｌＫ
１．５Ｘイアプロパノールーｎ−ヘキサン）によっても
分離可能であった。 （８８，４Ｒ）−１−（ジ−ｐ−アユシルメチル）−８
−エチニル−４−メンチルカルボキシル−２−アゼチジ
ノンを〔参考例２〕で述べた方法と同様にして、エステ
ル基を加水分解し、（８８，４Ｒ）−１−（ジ−ｐ−ア
ユシルメチル）−８−エチニル−４−カルボキシル−２
−アゼチジノン（比旋光度〔α〕：、Ｑ′ｃ＋６８．８
°（０＝　０−１２．　（５１Ｃｔｓ　）　）　ヲ得た
。 参考例８ エチニル誘導体〜（１，０１＞をテトラヒドロフラン（
８，８ｍ　）に溶解し、水（２，０ｇ／　）と、酢酸第
二水銀（０，９ｆ　）を加え、８時間加熱還流した。Ｉ
　Ｎ　−ＮａＯＨ水（７−２＝＋＋／）を０℃で加え、
水素化ホウ素ナトリウム（０・１ｐ）をｌＮ−ＮａＯＨ
水（１−）に溶解しＴこ液を滴下し、同温度で５〜６分
間攪拌後、６Ｎ−ＨＯｌで中和し、エーテルを加えてセ
ライト濾過した。エーテル抽出、飽和食塩水洗浄、芒硝
乾燥、溶媒留去、シリカゲルクロマト番こより、１−（
ジ−ｐ−アユシルメチル）８−（１−ヒドロキシエチル
）−４−カルボキシル−２−アゼチジノン（０，８５ｆ
ｌ　）を得た。 ＩＲＮｕＪ”　（ｚ−”）　：　８２５０．１７５０．
１７２８．１５１５゜ａｘ １８０５．１２５０．１１’１７．１０８０゜８５ ＮＭＲδ（ＣＤＯｚｔ）　：　１．２２（８Ｈ，ｄ、　
Ｊ＝６Ｈｚ）、８．１８（ＩＨ，ｍ）、８．７２（６ｆ
ｔ、　１１）、４．１０（ＩＨ，ｄ、　Ｊ　＝２Ｈｚ）
、５．７５（１ｆ［、り また光学活性な（８，５’、４Ｂ）−１−（ジ−ｐ−ア
ユシルメチル）−８−エチニル−４−カルボキシル−２
−アゼチジノンを用いることにより同様にして、（８ｓ
、４Ｋ）−１−（ジ−ｐ−アユシルメチル）　−ａ　−
（（Ｒ）　−１−ヒドロキシエチル）−４−カルボキシ
ル−２−アゼチジノン（比旋光度〔ａ］ｖ′ｃ＋２２．
ｏ。 （ｃ＝ｏ、ｔ４ＣＨＣｔｓ　）　）　ｅ　ｆｌ　タ。 参考例９ 加え、４０℃に加温攪拌下、西酢酸給（５，８ｆＩ）を
数回に分けて加えた。１時間攪拌後、エチレングリコー
ルを加えて反応を停止し、芒硝乾燥、溶媒留去、シリカ
ゲルクロマトにより、１−（ジ−ｐ−アユシルメチル）
−８−（１−ヒドロキシエチル）−４−アーケトキシー
２−アゼチジノン（８，０８ダ）を得た。 ＩＲ’賀Ｌｓ（♂”）　：　１７５２．１８５７．１８
０２．１２４２゜１１７４．１０２８．９５８ ＮＭＲδ（ＣＤＣｔｓ　）　：　１．２６（８Ｈ，ｄ、
　Ｊ＝６．５）（ｚ）、１．９０（８Ｈ，す、 ８　、０７　（ＩＨ，ｂｒｏａｄ　ｄ　Ｊ＝６．５Ｈｚ
　）、８．７８（６Ｈ，Ｓ）、４．０７（ＩＨ，ｍ）、
５．８８（Ｉｎ、　ｂｒｏａｄ　ｓ　）、５　ａ　８８
　（ＩＨ，ｂｒｏａｄ　ｓ　）、また光学活性な（８Ｊ
、４Ｒ）−１−（ジ〜ｐ−アニシルメチル）　−８−（
（Ｒ）　−１−ヒドロキシエチル）−４−カルボキシル
−２−アゼチジノンを用いることにより、同様にして、
（８Ｌ４Ｒ）−１−（ジーＰ−アニシルメチル）−８−
（（Ｒ）−１−ヒドロキシエチル）−４−アセトキシ−
２−アゼチジノン（比旋光度［α］、　　＋　２６．０
°（Ｃ＝　０−０４．　ＣｔＩＣ！ｚｓ））を得た。 さらに、上述の光学活性アセトキシ−誘導体を用いて、
〔参考例５〕、〔参考例６〕の反応を順次行うことによ
り、（８３，４Ｒ）−１−（ジ−ｐ−アユシルメチル）
−８−ＣＣ凡）−１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシエチル）−４−ア虫トキシー２−アゼチジノ
ン（比旋光度〔０片”＋４０．５°（ｃ＝ｏ、ａｓ。 ＣＨＣＬｍ　）　）を経て、（８Ｊ、　４Ｒ）　−８−
（（Ｒ）−１−二トロペンジルオキシカルボニルオキシ
エチル）−４−７セトキシー２−アゼチジ”　（比旋光
度［α］ｐ”　＋　８６−６°（Ｃ！＝　０．０９゜Ｃ
）ｌｃｔｓ　）　）を得１こ。 参考例１０ １−（ジ−ｐ−アユシルメチル）−３−（１−ヒドロキ
シエチル）−４−アセトキシ−２−アゼチジノン（０，
４０ｆ／　）をア老トン（５１ｍ／）に溶解し、ジョー
ンズ試薬（〜１ｍ）を室温で滴下後、１０分攪拌した。 水を加え、酢酸エチル抽出、水洗、芒硝乾燥、溶媒留去
後シリカゲルクロマトで精製し、１−（ジ−ｐ−アユシ
ルメチル）−８−ア十チルー４−アセトキシー２−アゼ
チジノンを得た。 ＩＲ謬、”　（ｆｆｉ−”）　：　ｔ７ｓｏ、　ｔｅｏ
ｓ、　１５８０ｅ　１５０８゜１８５０、１８００．１
１７０．１１１０゜１０２０、８１５ 躯δ（ＯＤｃｚａ）　：　１．８８（８Ｈ，ｌ＋）、２
．２５（８Ｈ，８）、８．７５（６Ｈ，ｓ）、４．１０
（ＩＨ，ｄＪ＝１．５Ｈｚ）、５＝７８（ＬＨ，す、６
．１２（ＩＨ，ｄＪ＝１．５Ｈｚ） 参考例１１ １−（ジ−ｐ−アユシルメチル）−８−アセチル−４−
アセトキシ−２−アゼチジノン（８９７■）ヲイソプロ
ビルアルコール（６ゴ）に溶かし、水素化硼素ナトリウ
ム（８８去することによって、１−（ジ−ｐ−アユシル
メチル）−８−（１−ヒドロキシエチル）−４−アセト
キシ−２−アゼチジノンのヒドロキシエチル基の２つの
立体異性体約１＝１の混合物として得た。 ＮＭＲδ（ＣＴ）ｃｚｍ）　：　８．１０（１／２Ｈ，
ｄ　Ｊ＝６．６１１ｚ）８．１６（１／２１（、ｄＪ＝
４．４）ＩＺ）他のＮＭＲにおけるピーク、 あるいはＩＲスペクトルは 〔参考例４〕で得られるもの と類似。 参考例１２ ８−（１−ｐ−二トロペンジルオ岑ジカルボニルオキシ
エチル）−４−アナトキシー２−アゼチジノン１５．Ｏ
ｆのジオキサン５６ｔｌｔの溶液に窒素気流Ｆ、チオ酢
酸８．２４１のジオキサン８−一水２１．５ｄの溶液と
ＩＮ−水酸化ナト・リウム水溶液４２．６１１ａｔより
調整したチオ酢酸ナトリウムの溶液を０℃〜１０℃で滴
下し、０℃で１６分間攪拌し、反応故に氷冷した塩化メ
チレンを加え、塩化メチレン層を分液し、水洗、芒硝乾
燥、溶媒留去し、残液をシリカゲルクロマト精製シ、８
−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシエ
チル）−４−アセチルチオ−２−アゼチジノンを得た。 ＩＲ謬、−（ｃｒｎ−’　）　：　１７４０．１６９ｇ
、　１６１５．１５２５゜１４５４、１８８Ｂ、　１２
６０．１１８０゜１１Ｂ８．１０５６．１０１７．９６
０．８５２ｍδ（ＯＤＣ！７８　）　：　１．４２（８
Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６Ｈｚ）、２．０２（８Ｈ，Ｓ）、 ８．８７（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝２．２ａｎｄ６．５Ｈｚ
）、５．２８（２Ｈ，Ｓ） 参考例１３ ｓ−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ
エチル）−４−アセチルチオ−２−アゼチジノン９．８
７ｆとｐ−ニトロベンジルグリオキサレート６．１４１
を乾燥ベンゼン８００−中４時間還流し、溶媒留去し残
渣を乾燥テトラヒドロフラン８５８−に溶解させ、これ
に２．６−ルチジン１０．８２１を加え、さらに窒素気
流下−１０℃〜−１５℃で塩化チオニル１０．９８１を
滴下し、同温度で２０分間攪拌し、反応液をｖ５過し、
Ｐ液を溶媒留去、残渣を乾燥ジオキサン８８４−に溶解
させ、これに２．６−ルチジン６．５６ｇとトリフェニ
ルフォスフイン１７．６６ｆをｍｔ、窒素気流下５５℃
〜６５℃で２０時間攪拌し、室温で溶媒留去し、残渣に
塩化メチレンを加え、ＩＮ−塩酸水洗、水洗、芒硝乾燥
、溶媒留去し、残渣をシリカゲルクロマト精製シ、ａ−
（ｔ−ｐ−二トロベンジルオキシカルボニルオキシエチ
ル）−４−アセチルチオ−１−Ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルフオスフオラリリデンメチル−２−アセチ
ジ／＞を得た。 １５１８．１４８６．１Ｂ１７．１８５８゜１２５８．
１２０２．１１６８．１１０２゜１０７９、　８４２ 参考例１４ ８−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルトリフ
ェニルホスホラニリデンメチル）−２−アゼチジノン（
２，４１）とトリフルオロ酢酸銀（０，７１１）を塩化
メチレン（２〇−）に溶かし、メタノール（ｎｏｖ）と
１．５−ジアザビシクロ［５，４，０１ウシデセン−５
（０・４９ｇ）を加え、室温で６時間攪拌後、溶媒を留
去した。メタノールを加え冷却し、得られる結晶を炉取
することにより、銀８−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシエチル）−１−（１−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルトリフェニルホスホラニリデンメチ
ル−２−アゼチジノン−４−チオレートを得た。 ＩＲ：：（４−’）　：　１７４６．１６２０（ｓｈ）
、　１６０８．１５１８゜１４８７．１８８ｇ、［５４
，１１０２，８４５また、 で表わされる銀８−１−（１−ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルトリフェニルホスホラニリデンメチル）−
２−アゼチジノン−４−チオレートも上述に準じた方法
により対応するアセチル誘導体から製造することができ
た。あるいは、特開１１１ｓ５６−２５１１０に記載の
方法によってもこれらの銀塩を得ることが出来た。 参考例１６ 銀−８−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオ
キシエチル）−１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルフォスフォラニリデンメチル−２−アゼチジノン−４
−チオレート８９０”Ｗを乾燥塩化メチレン２４−に溶
解させ、４−ジメチルアミノピリジン２４４■を加え、
窒素気流下β−（４−（１−ｐニトロベンジルオキシカ
ルボニル）ピペリジニルアクリル酸クロリド０．５２９
ｆ・の乾燥塩化メチレジ４−の溶液を室温で滴下し、同
温度で８０分間攪拌反応液をセライト濾過し、Ｐ液をＩ
Ｎ−塩酸水洗、水洗、炭酸水素ナトリウム水洗、水洗し
、ボウ硝乾燥、溶媒留去、残渣をシリカゲルクロマト精
製シ、８−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
オキシエチル）−４−（１−（４−（１−Ｐ−二トロペ
ンジルオキシカルボニルビペリジニル）エチニル）カル
ボニルチオ−１−（Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルフォスフォラニリデンメチル−２−アゼチジノンを得
た。 ＩＩＬ冨”（Ｉ；’）　：　１７４６．１６ｇ０．１６
１６．１６００゜１５１２．１４８０．１８２０．１２
４５゜１１０Ｇ、１００５．　８８８ なお、β−（４−（１−ｐ−二トロベンジルオキシカル
ボニル）ピペリジニルアクリル酸クロリドは以下の如く
対応するカルボン酸誘導体から導いた。 β−（４−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
）ピペリジニルアクリル酸５０１岬を乾燥ベンゼン５−
にとかし、極少量のジメチルホルムアミドを加え、塩化
チオニル１．０’ｌｌを滴下した後、５時間還流。反応
液を減圧上濃縮し、残渣を８回ペンセンで共沸して、未
反応の塩化チオニルを除去し、減圧乾燥後精製すること
なく、上述の反応に用いた。 以下参考例１５で述べた方法と同様の方法で各々対応す
る銀塩、カルボン酸誘導体の活性無水物誘導体から以下
の化合物を得た。 なお、カルボン酸誘導体が酸クロリドへの誘導は参考例
１５中で述べた方法に準じ、塩化チオニルあるいはオキ
ザリルクロリドを用いることにより達成した。 表中のＰＮＢはｐ−ニトロベンジル基を示す。 参考例８０ ８−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ
エチル）−４−アセトキシ−２ンジルオキシカルボニル
ビペリジニル−４−チオ酢酸２．２６１のジオキサン（
１８ｇ）溶液とＩＮ−苛性ソーダ水溶液７−とから調製
したナトリウム塩のジオキサン−水混合溶液を滴下し、
同温度で１０分間攪拌、反応液に塩化メチレンを加え、
水洗、ボウ硝乾燥、溶媒留去、残渣をシリカゲル□クロ
マト精製し、８−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニルオキシエチル）−４−（４−（１−ｐ　−二トロ
ベシジルオキシカルボニルビベリジニル）−メチル）カ
ルボニルチオ−２−アゼチジノンを得た。 ＩＲ瀝￥”（ｃｍ−’、）　：　１７７５．１７５０（
！ｉｈ）、　１６８５゜１６０８、１５２０．１４８５
．１Ｂ４６゜１２６０．１１２７．１０１２．８４８Ｎ
ＭＲδ（ＯＤＣＡｓ　）　：　１−４８（８Ｈ，ｄ、　
Ｊ　＝＝５Ｈｚ　）、８．８９　（ｔＨ，ｄｄ　、　Ｊ
＝　２ａｎｄ５　、５Ｈｚ　）、５．２１（２Ｈ，ＩＩ
Ｉ）、５．２７（２Ｈ，１１）なおここで用いた４−（
１−ｐ−二トロベンジルオキシカルボニル）ピペリジニ
ル−チオ酢酸は以下の方法で対応するカルボン酸誘導体
から導いた。 ４−（１−ｐ−二トロベンジルオキシカルボニル）−ピ
ペリジニル酢酸を乾燥塩化メチレン７０−にとかし、ト
リエチルアミン１．０７−を加え、水冷下にクロルギ酸
エチル０．７４−を加え、−１５℃に冷却。硫化水素ガ
スを４５分吹き込んだ後、窒素の吹き込みを１時間行い
、２Ｎ−硫酸４−を加え、１６分攪拌後、塩水洗浄、芒
硝乾燥し、溶媒留去して得、そのまま精製することなく
、上述の反応に用いた。 １１ｃ　ｆｉｌ−♂’）　：　２５５０．１６８８．１
６０２．１５１０゜ａＸ １８４０、１２７０．１２Ｂ２．１２００゜１１２２、
８４０ なお、以下の参考例で用いたチオカルボン、酸も上述の
方法に準じ対応するカルボン酸から酸クロリドあるいは
クロルギ酸エチルとの混合酸無水物等の活性酸無水物を
経る方法を用いることにより各々チオカルボン酸誘導体
へ導いた。 参考例８１ ８−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ
エチル）−４−（４〜（１−ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニル）ピペリジニリデンメチル）カルボニルチオ
−２−アゼチジノンは、参考例８０と同様にして、８−
（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルエチル）−
４−アセトキシ−２−フゼチジノンと１−ｐ−二トロベ
ンジルオキシヵルボニルビペリジニリデンメチルチオヵ
ルボン酸（ＩＲ息’ｙ　（ｍ−１）　：　２５５０．１
６８６．１８４２．１２２２．１１０５）のナトリウム
塩から得た。 Ｉ　ＲＦ、’￥”　ｉ”　）　：　１７７５　＋　１７
５０　（”　ｈ）−１６８５−１６１０、１５２０，１
４８０，１Ｂ４０゜１２５５、１ｇ００．１１０５．１
０８５゜７５ ＮＭＲδＣＣＴ）Ｃ１ｓ　）　：　１−４４（８Ｈ，ｄ
、　Ｊ　＝６Ｈｚ　）、５．２６（４Ｈ，８）、５．９
８（ＩＨ，ｂｓ）、７−５８　（４Ｈ，ｄ　、　Ｊ＝９
Ｈｚ　）、８　、１９（４Ｈ，ｄ、　Ｊ−９Ｈ２）参考
例８２ ３〜（１−ｐ−二トロベンジルオキシ力ルボニルエチル
）−４−（４−ＣＰ−二トロペンジルオキシカルボニル
）アミノメチルフェニル）カルボニルチオ−２−アゼチ
ジノンは参考例８０と同様にして８−（１−ｐ−二トロ
ベンジルオキシ力ルポニルエチル）−４−アセトキシ−
２−７ゼチジノンと、４−（１−ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニル）アミノメチルチオ安息香酸のナトリウ
ム塩から得た。 ＩＲシＸ　（ｍ−”）　：　１７６Ｇ、　１７２０．１
６６４．１６０６゜１５２０、１８４５．１２６０．１
２１５゜１１７ｇ、　１０４５．１０１４．９０８．８
５ＯＮＭＲδ（ＣＤＣｔす：　１．４９（８ｆｉ、　ｄ
、　Ｊ　＝６．２Ｈ２）、８．４７（ＬＨ，ｄｄ、　Ｊ
＝２．２ａｎｄ６−４Ｈｚ）、５−２４（４Ｈ，ｂｓ）
、 ５．４４（ＩＨ，４，Ｊ＝２ＪＨｚ　）以下参考例８０
と同様にして４−アセトキシ−２−アゼチジノンと各々
対応するチオカルボン酸のナトリウム塩から以下の化合
物を得た。 チオ、表中のＰＮＢはｐ−ニトロベンジル基を示す。 参考例４６ １−ｐ−二トロベンジルオキシカルボニル−４−メルカ
プトメチルピペリジン８．６２　ｙを乾燥エタノール８
５ｍに溶解させ、アルゴン気流下水酸化カリウム０．６
８　ｆｌの乾燥エタノール６．８−の溶液を０〜６℃で
滴下し、同温度で８０分攪拌し二硫化炭素１．８Ｏｆを
室温で加え、同温度で８時間攪拌、反応液を氷冷し、水
１８−を加え、仁の溶液を８−（１−ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルオキシエチル）−４−アセトキシ−
２−アゼチジノン４．１７Ｆのジオキサン１４−の溶液
にアルゴン気流下１５℃で滴下し、同温度で８０分攪拌
し、反応液に塩化メチレンを加え、水洗、ボウ硝乾燥、
溶媒留去、残液をシリカゲルクロマト精製し、８−（１
−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）エチル
−４−（４−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルピペリジニル）メチルチオ）チオカルボニルチオ−２
−アゼチジノンを得た。 ■Ｒ１蓼（ｍ−１）　：　１７７Ｇ（！Ｉｈ）、　１７
５０．１６８０．１６００゜１５１０、１４８５．１８
４０．１２４５゜１１０８．１０５５．８４５ ＮＭＲδ（ＣＤｃｔす：　ｌ　、５Ｑ（ｇＨ，ｄ、　Ｊ
＝（５Ｈｚ　）、５．２０（２Ｈ，ｆｉ）、５．２８（
２Ｈ，８）、５．６１（ｉｎ、　ｄ、　Ｊ＝２．６Ｈｚ
）（８８，４Ｒ）−８−（（Ｒ）−１−ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシエチル）−４−アセトキシ
−アゼチジン−２−オンから上述と同様の処理で（８８
，４Ｂ）−８−（（Ｒ）　−１−ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニルオキシエチル）４−（４−（１−ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニルピペリジニル）−メチル
チオ）−チオカルボニルチオ−２−アゼチジノンを得た
。 比旋光度（ａｌＤ＋１０１．２°（ｃ＝ｏ、ｓｅ、　Ｃ
ＨＣＬｔＩ）同様にして、 （８８，４Ｒ）−８−（（Ｒ）−１−ｐ−二トロベンジ
ルオキシカルボニルオキシエチル）−４−アセトキシ−
２−アゼチジノンから、（８８，４Ｒ）−８−（（Ｒ）
−１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシエチ
ル４−［４−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシピペリジ
ニル）−チオクーチオカルボニルチオ−２−アゼチジノ
ンを得た。 比旋光度［ａ１Ｄ＋１１８．５°（　Ｃ！　＝　０　、
７５，　ＯＨＯｚｓ　）（　ＩＲ，ＮＭＲは上述の化合
物のそれと一致）参考例４８ ８−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルエチル
）−４−（８−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルア
ミノ−２．２−ジメチル−プロピルチオ）チオカルボニ
ルチオ−２−７ゼチジノンは参考例４６と同様にして、
８−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルエチル
）−４−アセトキシ−２−アゼチジノンと８−ｐ−二ト
ロベンジルオキシカルボニルアミノ−２．２−ジメチル
−プロパンチオールより誘導したトリチオカーボネート
より得た。 １１１Ｌ溺？′８（ｉ”　）　：　１７８　Ｇ　−　１
７８５　−　１６１０　−　１５２２　−１８５０、　
１２５８．　１０７８ ＮＭＲδ（ＣＤＣｚｍ）　　：　１．０８（６Ｈ．８）
、１．４５（８Ｈ．ｄ。 Ｊ＝５Ｈす、８．１２（２ｆ１１．　ｄ．　Ｊ＝６、５
■す、８．４２（２１１．　Ｉ！Ｉ）、５、１８（２Ｈ
，　１り、５．２８（２Ｈ．　８）、５−６１（ＩＨ，
　ｄ，　Ｊ　＝２．２Ｈｚ）なお、原料トリチオカーボ
ネートカリウム塩は以下の方法によ．り得た。８−Ｐ−
二トロベンジルオキシカルボニルアミノ−２．２−ジメ
チルプロパンチオール４．０５　１を乾燥エタノール７
２ｍにとかし、アルゴン気流中、水酸化カリウム８４０
ｑの乾燥エタノール（　８．４　ｍ　）溶液を水冷下に
滴下し、同温度で８０分攪拌し、二硫化炭素２．２８ｆ
を加え、室温で８時間攪拌し、氷冷下に水２７−を加え
、そのまま次の反応に用いた。 参考例４９ ｔ−ｐ−二トロベンジルオキシカルボニル−４−メルカ
プトピペリジン２．７６１を乾燥エタノール５９ｍｇに
溶解させ、アルブン気流下水酸化カリウムｏ．＋ｒｙ゛
の乾燥エタノール４、７−の溶液を０．７５℃で滴下し
、同温度で８０分攪拌し、二硫化炭素２．４０１を室温
で加え、同温度で８時間攪拌、反応液を氷冷し、水２５
．４−を加え、この溶液を４，−アセトキシ−２−アゼ
チジノン１．２０　１のジオキサン９、４−の溶液にア
ルゴン気流下室！で滴下し、同湿度で８０分攪拌、反応
液に塩化．メチレンを加え、水′洗、ボウ硝乾燥、溶媒
留去、残渣をシリカゲルクロマト精製し、４−（４−（
１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルポニルビヘリジニル
）−チオ）チオカルボニルチオ−２−７ゼチジノンを得
た。 ＩＨ調”（ｍ−、　”）　：　８４２０．　１７７５，
　１６９２．　１６０５。 １５２２、　１４８８．　１８４５．　１２６５。 １２４２、１０６２．１０００．　８１７地Ｂδ（ＣＤ
Ｃｔリ　：　５ｍ２０（２ｋＬ，　８）、５．５８（Ｉ
Ｉｉ。 ｄｄ，　Ｊ＝２．５ａｎｄ　５Ｈｚ）、７、４５（２Ｈ
．　ｄ，　Ｊ＝９Ｈ冨）、８　−　１７（２Ｈ，　ｄ，
−　Ｊ＝９Ｈｚ　）以下、参考例４６〜４９と同様にし
て、４−アセドキシー２−アゼチジノンと各々対応する
メルカプタン誘導体より得られるトリチオカーボネート
カリウム塩から以下の化合物を得た。 なお、トリチオカーボネートカリウム塩は、参考例４７
および４９で述べた方法と同様の方法により対応するチ
オール誘導体から誘導し、そのものをそのままあるいは
単離後反応に用いた。 表中（７）　Ｐ　Ｎ　Ｂはｐ−ニトロベンジル基を示す
。 参考ｅ１５７と同様にして８−（１−Ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルオキシエチル）−４−（４−（１−
Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピペリジデンメ
チル）カルボニルチオ−２−アゼチジノンより８−（１
−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシエチル）
−４−（４−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル）ピペリジデンメチル）カルボニルチオ−１−ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニルホスホラニリデシメチＪ
レ−２−アゼチジノンを得た。 ＩＲ冨Ａｌ（♂１）　：　１７６Ｂ、　１６２Ｂ、　１
６０２．１４Ｂ８゜１８４２、１２６０．１１６５．１
１０５゜９７５、８４２ 参考例６９ 参考例５７と同様にして、８−（１−ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルオキシエチル）−４−（４−（Ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニル）アミノメチルフェニ
ル）カルボニルチオ−２−アゼチジノンより８−（１−
ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシエチル）−
４−（４−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ア
ミノメチルフェニル）−カルボニルチオ−１−ｐ−二ト
ロベンジルオキシカルボニルホスホラニリデンメチルー
２−７ゼチジノンを得た。 ＩＲｒｎ”ｇ’ｘ　Ｃｔｗｒ”’−’　）　ｍ　　１７
５０ｓ　１７２０＊　１６６０＃　１６０Ｌ１５１８、
１４８２．１８４２．１２５Ｂ。 １１７０、１１１８ 以下参考例６７と同様にして各々対応する２−アゼチジ
ノン誘導体より以下の化合物を得た。 ｆｉ中、ＰＮＢはＰ−二トロベンジル基を示す。 ＯＮＢは０−ニトロベンジル基ヲ示す。 −１α 参考例７Ｂ ８−（１−Ｐ−ニトロベシジルオキシエチル）−４−（
４−（１−Ｐ−二トロベンジルオキシカルボニルビペリ
ジニル）メチルチオ）−）　１．０８１を乾燥ベンゼン
１００−に溶解させ２時間還流し、溶媒留去、残液を乾
燥テトラヒドロフラン６０−に溶解させ、２．６−ルチ
ジン１．５Ｏｆを加え、窒素気流下塩化チオニル１．６
７１を−１０〜−１５℃で滴下し、同温度で１６分間攪
拌、反応液に塩化メチレンを加え、ＩＮ−塩酸水洗、水
洗を行ない、ボウ硝乾燥、溶媒留去、残渣を乾燥テトラ
ヒドロフラン１．７−に溶解させ、さらにトリフェニル
フォスフイン２．７０　ｆ　＋溶Ｊ［ｔ　セ、アルゴン
封入下、室温で一夜放置後、反応液に塩化メチレンを加
え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、水の順に洗浄し、
ボウ硝乾燥、溶媒留去、″残渣をシリカゲルクロマト精
製し、８−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
オキシエチル）−４−［４−（１−Ｐ−二トロベンジル
オキシカルボニルビペリジニル）メチルチオ）チオカル
ボニルチオ−１−（ｐ−二トロベンジルオキシカルボニ
ルホスホラニリデンメチル−２−アゼチジノンを得た。 ＩＮ冨”（ｚ−”）　：　１７４８．１６８０．１６０
０．１５０５゜１４２８、１８８ｇ、　１２４０．１０
９８゜８６ 同様にして、 （８８，４Ｂ）−８−（（Ｒ）−１−ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルオキシエチル）−４−（４−（１−
Ｐ−二トロベンジルオキシ力ルポニルビペリジニル）−
メチルチオ）−チオカルボニルチオ−２−７ゼチジノン
から、（８８，４Ｒ）−８−（（Ｒ）−１−ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルオキシエチル）−４−（４−
（１−ｐ−二トロベンジルオキシカルボニルビペリジニ
ル）−メチルチオ）−チオカルボニルチオ−１−（１−
ｐ−二トロペンジルオキシカルボニルトリフェニルホス
ホラニリデンメチル）−２−アゼチジノンを得た。 比旋光度〔α］、＋７４．８°（Ｃ＝　０．８２５．　
ＣＨＣｚｓ）（ＩＲは上述の化合物のそれと一致） 参考例７４ Ｐ−ニトロベンジルグリオキサレート・ｌ水和物０・８
２１を乾燥ベンゼンにより共沸脱水した後、これに乾燥
ベンゼン５０−を加えた。この溶液に８−（１−ｐ−二
トロペンジルオキシカルボニルオキシエチル−４−［４
−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシピペリジニル）−チ
オ］−チオカルボニルチオー２−アゼチジノン２．８８
　ｆｌの乾燥ベンゼン５〇−の溶液を加え、２時間還流
し溶媒留去、残漬に乾燥テトラヒドロフラン６８ｔｔｄ
、２．６−ルチジン１．１５　Ｆを加え、これに窒素気
流Ｆ塩化チオニル１．２８１を一１５℃で加え同温度で
８０分間攪拌し、反応液に塩化メチジ〉を加えＩＮ−塩
酸水洗、水洗ボウ硝乾燥し、室温で溶媒留出し残渣に乾
燥−テトラヒドロフラシ１＃６−を加え、さらにトリフ
ェニルホスフィン１．８８ｆを加え溶解させ、アルゴン
封入下−夜放置後、反応液に塩化メチレンを加え飽和炭
酸水累ナトリウム水溶液洗、水洗、ボウ硝乾燥、溶媒留
出し残渣をシリカゲルクロマト精製し、８−（１−Ｐ−
ニトロヘンシルオキシカルボニルオキシエチル）−４−
Ｃ４−Ｃ１−Ｐ−二トロペンジルオキシカルボニルビペ
リジニル）−チオ〕−チオカルボニにチオ−１−（１−
Ｐ−二トロベンジルオキシカルボニル）トリフェニルホ
スホラニリデンメチル−２−アゼチジノンを得た。 ＩＲ鼻”（ｍ−”）　：　１７５０．１６９０．１６０
８．１５２０゜１４Ｂ５．１８４２．１２５０．１１０
５゜１０７０、１００８ 同様にして （８８，４Ｒ）−８−（（Ｒ）−１−Ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルオキシエチル−４−［４−（１−Ｐ
−ニトロベンジルオキシピペリジニル）−チオ〕−チオ
カルボニルチオー２−アゼチジノンから（８８，４Ｋ）
−８−（（Ｒ）　−１−ｐ−二トロペンジルオキシカル
ボニルオキシエチル）−４−［４−（１−ｐ−ニトロペ
ンジルオキシカルボニルビペリジニル）−チオクーチオ
カルボニルチオ−１−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニル）−トリフェニルホスホラニリデンメチル−
２−アゼチジノンを得た。 旋光度〔α］、＋７０．４°（Ｃ＝０．８２、ｃ’１ｉ
ｃｔす（ＩＲは上述の化合物のそれと一致） 参考例７５ ４−（８−（ｐ−二トロベジジルオキシカルボニル）ア
ミノ−２，２−ジメチルプロピルチオ）チオカルボニル
チオ８−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ・ニル
オキシエチル）−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニルホスホラニリデンメチル−２−アゼチジノンは参
考例７８と同様の方法により、４−（８−（ｐ−ニトロ
ヘンシルオキシカルボニルオキシエチル）−２−アゼチ
ジノンより得た。 ＩＲ県コニ　　（ｆｆｉ　　”）　　：　　１７５５．
　　ｔａ２ｓ（ｓｈ）、　　１６１２．１５２０゜１４
４２、１８Ｂ０．１２６０．１１１０゜１０７８、８５
０ 参考例７６ ４−（（１−アニトロベンジルオキシカルボニルビペリ
ジル）チオ）チオカルボニルチオ−２−アゼチジノン１
．４２ｆとｐ−ニトロベシジルグリオキサレートＯ，’
１８１を乾燥ベンゼン９４−に溶解させ、２時間還流し
、溶媒留去、残渣を乾燥テトラヒドロフラン４２−に溶
解させ、２．６−ルチジン１．０４Ｆを加え、窒素気流
下−１０〜−１５℃で城化チオニル１．１５１を滴下さ
せ、同温度で２０分攪拌、反応液に塩化メチレンを加え
、ＩＮ−塩酸水洗、水洗し、ボウ硝乾燥、溶媒留去、残
渣を乾燥テトラヒドロフラン１．２−に溶解さセ、サラ
にトリフエニＪレフオスフィン１．６９ｆを溶解さへ、
アルゴン封入下、室温で一夜放置後、反応液に塩化メチ
レジを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液流、水洗し
、ボウ硝乾燥、溶媒留去、残渣をシリカゲルクロマト精
製し、４−（（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルビペリジニル）チオ）チオカルボニルチオ−１−Ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニルホスホラニリデンメチ
ル−２−１ゼチジノンを得た。 ｌＲｃＨＯＬ”ＣａＲ−’）　：　１７５８．１６９０
．１５２０．１４８５゜ｍａｘ １Ｂ４８．１２７２．１２４８．１１０７゜０７９ 以下参考例７６と同様にして各々対応する２−アゼチジ
ノン誘導体より以下の化合物を得た。 ■ 表中ｆ’Ｎｎ５ｔｐ−二トロベンジル基を示す。 参考例８４ ４−（４−（ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル）
−ベンゾイル）チオ−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニル）ホスホラニリデンメチル−２−アゼチジノ
ン１．６６ｇにアニソール０．５４１とトリフロロ酢酸
４．１−を加え、０℃８０分攪拌。トリクロロ酢酸を８
０°以下で留去し、残渣にエーテル−酢酸エチル（５：
１）混液を加え、炭酸カリラム水溶液にて抽出。２１−
　Ｈｏｔにて中和し酢酸エチル抽出、有機層を水洗、芒
硝乾燥、溶媒留去し、４−（４−カルボキシベンゾイル
）チオ−１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）
ホスホラニリデンメチル−２−アゼチジノンを得た。 １５１４．１４８０．１８４０．１２５８゜１１６０．
１１Ｇ０．１０８５．　９０５参考例８６ ピペリドンモノハイドレートハイドロクロリド６．１４
　ｆ％Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノピリジン１０．７１をテ
トラヒドロフラジ１２０−１水１０−の混合溶液に溶解
させ、これに氷点下ｐ−ニトロベンジルクロロホルメー
ト９．５Ｉのテトラヒドロフラン２５−溶液を滴下し、
そのまま８０分、さらに室温で１時間攪拌した６反応液
を酢酸エチルで希釈し、ＩＮ−塩酸水で順次洗浄し、芒
硝乾燥、溶媒留去し、１： 残渣をイソプロピルエーテルとニーｆ　Ｊｌ／　（７）
　１５１合溶媒から再結晶して１−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニル）−４−ピペリドンを得た。 ＩＲ二瞠−−’）　：　１７１５．１６９０．１５１２
．１４４Ｂ。 １Ｂ４０．１２：ｌ１２．１１２２ ＮＭＲδ（ＯＤＣｚｓ　）　　：　　２．４７　（４Ｌ
　　ｔ、Ｊ＝（％Ｈｚ　）、８．８８（４Ｈ，ｔ、Ｊ＝
６Ｈｚ）、 ５．２７（２Ｈ，！Ｉ）、７．５０（２Ｈ，ｄ。 Ｊ＝９Ｈｚ）、８．１７（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝ｇＨｚ）参考
例８６ １−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−４−ピ
ペリドン５．４６１を、メタノール５４−とテトラヒド
ロフラン２７−の混合溶液に溶解させ、これに水素化ホ
ウ素ナトリウム８７８ｗ９を加え、０℃で１０分間攪拌
し、反応液に水を加え酢酸エチルを抽出、水洗、ボウ硝
乾燥溶媒留去し、１−（Ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニル）−４−ヒドロキシピペリジンを得た。 ＩＲＮｕ”Ｌｌ−’）　：　８４２０．１６７０．１５
１０．１８４０゜ｍ＆ｘ １２７２．１２８０．１０７７ 参考何８７ １−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−４−ヒ
ドロキシピペリジン１０．５４　Ｆを乾燥ピリジン１０
５−に溶解させ、この溶液にｐ−）ルエンスルホニルク
ロライド１４．８５ｆを０℃で加え、２５℃で２８時間
攪拌し、反応液に水を加え、エーテル−塩化メチレン（
９：１）の溶媒で抽出、抽出液を飽和食塩水、ＩＮ−塩
酸水、飽和食塩水、飽和重曹水の順に洗浄し、ボウ硝乾
燥、溶媒留去し１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル）−４−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）ピペリ
ジンを得た。 ＩＲＮｕ”’（ｚ−’）　：　１７０２．１５１２．１
８４０．１２２５゜ｍ＆！ １７８ ｍδ（０１）ｃｚｓ　）　：　１．７８（４Ｈ，（１，
’＝６■す、２．４７（８Ｈ，５）、８−１８−４．０
０（４Ｈ，ｍ）、４．７５（ＩＥＬｑｕｉｎｔｅｔ　）
、５．２２（２Ｈ，８）、７．８７（２Ｈ，ｄ、　Ｊ　
＝ｇＨｚ　）、７．５０（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝９Ｈす、 ８．２２（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝＝９Ｈｚ） 参考例８８ １−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−４−（
ｐ−トルエンスルホニルオキシ）ピペリジン１４．７８
　ｆをアセトン２２２−に溶解させこの溶液にヨウ化ナ
トリウム１２．７１　ｆを加え２８時間還流し、反応液
を一過、Ｐ液を溶媒留去し、残渣に酢酸エチルを加え１
０％亜硫酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順に洗浄、
ボウ硝乾燥、溶媒留去し、１−（ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニル）−４−ヨードピペリジンを得た。 ＮＭＲδ（ＯＬ）Ｃｚｓ　）　：　２．０２（４Ｈ，ｑ
、　Ｊ＝６Ｈｚ　）、８．５６（４Ｊ１．　ｑ、　Ｊ＝
６Ｈ７）、６．２２（２Ｈ，８）、７．５０（２１（、
ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ）、６．１６（２ｆｌ、　ｄ、　Ｊ　＝
ｇ）ｉｇ）参考例８９ ５０Ｘ水素化ナトリウム１．２１　ｆの乾燥ジメチルホ
ルムアミド２８．５ｍのけんだく液に、喧素気流下、１
０℃でチオ酢酸２．８７　Ｆの乾燥ジメチルホルムアミ
ド２８．５−の溶液を加え、室温で２０分間攪拌し、こ
の溶液に１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）
−４−Ｍ−トビベリジン９．８４１の乾燥ジメチルホル
ムアミド４７ｄの溶液を加え室温で２０時間攪拌し、反
応液に水を加え酢酸エチル抽出、抽出液を１０％亜硫酸
水溶液洗、水洗、ボウ硝乾燥、溶媒留去、残液をエーテ
ルより結晶化させ１−（Ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニル）−４−チオアセトキシ−ピペリジンを得た。 ＩＲ””　（ｍ−’　）　：　１７１０．１６９５．１
５２０．１８４Ｂ。 ａｘ １２１０、１１１２ ＮＭＲδ（ＣＤＣｔす：　１．１７−２．２０（４Ｈ，
ｍ）、２−８８（８Ｈ，ｓ）、２．９０−４．２０（５
Ｈ，ｍ）、５．２１（２Ｈ，８）、７．４７　（２Ｈ，
ｄ　、　Ｊ　＝ｇＨｚ　）、８、１７（２Ｈ，ｄ、　Ｊ
　＝９Ｈｚ）参考例９０ １−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−４−チ
オアセトキシピペリジン−８，１５ｇをメタノール１２
６−に溶解させ、アルゴン気流Ｆ、ＩＮ−水酸化ナトリ
ウム水溶液８．９−を室温で加え、同温度で１０分間攪
拌し、反応液に塩化メチレンを加え塩化メチレン層を水
洗、ボウ硝乾燥後、溶媒留去し、１−（Ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニル）−４−メルカプトピペリジンを
得た。 参考例９１ ４−ビペリジンカルボシ酸８．２８　ｆを４Ｎ−水酸化
ナトリウム水溶液１５．６−にとかしｐ−ニトロベンジ
ルクロロホーメート６．４５１のジオキサン（１６ｍ）
溶液を１０〜１５℃で滴下、１．６時間攪拌し、生じた
結晶を集め、よく水洗し乾燥して、４−Ｎ−ｐ−二トロ
ベンジルオキシカルボニルピペリジンカルボン酸を得た
。 ｍ、ｐ、　　１２８〜１２６℃ ＩＲＮｕＪ”（ｍ−’）　：　１７０Ｇ（ｓｈ）、　１
６８８．１５１２ａｘ 参考例９２ ４−Ｎ−ｐ−二トロベンジルオキシカルボニルピペリジ
ンカルボン酸６．１６＃、）リエチルアミン２．４８　
ｆを乾燥テトラヒドロフラン１２０−にとかし、氷冷下
にクロルギ酸エチル２．６１を滴下し、８０分攪拌後、
沈殿を炉別した。ろ液に水冷下１、水素化ホウ素ナトリ
ウム１．５２Ｆの水溶液（５ｆ１１１）を滴下し、１時
間攪拌。水で希釈し、希塩酸で未反応の水素化ホウ素ナ
トリウムを分解後、酢酸エチルで抽出。水洗、芒硝乾燥
、溶媒留去によりＮ−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル−４−ヒドロキシメチルピペリジンを得た。 ｍ、ｐ、　　　６７〜６９℃ ＩＲＮｕｊ０’（ｍ−”　）　：　１６９５（ｌｉｈ）
、　１６８０．１５２８．１２４０ａｘ 参考例９８ −４−ヒドロキシメチルピペリジン２（ｌを乾燥ピリジ
ン１２７−にとかし、氷冷ドにｐ−トルエンスルホニル
クロリド２６．８１を加え、そのまま−夜放置後氷水を
腑え、エーテル−塩化メチレン抽出、水、希塩酸、ム曹
水、水で順次洗浄し、芒硝乾燥後溶媒留去し、メｐ　／
−ルカ６Ｍ！＋化し、Ｎ−ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル−４−ｐ−）ルエシスルホニルオキシメチルビ
ペリジンを得た。 ”ａｐｅ　　　９５．５〜９９℃ ＩＩＬ　”ｊ０’（２−’）　：　１７ＧＧ、　１６１
０．１５９５．１５１８゜ａｘ １８４２、１１７２ 参考例９４ Ｎ　−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル−４−ｐ−
トルエンスルホニルオキシメチルピペリジン８．７２１
を乾燥ジメチルホルムアＩＲ”ｍ（ｍ−’　）　：　２
７２０．１７１５（ａｈ）、　１６９０．１５１２゜ｍ
ａｘ １８４５．１２２０．１１２５．１０８０゜０１Ｏ 参考例９７ １−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル−４−ホルミ
ルーピペリジシ４．２８１とｔ−ブチルオキシカルボニ
ルメチレントリフェニルホスホラン１８．５４１を乾燥
塩化メチレジ１５０−中で１時間攪拌した後、溶媒留去
、残渣をシリカゲルクロマトにて精製し、８−（４−（
ｔ−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピペリジニ
ル）−アクリル酸ｔ　−ブチルエステルを得た。 ｍ、ｐ、　　　１０１〜１０８℃。 ＩＲＮｕ”’（ｍ−’　）　：　１７１０（Ｓｈ）、　
１６８８．１６５０．１５１５゜ｍａｘ １５６ 参考例９８ ８−（４−Ｎ−ｐ−二トロベンジルオキシイン２−を加
え、室温でトリクロロ酢酸５−とともに１５分攪拌、反
応液を減圧濃縮後、残渣をエーテルにとかし、析出した
結晶を炉別乾燥し、８−（４−Ｎ−ｐ−ニトロベシジル
オキシカルボニルビペリジニル）−アクリル酸を得た。 ｍ、ｐ、　　１７０〜１７１．５℃ よりＮｕｊｏｌ（ｔｙＲ″”）　：　１６９０．１６４
０．１８５０．１２２８ａｚ 参考例９９ ２．２−ジメチルグルタル酸無水物１９．８４ｙ、ｐ−
アニスアルコール２２．０８　ｆを乾燥ジオキサン８６
０−に溶かし、これにトリエチルアミン１９．８９１を
加えて８０℃で８．６時間攪拌。溶媒留去後、残渣に水
を加え次に炭酸カリウムを加えてｐ　Ｈ＝　９とし、ベ
ンゼンで洗浄後水層を希塩酸で酸性としベンゼン抽出、
水洗、芒硝乾燥後、溶媒留去し、カルボキシ４−メチル
−吉草酸ｐ−メトキシベンジルエステルを得た。 ｆｉｌｍ　　−５ ＩＲ（ｃｍ　　）　：　１７２０．１６９０．１６０Ｂ
、　１５１０゜ｍａｘ １２４０、１１６７、１０１０ ２５Ｎδ（ＯＤＣｚａ）　：　１．２Ｂ（６Ｈ，Ｉ）、
８．７６（８Ｈ，８）、４．９８（２Ｈ，ｌ） 参考例１００ ２．２−ジメチルゲルタン酸無水物とｐ−二トロベンジ
ルアルコールよｔ）参考例９９と同様にして得た４−カ
ルボキシ４−メチル−吉草１１１ｉ　ｐ−ニトロベンジ
ルエステル１７．２６１を乾燥ジメチルホルムアミド１
００−にとかし、Ｐ−メトキシベンジルクロリド９．１
６ｆ。 トリエチルアミン５．９１１を加え、８０℃で９時間攪
拌、残渣に水を加え、エーテル抽出、炭酸カリウム水、
水、希塩酸、水で洗浄し、芒硝乾燥後溶媒留去し、４−
ｐ−メトキシペシジルオキシカルボニル−４−メチル吉
卓酸ｐ−ニトロベンジルエステルヲ得り。 ｆｉｌｍ　　−５ ＩＲ（ｃＮ）　：　１７８Ｇ、　１６１４．１５１７．
１８４５゜ｍａｘ １８００、１２４６．１１７５．１０８０．８２８ＮＭ
ＲＪ（（ＤＣｚｓ）　：　１．２Ｇ（６Ｈ，ｓ）、８．
７７（８Ｈ，ｓ）、５．０８（２ｆ１．８）、５．１７
（２ｆ１．１１）参考例１０１ 硫化ソーグーの水和物１２．８５　Ｎの水溶液（７，０
ｄ　）に４−ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル−
４−メチル吉草酸−ｐ−ニトロベシジルエステル２５．
４Ｆのテトラヒドロフラン溶液（１４（ｌｄ）を加え、
室温で７．５時間攪拌、反応液に水を加え、エーテル洗
浄後、水層を塩酸で酸性とし、エーテル抽出、水洗後芒
硝乾燥、溶媒留去し、４−ｐ−メトキシベンジルオキシ
カルボニル−４−メチル−吉草酸を得た。 ｆｉｌｍ　　−１ １Ｒ（ｃＩＮ）　：　１７１５．１６１２．１５１８．
１８０５゜ａｘ １２４８、１１７５．１１２８．１０１０８２Ｎ　Ｊ（
ＣＤＯｚｓ）　：　１．２０（６１１１，ｆｌ）、８．
７６（８Ｈ，８）、５．０１（２Ｈ，ＩＩ） 参考例１０２ コハク酸無水物と０−ニトロベンジルアルコールより参
考例９９と同様にして、８−カルボキシコハク酸０−ニ
トロベンジルエステルを得た。 ｍ、９　　６８〜６６℃ ＩＲ”ｊ０’Ｃｔｚ−”　）　：　１７２６．１６９Ｂ
、　１５２８．１８８８゜ａｘ １５２ 参考例１０８ ８．８−ジメチルグルタル酸６．４１の乾燥ジメチルホ
ルムアミド（１００ｍ）の溶液に窒素気流下、８０〜４
０℃で水素化ナトリウム（５０％）　１．９２１を４回
にわけて加え、そのまま８０分攪拌、次にｐ−メトキシ
ベンジルクロリド６．２８１の乾燥ジメチルホルムアミ
ド溶液（２０ｆＭｔ）を加え、６０〜７０℃で１０時間
、攪拌した。反応液を飽和食塩水と酢酸エチルで希釈し
、＃ｔｘ−ｆｔｔ−ｓｔを炭酸カリウム水溶液で抽出し
、水層を水冷下濃塩酸で酸性とし、ベンゼン抽出。水洗
、芒硝乾燥後、溶媒留去し８．８−ジメチルグルタル酸
モノ−ｐ−メトキシベンジルエステルＩｔ　ｍ　ｆニー
。 ＩＲ”””（ｇ　１）　：　１７１５．１６１２．１５
１０．１２４０゜ｍ＆Ｘ １１７０、１０１０ ８７Ｎδ（ＣＩ）Ｃｚａ）　　：　１．１８（６Ｈ，！
＋）、ａ、ｇｏ（ａｎ、　ｓ）、５．０４（２Ｈ，Ｓ） 参考例１０４ トランス−１，４−シクロヘキサンジカルボン酸より参
考例１０Ｂと同様にして、トランス−１，４−シクロヘ
キサンジカルボン酸、モノ−ｐ−メトキシベンジルエス
テルを得た。 ｍ、ｐ、　　　　８７〜８９℃ ＩＲＮｕｊ”（ｍ　’　）　：　１７２２．１６９２．
１６１８．１２５５．１１６５ｍ＆Ｘ 参考例１０５ ８−カルボキシ−イソ吉草酸より参考例１０８と同様に
して、８−カルボキシ−イソ吉１１ｉ酸−ｐ−メトキシ
ベンジルエステルと８−Ｐ−メトキシベンジルオキシカ
ルボニル−イソ吉草酸の混合物を得た。 ■１習：”（ｍ−’）　：　１７２０．１６１Ｇ、　１
２４０．１１７０ｍδ（ＯＤＣｚｓ）　　：　１’、２
９（６Ｈ，８）、２．６２（２ｆ１．．８）、８．７８
（８■、ｓ）、５−０５（２Ｈ，ｂｓ）上記混合物は参
考例１０８の■と■の化合物に誘導し、分離精製した。 参考例１０６ ４−カルボキシ−４−メチル−吉１［酸ｐ　−メトキシ
ベンジルエステル８６．４８　ｆｌの乾燥テトラヒドロ
フラン（１６７ｓｊ）Ｊ？［にトリエチルアミン１４．
１４１を加え、窒素気流下、２〜６℃でクロルギ酸エチ
ル１５．２８　ｆｌの乾燥テトラヒドロフラン（５０ｍ
）溶液を滴下、０℃で１６分攪拌。反応液を綿栓濾過、
Ｐ液をアジ化ナトリウム（７，４０１／　）の水溶液６
７−に激しく攪拌しながら２〜６℃で滴下、２℃で２８
分攪拌、反応液の水層をベンゼン抽出し、有機層と合わ
せ、水洗、芒硝乾燥後−夜室温放置、８０°以下で２０
〜８０Ｘまで濃縮し、更に８０〜９０℃で１時間攪拌、
溶媒留去。ＦＪ渣にｐ−ニトロベンジルアルコール２８
．８２　ｇ、乾燥ジオキサン２２−を加え、１２０〜１
８０℃で７時間攪拌、溶媒留去し４−メチル−４−ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ吉草酸Ｐ−メト
キシベンジルエステルを得た。 ＩＲＣＨＣｔ”（ｃｒＲ’）　：　１７２５．１６１０
．１５１５．１８４２゜ａｘ １２４４、１１１８．１０８０．１０８０゜２Ｏ ＮＭＲδ（ＯＤＯｚｓ）　　：　１．２９（６Ｈ，Ｉ）
、８．７７（８Ｈ，ｓ）、４．９８（２Ｈ，１１）、５
．０６（２Ｈ，Ｓ）参考例１０７ ４−メチル−４−ｐ−二トロベンジルオキシカルボニル
アミノー吉草酸Ｐ−メトキシベンジルエステル２５１１
アニソール２５Ｆにトリクロロ酢酸１２５−を加え、室
温で１５分攪拌、トリクロロ酢酸を４０℃以下で留去し
、残渣にエーテルを加え、炭酸ナトリウム水溶液で抽出
、水層をエーテル洗浄し、希塩酸により酸性とし、ベン
ゼン抽出、水洗、芒硝乾燥後、溶媒留去。残渣をニーチ
ル−イソプロピルエーテル混合液より、結晶化させ、４
−メチル−４−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルア
ミノ吉草酸を得た。 ｍ−Ｐ−１０８〜１１２℃ ｆｉ１ｍ　　−１ １Ｒ（ｉ：＋ｗ　　）　：　１７１５．１６０６．１５
２０．１３５０゜ａＸ １２６０．１２１８．１０８５．８４５参考例１０８ 以下の化合物は各々対応するカルボン酸より参考例１０
５、参考例１０６と同様の方法により得た。 ８−（ｐ−二トロベンジルオキシカルボニル）アミノメ
チル−イソ吉草酸 ｍ、ｐ、　　　１４２〜１４５℃ ＩＲＮｕｊ０’Ｃａｍ　”）　：　１７０５．１６０２
．１５２８．１８４８゜ａｘ ２７５ ８−（ｐ−二トロベンジルオキシカルボニル）アミノ−
イソ吉草酸 ｍ、ｐ、　　　１２８〜１２５．５℃ ＩＲＮｕｊ”（ｍ　”）　：　１７１６．１６９５．１
６０６．１５２５゜ａｘ ２２８ ２−（ｐ−二トロベンジルオキシヵルボニル）アミノメ
チル−イソ酪酸 ｍ、ｐ、　　　１１８〜Ｉｌ１℃ ”ＲＺａｘ’ｆｉ−”　）　：　１７８２−１６９０−
１６０４．１５１４−１６１ ２−（２−（ｐ−ニトロペンジルオキシカルボニルアｉ
〕）エチル）−イソ酪酸ｍ、ｐ、　　　１２２〜１２６
　℃ ＩＲ潔’　（ｍ−”）：　１７２０．１６８０．１６０
４．１８４０゜１２２５．１１２６．１０６８．９２０
トランス−４−（ｐ−ニトロベシジルオキシ力ルポニル
アミノ）−シクロヘキサンカルボン酸 ｍ、ｐ、　　　２１４〜２１７℃ ＩＲ潔’（ｍ−’）　：　１６８５．１６０４．１５４
１．１５１５゜１２６４、１０５０ 参考例１０９ 水素化リチウムアルミニウム８ｆの乾燥テトラヒドロフ
ラン５０−の懸濁液に窒素気流下５０℃でＰ−シアノ安
息香酸５．６ｔの乾燥テトラヒドロフラジ（５０ｄ）溶
液を滴下し、１時間攪拌、室温まで冷却、水を６−加え
、次いで酢酸エチル１５０ｍ・を加え、芒硝乾燥し、濾
過後、溶媒留去して４−ヒドロキシメチルベンジルアミ
ンを得た。 ＮＭＪＬδ（ＣＤＯｚｓ−１−ｃＤａＣＤ＋−Ｄ、＊０
）　：　８．７６（２Ｈ，す、４．５８（２Ｈ，Ｉ）、
７．２６（４Ｈ，８）参考例１１０ ４−ヒドロキシメチルベンジルアミン１．８７１．４−
ジメチルアミノピリジン１．８４Ｎを乾燥塩化メチレン
６０−にとかし、これにｐ−二トロペシジルクロロホル
メート２．１５ｆの乾燥塩化メチレン（ｔＯ−）溶液を
水冷下漬下し、そのまま１時間攪拌、その後・水と塩化
メチレンで希釈し、塩化メチレン層を希塩酸、水で順次
洗浄し、芒硝乾燥、ｆ！Ｉｉ媒留去、後４−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アミノメチルベンジルア
ルコールを得た。 工Ｒｒｎ’ａ’ｘ　　（ｃｍ−”　）　　＊　　１７２
０ｍ　　１６００＊　　１５１０　ｅ　　１８８６　ｍ
１２４０、１１２８．１１０２．１０８８゜１００７、
８４５ 参考例１１１ ＆）４−ＣＰ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アミ
ノメチルベシジルアルコールヲ参考例９６に記載の方法
により酸化し、４−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル）アミノメチルベンズアルデヒドを得た。 ｂ）上記ａ）で得たベンズアルデヒド １．６ｆをアセトン８０−にとかし氷冷下ジ町−レズ試
薬（Ｊｏｎｅｓ’　ｒｅａｇｅｎｔ　）を加え、２時間
攪拌し、メタノール１．５−を加え、酢酸エチルで希釈
し、水洗、芒硝乾燥後、溶媒留去し、４−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル）アミノメチル−安ＪｌｆＦ
酸ヲ得ｊ：。 ＩＲＮｕ”１（ｃｍ−”）　：　１６８５．１６１８．
１５８０．１８５０゜ａｘ １８２０、１２５０．１０５２．８６２参考例１１２ ｍ−シアノ安息香酸より参考例１０９゜１１０．１１１
に記載の方法と同様にして、８−（ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニル）参考例１１Ｂ ４−メチル−４−ｐ−二トロベンジルオキシカルボニル
アミノ吉草酸１４．Ｏｆを乾燥テトラヒドロフラン２８
０−にとかし、トリエチルアミン５．２５１を加え、水
冷下、クロルギ酸エチル５．６４Ｆを滴下し、そのまま
８０分攪拌、生じたトリエチルアミン署酸幅を綿栓Ｐ遇
し、ｐ液を再度氷冷し、水素化ホウ素ナトリウム５ｇの
水溶液（９０ｍ）を加え１．５時間攪拌、減圧下約１２
０ｍまで濃縮し塩化メチレン抽出。希塩酸、水で洗浄し
芒硝乾燥後、溶媒留去し、残渣をシリカゲルクロマトに
て精製して、４−メチル−４−（ｐ−二トロベンジＪレ
オキシカルボニル）アミノ−ペンタノールを得た。 ｆｉｌｍ　　　−＊ ＩＲ（５１）　：　１７１０．１６０？、　１５１５．
１８４８゜ｍＪＩ！ １２６０．１２１８．１０８６ ＮＦｉｌＲＪ（ＣＤＣｔｓ）　：　１．８２（６Ｈ，８
）、５．０９（２Ｈ，９）参考例１１４ ４−メチル−４−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル）アミノ−ペンタノール１．６８ｆを乾燥ピリジン１
７−にとかし、氷冷下にｐ−）ルエンスルホニルクロリ
ド２．ＢＩｌｋ加え冷蔵庫にて一夜放置、エーテルと水
で希釈し、希塩酸、重曹水、水で順次洗浄し、芒硝乾燥
後、溶媒留去し、５−ｐ−トルエンスルホニルオキシ−
２−メチル−２−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル）アミノ−ペンクンを得た。 ｆｉｌｍ　　−＊ ＩＲ（ｃＭ）　：　１７２５．１６Ｇ５．１５２０．１
Ｂ４８．１２５８゜ａｘ １１７８．１０９２．９５８．９１５ ＮＭＲδ（（Ｄｃｚｓ　）　：　１．２５（６）１．８
　）、２．４２（８１１，１）、５．０ｇ（２Ｈ，８） 参考例１１５ チオ安息香酸８９０ｗｇを乾燥ジメチルホルムアミド８
−にとかし、氷冷下に水素化ナトリウム（６０％）、２
２０”ｆを加え、１０分間攪拌ｔ、、次に５−ｐ−トル
エンスルホニルオキシ−２−メチル−２−（Ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル）アミノ−ペンタン１．６４
１の乾燥ジメチルホルムアミド（８ｍ）溶液を滴下し、
２５分攪拌後、酢酸エチルで希釈し、希塩酸、杢で順次
洗浄後、芒硝乾燥、溶媒留去し、残渣をシリカゲルクロ
マトにより精製し、５−ベンゾイルチオ−２−メチル−
２−（Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アミノ−
ペンタンを得た。 ＩＲ（ｐ　　）：　１７２Ｂ、１６６８．１６Ｇ６．１
５１５゜Ｉｎａ工 １８４Ｂ、　１２５２．１２０６．１０８０．９１ＯＮ
Ａ（Ｒδ（ＣＤＣｚｓ）　：　１．８０（６Ｌ　ＩＩ）
、５．０６（２Ｉ１．８）参考例１１６ 以下の化合物は対応するカルボン酸から参考例１１８，
１１４．１１５と同様の方法により得た。 ４−ベンゾイルチオ−２，２−ジメチル−１−（ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニル）−アミノブタン ｍ、ｐ、　　　　６９〜７０℃ ＩＲＮｌｌｊｏｌ（ｃＮ″’）　：　１７０２．１６５
０．１５５０．１５２０゜ａｘ １２５２、１２１０ ４−アセチルチオ−２−メチル−２− （ｐ−二トロベンジルオキシカルボニル）−アミノブタ
ン ｆｉｌｍ　　　−１ １Ｒ（ｃＭ４）　：　１７２０．１６８２．１５１８．
１Ｂ４０゜ｍ＆Ｘ １２５５．１２１０．１０９４．９５０．８５ＯＮＭＲ
δ（ＣＤＯｚｓ　）　：　１．８？（６Ｈ，８）、２．
８８（８Ｈ，８）、５．２８（２Ｈ，８） ８−アセチルチオ−２，２−ジメチル−８−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アミノ−プロパン ｆｉｌｍ　　−１ １Ｒ（ｔｗｔ　　）　：　１７２０．１６８０．１６０
０．１５２８゜ｍ＆Ｘ １８４０．１１２Ｇ、　９６０．８４５ＮＭＲδ（ＣＤ
Ｃ２膳）　：　０．９５（６Ｈ，８）、２．８７（８Ｈ
，ＩＳ）、５．２２（２Ｈ，８） ４−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アミノ−
２，２−ジメチル−１−アセチルチオブタン ｆｉｌｍ　　−５ ＩＲ（３）　：　１７００．１６Ｇ０．１５１０．１８
４０゜ａｘ １２４０．１１２５．９６０．８４５ ＮＭｋＬδ（ＣＤＣｔｓ　）　：　０．９７（６Ｈ，Ｓ
　）、２．８４（８１１，８）、２．８５（２１１，８
）、５．１６　（２１１，り参考例１１７ ４−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アミノ−
４−メチル−ペンタンチオールは参考例９０と同様の方
法により５−ベンゾイルチオ−２−メチル−２＝（ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニル）アミノペンタシより
得た。 ｆｉｌｍ　　−１ １Ｒ（α　）　：　１７１５．１６０５．１５１５．１
８４２゜ａｘ １２５０、１２０８．１０８０ 島化δ（ＣＬＣｚｓ　）　：　１．８２（６Ｌ　Ｓ）、
２．５２（２Ｈ，ｑ。 Ｊ＝６，５Ｈ２）、５．１５（２ｆ１．り以下のチオー
ル誘導体も対応するチオアセテート体あるいはチオベン
ゾエート体より上述と同様の方法で得、各々次の反応に
用いた。 ４−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アミノ−
８，８−ジメチルブタンチオール ■Ｒｆｉ１ｍ　　−ｔ Ｂａｚ　Ｃｔｙｔｒ　　）　ａ　１７１０　ｅ　１６０
８　ｍ　１５２０　ｍ　１８５０　ｍ１２５０．１０８
８ ８−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アミノ−
８−メチルブタンチオールＩＲ、Ｕ：ｌ”　（３−１）
　：　１７１５．１６０５．１５１７．１８４２゜１２
５８、１２１２．１０８５ ８−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アミノ−
２，２−ジメチルプロパンチオール ＩＲｆｉｌｍ　　　−１ ｍａ工（ｃｆＲ）　：　１７１０．１６０８＠　１５２
０．１８４８゜２８７ ４−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アミノ−
２，２−ジメチルブタンチオール ＩＲ怠１．、ｍ　（ｎ＋ｓ−’　）　：　１７１０．１
６０２．１５１２．１８４２゜１２４５　　　　　　　
　　　　　　　　’ｒ参考例１１８ ａ）ｌ−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル−４−ピ
ペリドンから参考例９７、同様の方法により１−ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニル−４−ピペリジニリデン
メチルカルボン酸ｔブチルエステルを得た。 ｍ、ｐ、　　　　１２２〜１２４．５℃ＩＲＮｕ”’（
ｍ−”　）　：　１６９０．１６５０．１５０８−１１
５５ｍ＆Ｘ ｂ）次いで上記ａ）で得たｔ−ブチルエステルを参考例
９８と同様の方法により１−ｐ−二トロベンジルオキシ
カルボニル−４−ビペリジニリデンメチルカルボン酸を
得た。 ｍ、ｐ、　　　　ｉｓａ〜１９１℃ Ｉｎ　”ｊ”（５１１−’）　：　１６７８．１６２５
．１５１０．１２１０ａｘ 参考例１１９ ａ）１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル−４−ピ
ペリジニリデンメチルヵルボン酸−ｔブチルエステル７
．５４　ｆｌ　ヲエタノール１００−にとかし、ｐ−ト
ルエンスルホニルヒドラジン４．４６１とトリエチルボ
レート８．６５１を加え、ＩＮ−水酸化ナトリウム液２
ｏ−を１．５時間かけて還流下に滴下し、更に同量のｐ
−）ルエンスルホニルヒドラジントリエチルボレート、
ＩＮ−水酸化ナトリウムを用いて同じ操作をくり返し反
応液に水を加え、塩化メチレン抽出、２Ｎ−水酸化ナト
リウム液、水で順次洗浄し、芒硝乾燥、溶媒留去し残渣
をシリカゲルクロマトにて精製して、１−ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル−４−ピペリジニル酢酸しブチ
ルエステルを得た。 ｍ、ｐ、　　　　９９〜１００℃ ＩＲＮｕ”’（ｍ−’）　：　１７８２．１６Ｂ５．１
６０５．１５１８゜ａｘ ０８４ ｂ）１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル＝４−ピ
ペリジニル酢酸は上記で得られたｔ−ブチルエステルを
参考例９８と同様の方法により処理して得ｔこ。 ｍ−Ｐ−１８６〜１８７．５℃ ＩＲＮｕ”’（ｍ−’）　：　１７ＢＢ、　１６６２．
１５１５．１２５５．。 ａｘ １５９ 参考例１２０ ａ）　　３−ヒドロキシピペリジンから参考例１１０と
同様の方法により１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル−８−ヒドロキシピペリジンを得た。 ｂ）　　上ｕｌｋ）で得た１−ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル− 参考例１１１ｂ）と同様にしてジ叢ーンズ酸化に付する
ことにより、１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
−８−ピペリドンを得た。 ”　Ｒ　４’ｘ　　Ｃｔりｉ−”　）　　ａ　　１７０
８＊　　１５２０　＊　　１４８０　−　　１８４２　
ｍ１８１５、　１２６６、　１２１５．　１１０８ｍδ
（ｃＤｃｔす：　８−６９（２Ｈ，　ｔ，　Ｊ　＝５７
（ｚ　）４、１０（２Ｈ，　８）、５．２４（２１１，
　Ｉ＋）参考例１２１ ａ）１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル−８−ピ
ペリドンから参考列９７と同様の方法により１−ｐ−二
トロベンジルオキシカルボニル−８−ピペリジニリデン
メチルカルボン酸ｔブチルエステルのシス、トランス異
性を得ｆこ。 トランス異性体 ｍ．ｐ．　　　８８〜８９℃ Ｉ　ＲＮｕ”’（ｃｘ　’）　：　１７１０．　１６８
６．　１６５６．　１５１５。 ａｘ １８４Ｂ．　１２４０．　１１８８ シス異性体　噂 ｍ．ｐ．　　　１０９　〜１１０℃ Ｉ　Ｒ　Ｎｕ”’（３−’）　：　ｔ７ｔｇ，　１６９
５．　１６５２．　１５１８。 ａｘ １８４２、　１２７２．　１１８７ ｂ）上記ａ）で得たｔ−ブチルエステルシス、トランス
異性体、それぞれから参考例９８と同様の方法により１
−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル−８−ピペリジ
ニリデンメチルカルボン酸のシス、トランス異性体を得
た。 トランス異性体 ｍ−Ｐ−　　　１６４〜１　６　５．５℃Ｉ　Ｒ　Ｎｕ
”’　（ｔｙＲ’　）　：　１７Ｑ５．　１６８８，　
１６４２．　１５２８。 ｎａｘ １２２８、１１０９ シス異性体 ｍ．ｐ．　　　２０２　〜２０８℃ ＩＲＮｕ”’（ｚ−’）　　：　１７００．　１６４８
，　１５１２．　１８４２。 ａｘ ２８２ 参考例１２２ １−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル−８−ピペリ
ジニリデンメチルーカルボン酸ｔ−ブチルエステルのシ
ス、トランス異性体混合物より参考例１１９と同様の方
法により１−ｐ−二トロベンジルオキシカルボニルー８
−ピペリジニル酢酸を得た。 ｍ．ｐ．　　　１６５　〜１６６、５℃ＩＲ　””’（
ｍ　”）　：　１７１２．　１６９２．　１５１８．　
１２６０。 ｍ＆Ｘ １５５ 参考例１２Ｂ Ｂ−（４−（１−Ｐ−ニトロベンジノレオキシカルボニ
ル）ヒペリジニル）−アクＩＪ　７し酸ｔ−ブチルエス
テルから参考例１１９の方法と同様にし、８−（４−（
１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピペリジニ
フレ）プロピオン酸を得た。 ｍ、ｐ、　　　９９〜１０１℃ ＩＲ”””−一）　：　１７００．１６０？、　１５２
５．１２１Ｂ。 ａｘ 参考例１２４　　　　１１２２ ａ）２−Ｐ−二トロベンジルオキシカルボニＪレアミノ
メチル−イソ酪酸から参１ｉ例１１８．！−同様の方法
により８−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ
−２，２−ジメチルプロパツールを得た。 ＩＲ”ｊ０’（ｍ−”）　：　１６ｇ０．１５ｇ５．１
５１０．１８８８゜ｍ＆ｘ １２７５、１０８８ ｂ）上記ａ）で得たアルコール誘導体を、参考例９６と
同様の方法により酸化し８−ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルアミノ−２，２−ｉｆルブロパノールヲ得り
。 ＩＲＣＨＣＬ’（ｍ−”　）　：　１７２Ｂ、　１５１
２．１８４５ａｘ ＮＭＲａ（ＣＤＯｔａ　）　：　１　、１Ｂ（６Ｌ　ｌ
　）、８．８８（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．５１１ｉＺ）、
６．１８（２ｆＩ、　８）、９．４４（ＩＨ，５）Ｃ）
上記ｂ）で得ｔこアルデヒド誘導体と、ｐ−メトキシベ
ンジルオキシカルボニルメチレントリフェニルホスホラ
ンから、参考例９７と同様の方法により、５−ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニルアミノ−４，４−ジメチル
−２−ペシテン酸ｐ−メトキシベンジルエステルを得た
。 ｆｉｌｍ　　−５ Ｉａ　　　（ＣＭ）　：　１７１８．１６５０．１６１
８．１５２０゜ａｘ １４６２、１８４７．１２４８．１０８２．８２ＯＮＭ
Ｒδ（ＣＤＣＡｓ　）　：　１−０８　（６Ｈ＊　’　
）、８．１７（２Ｔｉ、　ｄ。 Ｊ＝５．５Ｈｚ）、８．７９（８Ｈ，ＩＢ）、５．１０
（２８，８）、５．１５（２Ｈ，８）、５．８８（ＩＨ
，ｄ、　Ｊ＝１６Ｈｚ）、６．８７（ＩＬ　ｄ、　Ｊ＝
１５Ｈｚ）参考例１２５ ５−ｐ−二トロベンジルオキシカルボニルアミノ−４，
４−ジメチル−２−ペシテン酸ｐ−メトキシベンジルエ
ステルから参考例９８と同様の方法により、５−ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニルアミノ− メチル−２−ペンテン酸を得た。 ｍ．ｐ．　　　１２８　〜１２６℃ ＩＩＬ　Ｎｕ”’（ｍ−’）　：　１７２５．　１６９
Ｂ．　１６４２．　１６１１。 ａｘ １６２０、　１１４２ 参考例１２６ ６−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ−４．
４−ジメチル−２−ペンテシ酸Ｐーメトキシベンジルエ
ステルかう参考例１１９と同様の方法により５−ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニルアミノ−４．４−ジメチ
ルーペシタン酸を得た。 ＩＲ　Ｎｕ）°’（ｍ−”）　：　１７０８．　１６６
０．　１６０Ｂ，　１５１９。 ａｘ １２４０、　１１８２．　１０６５ ＮＭＲ　Ｊ（ＣＩＸｚａ）　：　０．８９（６Ｈ．　Ｉ
）、３．０６（２１１１，　ｄ。 Ｊ−７Ｈす、５．２５（２Ｈ．　ｆｉ　）参考例１２７ ８−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ−イソ
吉草酸より参考例１２４及び１２６と同様の方法により
、５−ｐ−二トロペンジルオキシカルボニルアミノ−６
−メチル−ヘキサン酸を得た。 ｍ、ｐ、　　　１０５〜１０８℃ ｆｉ１ｍ　　−１ １Ｒ（儒　）　：　１７１０．１５２０．１２６０．１
２１２゜ａ１ ０９０ 参考例１２８　　　　　　　　　　　　　　　　　ｂ）
Ｈ８−ＣＬＮＣＯｔ（Ｘｉｓ　Ｑ　Ｎｏｔ　４　ｔＢｕ
ωＣＣＢｓ８−ＣＪｊｉ（Ｘ）ｔＣ＆ＱＮＯｓ↓ ａ）１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル−４−メ
ルカプトピペリジン１　、１９）とブロモ酢ａｔブチル
７８０”ｆを乾燥ベンゼン７ｄに窒素気流下室温で１．
８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデシー７−エシ
（ＤＢＵ）６０８ｑの乾燥ベンゼン８−を滴下し、６分
攪拌、反応液を水、希塩酸、水で順次洗浄し、芒硝乾燥
後、溶媒留去し、１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル−４−ｔブトキシ力ルボニルメチルテオビペリジン
を得た。 Ｉ弓：１ｍ（ｍ−’）　：　１７２ｇ（Ｓｈ）、　１７
１８．　ｔｅｔｏ、　１５２８゜１８５Ｇ、　１２９８
．１２７８．１２５０゜１２１８．１０１８．８５８ ＮＭＲδ（ＣＤｃｚｓ）　　：　　１．４６（９Ｈ，１
１）、　８．１５（２Ｈ，ｓ）、５．１８（２１１，８
） 上記ａ）で得られたｔ−ブチルエステルを参考例９８と
同様の方法により、１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニル−４−カルボキシメチルチ□オーピペリジンを得
た。 ｍ、ｐ、　　　８２〜８６　℃ ＩＲ’ｍａｒ：（ｍ−”　）　：　１７２６　（”　）
−１７１４−１６０８−１５１８−１８４６，１２７８
，１２４８，１２１０，１０１０参考例１２９ ５０％水素化ナトリウム４．８０１を乾燥石油エーテル
でよく洗浄した後、乾燥ジメチルホルムアミド５０−を
加え、窒素気流中、βｊｏｏピｔ＜ル酸１８．６６１の
乾燥ジメチルホルムアミド（６０ｄ）溶液を室温で滴下
、８０１１１拌。これにトリメチルクロルシラン１０．
８５　Ｆの乾燥ジメチルホルムアミド（ｌＯｍ）溶液を
一５°〜−８℃で滴下、そのまま１時間攪拌。これにチ
オ安息香酸１８．８Ｎと５０％水素化ナトリウム４．８
０　ｆより調製したチオ安息香酸ナトリウムの乾燥ジメ
チルホルムアミド溶液７０−を、−５〜−８℃で滴下し
、さらにヨウ化ナトリウム１５．Ｏｆを加え、室温で８
日間攪拌さらに４０℃で７時間攪拌後、反応液に氷水を
加え、酢酸エチル抽出。水洗、芒硝乾燥、溶媒留去し、
残渣をイソプロピルエーテル−石油エーテルより再結晶
し、β−ペンゾイルチオピバル酸を得た。 ｘｎ　　ｆｌコＨ（ｍ−’）　　：　　１７０８．１６
６８．　１４７２．　１４４８゜１２０８．１１７５．
９０５ ＮＭＲＪ（ＣＤｃｔｓ　）　：　１．８６（６Ｈ，８）
、８．８９（２Ｈ，ｓ）参考例１８０ ＆）２−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ
）−２−メチル−１−ベンゾイルチオプロパンは、参考
例１０６．１０７と同様の方法によりβ−ペンゾイルチ
オピバル酸から得た。 ｍ、ｐ、　　　８７．５〜８９℃ ＩＲＬ’、′：（ｚ−’　）　：　１７２０．１６６（
Ｌ　１６０２．１５１Ｌ１２０８、１０８０ ｂ）　　　　２−ＣＰ−二トロベンジルオキシヵルボニ
ル）アミノ−２−メチループロパンチオ−ルは上記りの
チオベンゾエートから参考例９０と同様の方法により得
た。 ＩＲ””　（ｍ　’）　：　１７１８’、　１６００．
１５１８．１８４８゜ａｘ ２４２ 参考例１８１ ａ）テレフタルアルデヒド酸２５．８１の乾燥ベンセン
８０−の懸濁液に塩化チオニル８０．７２を還流下に滴
下し、少量のジメチルホルムアミドを加え、４時間還流
後、溶媒留去、残渣をも一ブタノール（１８０ｄ）にと
かし乾燥ピリジン１６．８Ｆを滴下し、５時間還流し、
冷却後水、ベシゼ、シで希釈し、希塩酸、水で洗浄し、
芒硝乾燥後溶媒留去し、テレフタルアルデヒド酸−ｔブ
チルエステルを得た。 ｆｉｌｍ　　−１ １凡　　（ｍ　　）　：　２７８０．１７２８（ａｈ）
、　１７１２．１２９２．１１１８ａｘ ＮＭＲδ（ＣＤＣｔ畠）　　：　　１−６８（９Ｈ，ｓ
）、　１０．１１（Ｉｔ−１，９）ｂ）　　テレフタル
アルデヒドＭｔ−ブチルエステル１２．２７Ｎの乾燥塩
化メチレン（２５０ｄ）溶液に５０％苛性ソーダ液５．
８６１を加えこｔ’ＬＩｃ窒ｊｌｌ［下、トリエチルホ
スホノアセテート１６．４４１を２０〜８０℃で滴ド。 ２５℃で４０分攪拌。Ｃ３ＨＣ２ａ層を水洗、芒硝乾燥
し、溶媒留去、残渣をシリカゲルクロマトにて精製し、
８−（４−ｔブチルオキシカルボニルフェニル）アクリ
ル酸エチルエステル、を得た。 ｆｉｌｍ　　−１ １Ｒ（ｍ　　）　：　１７２０．１７１０．１６８８．
１６０５゜ａｘ １８６６、１２９５．１１１７．１１ｌ１０５Ｎδ（Ｃ
ＤＣ！ｚｓ）　：　１．８８（８Ｈ，ｔ、　Ｊ　〜６．
５Ｈｚ）、１．６０（９Ｈ，Ｓ）、 ４．２４（２ｆｔ、　ｑ、　Ｊ＝５，５ｆｌｚ　）、６
．４６（ＩＬ　ｄ、　Ｊ　＝＝１５ＢＺ）Ｃ）上記ｂ）
で得られたエチルエステル１１．５２１をエタノール１
１５−にとかし、５Ｘパラジウム−炭素を用いて、常圧
水素下撹拌し、触媒を炉別し、ろ液を留去し、８−（４
−ｔブチルオキシカルボニルフェニル）プロピオン酸エ
チルを得た。 ＩＲ”ｆｎ（ｍ−１）　：　１７８７．１７１２．１Ｂ
６８．１２９２゜ｍ＆ｘ １２６５．１１６６．１１１６．８５ＯＮＭＲδ（ＣＤ
Ｃｚｓ）　：　１．２０（８Ｈ，ｔ、　Ｊ＝７．５Ｈｚ
）、１．５９（９Ｈ，１１）、 ４．０９（２ｆｌ、　ｑ、　Ｊ　＝７．５１（ｚ）ｄ）
　　、上記Ｃ）で得られたエチル量ステルｌｌｆをメタ
ノール１１５−にとかし、ｌＮ−苛性ソーダ８６−を氷
冷下に加え、２５℃で４．５時間攪拌、水で希釈し、エ
ーテル洗浄後、水層を塩酸で酸性とし、酢酸エチル抽出
、水洗、芒硝乾燥後溶媒留去し、４−（ｔ−ブチルオキ
シカルボニル）フェニルプロピオン酸を得ｊこ。 ｍ、ｐｍ　　　　８９〜９０℃ ＩＲＮｕ”’（ｚ　”）　：　１６９６．１６０８．１
２８５．１１６１．１１０５ａｘ 参考例１８２ ４−（ｔ−−／チルオキシカルボニル）フェニルプロピ
オン酸から参考例１０６．１０７と同様の方法により、
４−（２−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルアミ
ノ）ニーチル）安息香酸を得た。 ｍ、ｐ、　　　　１７８〜１７５℃ ＩＲ”ｊ０’Ｃｃｎｓ−’　）　：　１６８８．１６０
７．１５４Ｌ　１５１０．１２５５ｍ＆Ｘ 寧考例１８８ トランス−４−アミノメチルシクロヘキサンカルボン酸
８．９Ｂ　ｆの４Ｎ−苛性ソーダ液（８＋ｄ）に氷冷下
、ｐ−ニトロベンジルクロロホーメート８．８８１のジ
オキサン（８−）溶液を滴下し、そのまま１．５時間攪
拌後、生じた沈殿をＰ去し、Ｐ液を水冷下に塩酸で酸性
とし、生じｔコ結晶を集め、氷水で洗浄し、減圧乾燥し
てトランス−４−ｐ−二トロベンジルオキシ力ルポニル
アミノメチルシクロヘキサンカルボン酸を得た。 ｍ、ｐ、　　　　１６４〜１６６℃ ＩＲＮｕ”’（ｃｍ−’　）　：　１７１８．１６７４
．１６０２．１５１２゜ａｘ １Ｂ４０．１２７５．１２６８ 参考例１８４ ｐ−アミノ安息香酸２．０６Ｆの乾燥テトラヒドロフラ
ン（４２ｔｎり溶液に窒素気流中、水冷下にてビストリ
メチルシリルアセトアミド７．４２−を滴ドし、０℃で
４時間攪拌。こ才ｔにｐ−ニトロベンジルクロロホーメ
ート８．２８Ｆの乾燥テトラヒドロフラン（１０１ｎｔ
）溶液を水冷下で滴下、更に８時間攪拌。これにメタノ
ール８ｒｎｔを１５〜２５℃で滴トし、室温で２５分攪
拌後、エーテル１８０−を加え、冷却し、析出した結果
を炉取し、エーテルで洗浄後、減圧乾燥し、４−ｐ−二
トロペンジルオキシカルボニルアミノ安息査酸を得た。 ｍ、ｐ、（ｄｅｃ）　　　　２４５〜２５４℃ＩＪＬ　
Ｎｕ”’（４−’）　：　１７８０．１６６７、１５９
０．１５８１゜ｎ１ｋＫ １５０８、１８４６．１２１８．１０５０．８４８参考
例１８５ ａ）８．４−ジヒドロキシベンズアルテ゛ヒト１０７Ｎ
を乾燥塩化メチレン６１−にとがし、□ ４−ジメチルアミノピリジン４．０８１を加え、ｐ−ニ
トロベンジルクロロホーメート７．１４ｆの乾燥塩化メ
チレン（６８１１＃ｌ）溶液を水冷下で滴下し、２０分
攪拌後水で希資し、希雇酸、水で順次洗浄し、芒硝乾燥
、溶媒留去後、残渣をシリカゲルクロマトで精製し、８
．４−シ（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ
）−ベンズアルデヒドを得た。 ｍ、ｐ、　　　　１２７〜１２９℃ ＩＲＷ：ｒｌＣｔ−Ｉｎ−’）　：　２７２０．１７５
５．１６９５．１５１０゜１２４０、１１８６ ｂ）上記で得られたベンズアルデヒドを参考例１１１ｂ
）と同様にしてジローンズ酸化に付し、３．４−ジ（ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ）−安息香酸
を得た。 ｍ、ｐ、　　　１７０〜１７２℃ ＩＲ：；（ＬＭ″’）　＊　１７７２．１７５８．１６
８６．１５２５゜１２８０、１２４０ 参考例１８６ テレフタルアルデヒド酸７．５ｆとトリエチルアミン５
．２１を乾燥ジメチルホルムアミド７５−にとかし、室
温でｐ−メトキシベンジルクロリド７．６ｆを加え、２
時間攪拌し更に８０℃で６時間攪拌した。水で希釈しエ
ーテル抽出、重曹水、水で洗浄、芒硝乾燥、溶媒留去に
より、テレフタルアルデヒド酸ｐ−メトキシベンジルエ
ステルを得た。 ｍ−Ｐ−４０〜４１Ｃ ＩＲ工？１（帰一’）　：　２７Ｂ０．１７１２．１６
１０．１２７２゜１２５０、１１００ 参考例１８７ テレフタルアルデヒドＨｐ−メトキシベンジ７１／　エ
ステルを参考例１１１ｂ）と同様にしてジＷ−ンズ酸化
に付することによりテレフタル酸モノｐ−メトキシベン
ジルエステルヲ得た。 ｍ、ｐ、　　　ｉ６４〜１６５℃ ＩＲ’：、：’：’ｃ３−’　）　：　１７１２．１６
８６．１２７５．１２５５゜１０２ 手続補正書（自発） 昭和５７年　７月　２日 特許庁長官　若杉和夫　殿 ｌ、事件の表示 昭和５６年特許順第２１１４１６号 ２、発明の名称 新規なβ−ラクタム化合物及びその製造を去３、補正を
する者 事件との関係　　特許出願人 大阪市東区北浜５丁目１５番地 （２０９）　　住友化学工業株式会社 −代表者　　　土　方　　　武 ４、代理人 ５、補正の対象 ６、補正の内容 （１）明細書第５７頁第９行目にｒｌ、３９Ｊとある゛
のをｒｌ、２５」と訂正する。 （２）同書同頁第１０行目にｒ４．０６Ｊとあるのをｒ
３．８９Ｊと訂正する。 （３）同書同頁第１１行目にｒ５．７８Ｊとあるのをｒ
５．６３Ｊと訂正する。 以　　し 手続補正書（自発） 乙 昭和５７年？月５日 特許庁長官　　若杉和夫　殿 １　事件の表示 昭和５６年　特許願第　２１１４１６　　号２　発明の
名称 新規なβ−ラクタム化合物及びその製造法３、補１にを
する者 事件との関係　　特許出願人 住　所　　大阪市東区北浜５丁目１旙地名称　（２０９
）住友化学工業株式会社代表者　　　　土　　方　　　
武 ４、代理友 住　所　　大阪市東区北浜５丁目１旙地＆　補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 ａ　補正の内容 別紙訂正明細書のとおり。（補正の対象の欄に記載した
事項以外は内容番こ変更なし）以　　上 訂正間　細　書 １、発明の名称 新規なβ−ラクタム化合物及びその製造法２、特許請求
の範囲 ｌ）一般式［Ｉ］ ［式中、Ｒｓは水素原子、１′−ヒドロキシエチル基あ
るいはその水酸基が通常の保護基に保護された１′−ヒ
ドロキシエチル基を示し、Ｒ１は一般式 ％式％ （式中、Ｒ４、は水素原子又は通常の７ミノ基の保護基
を、ｎ、ｍは０〜４を示す。）で表わされる置換基、一
般式 ％式％ （式中、山、ｎ、ｍは前述と同じ意味を有する。） で表わされる置換基、一般式 （式中、Ｒ４は前述と同じ意味を有し、ｔはθ〜２を示
す。） で表わされるシクロヘキサン環を有する置換基、一般式 （式中、Ｒ４は前述と同じ意味を有し、χ。 ＹはＸが水素原子でＹが式 ％式％ −ＣＨ＝ＣＨ−（式中ｔは０〜２を示す。）で表わされ
る置換基、又はＸとＹで −ＣＨ＝ を示す。）で表わされる置換基、一般式（式中、ルは前
述と同じ意味を有し、Ｘ−９Ｙ１は、ｘｌが水素原子で
Ｙｌが式 ％式％ で表わされる置換基又はｘｌとＹｌで式ＣＨ− を示す。）で表わされる置換基、一般式％式％ （式中Ｒ１１は式 −（ＯＨ＊）ｎ’ＮＨＲａ　　　−０（ａＨｓ）１−（
ＣＨすｍ′ＮＨＲａ（式中ねは前述と同じ意味を有し、
ｎ′は１または２を示す。） で表わされる置換基、 一般式 ％式％ （式中、−は水素原子、通常のカルボキシル基の保護基
を示す。）で表わされる置換基を示す。） で表わされる置換基、一般式 ％式％ （式中、Ｒｙは、低級アルコキシ基、低級アルキルカル
ボニルオキシ基、水酸基又は通常の保護基で保護された
水酸基の置換した低級アルキル基、あるいは式 で表わされる置換基を示す。なお、交中也は前述と同じ
意味を有する。） で表わされる置換基 式 ％式％ （式中、−は前述と同じ意味を有し、ｍ′は２または８
を示す。） で表わされる置換基又はアリール基を示す。 Ｒｅは水素原子、通常のカルボキシル基の保護基な示す
。〕 で表わされるβ−ラクタム化合物およびその薬理学上許
容される塩。 （２）　　一般式［１コ 〔式中、Ｒ１は前述と同じ意味を有し、第は、一般式 −８（Ｃ；Ｈｚ　）ｎｏ（ＯＨｓ　）　＊　（（ＪＩす
ｍ−（式中仏　は通常のアミノ基の保護基を示す。ｎ及
びｍは、それぞれ０〜４を示す。）で表わされる置換基 一般式 ％式％ （式中、ｔ、ｎ、ｍは前述と同じ意味を有する。） で表わされる置換基 一般式 ％式％ （式中、蹟は前述と同じ意味を有し、ＬはＯ〜２を示す
。） で表わされるシクロヘキサン環を有する置換基、 一般式 【式中ムは前述と同じ意味を有し、Ｘ、ＹはＸが水素原
子でＹが式 ％式％ −ＣｊＨ，ＣＨ−（式中ｔは０〜２を示す。）で表わさ
れる置換基、又は ＸとＹで ＣＨ− を示す。）で表わされる置換基、 一般式 （式中、Ｒ４は前述と同じ意味を有し、Ｘｔ　。 Ｙｌは、Ｘｓが水素原子でＹｌが式 で表わされる置換基あるいはＸｔとＹｌで式−Ｃｆｌ＝ を示す。）で表わされる置換基 一般式 ％式％ （式中ＲＩＩ＋は、式 −（ｃａすｎ’ＮｔｉＲａ　　　−Ｃ（ａＨｓ）ｉ−（
ＣＨ意）ｎ’ＮＨＪＬｊａ（式中区は前述と同じ意味を
有し、ｎ′ハ１又は２を示す。） で表わされる置換基、 一般式 ％式％ （式中　Ｒ−は、通常のカルボキシル基の保護基を示す
。）で表わされる置換基を示す。）で表わされる置換基
、 一般式 ％式％ （式中Ｒａ　、　ｍ’は前述と同じ意味を有する。）で
表わされる置換基又はアリール基を示す。 シは通常のカルボキシル基の保護基を示し、ムは酸素原
子、硫黄原子を示す。〕で表オ）される化合物を加熱し
て一般式 〔式中、Ｒ１、＊＊　、　Ｒｓは前述と同じ意味を有す
る。〕 で表わされるβ−ラクタム化合物を製造し、次いで必要
に応じて得られた化合物をカルボキシル基の保護基Ｅ−
の除去反応並びにそれぞれ対応するカルボキシル基、ア
ミノ基、水酸基の保護基を除去してカルボキシル基、ア
ミノ基、水酸基を復元する反応を適宜組合せて付すこと
を特徴とする一般式（１１ 〔式中、Ｒｔ　、　Ｒｓ　、　Ｒｓは前述と同じ意味を
有する。〕 で表わされるβ−ラクタム化合物およびその薬理学上許
容される塩の製造方法。 ３、発明の詳細な説明 本発明は一般式（１１ 〔式中、Ｒ１は水素原子、１′−ヒドロキシエチル基又
はその水酸基が通常の保護層に保護された１′−ヒドロ
キシエチル基を示し、飾は（１）一般式％式％ （式中、ムは水素原子又は通常のアミノ基の保護基を示
す。勤及びｍはそれぞれ０〜４を示す。）で表わされる
置換基、 （２）　　一般式 ％式％ （式中、Ｒａ　、　ｎ及びｍは前述と同じ意味を有する
。） で表わされる置換基、 Ｇ）　一般式 ％式％ （式中、翫は前述と同じ意味を有し、ｔはθ〜２を示す
。） で表わされるシクロヘキサン環を有する置換基゛、（４
）一般式 （式中、翫は前述と同じ意味を有し、Ｘ及びＹは、Ｘが
水素原子でＹが式 ％式％ −Ｃ！Ｈ，，，ＯＨ−（式中ｌは０〜２を示す。）で表
わされる置換基又は、 Ｘと！で 一〇Ｈ冨 を示す。）で表わされる置換基 （５）一般式 （式中、Ｒ４は前述と同じ意味を有し、Ｘｓ及びＹｌは
ｘｌが水素原子でＹｌが式 で表わされる置換基、又はｘｌとＹｌで式−ＣＨ＝ を示す。）で表わされる置換基 （６）　　一般式 ％式％ 〔（式中Ｒ１は　式 −（Ｃｕｔ　）ｎ’−ＮＨＲａ　　　　　−Ｃ（ＯＨ麿
）宣−（ＯＨｔ）Ｂ’　−ＮＨＲａ（式中　Ｒ４は前述
と同じ意味を有し、ｄは１または２を示す。） で表わされる置換基、又は式 ％式％ （式中、Ｒｓは水素原子、通常のカルボキシル基の保護
基を示す。）〕 で表わされる置換基、 （７）一般式 ％式％ （式中勧は低級アルコキシ基（例えば、メトキシ、エト
キシ等）ａａアルキルカルボニルオキシ基（例えば、ア
セトキシ、エチルカルボニルオキシ等）、水酸基又は通
常の保護基で保護された水酸基の置換した低級アルキル
基あるいは式 で表わされる置換基を示す。なお式中Ｒ４は前述と同じ
意味を有する。） で示される置換基、 （８）　　アリール基、又は ０）式 ％式％ （式中、凰＄は前述と同じ意味を有し、ｍ′は２又は８
を示す。） で表わされる置換基を示す。 Ｒｓ　６１水素原子、通常のカルボキシル基の保護基を
示す。〕 で表わされるβ−ラクタム化合物およびその製造方法に
関するものである。 前記一般式［ｒ〕中Ｒｔ　、　Ｒｇ　、　Ｒｇを詳細に
述べる。 Ｒ１が通常の保護基に保護された１′−ヒドロキシエチ
ル基を示す場合の水酸基の保護基としては、好適には、
ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニルのような低級アルコ
キシカルボニル基、２−ヨウ化エチルオキシカルボニル
、２．２．２−１リクロロエチルオキシカルボニルのよ
うなハロゲノアルコキシカルボニル基、ベンジルオキシ
カルボニル、Ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル、
０−二トロペンジルオキシカルボニル、Ｐ−二トロベン
ジルオキシカルボニルのようなアラルキルオキシカルボ
ニル基、ｔａｒｔ−ブチルジメチルシリルのようなトリ
アルキルシリル基、ｔ−ブチル基等三級の０４〜Ｃ１０
のアルキル基、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、
ジフェニルメチル基、ジ（ｐ−アニリル）メチル基、ト
リチル基などのモノ、ジ又はトリーアリールメチル基で
ある。 １１が前述の一般式 ％式％ で表わされる置換基である場合の例として、たとえば −８（ＣＨｓ　）ｓ　０（ＯＩＩｓ戸ＮＨＲ４−８（Ｃ
ＨＩ）ｔｏ（（Ｈａ）ｓＯＨｔＮＨ＆−８（Ｏｆ［＊　
）ｓｃ（ＣＲｓ　）ｔＮＨＲ４−８０ＨｓＣ（Ｃ！！ム
）意ｋＵｒｍａ−８０Ｈ！　０（ＣＨｓ　戸ＧｆｌＩｍ
ＮｆＬ］ａａ−８（！Ｅｌ！０（ＣＨＩ　）ｓ　（５Ｈ
＊ＣＨｓＭＢ＋−８（ＣＨＩ　）　＊　０（ＧＩｓ　殉
（ＧＥＩ！　）　＊ＮＨＲ４−８（ＣＨ霊）ｔ（ＧＨｓ
）茸（（Ｈ意）ｓ？わＥＯＩＬａ〔式中、翫は前述と同
意味を有する。〕等を挙げることができる。 −が前述の一般式 ％式％ で表わされる置換基である場合において、その例として
は、たとえば −ＣＨｔ　Ｃ（ＯＨｓ戸ＣＨｉＮＨＲａ−ＯＨｇＣ（（
ｍｓ）ｇＢ但Ｒ４ −Ｃ山ＯｆｌｓＣ（（３１１ｍ　）！ＮＨＲ４−ＯＨｓ
ＣＨｔＣ（ＣＨすｔＣＨｘＮＨＲ４−ＣｕｔＣｎｔＣＨ
ｇＯ（ＣＨｓ　）　＊ＮＨＲ＋−ＣＨ＊ＣＨｓ（ｌ＊ｏ
（ＣＨｍ　）　ＩＣＨ１ｌＮＨＲ４−（３ｆｌｔＣ（０
１１麿）ｓＯＨｇＯＨｇＮｉＩＲ＋−ＯＨｇＣ（ＣＨＩ
　）黛ＣｋｌｚＯＨａ（Ａｌ＊ＭＫｆｉａ〔式中、Ｒ４
は前述のとおりである。〕等を挙げることができる。 Ｒ２が前述の一般式 で表わされる置換基である場合において、その例として
は、たとえば、式 ％式％ （ （式中、Ｒ４，ｔは前述と同じ意味を有する。）で表わ
される置換基を挙げることができろ。 Ｒｓが前述の一般式 である場合の例としては、 （式中、Ｒ４は前述と同じ意味を有する。）で表わされ
る置換基をあげることができろ。 絢の好適な例としては、水素原子、ｔｅｒｔ　−ブチル
オキシカルボニルのような低級アルコキシカルボニルＭ
、ｇ−ｇつ化エチルオキシカルボニル、２．２．２−ト
リクロロエチルオキシカルボニルのようなハロゲノアル
コキシカルポニベ ル基、神ンジルオキシカルボニル、Ｐ−メト繁ジベンジ
ルオキシカルボニル、０−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルのようなア
ラルキルオキシカルホニル基等であるが、Ｒ４は、ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリル基のようなトリアルキルシ
リル基、ｔ−ブチル基などの三級の０４〜Ｃｔｏのアル
キル基、ベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ジフェ
ニルメチル基、ジ（ｐ−アニリル）メチル基などの七ノ
ー、ジー又はトリアリールメチル基であってもよい。 Ｒ２がアリール基である場合の例としては、例えば、 〔式中、Ｄは、水素原子、−αＭ伍−Ｒ４、−Ｌ’Ｈ＊
Ｃ■［ＮＨ−Ｒ４−ＣＯＯ几詞また、ここにおいて、Ｒ
４、Ｒｓ、及びｍ’ハ前述のとおりである。〕 で表わされる置換基を挙げることができろうＲ−は好適
には水素原子、メチル、エチル、イソプロピル、ｔａｒ
ｔ−ブチルのような直鎖状、若しくは分枝鎖状の低級ア
ルキル基、２−ヨウ化ｚチアＬ、、１２．２−トリクロ
ロエチルのようナハロゲノ低級アルキル基、メトキシメ
チル、エトキシメチル、イソブトキシメチルのような低
級アルコキシメチル基、アセトキシメチル、プロピオニ
ルオキシメチル、ブチリルオキシメチル、ピパロイルオ
キシメチルのような低較訴肪族アシルオキシメチル基、
１−メトキシカルボニルオキシエチル、１−メトキシカ
ルボニルオキシエチルのような１−低級アルコキシカル
ボニルオキシエチル基、ベンジル、ｐ−メトキシベンジ
ル、Ｏ−ニトロベンジル、ｐ−ニトロベンジルのような
アラｌレキル基、ベンズヒドリル基、またはフタリジル
基である。 前記一般式〔！〕においてＲｓが水素原子であるカルボ
ン酸化合物は必要に応じて薬理学ヒ、許容される塩の形
にすることができる。そのような塩としてはリチウム、
ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウムのよ
うな無機金属の塩あるいはアンモニウム、シクロヘキシ
ルアンモニウム、ジイソプロピルアンモニウム、トリエ
チルアンモニウムのようなアンモニウム塩類をあげるこ
とができるが好適にはナトリウム塩およびカリウム塩で
ある。 本発明の一般式〔■〕で表わされるβ−ラクタム化合物
はペネム誘導体に属しその２位に各種置換基を有する新
規な化合物であり、これらの化合物は優れた抗菌活性を
有し医薬として有用な化合物である。 また、抗菌活性を有する有用な化合物の重要中間体とし
ても有用であることを見出し本発明を完成した。 以下、本発明化合物の製造方法について詳細に述べる。 　　　　　　　　　　　　　　−前記一般式［１１で表
わされる化合物中、一般式［−１ 〔式中、Ｒ１は前述と同じ意味を有し、Ｒ−は一般式 ％式％ （式中、航は翫と同意味を有する。ただし、水素原子は
除く、ｎ、ｍは０〜４を示す。）で表わされる置換基− 一般式 ％式％ （式中、瑣、ｎ、ｍは前述と同じ意味を有する。）で表
わされる置換基、 一般式 ％式％ （式中、Ｒ−は前述と同じ意味を有し、ｔは０〜２を示
す。） で表わされるシクロヘキサン環を有する置換基、 一般式 （式中、Ｘ、Ｙ及びＲ−は前述と同意味を有する。）で
表オ〕される置換基、 一般式 （式中、Ｘｌ、　Ｙｔ及び拍は前述の意味を有する。）
で表わされる置換基、 一般式 ％式％ （式中、ＲＩｓは前述の意味を有する。）で表わされる
置換基、 一般式 ％式％ （式中、Ｒｓ＋は前述のとおり。）で表わされる置換基
、 一般式 ％式％） （式中、ｍ′及びＲ−は前述のとおり）で表わされる置
換基、又はアリール基ただし、アミノ基を有するアリー
ル基においては凶で示される保護基によって保護された
アリール基を示す。 で表わされる誘導体は、一般式〔π〕 ム ｃ式中、Ｒ１，Ｒ’ｇ　、　Ｒ’ｓは前述と同じ意味を
有し、ｐｈはベンゼン環を示す。Ａは酸素原子または硫
黄原子を示す。〕 で表わされる化合物を不活性溶媒中加熱することにより
製造することができる。不活性＃ｊ躯としてはベンゼン
、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が好適であ
るが、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類
、シクロヘキサン、クロロホルム等の各種の溶媒を用い
ることも可能である。反応部′度としては適宜冷却また
は加熱することにより、反応を抑制または促進すること
が可能であり、好適反応温度は４０〜２００℃である。 一般式［Ｉ−ｂｌ 〔式中、Ｒ１，Ｒｆａは前述と向じ意味を有し、積は、
低級アルコキシ基、低級アルキルカルボニルオキシ基、
通常の保護基で保護された水酸基の置換した低級アルキ
ル基、あるいは式 （式中　瑣は前述と同じ意味を有する。）で表わされる
置換基を示す。］ で表わされる誘導体は、一般式［１−０１ｃ式中、Ｒ１
及び五−は前述のとおり〕で表わされるアルコール誘導
体を一般式％式％ 〔式中槓は前述と同じ意味を有する。〕で表わされる誘
導体あるいは、その活性酸点水物誘導体との反応によっ
ても製造することができる。 その具体的な方法としては、脱水剤の存在下、カルボン
＃誘導体と式ＣＩ　−ｅ　］で表わされるアルコール誘
導体を直接脱水縮合する方法、又はカルボン酸誘導体を
酸クロリド誘導体等活性酸無水物誘導体に導びき塩基存
在下反応させる方法等、通常、アルコール誘導体のアシ
ル化法として用いられる各種の一様が可能である。 一般式ＣＩ　−ｄ　］ 〔式中、Ｒｓ　、　Ｒｓは前述と同じ意味を有する〕で
表わされる誘導体は、一般式（ｚ−ｃｌで表わされるア
ルコール誘導体を酸化し、一般式〔Ｉｅｌ で表わされるアルデヒド誘導体へ誘導後、一般式％式％ 〔式中、島は前述と同じ意味を有し、Ｙはフェニル基あ
るいは、メトキシ基、エトキシ基等の低級アルコキシ基
を示す。〕 で表わされる化合物を塩基で処理後誘導体［Ｉ−ｅ］　
ト’）　イｆ　ッに：　夕（）反応（ＷｉｔｔｉＩ−ｔ
ｙｐｅＲｅａｃｔｉｏｎ　）を行うことによっても製造
することができる。 また、一般式ｒＩ−ｆ） 〔式中Ｒ１，Ｒ１０ｍ′は前述と同じ意味を有する。〕 で表わされる誘導体は一般式［１−１１〔式中、Ｒ１，
Ｒｓは前述のとおり。〕で表わされる誘導体と一般式 〔式中、ｍ′は前述と同じ意味を有する。〕で表わされ
るアミヒ誘導体を脱水結合することによっても製造する
ことができる。脱水縮合の方法としては、通常に用いら
れる各種の簡様を用いることができる。 その他の一般式〔Ｉ］の化合物、即ち、〔式中、積は、
水素原子、又は１′−ヒドロキシエチル基を示す。Ｒｓ
ｖは、 一般式 ％式％ （ｎ及びｍは、各々θ〜４を示す。） で表わされる置換基、 一般式 ％式％） （ｎ及びｍは、前述のとおり） で表わされる１換基、 一般式 ％式％１３ （ｔはθ〜２を示す。）で表わされるシクロヘキサン環
を有する置換基、 一般式 （式中、Ｘ及−びＹは前述の意味を有する。）で表わさ
れる置換基、 （式中、Ｘｌ及びＹｌは、前述の意味を有する。）で表
わされる置換基、 一般式 ％式％： （式中、ｍｓ　ハ、−（ａＨｔ　）　、ＮＨ意又１．ｔ
　−Ｃ（Ｃ１（ｓ　）　ｓ−（ＯＨ黛）、／　−ＮＨ！
　　を表わす。ここにおいて、ｎ′は１又は２を意味す
る。）で表わされる置換基、 一般式 ％式％ （式中、Ｒ７７は低級アルコキシ基、低級アルキルカル
ボニルオキシ基、低級ヒドロキシアルキル基、あるいは
−ＣＨ＊ＣＨ露ＮＨｓ又は一般式 ％式％ （ｍは前述のとおり） 表わされる置換基、又はアリール基（ただし、水酸基、
カルボキシル基、アミノ基を有する場合は、それらは保
護基が除去されたフリーのもの）を意味する。〕 で表わされる化合物は、上記一般式［Ｉ−ａｌ、および
ＣＩ−ｂ〕で表わされる化合物のカルボキシル基、水酸
基、アミノ基の各保護基（１′−ヒドロキシエチル基等
で用いられている水酸基の保護基、Ｒｍ　、　Ｒ′４等
）の除去処理を行なうことにより製造することができる
。 これらの基の除去は酸、塩基、環元剤等で処理するそれ
自体公知の方法で行なうことができる。 酸としては好適にはトリフロロ酢酸、ギ酸、三フッ化硼
素、塩化アルミニウム等またはその混合したものをあげ
ることができる。 塩基としては好適には炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等
のアルカリ金属炭酸塩、硫化ナトリウムあるいは硫化カ
リウム等のアルカリ金属硫化物、あるいはフッ化テトラ
ブチルアンモニウムをあけることができる。 還元による方法としては、好ましくは亜鉛および酢酸、
水素およびパラジウム−喫素あるいは白金等による接触
還元等があげられる。 使用される溶媒としては、本反応に関与しないものであ
れば特に限定はないが、好適にはメタノール、エタノー
ル等のアルコール類、テトラヒドロフラン、ジオキサン
等のエーテル類、酢酸等の脂肪酸およびこれらと水の混
合溶媒を用いることができる。 反応湿度としては適宜冷却または加熱することにより反
応を抑制または促進することが可能であり、好適湿度と
してはθ°〜室温であるということができる。 なお、各々反応終了後は通常の有機化学的手法により成
ｄ体をとり出すことができる。 なお、前記一般式（Ｉ）を有する化合物は、不斉炭素を
有しており、それに基く光学異性体および立体異性体が
存在し、それら異性体すべてが犀−の式で示されている
が、これによって本発明の記載の範囲は限定されるもの
ではない。 しかしながら、好適には６位の炭素原子力；へニジリン
類と同一配位すなわち８配位を有する化合物を選択する
ことができる。 前記一般式（１）のうち、一般式（１−ｈ　）（式中、
１％１．Ｒｓは前述と同じ意味を有し、２は水素原子ま
たは前述した通常の水酸基の保護基を示す。） で表わされる誘導体について述べると、好適１ζは（５
ｍ、ｇｌＬ、ｓＲ）配位、（５Ｂ、６Ｂ、８Ｒ）配位、
（ａＲ，６Ｒ，８８）配位、（５Ｒ，６８，８８）配位
を有する化合物をあげることかで＆、（ＳＢ。 ６Ｂ、８Ｒ）配位、（ｓＲ，ａｓ、８Ｒ）配位の化合物
が特に好適なものとして選択すること力；できる・ 前記一般式［１３で表わされる原料化合物は例えば以下
に示すルートで成造することができる。 （ｙ）　　　　　　　　　　　［Ｖ］ （１）　　　　　　　　　　［１１ ［式中鯖は水素原子、通常の保護基で保護された１′−
ヒドロキシエチル基を示し、６゜Ｒ’ｓ　＆びＡは前述
と同じ意味を有す。〕（ａ）　　化合物ｒＶ］の製造方
法 上記の一般式〔ｖ〕で表わされる化合物は、上記の一般
式［Ｆ］で表わされる化合物を一般式〔■〕 Ｍ−８０−Ｒ智 ｎ　　　　　　［％［］ 〔式中、魁、Ａは前述と同じ意味を有し、Ｍは、リチウ
ム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属原子を示す
。〕 で表わされる金属塩と不活性溶媒中で反応させることに
よって製造することができる。本反応に用いる不活性溶
媒としては、各種溶媒を用いることが可能であるが、好
適にには、水、メタノール、エタノール、ｎ−プロパツ
ール等のアルコール類、ジオキサン、テトラハイドロフ
ラン、ジエチルエーテル等のエーテル等類あるいはそれ
らの混合溶媒をあげることができる。 向　化合物〔１〕の製造方法 上記化合物［１１は、一般式〔ｖ〕で表わされる化合物
と一般式［Ｋ］ ＯＨＣ−ｃｏｏａａ　　　　　　　　　　　　［Ｋ］ｃ
式中、凡−は前述と同じ意味を有する・〕で表わされる
グリオキシル酸エステル誘導体を不活性＃１ＩＩｘ中、
酸あるいは塩基の存在下処理することにより製造するこ
とができる。また化合物［Ｖ］と化合物［１を無水条件
下、不活性＃！媒中、加熱することによっても目的を達
することが可能である。 酸としては各種の酸を用いることができるが、好適には
三フッ化硼素、塩化アルミニウム等がめげられる。 ＩＢＭとしては各種の塩、好適にはトリエチルアミン、
ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、１．４−ジア
ザビシクロ（５・４・？ ０）ウンデシー舎−エン（ＤＢＵ　）等の有機１基をあ
げることができる。 不活性溶媒としては好適にはテトラヒドロフラン、ジオ
キサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン等の芳香族
炭化水素類があげられる。 （ｃ）　　一般式［１３の製造方法 一般式［１１で表わされる化合物の水酸基をハロゲン化
剤とそのままあるいは塩基の存在下反応させ、ハライド
に誘導後、トリフェニルホスフィンと塩基で処理するこ
とにより一般式〔π〕で表わされる化合物を得ることが
できる。 ハロゲン化剤としては塩化チオニル、臭化ゲ チオニル等のハロ→ン化チオニル讐オキシ塩化リン等の
オキシハロゲン化リン、五塩化リン等のハロゲン化リン
またはオキザリルクロリド等のオキザリルハライドが好
適である。 また塩基としては好適には、トリエチルアミン、ジイソ
プロピルアミン、ピリジン、ルチジン等の有機塩基をあ
げることができる。 また、使用される不活性溶媒としては好適にはテトラヒ
ドロフラン、ジオキサン等のエーテル類があげられる。 あるいは一般式［”ｌ［］で表わされる化合物のあるも
のは、一般式 ｃ式中、Ｒ１、Ｂ：ｍは前述と同じ意味を有する。〕 で表わされるメルカプタンの銀塩をアシル化する方法に
よっても製造することができる。 に準じて合成することもできるが、下記一連の新ｓｌ！
導体を経る全く新規な製造方法によって容易に製造する
ことができる。 ＋８）　　　　　　　（ｂ）　　　　　　　　　　　　
（０）Ｏ （ｄ）　　　　　　　　　　　　　　（ｅ）〔式中、Ｒ
１１は低級アルキル基、アリール低級アルキル基を、Ｒ
１！はモノアリールメチルあるいはジアリールメチル基
を示し、２′は通常の水酸基の保護基を示す。〕（１）
　　工　程： グリオキシル酸のエステル誘導体と一級アミン誘導体か
ら公知の方法により導びいたシッフ塩基（ｂ）を塩化ク
ロトノイルで不活性溶媒中、塩基の存在下処理すること
によって、β−ラクタム化合物（０）を製造することが
できろ不活性溶媒としては各種の溶媒を用いることが可
能であるが、好適には塩化メチレン、クロロホルム等ハ
ロゲン化炭化水素系ｉ！ＢＩＩｘ１ベンゼン、トルエン
等芳香族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラハイドロフラン等エーテル系溶媒、あるいは
その蟲合溶媒をあげることができる。塩基としては、好
適には、トリエチルアミン、ピリジン、ルチジン、１．
６−ジアザビシクロ［５，４゜０〕ウンデセン−５（Ｄ
ＢＵ　）等有機塩基をあげることができる。好適な反応
温度としては、０〜１００℃であるということができろ
。 は）　工　　１ｉ　： β−ラクタム化合物（０）のエステル基を酸あるいはア
ルカリで加水分解することによってカルボン酸誘導体向
に導くことができろ。エステル基のカルボン酸へのその
他公知方法として各種の一様が知られているが、もちろ
んそ、れらの方法によっても本反応を達成することは可
能である。 （８）　　工　程： カルボン酸誘導体（ｄ）を不活性溶媒中、四酢酸鉛で処
理することによりアセテート−導体（ｅ）に導びくこと
がで−る。酸化剤の量としては、反応が十分進行するだ
けの量が必要であるが、通常は１〜８倍モル用いる仁と
により達成することができる。反応温度としては、適宜
冷却または加熱することにより、反応を抑制または促進
することが可能であるが、好適には、０〜１００℃であ
るということができる。不活性溶媒としては、各種溶媒
を用もすることか可能であるが、好適にはベンゼン、ト
ルエン等芳香族炭化水素、酢酸、ジメチルホルムアミド
、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル
等エーテル系溶媒、ヘキサメチルホスホリックトリアミ
ドある０はその混合溶媒をあげろことが１きる。また、
ピリジン、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等反応補助剤
を必要に応じ加えろこともできる。 水銀ついで、水素化ホウ素ナトリウムで処理するξとに
よって、とドロキシエチル誘導体（０に導く仁とができ
る。不活性溶媒としては各種溶媒を用いることができる
が、好適にはテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチ
ルエーテル、アセトニトリル、水、あるいはその混合溶
媒をあげることができる。酢酸第二水銀処理においては
、酸化剤の好適量としては、１〜２倍モルであり、その
好適潤度としては０〜１００℃という仁とができろ。次
に還元工程は上記反応液に水素化ホウ素ナトリウムを水
酸化ナトリウム等の水酸化アルカリ金属の存在下、加え
ることにより達成することができる。 還元剤の好適量としては１７４〜６倍モルということが
でき、好適温間は一１０℃〜４０℃という仁とができる
。またアルカリ添加はアルカリ水溶液として、あるいは
粉末状にて加えることができ、好適添加量は１７２〜５
倍モルといえろ。 （５）　工　程： 水酸基を有する誘導体げ）をたとえば、ｐ−ニトロベン
ジルクロロホーメート等のアシル化剤等で水酸基を保護
し、それをＤＭＦ、アセトニトリル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、エタノール、水あるいはそれらの混合
溶媒といった不活性溶媒中０〜６０℃で２〜４倍モルの
士リンク・アンモニウムナイトレイ）　（ｅｅｒｉｅ　
ａｎｒｎｏｎｉｕｍ　ｎ１ｔｒａｔｅ　）で処理するこ
とによって、化合物［ｙ−ａｌに導びくことができる。 また同様に先に述べた各反応の組合せをかノ えた下記ルートによってもアゼチジｔ＞誘導体［Ｆｒ−
ａ’ｌは製造することができろ。 （ｄ）　　　　　　　　　　　憧） （ｈ）山 ［ｆ−ａｌ 〔式中、Ｒ１！　、　Ｚ’は前述と興じ意味を有する。 〕 （１）′オキシマーキュレージ曽シー説マーキュレージ
替ン反応による水酸基の導入反応（２）カルボキシル基
の７セトキシル基への変換反応　（Ｉｄ保護基の導入反
応　（４イ置換基５の脱離反応であるが、いずれも前述
と同様の反応方法により達成することができる。 尚、ここで述べたこれらのβ−ラクタム誘導体（Ｗ−４
）の製造法は新規な製造法であり、また８位の保護され
たヒドロキシエチル基の水酸基の立体構造としてはスレ
オ体とエリスロ体とがあるがここで述べたこれらの方法
では、選択性良く、スレオ体を製造することができろと
いう特徴を有しても、）る。 原料化合物である一般式［Ｖｌｌで表わされる化合物に
おいて、たとえば 〔式中、Ｍ　、　Ｒ’４は前述と同じ意味を有する。〕
で表わされるトリチオ炭酸エステルアルカリ金属塩は常
法に従い、一般式〔Ｘ−ａ’）〔式中、禎は前述と同じ
意味を有する。〕で表わされるメルカプタン化合物、二
硫化炭素および水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の
金属水酸化物もしくはナトリウムメトキシド、ナトリウ
ムエトキシド、カリウムエトキシド等のアルカリ金属ア
ルコキシドを用いて製造することができる。 なお、原料メルカプタン誘導体［Ｘ−ａｌは、たとえば
、下記ルートで容易に製造することがで曇る。 ［式中、ＰＮＢはｐ−ニトロベンジル基を示す。］ また、 Ｕ 〔式中、Ｍ　、　Ｒ’４は前述と同じ意味を有する。〕
で表わされる金属塩は、常法に従い一般式［ 〔式中、蹟は前述と同じ意味を有する。〕で表わされる
チオールカルボン酸誘導体と水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等の金属水酸化物、ナトリウムメトキシド、ナ
トリウムメトキシド、カリウムエトキシド等アルカリ金
属アルコキシド、水素化ナトリウム等水素化アルカリ金
属等を用いて製造することができる。 なお原料化合物（ｘ−ｂ）はたとえば、上幻ヒＫ）Ｃ−
く二■）ｑ−Ｒ２ 〔式中禎は前述と同じ意味を有する。〕の活性酸無水物
体と硫化水素から容易に製造することができる。 一般式［ＶＩ］で表わされる他の誘導体も、上述の方法
に準じ製造することができる。 本発明の前記一般式ｒ１１で表わされろ新規なβ−ラク
タム化合物は、スタフィロコッカス・オウレウス、スタ
フィロコッカス・エビデルミゾイス、ストレプトコッカ
ス・パイろエンス、ストレプトコッカス・フェカーリス
などのグラムＩＩ性Ｉｆ、エシェリキア・コリ、プロテ
ウス・ミラビリス、セラシア書マルセッセンス、シュー
ドモナス・エルギノーザなどのダラム陰性階を包含する
広範囲な病原菌に対し、すぐれた抗菌活性を有し、抗菌
剤として有用な化合物あるいは、それらの抗菌作用を表
わす化合物の重要合成中間体である。 本発明化合物を細菌感染症を治療する抗菌剤として用い
るための投与形態としては、例えば錠剤、カプセル剤、
散剤、シロップ剤等にょろ経口投与あるいは静脈内注射
、筋肉内注射、直腸投与などにより非経口投与があげら
れる。投与量は宜状、年令、体重、投与形態、投与回数
等によって異なるが、通常は成人に対し１日約２００〜
８０００ｗｇを１同または数回に分けて投与　　。 する。必要に応じて一減量あるいは増量することができ
る。 次に実施例、参考例をあげて本発明をさらに具体的に説
明するが、本発明はもちろんこれらによって何ら限定さ
れるものではない。 Ｌ）８−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオ
キシエチル）−４−（４−（１−ｐ−ニトロベンジルオ
キシ力ルポニルビペリジニル）−メチルチオ）−チオカ
ルボニルチオ−１−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルトリフェニルホスホラニリデンメチル）−２−
アゼチジノン１．Ｏｆを乾燥０−キシレン２００−に溶
解させこれに触媒量のハイドロキノンを加え窒素気流下
５時間還流し溶媒留去残渣をシリカゲルクロマト精製し
、２−（４−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルビペリジニル）−メチルチオ）−６−（１−ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニルオキシエチル）ペネム−８
−カルボン酸ｐ−二トロベンジルエステルのトランス異
性体績びシス異性体を得た。 ５．６−トランス異性体 ｘＲ：１３（、−’）１７９０．１７５０．１６８７．
１６０８゜１５２０、１４４Ｇ、　１８４７．１２６０
゜１１１４、８５Ｏ ＮＭＲδ（ＣＤＣｔｓ）　　１．５１（８Ｈ，ｄ、Ｊ−
６，５Ｈｚ）２．８９（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝＝６Ｈｚ）Ｌ
９２（ＩＬｄｄ　Ｊ＝１．５ａｎｄ　８Ｈｚ）５．２２
（２Ｈ，ｓ） ５．２５（２Ｈ，Ｉ） ５．４５（ＩＨ，ｄ、　Ｊ−１８，５Ｈｚ）５．８６（
ＩＩＩ、　ｄ、　Ｊ±１．６Ｈす７．５１　（４Ｈ，ｄ
、　Ｊ＝ｇＨｚ　）７．６１（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝ｇＨｚ
　）８．１１（２Ｌ　ｄ、　Ｊ　＝９Ｈｚ）８．１８（
４Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝ｇＨｚ）５．６−シス異性体 ＩＲ認：”（ｆｆｉ−’）　１７８７．１７４０．１６
８５．１６０５゜１５１５、１８４５．１２４０．１１
６０゜１１１２、８４７ ＮＭＲｌ（（Ｄｃｚａ　）：　　１．６２Ｃ８Ｈ，ｄ、
Ｊ＝６　ＪＩＩｚ　）４．１１（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ−４
ａｎｄ　１０Ｈｚ）５．２２（２Ｈ，Ｉ）、５．２６（
２１１，！Ｉ）５．４６（ｌｆｌ、ｄ、に１４Ｈｚ） ５．７７（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝−４Ｈり ７Ｊ１（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．５Ｈｚ） ７．５４（２Ｉ１．　ｄ、　Ｊ＝８．５Ｈｚ）７．６１
　（２Ｉｉ、　ｄ、　Ｊ　ａ＝ｇ、５ｆｌｚ　）８．２
２（４Ｈ，ｄ、　Ｊ２＝：８．研り８−２４（２Ｈ，ｄ
、　Ｊ　＝３．５Ｈｚ）ｂ−１）　　２−　（４−（１
〜ｐ−ニトロベ〉ジルオキシカルボニルピペリジニル）
−メチルチオ）−６−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシエチル）ペネム−８−カルボン酸Ｐ−
ニトロベンジルエステルの５．６−トランス異性体１５
０ｑをテトラヒドロフラン９−にとかし、さらにエタノ
ール１　ｍ　、０．０２１’Ｓ藍−リン酸緩衝液（ＰＨ
６，８）１０−を加え、５％パラジウム−炭素４５０ｍ
１１を用いて常王水素下１時間攪拌した。反応終了後触
媒をＰ去し、触媒を水洗後、Ｐ液、洗液を合わせ、５〜
１０−まで減圧下濃縮し、Ｍ（３Ｉ−ＧＥＬＣｄＰ−２
０Ｐ　　１５−を用いるカラムクロマトグラフィーに付
し、１５％メタノール−水で溶出するフラクシ胃シを集
め、凍結乾燥を行い無色粉末の２−（４−ピペリジニル
メチルチオ）−６−（１−ヒドロキシエチル）ペネム−
８−カルボン酸の５．６−トランス異性体（８１１ｑ）
を得た。 ＩＲＫＢｒ（ｃｍ−”）　：　１７６５．１５６８．１
８６６６Ｋ Ｕ”ｍａ’ｉ’　ヨ　：　　２５（Ｌ　　８２０彫δ（
Ｄ意０）　：　１．２１（８Ｈ，ｄ、Ｊコロ、４比）、
８−８１（ＩＨｅ　ｄａｄｓ　Ｊ＝　１．２　ａｎｄ　
６，４Ｈ２）４．１５　（ＩＨ，ｑｕｉｎｔｅｔ　、　
Ｊ＝６．４Ｈｚ　）５．５７　（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝　１
．２　Ｈｚ　）ｂ−２）５．６−シス異性体のエステル
体（１８０Ｗ）から同様にして無色粉末の２−（４−ピ
ペリジニルメチルチオ−６−（１−ヒドロキシエチル）
ペネム−８−カルポジ酸の６．６−シス異性体（２６１
１Ｆ）を得た。 ＵＶ　ＡＷ：汎ｍ：　２５０．８１７ また、（８８４Ｂ）−８−［（Ｒ）−１−Ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルオキシエチル）−４−（４−（
１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルビペリジニル
）−メチルチオ）−チオカルボニルチオ−ｔ−ｃ　１−
ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルトリフェニルホス
ホラニリデンメチル）−２−アゼチジノンを上述のａ）
と同様に処理することによって、（５Ｒ４８８）−２−
［４−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルビペ
リジニル）−メチルチオ）−ｅ−［（Ｒ）−ｓｌ−ｐ−
二トロベンジルオキシカルボニルオキシエチル）ペネム
−８−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル （比旋光度［ａ〕二’＋７１．６°（Ｃ−０，４５７、
ＣＨＣＩｍ）、ＩＲ，ＮＭＩＬは前述のトランス体と一
致）と（５８，６８）−２−［４−（１−Ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルビペリジニル）−メチルチオ）
−６−（（Ｒ）−１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシエチル）ペネム−８−カルボン酸ｐ−ニトロ
ベンジルエステル （比旋光度〔α：ＩＤ−６８，０°（Ｃ＝ｏ　、２２　
（ｌＯｚｍ　）、ＩＬＬ、ＮＭＲは前述のシス体のそれ
と一致。）を得た。 更に（５Ｂ、６８）−２−（４−（１−ｐ−二トロベン
ジルオキシカルボニルビペリジニル）−メチルチオ）−
６−（（Ｒ）−１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルオキシエチル）ペネム−８−カルボン酸ｐ−ニトロベ
ンジルエステルから　ｂ−１）と同様の処理によって（
５Ｒ，６８）−２−（４−ピペリジニルメチルチオ）−
６−（（Ｒ）−１−ヒドロキシエチル）ペネム−８−カ
ルボン酸を得た。 （比旋光度〔ａ］Ｄ＋１０２．７°（Ｃ−０，２１、Ｈ
意０　）Ｉ　Ｒ、ＵＶは上述の５．６−トランス異性体
と一致〕 実施例２ 龜）８−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオ
キシエチル）−４−（４−（１−ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニルビペリジニル）−チオ）−チオカルボニ
ルチオ−１−（１−ｐ−ニトロペンジルオキシカルボニ
ルトリフヱニルホスホラニリデンメチル−２−アゼチジ
ノン１．７５Ｆを乾燥０−キシレン５７８−に溶解させ
これに触媒量のハイドロキノンを加え窒素気流下９時間
還流し溶媒留去残渣をシリカゲルクロマト精製し２−（
４−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルビペリ
ジニル）−チオ）−６−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシエチル）ペネム−８−カルボン酸ｐ
−ニトロベンジルエステルの５．６一ト？ンスＪｉ性体
及び５．６−シス異性体を得た。 ５．６−トランス異性体 ＩＲ”””（５１１−’）　：　１７８５．１７２２．
１６９５．１６０１゜ａｘ １５１８、１８４０．１１０ｌ １０５Ｎ　（ＣＤＣｔ虐）　：　１．５０（８Ｈ，ｄ、
Ｊ＝６．５Ｈね）８．９１（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝７．５
　ａｎｄ　２ＨＱｓ、２ｔ（２Ｈ，ｓ）、５．２４（２
Ｈ，８）５．８０（２Ｈ，ＡＢｑ剃沁、Ｊ＝１４Ｈ＊、
１５．６５（１ｆ１．　ｄ、　Ｊ＝２Ｈ％）５．６−シ
ス異性体 ＩＲＣｌ１ｌＩ””（５＋’　）　：　１７８５．１７
４０．１７００．１６０５゜ａｘ １５２０．１８４２．１１ｌ１ ０５Ｎδ（ｃ■Ｚ”　）　：　１　”　ＢＯ（３ｆＩ−
ｄ−Ｊ＝６−５”！　）４．１８　（Ｉｎ、　ｄｄ　、
　Ｊ　＝ｌＱ、５ａｎｄ　４ｔｔｆ　）５．２１（２ｆ
１．８）、５．２４（２１１，！Ｉ）５．２６（２■、
ＡＢｑの中心、Ｊ＝１４．５Ｈｊ）５．７８（ＩＨ，ｄ
、　Ｊ＝４ｆｌｌＩ）２゜ ｂ−１）２−（４−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルビペリジニル）−チオ）−６−（１−Ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニルオキシエチル）ペネム−８
−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステルの５．６１−
ランス異性体２００ｑをテトラヒドロフラン９−にとか
し、さらにエタノール１　ｄ　、　０．０２５　Ｍ−リ
ン酸緩衝［（ＰＨ６，８）１０−を加え、６％パラジウ
ム−炭素６００１１Ｆを用いて常圧水素下１時間攪拌し
た。反応終了後１１１１１媒を炉去し、触媒を水洗後、
ｒ液、洗液を合わせ、６〜１０−まで減圧上濃縮し、Ｍ
ＣＩ−ＧＥＬ　ＣＨＰ−２０Ｆ５−を用いるカラムクロ
マトグラフィーに付し、ｌＯＸメタノール−水で溶出す
るフラクシ璽ンを集め、凍結乾燥を行い無色粉末の２−
（４−ピペリジニルチオ）−６−（１−ヒドロキシエチ
ル）ペネム−８−カルボン酸の５．６−）ランス異性体
（２２１９）を得た。 ＩＲＫＢｒ（ｅＷＩ−”）　：　８４００（ｂｒ）、　
１７６５．１６２５．１５６０゜ｍａ！ １８７０、１２８２ ｂ−２）２−（４−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルポニルビペリジニル）−チオ）−６−（１−Ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニルオキシエチル）ペネム−８
−カルボン酸Ｐ−二トロベンジルエステルの５．６−シ
ス異性体（１４０１１ｇ）から　ｂ−１）と同様の処理
により２−（４−ピペリジニルチオ）−６−（１−ヒド
ロキシエチル）ペネム−８−カルボン酸の５．６−シス
異性体（ａＯｓＦ）を得た・ 工ＲＬＢｒ（ｃＩＲ″’）　：　ＩＴ’ｒ０．１６１２
．１５６５．１８７２゜ａＫ １２７８、１１２５．１０７５ Ｕ′ｖ”ｗａｇ　ｎｍ　”　２５５ｅ　”８ＮＭＲＪ（
Ｄｉｄ）　：　１．８１！（＄ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝７Ｈｚ
）８．９１（ｌｆｉ、　ｄｄ、　Ｊ＝４．５ａｎｄｌＱ
Ｈｚ）５．７０（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝４．５Ｈ２’）また
（ｇｓ、４Ｂ）−８−［（幻−１−Ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルオキシ）−４−（４−（１−Ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニルビペリジニル）−チオ）−
チオカルボニルチオ−ｔ−ｃｔ−ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニルトリフェニルホスホラ二！Ｊ　ｆ’　：
Ｊ　）ｌチル）−２−アゼチジノンを上述と同様に処理
することによって、（５Ｒ，６８）−２（４−（１−Ｐ
−ニトロベンジルオキレカルボニルビイリジニル）−チ
オ）−６−（（Ｒ）−１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルオキシエチＪし）ペネム−８−力ルボン酸Ｐ−
ニトロベンジルエステル （比旋光ｖ　ｒａ〕：十ｓｏ、ｓ°（０＝０．１２４　
、ＣＨＣｊｚｓ　）、ＩＲ，ＮＭＲは前述のトランス体
と一致）と（５８，６８）−２−こ４−（１−Ｐ−ニト
ロペンジルオキシカルボニルビペリジニル）−チオ）−
６−ｒ（Ｒ）−１−Ｆ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ルオキシエチル）ペネム−８−カルボン酸Ｐ−ニトロベ
ンジルエステル （比旋光Ｉｆ　（αＩＤ−７１，９°（０−０，０９５
、ＣＩ（Ｃ２ｓ　）ＩＩＬ、ＮＭＲは前述のシス体のそ
れと一致）を得た。 更に、（５Ｒ，６８）−２−（４−（１−Ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルビペリジニル）−チオ）−６−
（（Ｒ）−１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオ
キシエチル）ペネム−８−カルポジ酸Ｐ−二トロペンジ
ルエステルから、上述と同様の処理によって（５ｆｔ、
６８）−２−（４−ピペリジニルチオ）−６−（（Ｒ）
　−１−とドロキシエチル）ペネム−８−カルボン酸を
得た。 （比旋光度（’）Ｄ　＋　１６０−８＠（ｃ−ｏ−０７
、％Ｏ）１に、Ｎ臘、ＵＶ　は上述の６．６−トランス
体と一致） ｃ）　　２−　（４−（１＝　Ｐ−二トロペンジルオヰ
シカルポニルピペリジニル）−チオ）−６−（１−Ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニルオキシエチル）ペネム
−３−カルボン酸Ｐ　−二トロペンジルエステルの８位
１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシエチル
基の立体構造の異なる誘導体（エリスロ体）は１−（ジ
ーーーアニシルメチル）−３−ヒドロキシエチル−４−
アセトキシ−２−アゼチジノンの３位−ヒドロキシエチ
ル基の水酸基の立体構造がスレオ体、エリヌク体約１：
ｌの混合物から導いた３−（１−Ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニルオキシエチル）−４−（４−（１−ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニルビペリジニル）チオ〕
−チオカルポニルチｔ−１−（１−Ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルトリフェニルホスホラニリデンメチル
）−２−アゼチジノンを前述の如く閉環後シリカゲルク
ロマトグラフィーにで分離することにより得た。 ＩＲ””ｌ　（ｃｓ−１）　：　１７Ｂ８　、１７４６
　、１６９３　。 ！ａ息Ｘ １６０Ｂ　、　１５２２　、１４３８　、　）３４７　
、１２４６　、１２０５　。 １０Ｂ ＮＭＲδ（α）ＣＩ、）　：　１．５２（３Ｈ，ｄＪ■
６．５Ｈす。 ４、Ｑ５（ＩＨ，ｄｄ、Ｊｓｌ、５　ａｎｄ　４．誹鳳
）。 ５．２２（２Ｈ，Ｉ）　、５．２６（２Ｈ−・）、５．
６０（ｌＨｓ’ｅＪ−１，６Ｈす、７．５１（２Ｈ，ｄ
、Ｊ−９Ｈす。 ７．５３（２Ｈ，ｄＪ−９ＨＩ）　＃７．６０（２Ｈ＃
ｄｔＪ−９Ｈ１）　ａ８．２１（８Ｈ，ｄ、Ｊ−９Ｈ冨
） ｄ）２−（４−ピペリジニルチオ）−６−（１−とドロ
キシエチル）ペネム−３−カルボン酸の６位１−ヒドロ
キシエチル基の立体構造の異なる誘導体（エリスロ体）
は２−（４−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルポニ
ルビペリジニル）チオ）−６−（１−Ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルオキシエチル）工、ステルを上述と
同様のＩＩ＆理によって得た。 ＵＶｌへ０ ｍゎ、−、、、：　２５８（５２１６）。 実施例８ ａ）８−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオ
キシ）エチル−４−（４−（１−Ｐだン 二すデンメチｌし２−アゼチジノン１．７０ｆを乾燥Ｏ
−キシレン８５−に溶解させ、触媒量ｏ＞　Ｐ−ハイド
ロキノジを加え、窒素気流下８．５時間還流し、溶媒留
去残渣をシリカゲルクロマト精製し、２−（４−（１−
Ｆ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピペリジニル）
メチル−６−（１’−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシエチル）ペネム−８−カルＮ　ン酸Ｐ−二ト
ロペンジルエステルの５．６−シス、トランス異性体を
得た。 ５．６−）ラシス異性体 ＩＲ０′″０“（ｚ−’）　：　１７８８．１７４５．
１７００．１６８５゜ａｘ １６０ｇ、　１５２０．１４８８．１ｇ４５゜１８１２
、１２６０．１１０７．１００５゜４６ ＮＭＲδ（ＯＤＣｚｓ）　：　１．４９（８Ｈ，ｄ、　
Ｊ＝（％、５Ｈｚ）８．９２（ｉｎ、　ｄｄ、　Ｊ　＝
ｌ、５ａｎｄ７．５Ｈｚ）５．２０（２■、８）、５．
２８（２Ｈ，８）５．８６（１ｆ１．　ｄ、　Ｊ＝１４
Ｈｚ）５．６１（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１．５） ７．４７（４Ｈ，ｄ、Ｊ＝ｇ３．５Ｈｚ）７．５７（２
Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．５１２）８．１８（６Ｈ，ｄ、Ｊ＝３
．５Ｈｚ）６．６−シス異性体 ＩＲ”””（ｍ−’）　：　１７８４．１７５０．１６
９５．１６１０゜ａｘ １５８Ｇ、　１５２６．１４４Ｇ、　１８５０゜１８１
５、１２４５．１１６８．１１１４゜１０１０、８５Ｏ ＮＭＲδ（ＣＤＣｔす：　１．６０（８Ｈ，ｄ、　Ｊ　
＝６Ｈｚ）５．２１（２■、８）、５．２６（２ｆ（、
８）５．４１（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１ｇ、５ｉｉｚ）５．
７０（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝４Ｈ２） ７．５Ｑ（２Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝ｇＪＨｚ）７、！５４（
２Ｈ，ｄ、　Ｊ−４，５１１ｚ）ｙ、ｇｏ（２ａ、　ａ
、　Ｊ＝８．５Ｈｚ）８．２２（６Ｈ，ｄ、　Ｊ＝８．
５Ｈｚ）ｂ）２−（４−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル）ピペリジニル）メチル−６−（１−Ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニルオキシエチル）ペネム
−８−カルボン酸−Ｐ−二トロベンジルエステルの５．
６−）ランス異性体２００ｖをテトラヒドロフラジ９゛
−にとかし、更にエタノール１−１０．０２５　Ｍ　−
リン酸ａｍ液（ｐＥｌ　６．８）　１０　ｍ＋加え、５
％パラジウム−炭素６００９を用いて常圧水素下１時間
攪伴した。反応終了後融媒を炉去し、触媒を水洗後、ｐ
液、洗液を合わせ、６〜１゜ｗｅｔ　２　テ減圧下１１
１１１　Ｌ、、ＭＣＩ　−ＧＥＬ　０ｕＦ−２０Ｐ２Ｏ
−を用いるカラムクロマトグラフィーに付し、１０％メ
タノール−水で溶出するフラクシッシを集め、凍結乾燥
を行い無色粉末の２−（４−ピペリジニル）メチル−６
−（１−ヒドロキシエチル）ペネム−８−カルボン酸０
）５．６−）ランス異性体を得た。 Ｕｖλ大汎ｍ：　２６０．８０２ 実施例φ Ｃ（）ＪＰＮＢ ・）８−（１−ｐ−二トロベンジルオキシヵルポニルオ
キシ）エチル−４−（２−（４−（１−ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニル）オスフォラエリデシメチノリ−
２−アゼチジノン０．８４１を乾燥トルエン４２−を溶
解させｐ−ハイドロキノジ０．０２８　Ｆを加え、−素
気流下１０時間還流し、溶媒留去、残液をシリカゲルク
ロマト精製し、２−（２−（４−（１−ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニル）ピペリジニル）エチニル）−６
−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシエ
チル）ペネム８−カルポジ酸ｐ−ニトロベンジルエステ
ルの５．６−シス、トランス異性体を得た。 ５．６−トランス異性体ＩＲ，ＮＭＲ ＩＲ認ｇＺａ（ｆｆｉ−ｔ）：　１７ｇ８．１７４５．
１６９０．１６０５゜１５２０、１４４０．１８４６．
１ｇ１４゜１２４５、１１７０．１１８４．１１０８゜
１０１２、８４５ ＮＭＲδ（ＣＤＣｚｓ）　：　１．５０（８Ｈ，ｄ、　
Ｊ＝６．５Ｈｚ）８．９０（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝１．５
ａｎｄ８ｆｌｚ）５、＄！８（２Ｈ，８）、５．２６（
２１１，８）５．５８（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝ｌ、５Ｈｚ）
６．０２　（ＩＨ，ｄｄ　、　Ｊ＝６．５　ａｎｄ　１
６Ｈｚ　）７．２１（ＩＨ，ｄｄ、コ＝１＆ｎｄ　１６
Ｈｚ）７．５２（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝３．５Ｈｚ　）７．
５２（２ｆｉ、　ｄ、　Ｊ＝３．５Ｈｚ）７．６２（２
Ｈ，ｄ、　Ｊ４．５Ｈｚ）８．２１（６Ｈ，ｄ、　Ｊ＝
３．５Ｈｚ）５．６−シス異性体 ＩＲ？””（ｃｙｎ−’）　：　１７８４．１７４０（
１！ｈ）、　１７０２゜１６１０、１５２４．１４４２
．１Ｂ４９゜１８１５、１２５０．１１６８．１０１Ｆ
１゜９６５、８５０ ｂ）！−（２−（４−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニル）ピペリジニル）エチニル）−６−（１−ｐ
−二トロペンジルオキシカルボニルオキシエチル）ペネ
ム−８−カルｆ　ン酸−ｐ−二トロベンジルエステルの
５゜６−トランスＪｌｌ性体１６０ｑをテトラヒドロフ
ラン７ｍにとかし、更にエタノール１−１０．０２５　
Ｍ−リン酸緩衝！　（ＰＨ６，８”）　８−を加え、５
Ｎパラジウム−炭素５００！ｌＦを用いて常圧水素下１
時間攪拌した。反応終了後触媒を炉去し、触媒を水洗後
、ろ液、洗液を合わせ６〜１０−まで減圧上濃縮し、Ｍ
ＣＩ−ＧＥＬ・ＣＨＰ−７ｇＱＰ　２０−を用いるカラ
ムクロマトグラフィーに付し、１５Ｘメタノール−水で
溶出するフラクシーンを集め凍結乾燥を行い、無色粉末
の２−（２−（４−ピペリジニル）エチニル）−６−（
１−ヒドロキシエチル）ペネム−８−カルポジ酸の５．
６−トランス異性体を得た。 ＩＲＫＢｒ（ｚ−’）　：　１７６０．１５８０．１３
５８ｍ＆Ｘ ＮＭ幻（Ｄ！０）　：　１．２１（８Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６
Ｈ＄）８．７５（Ｉｆｆ、　ｄｄ、　Ｊ＝１．５ａｎｄ
６■Ｉ）４．１６　（ＩＨ，ｑｔｔｊａｔｅｔ　、　Ｊ
＝６Ｂｇ　）５．４７（１７１，ｄ、　Ｊ＝１．５Ｈｆ
）５．８６（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝５ａｎｄ　１６Ｈｌ）
７・１５（ｌｆｌ、　ｄ、　Ｊ＝１６Ｈ１）Ｃ）２−（
２−（４−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
）ピペリジニル）エチニル）−６−（１−ｐ−二トロベ
ンジルオキシ力ルポニルオキシエチル）ペネム−８−カ
ルポジ酸ｐ−ニトロベンジルエステルの６位１−ｐ−二
トロベンジルオキシヵルボニルオキシエチル基の立体構
造の異なる誘導体（エリスロ体）はｌ−（ジ−ｐ−アユ
シルメチル）−８−ヒドロキシエチル−４−アセトキシ
−２−アゼチジンの８位・ヒドロキシエチル基の水酸基
の狂体構造がスレオ体、エリスロヌク１：１の混合物か
ら導いた８−（１−ｐ−ニトロペンジルオキシヵルポニ
ルオキシ）エチル−４−（２−（４−（１−Ｐ−ニトロ
メチｙｂ）−２−アゼチジノンを前述の如く、閉環後シ
リカゲルクロマトにて分離することにより得た。 ”Ｒ忠”（ｚ−”）　：　１７９０．１７４５（１１ｈ
）、　１７０５゜１６１０、１５２５．１４４０．１ｇ
５０゜１８１８、１２５０．１１７８．１１４０゜１０
１６、８５８ ＮＭＲＪ（ＣＤｃＡａ）　：　１．４５（８Ｈ，ｄ、　
Ｊ＝＝５．５Ｈｚ）８．９７１（１Ｍ、　ｄｄ、　Ｊ＝
１．５ａｎｄ４Ｈｚ　）５．１４（２Ｈ，８）、５．１
９（２Ｈ，Ｓ）５．８６（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１４Ｈ２）
５．８６（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１．５Ｈｚ）５−９５（Ｉ
Ｈ，ｄｄ、　Ｊ　＝６．５ａｎｄ　１５Ｅｈ）７．２１
（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１５Ｈす ７．４２（２１１１，ｄ、　Ｊ　＝８．５Ｈｚ　）７．
４５（２Ｈ，ｄ、　Ｊ−６，５Ｅ１ｚ）７．５４（２Ｈ
，ｄ、　Ｊ＝８．５Ｈｚ　）８．１８（６■、ｄ、　Ｊ
　＝４，５Ｈｚ）実施例５ ａ）　　４−（４−（１−ｐ−ニトロベンジルオキ−ア
ゼチジノン１．６８　Ｆを０−キシレン５４８−に溶解
させ、触媒量のｐ−ハイドロキノンを加え、窒素気流′
Ｆ４．５時間還流させ、溶媒留去、残渣をシリカゲルク
ロマト’１ｆ４１Ｎ、、２−（４−（１−ｐ−二トロベ
ンジルオキシ力ルポニル２ペリジニル）チオ）ペネム−
８−カルボン酸ｐ−ニトロベンジルエステルヲ得た。 ＩＲＣＨ””（ｍ−’）　：　１７９０．１６９８．１
６０８．１Ｆ１２２゜ｍ畠Ｘ １８４８、１８２５．１２５０．１１９２゜１１０ ｍδ（ＯＤＣｚｓ）：　　１．８７−２．４８（４Ｈ，
ｍ）２．８８−４．８７（７ＥＩ、　ｍ） ５．２８（２１１，Ｉ）、５．２８（ｉｎ、　ｄ。 Ｊ＝１４ａｓ）、５．４６（ＬＨ，ｄ、Ｊ　＝１４ｔｈ
）５．７５（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝２ａｎｄ　４Ｈｚ　）
７．６８（２Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝ＢｋＩｚ）７．６４（２
Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝３Ｈｚ　）８．２８（４Ｈ，ｄ、　Ｊ
　＝ｇｆｉｇ）ｂ）　　２−（４−（１−ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルビペリジニル）チオ）ペネム−
８−カルボ〉酸ｐ−ニトロベベンルエステル１５０１１
Ｆをテトラヒドロフラン７ｍにとかし、更にエタノール
１−１０．０２５　Ｍ−リン酸ＩＩ４術液（ｐＨ６，８
）１０−を加え、５％パラジウム−炭素２５０”Ｆを用
いて常圧水累下１時間攪洗後、？ＦＭ、洗液を合わせ、
６〜１０−まで減圧Ｆ濃縮し、ＭＣＩ　−ＧＥＬ　０ｆ
ｉＦ−２６Ｐ　１０−を用いるカラムクロマトグラフィ
ーに付し、１０％メタノール−水で溶出するクラクシ１
ンを集め、凍結乾燥を行い、無色粉末の２−（４−ピペ
リジニル）チオペネム−８−カルボン酸を得た。 Ｊ３ｒ ＩＲ−ｓ　　：　１７６２．１６２０．１８６０．１２
７０ｍ＆Ｘ　（＠ ＵＶ　　λ吾二２　　ｎｍ　　：　　２６Ｇｅ　８１８
以下同様にして各々対応するホスホラン籾導体から以下
の化合物を得た。 なお、閉環工程の反応溶媒は、表中に記述の反応湿度に
準じ、ベンゼン、トルエン、キシレジ、オルトキシレン
等から選択して用いた。 実施例４４ ２−ヒドロキシメチル−ペネム−８−カルポジ酸ｐ−ニ
トロベシジルエステル１６８４を乾燥塩（ｔｌｓメチレ
ン４−に浴解し、トリエチルアミン６０１’Ｆを加え、
次に水冷ドメトキシアセチルクロリド０．０５−を加え
窒素気流ド１時間攪拌し、塩化メチレジで希刺し水、瀘
曹水、水で洗浄し芒硝乾燥後纒媒留去、残液を薄層クロ
マトグラフィにて精製し、２−メトキシアセトキシメチ
ル−ペネム−８−カルボンｆｌｌｐ−ニトロベンジルエ
ステルを得た。 ＩＲ”１ｍ（ｃｍ−’　）　：　１７８０．１７２５．
１６０４．１５８０゜ａｘ １５１５、８６Ｏ ＮＭＲδ（ＣＩ）Ｃｔす：　３．４８（ｇＨ，５）３３
．６２（Ｉｎ、　ｄａ　、　Ｊ　＝２ａｎｄ　ｌ　７１
１ｚ　）８．７９　（ｌｆｉ、　ｄｄ　、　Ｊ　＝４ａ
ｎｄ　１７１１ｚ　）４．１０（２ｆｉ、　ｆｉ）、５
．８２（２１１，す５．７２（ｉｎ、　ｃｔｃｔ、　Ｊ
＝＝２ａｎｄ４ｆｉｚ）７−６５（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝４
．５Ｈｚ　）ｓ、２６＜ｚＨ，ａ、　Ｊ＝ｇ、５ｆｌｚ
）実権例４５ ２−ヒドロキシメチル−ペネム−８−カルボン酸ｐ−二
トロベンジルエステル１５０１１９とＮ　−ｐ−ニトロ
ベンジルオキシ力ルポニルフェニルグリシン１５２４を
乾燥テトラヒドロフラン１５−に浴解し、ジシクロへキ
シルカルボジイミド（Ｌ）ＣＣ）　１２　ＧＷを加え、
窒素気流下室温で８０時間攪拌侵、不溶物をＰ去しＦ液
を濃縮。残渣を薄層クロマトグラフィーＩＣで精製し、
ｇ−Ｎ−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルフェニル
グリシルオキシメチル−ペネム−８−カルボン０−ｐ−
二トロベンジルエステルを得り。 ＩＩＬｇ￥￥”Ｃｃ！ｆＩ−’）　：　８４４Ｇ−１７
９５＋　１７２５．１６０６−１５２０．１８５Ｇ、１
８１９．１１６２゜１０５８．　９０６ ８ＭＲ５（ＯＤｃｚｍ　）　：　８．５１（ＩＨｓ　ａ
ａ、　Ｊ＝２ａｎｄ　１６．５出Ｏａ、７２（ｌｌｉ、
　ｄｄ、Ｊ＝３．５ａｎｄ１６，５１ｋ）５．１７（２
ｆｉ、８）、５．４１（２Ｍ、１１）、７．８８（５ｋ
ｉ、１）、７．５５（２１１，ｄ、　Ｊ＝９−）８．１
７（４Ｉｉ、ｄ、Ｊ＝＝９Ｈｚ）実庸例４６ グリコール酸、７６０’ｌとトリエチルアミン１．１ｆ
の乾燥テトラヒドロフランＩＩＩ液にｐ−ニトロペンジ
ルクロロホル、メート２．２６　Ｆを加え、室温１時間
攪拌後酢酸エチルで希釈し、希塩酸、水で順次洗浄、芒
硝乾燥し、溶媒留去後、ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニルオキシ酢酸を得た。次いで水晶８００ｑを乾燥酢
酸エチル７．５−にとかし次に１．１−ジクロロジメチ
ルエーテル１−を加え、５時間還流後、＃！謀留去して
、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシアセチル
クロリドを得た。これを、２−ヒドロキシメチル゛−ペ
ネムー８−カルボン酸−ｐ−ニトロベンジルエステル（
１６８ｗ？）とトリエチルアミン０．１４の乾燥塩化メ
チレン溶液１０−に氷冷ド加え、以下実施例４４と同様
の処理により２−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
オキシアセトキシメチル−ペネム−８−カルボン酸−ｐ
−ニトロベンジルエステルヲ得り。 ＩＲ２”””ＣｅＷ１’）　：　１７９（Ｌ　１７６Ｌ
　１７０’Ｌ　１６０（Ｌ１５１９、１Ｂ４２．１８１
２．１２７７゜１２６０．１１７８．９０２ ＮＭＩ（δ（ＣＤＣｚｍ　）　：　８．６４　（ＩＨ，
ａｔｉ、　Ｊ＝２ａｎｄ１６．５ｆｌ！　）８．８２（
ｌｌｉ、　ｄｄ、　Ｊ−４ａｎｄ　１６．５ｎＺ　）４
．７０（２Ｈ，ｉ）、５．８０（４１１，！ｌ）、５、
Ｑ７（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ　＝２ａｎｄ４．ｔｌす、７．
５２（２１１，ｄ、　Ｊ＝＝９ＩｉＺ　）、７．５７（
２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝ｇＨｚ　）、８．１７Ｃ４Ｈ，ｄ、　
Ｊ＝９ｕＺ） 実施例４７ β−アラニン１．１４１と４Ｎ−水酸化ナトリウム水溶
液７．８ｍからなる溶液に水冷下ｐ−ニトロベンジルク
ロロ本ルメート８ｆのジオキサン（８−）溶液を加え、
１時間攪拌後カルボニルーβ−アラニンを得１こ。本Ｍ
　（８００ｑ）を実施例５４に記載の方法と同様の方法
により酸クロリドに変換後２−ヒドロキシメチル−ペネ
ム−８−カルボンｆｉｔ−ｐ−ニトロベンジルと反応さ
せ、２−Ｃ２−Ｒ−Ｐ−二トロベンジルオキシカルボニ
ルアミノブロピオニル）オキシメチル−ペネム−８−カ
ルボン酸−ｐ−ニトロベンジルエステルを得た。 ＩＲ！ｉ’、＝　（ｆｆｉ−”　）　：　ｓａｇｏ、　
１７８２６１７１０．１６０２゜１５７５、１５１２．
１！’１４１．１（１６２゜１０００．８４５ ＮＭＲδ（ＣＤｃＡｓ　）　：　’２．５８（２Ｈ，ｔ
、　Ｊ＝６Ｈｚ）、８．４４（２ｎ、　ｔ、　Ｊ　＝ｇ
ｎｚ）、８．６０（ｌｆｌ、　ｄｄ、　Ｊ＝２ａｎｄ　
１６１１Ｚ）、３．７ｇ（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ　＝４ａｎ
ｄ　１６１１す、５．１８（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１４Ｈｚ
）、５．１６（Ｓ’ｄ、ＩＩ）、５．２１（Ｉｎ、　ｄ
、　Ｊ＝１８Ｈｚ：５．４１（ｌｆＬｄ、Ｊ＝１ｇ）ｉ
ｚ）、５．４４（Ｉｎ、　ｔｉ、　、ｔ＝１４Ｈす、５
．６４（ｉｎ、　ａｃｔ、　Ｊ＝２ａｎｄ４Ｒ１）、７
．４４（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝９ｆｉｚ）、７．５５（２ｎ
、ｄ、Ｊ＝ｇｎｚ）、 ８．１５（４Ｌｄ、Ｊ＝９ｋＬｚ） 実施例４８ アセトキシ酢酸８００”ｌＦを、実施例５４に−カルボ
ン酸−ｐ−ニトロベンジルエステルと反応させ、２−ア
セトキシアセトキシメチ７１／−’（ネムー８−カルポ
ジｆｌｌ−ｐ−ニトロヘンジルエステルヲ得り。 ＩＲ！ｉ’ｒ　（ｃＩＩｌ−”）　：　１７８（Ｌ　ｔ
７ｓｏ、　１６００．１５７５゜１５１５、８４Ｏ ＮＭＲδ（ＣＤｃＡｓ）　：　２．１７（８ｊｉ＠　ｌ
）６．６５（Ｉｎ、　ｄｄ、　Ｊ　＝２ａｎｄ１６ｔｉ
ｚ）８．８２（ｉｎ、　ｄｄ、　Ｊ＝＝４ａｎｄ１６）
１り４．６５（２Ｍ、８）、５．２１（Ｉｎ、ｃｔ、Ｊ
＝＝１４１ｈ）６．２７（ｉｎ、　ｄ、　Ｊ　＝１８Ｈ
ｚ）５．４４（ＩＩｉ、　ｄ、　Ｊ＝１３Ｈｚ）５．５
６（ＩＲ，ｄ、　Ｊ＝１４Ｈｚ）５．７４（ｌｊｉ、　
ｄｄ、　Ｊ　＝＝ｐ！ａｎｄ４Ｈｚ）７．６２（２Ｍ、
　ｄ、　Ｊ−Ｊ、５ｆｉｚ）８．２２（２Ｍ、　ｄ、　
Ｊ＝８．５Ｈｚ）実施例４９ ２−メトキシアセトキシメチル−ペネム−８−カルボン
酸ｐ−ニトロベンジルエステル６６ＮＩをｌ［エチル４
．６−にとかし、これに水２−を加え、５％パラジウム
−炭素１２０ηを用いて常圧水素下１時間攪拌した。反
応終Ｊ’ｌｌ咳媒をＰ去し、触媒を水洗後、ＦＭ。 洗液を合わせ、これに重曹８０′ｑを加え、水層を約２
−まで濃縮しバイオゲルｐ−２（１０−）を用いるカラ
ムクロマトグラフィーに付し、水で溶出したフラクシ曽
ンを集め、凍結乾燥を行い、無色粉末の２−メトキシア
セトキシメチル−ペネム−８−カルボン酸ナトリウム塩
を得ｔこ。 ＩＲ！ｚＣｃＩｆＩ−１）　ａ　１７８Ｌ　１７４０．
１５８（Ｌ　１２２０αλ大￥ｎｍ　：　２５５．８０
８ 実施例５０ 前述の実施例と同様に対応する原料化合物から以下の化
合物を得た。 実施例６１ ２−Ｃ４−カルボキシフェニル）−ペネム−８−：＃ル
ボン酸ｐ−ニトロベンジルエステル５ｏｏｑを乾燥テト
ラヒドロフラン１〇−にとかし、これにカルボニルジイ
ミダゾール２１０”ｆを加え、室ａ１丁６時間攪拌。こ
れに２−（２−アミノエチル）ピリジン２１６１９を加
え、更に室温で８時間借拌し、酢酸エチルで希釈し、水
洗、芒硝乾燥後溶媒留去。残エニル）−ペネム−８−カ
ルポジ酸ｐ−ニトロベンジルエステルヲ得た。 ＩＲ渾セ’（ｃｍ−’　）　：　８８５Ｇ、　１７９６
．１７１Ｌ　１６４２゜１５２０、１ｇ４５．１２７８
．１１８ＯＮＭＲδ（ＣＤＯｔｓ　）　：　８　、１０
（２ｆｌ、　＊　、　に６ｎｚ　）５．０８（ＩＨ，ｄ
、　Ｊ＝１４ｋｌＺ　）５．２５（ｌｆｉ、　ｄ、　Ｊ
＝１４Ｈｚ）５、ｓｏ（ｔＬｍ）、ｇ、５１（ｉｎ、ｍ
）実施例５２ （ リ　オキザリルクロリド（０，５ｍ）の乾燥塩化メチレ
ン（８０ｍ）液に窒素気流下、−５０〜−６０℃でジメ
チルスルホキシド（０，８５−）を滴下、１０分後、２
−ヒドロキシメチル−ペネム−８−カルボン酸ｐ−ニト
ロベンジルエステルの乾燥塩化メチレン（ｓｏｎｇ）液
を滴１”（、，１５分攪拌。次にトリエチルアミン（８
，５ｍ　）を滴下し、更に１５分攪拌。 氷水で希叡し、エーテル抽出。エーテル層を希塩酸水洗
、水洗し、芒硝乾燥、溶媒留去し、２−ホルミル−ペネ
ム−８−カルボンＷｌｐ　−二トロベンジルエステルを
得ｔこ。 ＩＲＣＨｃｔ”（ＩｙＲ−５：　１８００．１７２０．
１６６５．１５２０゜ａｘ １８５０．１８１２，１０６０．９０８ＮＭＲδ（ＣＤ
Ｃｚｍ）　：　８−７８（ＬＨｌｄｄ、　Ｊ　＝２ａｎ
ｄ１７ｆｌｚ）８．８６（１ｋｉ、、、ｄｄ、　Ｊ　＝
４ａｎｄ１７Ｈ２）５．８７（ｉｎ、　ｄ、　Ｊ＝１４
Ｒｚ）５．４４（ＩＨ，ｄ、　Ｊ＝１４Ｈｚ　）５．７
８（ＩＥＩ、　ｄｄ、　Ｊ　＝＝２ａｎｄ４Ｈｚ）７．
６８（！ｊ１１．ｄ、コ＝８　、５１ｔＺ　）８．２８
（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．５■２）１０．４１（ｌｔｉ、　
！１） ｂ）上述の２−ホルミル−ペネム−８−カルボン酸ｐ−
ニトロベンジルエステルとｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニルメチレントリフェニルホスホラン２．２ｆを乾
燥テトラヒドロフラン（２００ｍ）中で１６分間還流し
、冷却後溶媒留去。残渣をシリカゲルクロマトにて精製
し、２−（２−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
）エチニル）−ペネム−８−カルボン酸ｐ−ニトロベン
ジルエステルを得た。 ＩＲ！、’、１：′（／；”　）　：　１７８５．１？
２０．１６００．１５２０゜１８４０．１０６Ｂ、１０
０８．８４５ＮＭＲδ（ＣＤＯｚｓ）　：　８．６Ｂ（
ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ＝２ａｎｄ１６Ｈｚ）８．８０　（ｉ
ｎ、　ｔｉｃｉ　、　Ｊ　＝８．５ａｎｄ　１６Ｊ１１
ｚ）５．２８（２Ｈ，ＩＩ） ５．６７　（ＩＨ，ｄｄ　、　Ｊ　＝２ａｎｄ９，５．
ｔｌｚ　）６．０８（ＩＲ，ｄ、　Ｊ＝１６Ｈｚ　’）
８　、１７（４Ｈ，ｄ、　Ｊ＝ｇＨｚ　’）ｃ）　　２
−　（２−（ｐ−二トロペンジルオキシカルボニル）エ
チニル）ペネム−３−カルボ二ノ酸−ｐ−ニトロベンジ
ルエステル（１４０ｗＩｆ）の酢酸エチル（６−）溶液
に５−パラジウノ・炭素２６０　”ｊを加え、更に酢酸
エチル１０−と水５ｍ／を加えて常圧水素下１時間攪拌
、触媒を沖去し、触媒を水洗後、炉液、洗液を合わせ、
これに２．５倍モルの重曹を加え、水層を６−まで濃縮
し、バイオゲルｐ−２（３０！！／）を用いるカラムク
ロマトグラフィーに付し、水で溶出するフラクションを
集め、凍結乾燥を行い無色の粉末状の２−（２−カルボ
キシエチニル）ペネム−３−カルボン酸ナトリウム塩を
得た。 Ｕｖ、Ｈ２，Ｏ：　２５５　、３３８ ｍ亀ｘ　ｎｍ 実施例５３〜５５ 実施例３と同様にして以下の化合物を得た。 参考例１ ＼ ＼、 ＼ ＼ ＼ １、：］”、−・− ゛−−− ジ−ｐ−アユシルメチルアミン（１ＯＮ）とｎ−ブチル
グ、リオキシレート（７，８１）からトルエン共沸脱水
によりシラＩ塩基を作りそのトルエン溶液（約６００ｄ
）に、トリエチルアミン（６，２１）を加え、塩化クロ
トノイル（５，１１）をトルエン（２５ｍ）に溶解した
液を７０℃で約１時間かけて滴下し、そのまま２時間攪
拌した。冷却後、水洗、２Ｎ−Ｊｌｌ！酸洗い、鳳ソウ
水洗い、７水洗、芒硝乾燥、濃縮後、シリカゲルクロマ
トにより１−（ジ−ｐ−アユシルメチル）−８−エチニ
ル−４−ｎ−ブチルカルボキシル−２−アゼチジノンを
得た。 ＩＲＣＨＣ”（ａ＋＋−”　）　：　１７５８．１６１
５．１２５２．１１８０゜ａｘ １０ｇ０．９８０．８２５ ＮＭＲδ（ＣＤＯｔｓ　）　：　０．８７（８Ｈ，ｂｒ
、　ｔ、　Ｊ＝６）１．０〜１．７Ｃ４Ｈ，ｍ）、８．
７８（６Ｍ、　１１）５．１〜５．８（８ｆｉ、ｍ）、
５．７７（Ｉｎ、　ＩＩ）参考例２ ｎ−ブチルエステル誘導体（０，５ｆ　）をｌＮ−Ｎａ
ＯＨ水溶液（１，２ｍ）−テトラヒドロフラン（１５ｍ
）−メタノール（１５ｓｔ／）に溶かし、２時間室温で
攪拌した。２Ｎ−塩酸（０，７ｍｇ　）を加え、約１７
４に濃縮後水を加えエーテル抽出し、アルカリ水で再抽
出後、水層を再抽出した。水層を塩酸酸性にもどし、エ
ーテル抽出、水洗、芒硝乾燥、溶媒留去により１−（ジ
−ｐ−アユシルメチル）−８−エチニル−４−カルボキ
シル−２−アゼチジノンを得た。 ＩＨ鼻”（３−’）　：　１７５８．１６１２．１２９
７．１２４５゜１１７０．１１Ｇ９．１０２７．８２８
ＮＭＲδ（ＣＤＣＡｓ）　：　８．８０（６Ｈｅ　Ｉ）
、５．１−５．９（８ｆ１．　ｍ）、５．８８（ＩＨ，
１１）、ｓ、ａ４（ｔＨ，ｓ）参考例８ ＋１ カルボン酸誘導体（１，５Ｆ　）をジメチルホルムアミ
ド（７，５ｍ　）に溶解後、酢酸カリウ４（０，８ｆ　
）を加え、室温攪拌下、四酢酸鉛（２，１７Ｆ）を数回
に分けて加え、１時間室温で攪拌した。水を加え、酢酸
エチル抽出、水洗、芒硝乾燥、溶媒留去、シリカゲルク
ロマトにより、１−（ジ−ｐ−アユシルメチル）−８−
エチニル−４−アセトキシ−２−アゼチジノンを得た。 ０ＨＣ１ｓ−１ｅ ＩＲ，、＆Ｘ（ｆｆｉ　　）　、　１７６０．１６０８
，１２９８．１２４０゜１１７４．１０２４．９７４．
９２８ 励Ｂδ（ＣＤＯｚｓ）　：　１．９０（８Ｈ，！Ｉ）、
８．７９（６８，＊）、ｓ　ｅ　７４　（ＩＨ−ｂｒｅ
　ｓ）、５．９１（Ｉｌｌ、　Ｓ）参考例４ エチニル誘導体（８，８Ｏｆ）をテトラヒドロフラン（
１０ｍｇ）に溶解し、水（４−）と酢酸第二水銀（３・
２ｆ）を加え、室温で１時間攪拌後、ｌＮ−ＮａＯＨ水
（９−）を０℃で加え水素化ホウ素ナトリウム（０，４
ｆ／　）をｌＮ−ＮａＯＨ水（２−）に溶解した液を滴
下し、同湿度で５〜６分間攪拌後、希塩酸で中和し、エ
ーテルを加え、老ライト濾過した。エーテル抽出、重ソ
ウ水洗い、水洗、芒硝乾燥、溶媒留去、シリカゲルクロ
マトにより、１−（ジ−ｐ−アユシルメチル）−８−（
１−ヒドロキシエチル）−４−アセトキシ−２−アゼチ
ジノンを得た。 ＩｆＬ鼎Ｕｚｓ（♂’）　：　１７５２．１６０８．１
８５７．１８０２゜１２４２．１１７４．１０２８．９
５８ＮＭＲδ（Ｃ圓Ａｍ　）：　１．２６（ＲＨ，ｄ、
　Ｊ＝７）１．９０．（８ｆｉ、　Ｉ　） Ｂ、０７（ＩＨ，ｂｒ、　ｄ、　Ｊ＝６．５）８．７８
（６Ｈ，、！Ｉ）、５．８８（ｌｌｉ、　８）５、Ｂｇ
（ＩＨ，ｂｒ、　ｓ） 参考例５ ヒドロキシエチル誘導体（５，８ｆ／　’）をジクロロ
メタン（ｔｓｆＰｔ）に溶解し、４−ジメチルアミノピ
リジン（１，９８Ｆ）を加え、Ｐ−ニトロベンジルクロ
ロホーメート（８，５２ｆ　）をジクロロメタシ（９−
）に溶解した液を滴下後、室温で一晩攪拌し１こ。水洗
、８塩酸洗い、水洗、芒硝乾燥、溶媒留去、シリカゲル
クロマトにより、１−（ジ〜ｐ−アニシルメチル）−８
−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシエ
チル）−４−アセトキシ−２−アゼチジノンを得た。 ＩＲ，４４１，＝　（ｉｔ）　：　１７７Ｑ（ｓｈｏｕ
ｌｄｅｒ　）、　１７４０．１６１（Ｌ１５８８、１０
２０．８５０．８１８．７８５協化δ（ＣＤＣｚａ　）
　：　１．４２（８ｆ１．ｄ、　Ｊ＝６）、１．８５（
８１１１，８）、３．２３（ＩＨ，ｂｒ、　ｄ、　Ｊ＝
６）、６．２２（２Ｈ，Ｓ）、５．８７（ＩＨ，Ｓ）、
６．１１（ＩＥＩ、　ｂｒ、　ｓ） 参考例６ （ＪＵｆｌｓ Ｎ−（ジ−ｐ−アユシルメチル）ＩＩＩ導体（６，０６
Ｆ）を１０イＨｇ０−アセトニトリル（９０ｄ）に溶解
し、士リック・アンモニウム　ナイトレイト（ｅｅｒｉ
ｅ　ａｍｍｏｎｉｕｍ　ｎ１ｔｒａｔｅ。 １２．１　ｆ　）を室温で１時間をかけて数回に分けて
加え、更に８０分間攪拌した。水を加え酢酸エチル抽出
、水洗、芒硝乾燦、溶媒留去、シリカゲルクロマトによ
り８−（１−ｐ−二トロペンジルオキシカルボニルオキ
シエチル）−４−アセトキシ−２−アゼチジノンを得た
。 ＩＲハ’ｘ　（♂”）　：　１７７４−１７４５＊　１
６０２ｇ　１５１Ｂ。 １８４４．１２６８．１０２９．８４８彫δ（ＯＤＯｚ
ｓ　）　：　１．４５（８ｆ［、ｄ、Ｊ＝６）、２．Ｑ
９　（８Ｈ，ｓ　）、８．８７（ＩＨ，ｂｒ、　ｄ、　
Ｊ　＝６．　ｂ）、５．８７（ＩＩｌｌ、　ｂｒ、　ｓ
）、６．９６（１ｆ（、ｂｒ、　ｓ）参考例７ ｔｙ　ルホン１９９誘導体（６１体）（１０，２４Ｎ）
の塩化メチレジ（４５ｍ）溶液に、ジメチルホルムアミ
ド（１滴）、オキザリルクロリド（４・２５１’）の塩
化メチレン（５−）溶液を室温で２０分間剃下した。同
濃度で１．５時間攪拌後、溶媒留去し１こ。残渣を塩化
メチレン（８０ｍ’）に溶解し、ｔ　−（−）−メント
ール（４，５９ｊｌ）、４−ジメチルアミノピリジン（
８，５８１＞の塩化メチレン（８０ｔ／　）Ｗｌｌ液に
、水冷下滴下し、２時開撹拌しＴコ。反応液を２Ｎ−塩
酸、飽和重曹水で洗浄し、水洗機芒硝乾燥、溶媒留去し
た。得られた残渣にメタノールを加えて、加熱溶解後、
冷却することにより、カルボン酸誘導体（ｄｔ体）　Ｑ
）　Ｌ　−チ （−）−メン７／ル工ステル体（２つの異性体比的１：
１）の結晶（ｍｐ、９６〜９７℃）を得た。 上述の結晶をメタノール（４００ｄ）に加熱溶解し、〜
−６℃に冷却後、析出結晶をＰＨ５ 取することにより、（１６，４＆）−１−（ジ−ｐ−ア
ユシルメチル）−８−エチニル−４−１−［−１−メン
チル４ルボ←ルー２−アゼチジノンが得られた。メタノ
ールで再結晶する゛ことにより純品（ｍｐ、１１４〜１
１５℃、比旋光度［α］、　　＋２０．２°（ｃ＝ｏ、
ｇｅ、ＣＥＩＯ７ｓ　）　）を得た。 ＊　ｒ：上述の２つの異性体比が約１＝１のｔ−（−）
−メン・４鴫ル工ステル体は、ａｆ［Ｕ体りロマトグラ
フィー（カラム：　Ｌｉｃｈｒｏｓｏｒｂ８Ｉ−（５Ｑ
、溶１１１．５％イソプロパ／−ＪＬｔ−ｎチル）−８
−エチニル−４−メンチコ戸≧斬′ルポ＋÷ルー２−７
ゼチジノンを〔参考例２〕でシルメチル）−８−、ｚテ
ニル−４−カルボキシル−２−７ゼチジノン（比旋光度
〔α〕ｒ′Ｃ＋６８．８°（０＝　０．１２．　（、、
”ＨＯｌｍ　）　）を得た。 参考例８ エチニル誘導体〜（１，０１）をテトラヒドロフラン（
８・８−）に溶解し、水（２・Ｏｓｇ／）と、酢酸第二
水銀（０，９１）を加え、８時間加熱還流した。ＩＮ−
に′、Ｎ５ＯＨ水（７，２ｍ　）を０℃で加え、水素化
ホウ素ナトリウム（０，１ｆＩ）をＩ　Ｎ　−ＮａＯＨ
水（１−）に溶解しｒ、＝液を滴ドし、同湿度で５〜６
分間攪拌後、６Ｎ−ＨＯ２で中和ｌノ、エーテルを加え
てセライト−過した。エーテル抽出、飽粕食塩水洗浄、
ご硝乾燥、溶媒留去、シリカゲルクロマトにより、１−
（ジ−ｐ−アユシルメチル）８−（１−ヒドロキシエチ
ル）−４−カルボキシル−２−アゼチジノン（０，８５
１）を得た。 ＩＲＮｕｊ”　（１？＃＃Ｉ−”）　：　８２５０．１
７５０．１７２８．１５１５゜ａｘ １８０５、１２５０．１１７７、１０８０゜８６ ＮｈｌＲａ（ＣＤＯｊｍ　）　：　１　、ｆ１２（８Ｈ
，ｄ、　Ｊ＝６Ｈｇ　）、Ｌｉ２（ＩＨ，ｍ）、８．７
２（６Ｈ，す、４．１０（ＩＨ，ｄ、　Ｊ−ｇＨｘ）、
Ｐ−アニシルメチル＞−Ｓ−エチニル−４−（ジ−ｐ−
アユシルメチル）　−８−（（Ｒ）　−１−ヒドロキシ
エチル）−４−カルボキシル−２−アゼチジノン（比旋
光度［α）：”＋２２．０’（Ｃ＝０・１４　ＣＪｉＣ
ｌｍ　）　）を得た。 参考例９ 加え、４０℃に加温攪拌ｆ、四酢、酸鉛（５，８１）を
数８１番ζ分けて加えた。１時間攪拌後、エチレングリ
コールを加えて反応を停止し、芒硝乾燥、溶媒留去、シ
リカゲルクロマトにより、１−（ジーＰ−アニシルメチ
ル）−８−（１−とドロキシエチル）−４−アセトキシ
−２−７ゼチジノン（８，０８ｆ　）を得た。 ＩＨ鼻”（Ｊ−！Ｒ″”）　：　１７５２．１８５７．
１８０２．１２４２゜１１７４．１０２８．９５８ ＮＭｊｉ　　δ（（ＤＣ４ｓ　）　　：　　１，２６（
８Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．５Ｈｚ　）、１．９０（８坂Ｓ）、 ｓ、ｏｙ（ｉｎ、　ｂｒｏａｄ　ｄＪ＝６．５１１す、
８．７８（６ｆｌ、　ｌ）、４．０７（ＩＨ，ｍ）、５
．８８　（ｉｎ、　ｂｒｏａｄ　Ｉ　）、６、ＢＢ（１
１１，ｂｒｏａｄ　ｓ）、また光学活性な（ａｓ：、４
会、）　−１−（ジ−ｐ−アユシルメチル）　−８−（
（Ｒ）　−１−とドロキシエチル）−４−カルボキシル
−２−メチル）−８−（（Ｒ）−１−ヒドロキシエチル
）−４−アセトキシ−２−アゼチジノン（比旋光［［４
１：”　＋　２６．０°（Ｃ＝　０．０４　、　ＣｄＤ
ｔｓ　））を得た。 さらに、上述の光学活性アセトキシ−誘導体を用いて、
〔参考例５］、〔参考例６〕のに 反応を順次行うことにより、（８◆、４Ｂ）−１−（ジ
ーＰ−アニシルメチル）　−８−（（Ｒ）−ｔ−ｐ−ニ
トロベンジルオキレカルボニルオキシエチル）−４−ア
七トキシー２−アゼｆ　シ／　ン（比旋光ａ　Ｃａ’Ｊ
’：：”　＋　４０−５°（０＝０．８８゜０１１Ｃｊ
ｓ　）　）　ｌｋ　経テ、（ｓＫ、　４１Ｌ）　−８−
（（Ｉｌｌ）−１−二トロベンジルオキシカルポニルオ
キシエチル）−４−７セトキシー、２−アゼチジノン（
比旋光度［α］、　　＋ａｅ、ｅ°（Ｃ＝　Ｏ＊０９゜
Ｃ）１ｃｔ、ａ　）　）を得ｆこ。 １−（ジ−ｐ−アユシルメチル）−８−（１−ヒドロキ
シエチル）−４−アヤトキシー２−アゼチジノン（０，
４０１）をアセトン（５ｓｄ）に溶解し、ジッーンズ試
薬（〜１−）を室温で滴下後、１０分攪拌した。水を加
え、酢酸エチル抽出、水洗、芒硝乾燥、溶媒留去後シリ
カゲルクロマトで精製し、１−（ジーＰ−アニシルメチ
ル）−８−アセチル−４−ア士トキシー２−アゼチジノ
ンを得た。 ｆｉｌｍ　　−１ １Ｒｍａｚ　（ｍ　　）　：　１７６Ｇ、　１６０８．
１５８０．１５０８゜１８６０、　ｔａｏｏ、　１１７
０．１１１０゜１０２０、８１５ ｍδ（Ｏｒ）Ｃｚｓ）　：　１．８８（８Ｌ　８）、２
．２５（８）１．　Ｓ）、８．７６（６１１，８）、４
．１０（ｌＨ，ｄ　Ｊ＝１．５ｉＬｇ）、５．７８（１
１１，８）、６．１２（ＩＨ，ｄＪ＝１．５Ｈｚ） １−（ジ−ｐ−アユシルメチル）−８−ア゛セチルー４
−アセトキシー２−１ゼチジノン（８９７１’ｌＦ）を
イソプロピルアルコール（６−）に溶かし、水素化硼素
ナトリウム（８８去することによって、１−（ジ−ｐ−
アユシルメチル）−ｔｉ−＜ｘ−ヒドロキシエチル）−
４−アセトキシ−２−アゼチジノンのヒドロキシエチル
基の２つの立体異性ヌク１＝１の混合物として得た。 隅１δ（ＣＤＣｚｓ）　：　８．１０（１力瓜ｄＪ＝６
．６■す８．１６（１／Ｈ，ｄＪ＝４．４）ｌ冨）他の
ＮＭＲにおけるピーク、 あるいはＩＲスペクトルは ［参４例４〕で得られるもの と類似。 ８−（１−ｐ−二トロベンジルオキシヵルボニルオキシ
エチル）−４−７セトキシー２−アゼチジノン１５．０
１のジオキチン５６−の溶液に窒素気流ド、チオ酢酸８
．２４１のジオキサン８ｍ−水２１．５１ＩＩｌｃＩ）
４液とＩＮ−水酸化ナトリウム水溶液４２．６１−より
調整したチオ酢酸ナトリウムの溶液をｏ℃〜ｌｏ℃で滴
下し、０℃で！５分間魔押し、文応敲に氷冷した塩化メ
チレジを加え、塩化メチレン層を分散し、水洗、芒錆乾
繰、溶１１Ｂ貿去し、残渣をシリカゲルクルマド精製し
、８−（１−ｐ−ニトロペンジルオキ−レヵルボニルオ
キシエチル）−４−アセチルチオ−２−アゼチジノン１
に得た。 ＩＩＩ　！Ｕ’Ｆ　ＣｐｌＩ−１）　：　１７４０．　
Ｈｔｉ１８ｅ　１８１６ｅ　１５２６゜１４６４、　ｔ
ｓｇｓ、　１：２６０．１１８０゜１１８８、　　宜０
８８．１０１７．９６０，８５２協Ｂδ（ＣｊＸ）ｚａ
）　：　Ｌ４＄！（８Ｈ，１＊　Ｊ、：６ｉＬす、２．
０！（ｓＩＬ　ｌ）、 ８・８７（ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ−ｇ、２７６．５Ｉｈ）、
５．２８（２Ｈ，ｓ） ＃ｉｔ＃！１１８ Ｒ−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ
エチル）−４−アヤチルチオ−２−アゼチジノン９．８
７９とｐ−ニトロペンジルグリオキサレー）　６．１４
１　ヲ乾煙ヘンイン８０，０−中４時間選流し、溶媒留
去し残渣を乾燥テトラヒドロフラジ８５８−に［１１さ
ぜ、ξれに２．６−ルチジン１０．８２Ｆを加え、さら
に窒素気流下−１〇℃〜−１６℃で塩化チオニル１０．
９ＪＩＮを滴下し、同温度で２０分間攪拌し、反応液を
濾過し、ｐ液を溶媒留去、残渣を乾燥ジオキサン８８４
−に溶解させ、これに２．６−ルチジン６．５６１とト
リフェニルフォスフイン１７．６６１を加、ｔ、ｇ素気
流下５５℃〜６５℃で２０時間攪拌し、室温で溶媒留去
し、残渣に塩化メチレンを加え、ＩＮ−塩酸水洗、水洗
、芒硝乾燥、溶媒留去し、残渣をシリカゲルクロマト精
製シ、８−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルポスフ
ォラぜリゾジメチル〕−２−アゼチジノンを得た。 ＣＨ（３１ｍ ！Ｒｍ＠１　　（ｃｗ−’）　：　１７５０−１６９Ｌ
　１６２Ｌ　１６０５−１５１８．１４８６．１８７７
．１８５８゜１２５８．１２０２．１１６８．１１０２
゜１０７９、　８４２ 参考例１４ −２−７ゼチジノシ（２，４１）とトリフルオロ酢酸銀
（０，７１ｆ）を塩化メチレン（２〇−）に溶かし、メ
タノール（８０ｄ）と１．５−ジアザビシクロ［５，４
，０：）ウシデセン−５（０・４９ｆ）を加え、室温で
６時間攪拌後、溶媒を留去した。メタノールを加え冷却
し、得られる結晶を炉取すること、により、銀８−（１
−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシエチＪし
）−１−（１−ニトロベンジルオキシカルボニルトリフ
ェニルホスホラニリデンメチル−２−アゼチジノン−４
−チオレートを得た。 ＩＲ暦：（♂”）　：　１７４６．１６２０（１１１３
）、　１６０８．１５１８゜１４８７．１８８８．１２
５４．１１０２．８４５また、 で表わされる銀８−１−（１−ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルトリフェニルホスホラニリデンメチル）−
２−アセチジノシー４−チオレートも上述に準じた方法
により対応するアセチル誘導体から製造することができ
た。あるいは、特開昭５６−２５１１０に記載の方法に
よってもこれらの銀塩を得ることが出来た。 参考例１６ テシメチ７１／）−２−アゼチジノン−４−チオレート
８９０■を乾燥塩化メチレン２４−に溶解させ、４−ジ
メチルアミノピリジン２４４〜を加え、窒素気流下β−
（４−（１−ｐニトロベンジルオキシカルボニル）ピペ
リジニルアクリル酸クロリド０．５２９１の乾燥塩化メ
チレジ４−の溶液を室温で滴下し、同温度で３０分間攪
拌反応液をセライト濾過し、Ｆ液をＩＮ−塩酸水洗、水
洗、炭酸水素す）　ＩＪウム水洗、水洗し、ボウ硝乾燥
、溶媒留去、残渣をシリカゲルクロマト精製し、８−（
１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキ２゜ ジエチル）−４−（＋−（４−（１−ｐ−二すデンメチ
７Ｌ／）−２−アゼチジノ〉を得た。 ｌＲＷａｇ”（ｃＩＲ″’）　：　１７４６．１６８０
．１６１ｇ、　１６００゜１５１２．１４ｇ０．１８２
０．１２４５゜１１００．１００５．　８８８ なお、β−（４−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカル
ボニル）ピペリジニルアクリル酸クロリドは以下の如く
対応するカルポジ酸誘導体から導いた。 β−（４−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
）ビペーリジニルアクリル酸５０１岬を乾燥ベンゼン５
−にとかし、極少駅のジメチルホルムアミド豪加え、塩
化チオニル１、ｏｒｔを滴下した後、５時間還流。反応
液を減圧上濃縮し、残渣を８回ベンセンで共沸して、未
反応の塩化チオニルを除去し、減圧乾燥後精製すること
なく、上述の反応に用いた。 以下参考例１５で述べた方法と同様の方法で各々対応す
る銀塩、カルポジ酸誘導体の活性無水物誘導体から以下
の化合物を得た。 なお、カルポジ酸誘導体に酸クロリドへの温感は参考例
１６中で述べた方法に準じ、塩化チ。 オニルあるいはオキザリルクロリドを用いることにより
達成した。 Ｈ中６）　Ｐ　Ｎ　Ｂはｐ−ニトロベンジル基を示す。 ８−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ
エチル）−４−アセトキシ−２ンジルオキシカルボニル
ビペリジニル−４−チオ酢酸２．２６ｆのジオキサン（
１８ｍ）溶液とＩＮ−苛性ソーダ水溶液７−とから調製
したナトリウム塩のジオキサン−水渭合溶液を滴下し、
同濃度で１０分間挿拌、反応液に塩化メチレンを加え、
水洗、ボウ硝乾燥、溶媒留去、残渣をシリカゲルクロマ
トＪ製し、８−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニルオキシエチル）−４−（４−（１−Ｐ−二トロペン
ジルオキシ力ルポニルビへリジニル）−メチル）カルボ
ニルチオ−２−アビトジノンを得た。 臘瀝Ｗ”（ａｌｌ−”）　：　１７７５．１７５０（ｌ
）１）、　１６８５゜１６０＆、　１５２０．１４８５
．１８４６゜１２６０．１１！７．１０１２．８４８Ｎ
ｕルδ（ＵＤＬ：Ａすｍ　１−４８　（８Ｎｍ　ｄ　＊
　Ｊ＝＝（３Ｈｚ　）、８．８９　（ｉｎ、　ｄｄ　、
　Ｊ−２ａｎｄ６．５１１ｚ　）、５．２１（２１１，
１）、６．２７（２ｉ（、リナオξこで用いた４−（１
−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピペリジニル
−チオ酢酸は以下の方法で対応するカルボン酸誘導体か
ら導いた。 レジ７０−にとかし、トリエチルアミン１．０７−を加
え、５氷冷下にクロルギ酸エチル０．７４−を加え、−
１５℃に冷却。硫化水素ガスを４５分吹き込んだ後、窒
素の吹き込みを１時間行い、２Ｎ−硫酸４−を加え、１
５分攪拌後、塩水洗浄、芒硝乾燥し、溶媒留去して得、
そのまま精製することなく、上述の反応に用いた。 ｌ凰息’：　ｂ−”＞　：　２ｓｓｏ、　１６ｇ８．１
６０２．１５１０゜１８４０、１２７０．１２８２．１
２００゜１１２２、８４０ なお、以下の参考例で用いたチオカルボン酸も上述の方
法に準じ対応するカルボン酸から酸クロリドあるいはク
ロルギ酸エチルとの側合酸無水物等の活性酸無水物を経
る方法を用いることにより各々チオカルボン酸誘導体へ
導いた。 参考例舎十Ｂ３ ８−（１−ｐ−二トロベンジルオキシカルボニルオキシ
エチル）−４−（４−（１−ｐ−二トロベンジルオキシ
カルボニル）ビペリジニリデンメチル）カルボニルチオ
−２−ア２ ゼチジノシは、参考例中中と同様にして、３−（１−ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニルエチル）−４−アセ
トキシ−２−アゼチジノン、！−１−ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルビペリジニリデンメチルチオカルボ
ン酸（ＩＲふ”１ｈ’ｘ　（ｉｌ）　：　２５５０−１
６８６−１８４２−１２２２．１１０５）のナトリウム
塩から得た。 ＩＲ盟ｇ”（ｔＭ４−’）　：　１７７５．１７５０（
！ｌｈ）＠　１６８５＠１６１０、１５２０．１４８０
．１Ｂ４０゜１２５５、１２００．１１０５．１０８５
゜７５ ［δ（Ｏｒ）ＣＬｓ）　：　１．４４（８Ｈ，ｄ、　Ｊ
＝６ｆＩす、５．２６（４Ｈ，ｓ）、５．９８（ＩＨ，
ｂｓ）、７．５８（４Ｈ，ｄ、　Ｊ−９Ｈす、 ８　、１９（４１１，ｄ、　Ｊ　＝ｇｆｉｚ　）参考例
か÷３１ ８−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルエチル
）−４−（４−（Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
）アミノメチルフェニル）カルボニルチオ−２−アゼチ
ジノンは参考例３２と同様基こして３−（１−Ｐ−二）
四ベンジルオキシカルボニルオキシエチル）−４−アセ
トキシ−２−アゼチジノンと、４−（１−ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル）アミノメチルチオ安息香酸の
ナトリウム塩から得た。 ＩＲｆｉｌ＋ａ（ｃｉ”）ロアロ０　、１７加−関４，
１６％−５２０゜諺１１寛 １Ｂ４５　、１２６０　、１２１５　、１１７３　、１
０４５　。 １０１４．９０８，８５Ｏ ＮＭＲＪ（Ｑ）ＣＪ３ｓ）　　：　１．４９（３Ｈ，ｄ
、Ｊ−６，２Ｈす。 ３．４７（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ！２．２ｓｉｎｄ　　６．４
”）　ｊ−２４（４Ｈ，ｂｓ）　。 ５．４４（ＩＨ，ｄ、Ｊ−２，２Ｈり 参考例８５ ３−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ
エチル）−４−（４−Ｐ−二トロベンジルオキシ力ルポ
ニルアミノー・４−メチルバレリル）チオ−２−アゼチ
ジノンＧｉ参考例３２と同様にして３−（１−Ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニルオキシエチル）−４−アセ
トキシ−２−アゼチジノンと４−Ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボ二Ｊレアミノ−４−メチルチオ吉草酸のナト
リウム塩力）ら得た。 ■Ｒ０ｃｌ　ｓ　＜　Ｃ１−’＞　　：　１７７ｓ　、
ｔフ２Ｂ　、ｔ６９０．１５２０．１３４５　。 ｆｉｕ １２５６　、１０７８ ＮＭＲＪＩ１０７８Ｎ、）　：　Ｃ３１（６Ｂ、ｓ）、
Ｃ４３（３Ｈ，ｄｔＪ＝６Ｈり、３゜３４（ｔＨ，ｄａ
。 Ｊ　＝２．５　ａｎｄ　６ｔｉす、５．１２（２）１゜
Ｓ）、−（２Ｂ、Ｉ）＃７．４６（２Ｈ。 ｄ、Ｊ＝９．５Ｈｚ）　、７．４９（２）１．ｄ。 Ｊ　−８，５Ｈす、８−１３（ｌＨ＊ｄｅＪ＝８．５Ｈ
す、８．１６（２ＨｔｄｌＪ＝８．５Ｉ（ｆｆｉ） 以下参考例３２と同様にして４−アセトキシ−２−アゼ
チジノンと各々対応するチオカルボン酸のナトリウム塩
から以下の化合物を得た。 なお、表中のＰＮＢはＰ−ニトロベンジル基を示す。 パ＼ ゝ、 ゛＼ １−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル−４−メルカ
プトメチルピペリジン８．６７１を乾燥エタノール８６
−に溶解させ、アｌレゴン気流Ｆ水酸化カリウム０．６
８１の乾燥エタノール６．８−の溶液を０〜６℃で滴下
し、同温度′ｃ８０分攪拌し二硫化炭素１．８Ｏｆを室
温で加え、同温度で８時間攪拌、反応液を氷冷し、水１
Ｂ−を加え、この溶液を８−（１−ｐ−ニトロベンジル
オキシカＪレボニルオキシエチル）−４−アセトキシ−
２−アゼチジノン４．１７　ｆのジオキサン１４ｍの溶
液番とアルゴン気流Ｆ１５℃で滴下し、同温度で８０分
攪拌し、反応液に塩化メチレンを加え、水！先、ボウ硝
屹燥、溶媒留去、残渣をシ１）カゲルクロマト精製し、
８−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ
）エチル−４−（４−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキシ
力ルポニルビペリジニル）メチルチオ）チオカルボニル
チオ−２−アゼチジノンを得た。 ＩＲ社’Ｆ　（２−”　）　：　１７７０（ｓｈ）、　
１７５０．１６８０．１６ｏＯ。 １５１０、１４８５．１ｇ４０．１２４５゜１１０８．
１０５５．８４６ ＮＭＲδ（Ｃ１）Ｃｔす：　１．５０（８１１１ａ、　
Ｊ＝６）ＩＺ）、！５．２０（２ｆ１．　！Ｉ）、５．
２８（２Ｈ，ｌ’）、５．６１（ｌｆｌ、　ｄ、　Ｊ＝
２ＪＩＺ）（８会、４ｋ）−８−（（Ｒ）−１−ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニルオキシエチル）−４−ア
セトキシ−アゼチジン−２−オンから上述と同様の処理
で（８８，４Ｋ）−８−（（ＩＬ）　−１−Ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル・オキシエチル）４−（４−
（１−Ｐ−二トロベンジルオキシカルボニルビベリジニ
ル）−メチルチオ）−チオカルボニルチオ−２−アゼチ
ジノンを得た。 比旋光度［”ｌＤ’　＋　１０１−２　’　（Ｃユ０−
８６−　Ｃ”Ｃ／−ｓ　）（ＩＲ，ＮＭＲは上述の化合
物のものと一致）８−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニルオキシエチル）−４−アセトキシ−２−アゼ
チジノン１．５５１をジオキサン−１５ｄに溶解させ、
これにアルゴン気流″Ｆ４−（１−ｐ−ニトロベンジル
オキシカルポニｌし）ヒペリジルトリチオカーボネート
カリウム塩１．９（ｌのジオキサン１５−と出０１５−
の溶液を室温で加え、同温度で１時間攪拌し、反応液に
塩化メチレンを加え、水洗、ボウ硝乾燥、溶媒留去し、
残渣をシリカゲｌレクロマト精製し８−（１−Ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニルオキシエチル）−４−ｒ４
−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキシピペリジニル）−チ
オ〕−チオカルボニルチオー２−アゼチジノシを得た〇 ２６Ｇ 脇δ（ＯＤＯｔ富）　：　１．４５（８ｊｉ、　ｄ、　
Ｊ＝＠ｆＩｚ　）、８．４８（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝２．６
．６ｊｌＺ）、５．２８（２Ｈ，ｌ）、 ａ、ｓｇｃｉａ、ｃｉ、Ｊ＝ｇ、５Ｈｊ）、７．５０（
２Ｈ０ｄ、　Ｊ　＝９Ｌｌｚ　）、８　、１７（２ｆｉ
、　ｄ、　Ｊ　＝９１１Ｚ　）なお、原料トリチオカー
ボネｉトカリウム塩は以下の方法で得た。 １−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−４−メ
ルカプトピペリジン１．５４　Ｆを乾燥エタノール２５
−に溶解さけ、こ４１．にアルゴン気流下、水酸化カリ
ウム２９２ｑの乾燥エタノール８−の溶液を０℃で加え
、同１１４　Ｉｔで８０分間攪拌し、ニー化炭、Ｉｇ７
９２１Ｉｇを加え、室温で８時間攪拌し、析出した結晶
を戸数後エタノール洗滌、乾燥により４−（１−ｐ−二
トロベンジルオキシカルボニル）ピペリジニルトリチオ
カーボネートカリウム塩をｆ靜た。 同様にして、 （８台、４Ｂ）−８−（（Ｒ）−１−ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルオキシエチル）−４−アセトキシ−
２−アゼチジノンから、（８８，４Ｂ）−８−（（Ｒ）
−１−ｐ−＝トａベンジルオキシカルボニルオキシエチ
ル）−４−［４−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキシピペ
リジニル）−チオ〕−チオカルボニルチオー２−アゼチ
ジノシを得た。 比旋光度〔α〕。＋１１８．δ’（ｃ寞０．７５．　（
３ＨＯｚｓ）（ＩＲ，ＮＭＲは上述の化合物のそれと一
致）参考列ニー ジルオキシカルボニルアミノ−２，２−ジメ９ ２−１ゼチジノンは参考例−と同様にして、ジノンと８
−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル′アミノ−２，
２−ジメチル−プロパンチオールより鍔導したトリチオ
カーボネートより得た。 工Ｒ鼻ｚｓ　（ｃｌＲ″”）　：　１７８０．１７８５
．１６１０．１５２２゜１８６０、１２６８．１０１０ ７８Ｎδ（（３ＤＯｚｓ）　　：　１．０ｇ（６Ｈ，Ｉ
）、１．４５（８ｔ１．ｄ。 Ｊ＝６Ｈす、８．１２（２１１１，ｄ、　Ｊ＝６．５Ｈ
す、８．４２（２Ｂ、　！Ｉ）、５．１８（２Ｈ，す、
５．２８（２Ｈ，Ｉ）、５．６１（ＩＨ，ｄ、　Ｊ　＝
２．２Ｈｚ）なお、原料トリチオカーボネートカリウム
塩は以下の方法により得た。８−ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニルアミノ−２，２−ジメチルプロパンチオ
ール４．０５１を乾燥エタノール７２−にとかし、アル
ゴン気流中、（８，４ｍ　）溶液を水冷下に滴下し、同
濃度で８０分撹拌し、二硫化炭素２．２８ｆを加え、室
温で８時間攪拌し、水冷下に水２７１ｎｌを加え、その
まま次の反応に用いた。 参考例；↓ １−ｐ−二トロベンジルオキシカルボニル−ｆ−４−メ
ルカプトピペリジン２．７６１を乾燥エタノール５９−
に溶解させ、アルゴン気流下水酸化カリウム０．４７Ｆ
の乾燥エタノール４．７−の溶液を０〜５℃で滴下し、
同温度で８０分攪拌し、二硫化炭素２．４０ｆを室温で
加え、同温度で８時間−攪拌、反応液を氷冷し、水２５
．４−を加え、この溶液を４−アセトキシ−２−アゼチ
ジノン１．２（ｌのジオキサン９．４−の溶液にアルゴ
ン気流下室温で滴下し、同温度で３０分攪拌、反応液に
塩化メチレンを加え、水洗、ボウ硝乾燥、溶媒留去、残
渣をシリカゲルクロマト精製し、４−（４−（１−Ｐ−
ニトロベンジルオキシ力ルポニルビヘリジニル）−チオ
）チオカルボニルチオ−２−アゼチジノンを得た。 ＩＲ鼻”（ＬｙＲ″”）　：　８４２０．１７７５．１
６９２．１６０５゜１５２２、１４８ｇ、　１８４５．
１２６ｆｉ。 １２４２．１０６２．１０００．８１７ＮＭＲδ（ＣＤ
Ｃｚｓ）　　：　５１１２０（２１１１，８）、５．５
８（ｌｆｉ。 ｄｄ、コ＝　２　、５　ｙｗ４５Ｈｚ　）、７．４５（
２Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝９Ｌｌｚ）、アセトキシ−２−アゼ
チジノンと各々対応するメルカプタン誘導体より得られ
ろトリチオカーボネートカリウム塩から以Ｆの化合物を
４＠１こ。 なお、トリチオカーボネートカリウム塩は、５”０　　
　　　　　５７− 参考例−およびに）で述べた方法と同様の方法により対
応するチオール銹導体から誘導し、そのものをそのまま
あるいは単離後反応に用いた。 表中のＰＮＢはＰ−ニトロベンジル基を示す。 ８−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシ
エチル）−４−（４−、（１−Ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル）ピペリジニル）メチルカルボニルチオ−
２−アゼチジノン８．６４１とｐ−ニトロベンジルグリ
オキサレート１．５７１を乾燥ベンゼン１０〇−せ、２
．６−ルチジン２．０４１を加え、・窒素気流下−１０
〜−１６℃で塩化チオニル２．０６ｆを滴下し、同温度
で２０分間攪拌反応液を溶媒留去し、残渣を乾燥ジオキ
サン１７〇−に溶解させ、２．６−ルチジン１．２５１
　）リフェニルフォスフィン８・８８１を加ｆＬ、ＷＩ
Ｒ気流下５０〜６０℃で８０時間攪拌、反応液留去、残
渣をシリカゲルクロマト精製し、８−（ｊ−Ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルオキシエチル）−４−（４−
（１−Ｐ−二メチア１／）−２−アゼチジノンを得た。 ＩＲ岑”（ｍ−”）　：　１７５０．１６ｇ５．１６０
８．１５１５゜１４８５、１Ｂ４１．１２５０．１２０
５（１ｔｈ）。 １１１４．１１０２．１０８０．１００７゜４０ トロベンジルオキシ力ルポニルオキシエチル）−４−（
４−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ビペ
リジデンメチル）カルボニルチオ−２−７ゼチジノンよ
Ｊ）８−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルオ
キシエチル）−４−（４−（１−ｐ−二トロペンキシカ
ルボニルホスホラニリデシメチ１Ｌ）−２−７ゼチジノ
ンを得た。 ＨＬ冨”（ｔｙＲ″”）　：　１７５ｇ、　１６２Ｂ、
　１６０２．１４Ｂ８゜１８４２、１２６０．１１６５
．１１０５゜Ｏ 参考列目と同様にして、８−（１−ｐ−二トロペンジル
オキシカルボニルオキシエチル）−４−（４−（ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニル）アミノメチルフェニル
）カルボニルチオ−２−７ゼチジノシより８−（１−ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニルオキシエチル）−４
−（４−（ｐ−ニトロベンジオキシカルボニルホスホラ
ニリデンメチノリ−２−アゼチジノンを得１こ。 １１息’、ｘ　（ｉ’）　＊　　１７５０ｓ　１７２０
ｓ　１６ｂＯｓ　１６０８−１５１８、１４８２．１８
４２．１２５８゜１１７０、１１１８ 参考例６３ ３−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカッボニルオキシ
エチル）−４−（４−Ｐ−二１０ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−４−）チルバレリル）チオ−１−（ｔ−ｐ
−二トτペンジルオキシカルポニルトリフェニルホ；ホ
ラニリデンメチル）−２−アゼチジノン（；参考例６０
と同様にして、３−（１−ｐ−；トロベンジルオキシカ
ルボニルオキシエチル−４−（４−Ｐ−二トロペンジル
オキシカ！ボニルアミノ−４−メチルバレリル）チオ−
２−アゼチジノンより得た。 ＩＲｃＨ”２１　（ｃｓ−１）　：　１７５７．ｘ７３
５（ｓｈ）、ｔ７００（ｓｈ）ｍｘ １５１２　、１４４０　、１３５０．１２６２　。 １１１０　、１０８７．１５２６ 以下参考例６０と同様にして各々対応す４２−アゼチジ
ノン誘導体より以下の化合物（得た。 表中、Ｉ’ＮＢはＰ−ニトロベンジル基を示す。 Ｅ　　　　ＯＮＢは＠−ニトロベンジル基を示す。 ） 参考例７ｚ ８−（１−ｐ−二トロベンジルオキシエチル）−４−（
４−（１−Ｐニニトロベンジルオキシカルボニルビペリ
ジニル）メチルチオ）チオカルボニル）チオ−２−アゼ
チジノン８．１７１とｐ−ニトロベンジルグリドキサレ
−ト１．０８　ｆを乾燥ベンゼン１００−に溶解させ２
時間還流し、溶媒留去、残渣を乾燥テトラヒドロフラン
６０ｍに溶解させ、２．６−ルチジン１．５０１を加え
、窒素気流下塩化チ２二ｋ１．６ＴＩを−１０〜−１５
℃−ｔ’＊Ｆし、同温度で１６分間攪拌、反応液に塩化
メチレジを加え、ＩＮ−塩酸水洗、水洗を行ない、ボウ
硝乾燥、溶媒留去、残渣を乾燥テトラヒドロフラン１．
７−に溶解させ、さらにトリフェニルフォスフィシ２．
７０＃を后解させ、アルゴン封入下、室温で一夜放置後
、反応液に塩化メチレジを加え、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水Ｊ！！故、水の順に洗浄し、ボウ硝乾燥、溶媒留去
、残ｉをシリカゲルクロマト＃Ｉ製し、８−（１−ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニルオキシエチル）−４−
［４−（１−ｐ−二トロベンジルオキシ力ルポニルビペ
リジニホラニリデンメチＪｌ／）−２−７ゼチジノンを
得た。 ＩＢ　ｅｏｔｍ　（♂’）　：　１７４８．１６８０．
１６００．１５０５゜１４２８、１８８８．１２４０．
１０９８゜８６ 同様にして、 （８８，４Ｒ）−８−（（Ｒ）−１−ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルオキシエチル）−４−（４−（１−
Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルビペリジニル）−
メチルチオ）−チオカフレボニルチオ−２−アゼチジノ
ンから、（８８＝４Ｂ）−８−（（ＩＬ）−１−ｐ−二
トロベンジルオキシカルボニルオキシエチル）−４−（
４−（１−ｐ−二トロベンジルオキシカルボニルビペリ
ジニル）−メチル、チオ）−チオカルボニルチオ−１−
（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルトリフェニ
ルホスホラニリデンメチル）−２−アゼチジノンを得た
。 比旋光度〔α兄”＋７４．８°（０＝　０．８２５．　
（ＩＣ２ｓ）（ＩＲは上述の化合物のそれと一致） 参考例７◆ ｐ−ニトロベンジルグリオキサレート・１水和物０．８
２１を乾燥ベンゼンにより残線脱水した後、これに乾燥
ベンゼン５０ｗ／を加えた。この溶液に８−（１−ｐ−
ニトロベンジルオキシカルボニルオキシエチル−４−〔
４−（１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル〕−チ
オ〕−チオカルボニルチオー２−１ゼチジノシ２．８８
１の乾燥ベンゼン５〇−の溶液を加え、２時間還流しＳ
ａＷ去、残漬に乾燥テトラヒドロフラン６ａｌｌ＆ｇ、
２．６−ルチジン１．１５１を加え、これに窒素気流ド
造化チオニル１．２８ｆを一１５℃で加え同湿度で８０
分間薫拌し、反応液に塩化メチレンを加えＩＮ−塩酸水
洗、水洗ボウ硝乾燥し、室温で＃ｌ媒留出し残渣に乾燥
テトラヒドロフラン１．５−を加え、さらにトリフェニ
ルホスフィン１．８８９を加え溶解させ、アＪレゴン封
入Ｆ−夜放置後、反応液に塩化メチレンを加え飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液洗、水洗、ボウ硝乾燥、溶媒留出
し残渣をシリカゲルクロマト精製し、８−（１−ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニルオキシエチル）−４−［
４−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルビペリ
ジニル）−チオ〕−チオカルボニルチオ−１−（１−Ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニル）トリフェニルホス
ホラニリデンメチル−２−アゼチジノンを得た。 ＩＲａＥ″””　（５１−”）　：　１７５０．１６９
０．１６０８．１５２０゜１１１８！ １４Ｂ５．１８４２．１２５０．１１０５゜１０７０、
１００８ 同様にして （８８，４Ｒ）　−８−（（Ｒ）−１−Ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルオキシエチルレ−４−ｒ４−（１
−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−チオ〕−チ
オカルボニルチオ− −　（　（Ｒ）　−　１　−　ｐ−二トロペンジルオキ
シカルボニルオキシエチル）−４−［４−（　１　−ｐ
−ニトロベンジルオキシ力ルポニルビベリジニル）−チ
オ］ーチオカルボニルチオ−１−（１−ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニル）−トリフェニルホスホラニリデ
ンメチル−２−アゼチジノンを得た。 旋光度［Ｑ）Ｄ＋７０．４°（０＝０．８２、（３１０
／−ａ）（ＩＲは上述の化合物のそれと一致） 参考例７↓ ４−（８−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ア
ミノ−２，２−ジメチルプロピルチオ）チオカルボニル
チオ８−（１−ｐ−−（８−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルオキシエチル）−２−アゼチジノンより得
た。 ＩＲｐ、；Ｆ　（３’）　：　１７５５．１６２６（Ｉ
ｌｂ）、　１６１２．１５２０゜１４４２、１８５Ｇ、
　１２６０．１１１０゜ｐ−″ ４−　（（１−デニトロベンジルオキシカルボニルビペ
リジル）チオ）チオカルボニルチオシジルグリオキサレ
ート０．７８１を乾燥ヘンイン９４−に溶解させ、２時
間還流し、溶媒留去、！！４ｔＩＬを乾燥テトラヒドロ
フラン４２−に溶解させ、２．６−ルチジン１．０４　
ｆを加え、窒素気流下−１０〜−１６℃で嘔化チオニル
１．１６１を滴下させ、同温度で２０分攪拌、反応液に
塩化メチレジを加え、１Ｎ−１ｉ酸水洗、水洗し、ボウ
硝乾燥、溶媒留去、残渣を乾燥テトラヒドロフラジ１．
２−に溶解させ、さらにトリフェニルフォスフイン１．
６９ｆｅｌｌ解させ、アルゴン封入下、室温で一夜放置
後、反応液に塩化メチレンを加え、剛和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液洗、水洗し、ボウ硝乾燥、溶媒留去、残渣を
シリカゲルクロマト精製し、４−（（１−ｐ−ニトロベ
ンジル−７ゼチジノンを得た。 ”Ｒ＝ｚａ（ｔｙｓ−”　）　：　１７５８−１６９０
−１５２０−１４８５゜１８４８．１２７Ｌ　１２４８
．１１０７゜−アゼチジノシ誘導体より以下の化合物を
得た。 表中ＰＮＢはｐ−ニトロベンジル基を示す。 ９ 参考例８４ ラニリデンメチノリー２−７ゼチジノン１．６６ｐにア
ニソール０．６４１とトリフロロ酢酸４．１−を加え、
０℃８０分攪拌。トリクロロ酢酸を８００以下で留去し
、残渣にエーテル−酢酸エチル抽出、有機層を水洗、芒
硝乾燥、アゼチジノンを得た。 ”Ｌ　０ＩＩＣＬ”（ａｍ−’）　：　１７４５．１６
５５．１６１５．１６０Ｇ。 ｍ１工 １５１４．１４８０．１８４０．１２５８゜ピペリドン
モノハイドレートハイドロクロリド６．１４ｆ、Ｎ、Ｎ
−ジメチルアミノピリジン１０．７Ｎをテトラヒドロフ
ラン１２０−１水１０−の混合溶液に溶解させ、これに
氷点下ｐ−ニトロベンジルクロロホルメート９．６Ｉの
テトラヒドロフラン２５−溶液を滴下し、そのまま８０
分、さらに室温で１時開撹拌した。反応液を酢酸エチル
で希釈し、ＩＮ−塩酸水で順次洗浄し、芒硝乾燥、ＪＩ
ＩＱＩ留去し、残渣をイソプロピルエーテルとエーテル
の混合溶媒から再結晶して１−（ｐ−ニトロベンジルオ
キシカ！レポニＪし）−４−ピペリドンを得た。 ＩＲ渾セー’）　：　１７１５．１６９Ｇ、　１５１２
．１４４Ｂ。 １Ｂ４０．１２８２．１１２２ ＮＭＩＬ　δ（ｃｏｃｚｓ）　：　２．４７（４）１．
　ｔ、　Ｊ＝６Ｈｚ）、８．８８（４Ｈ，ｔ、Ｊ＝６Ｈ
ｚ）、 ５．２７（２ｆ１１．す、７．５０（２Ｈ，ｄ。 Ｊ＝９Ｈｚ）、８．１７（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９ｕすに（ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニル）−４−ピペリドン
５．４６１を、メタノール５４−とテトラヒドロフラン
２７＋＋ｔ／の混合溶液に溶解させ、これに水素化ホウ
素ナトリウム８７Ｂ”ｌを加え、０℃で１０分間攪拌し
、反応液に水を加え酢酸エチルを抽出、水洗、ボウ硝乾
燥溶媒留去し、１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル）−４−ヒドロキシピペリジンを得た。 １２７Ｌ　１２８０．１０７７ １−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−４−ヒ
ドロキシピペリジン１０．５４１を乾燥ピリジン１０５
−にだ解させ、この溶液にｐ−トルエンスルホニルクロ
ライド１４．８５ｔを０℃で加え、２５℃で２８時間攪
拌し、反応液に水を加え、エーテル−塩化メチレン（９
：１）の溶媒で抽出、抽出数を飽和食塩水、ＩＮ−＠酸
水、飽和食塩水、飽相重惇水の項に洗浄し、ボウ硝乾燥
、溶媒留去し１−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル）−４−（ｐ−トルエンスルボニルオキシ）ピペリジ
ンを得た。 ＩＲ工ｊ：１１’　）　ｅ　１７０２　ｔ　１５１２−
１８４０−１２２５　。 １７８ 協化δ（Ｃ圓ｌす：　１．７８（４Ｈ，ｑ、　Ｊ＝６ｆ
ｌす、２．４７（８Ｍ、Ｓ）、８．１８−４．００（４
Ｈ，ｍ）、４．７５（ｌａｑｕｉｎｔｅｔ　）、５．２
２（２Ｈ，８）、７．８７（２ｋｌ、　ｄ、　Ｊ　＝＆
Ｈｚ）、７．５０（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝９ａｚ）、１、−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−４−（Ｐ−
トルエンスルホニルオキシ）ピペリジン１４．７８１を
アセトン２２２−に溶解させこの溶液にヨウ化ナトリウ
ム１２．７１　ｆを加え２８時間還流し、反応液を濾過
、Ｐ液を溶媒留去し、残渣に酢酸工６チルを加えｌＯＸ
亜硫酸す）　ｌ）ラム水溶液、飽和食塩水の順に洗浄、
ボウ硝乾燥、溶媒留去し、１−（ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニル）−４−ヨードピペリジンを得た。 ｌＲＮ“ｊｏ”（ｍ−’　）　：　１６８５．１５１２
．１Ｂ８８．１２６５．１２２１５ａｘ Ｎ＆ｌＲｄ　（Ｃ１ＪＩＣＡｓ　）　ｍ　２−０２　（
４Ｈ、ｑ　、　Ｊ　＝６Ｈｚ　）、８−５６（４Ｈ，ｑ
、Ｊ＝６Ｈｚ）、 ５．２２（２ｆｌ、　ＩＩ）、７．５０（ＥＬＬ　ｄ、
Ｊ参考例←※ ６０Ｘ水素化ナトリウム１．２１１の乾燥ジメチルホル
ムアミド２８．５−のけんだく液に、窒素気流下、１０
℃でチオ酢酸２．８７ｆ（ｌｒ）乾燥ジメチルホルムア
ミド２８．５４の溶液を加え、室温で２０分間攪拌し、
この溶液に１−（ｐ〜ニトロベンジルオキシカルボニル
）−４−！−ドビペリジシ９．８４１の乾燥ジメチルホ
ルムアミド４７−の溶液を加え室温で２０時間攪拌し、
反応液に水を加え酢酸エチル抽出、抽出液をｌθ％亜硫
酸水溶液洗、水洗、ボウ硝乾燥、溶媒留去、残置をエー
テル４−Ｎ−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルピペ
リジンカルボンｆｉ６．１６ｆ、トリエチルアミン２．
４８Ｆを乾燥テトラヒドロフラン１２０−にとかし、氷
冷下にクロＪレギ酸エチル２．６ｇを滴下し、８０分攪
拌後、沈殿をＰ別した。Ｐ液に水冷下、水素化ホウ素ナ
トリウム１．５２Ｆの水溶液（５ｔ／）を滴下し、１時
間啼拌。水で希釈し、希塩酸で未反応の水素化ホウ素ナ
トリウムを分解後、酢酸エチルで抽出。水洗、芒硝乾燥
、溶媒留去によりＮ−ｐ−二トロペンジルオキシカフレ
ボニＡｙ　−４−ヒドロキシメチルピペリジンを得た。 　　　　参ｍ、ｐ、　　　６７〜６９℃ Ｎｕｊｏｌ　　−５ ＩＲｍａＩ（ｆｆｉ　　）　：　１６９５（Ｓｈ）、　
１６８０．１５２８．１２４０琴考例９・７ Ｎ−ｐ−二トロペンジルオキシカルボニル−４−ヒドロ
キシメチルピペリジン２０９を乾燥ビリジシ１２７−に
とかし、水冷トにｐ−トルエンスルホニルクロリド２６
．８　ｆｉを川１え、そのまま−孜放置後氷水を」え、
エーテル−塩化メチレン抽出、水、希塩酸、嵐惇水、水
で順次洗浄し、芒硝乾燥後溶媒留去し、メタノールカラ
結晶化し、Ｎ−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル−
４−ｐ−トルエンスルホニルオキシメチルピペリジンを
得た。 ｍ、ｐ、　　　９６．５〜９９℃ ＩＲ””’（ａｌｌ−’）　：　１７Ｇ０．１６１０．
１５９５．１５１８゜ｍａＩ １８４２、１１７２ 考肉９◆ Ｎ−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル　−−４−ｐ
−トルエンスルホニルオキシメチルピペリジン８．７２
１　’に乾燥ジメチルホルムアミド１ＯｆＩｄにとかし
、これを、チオ酢酸と水素化ナトリウムより得ｒこ、チ
オ酢酸ナトリウム１ｇの乾燥ジメチルホルムアミド溶Ｍ
　（１０−）に加え、室温で４時間攪拌後、水で希釈し
、酢酸エチル抽出、水洗、芒硝乾燥後、溶媒留去し、残
渣をシリカゲルクロマトにて精製Ｌ／、Ｎ−ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニル−４−アセチルチオメ゛チル
ピペリジンを得　１こ　。 ｍ、ｐｍ　　　　　　　　８１　〜８８　　　℃ＩＲＮ
ｕ”’（ｃｍ−”　）　：　１７００．１６８８．１５
１２ａｘ 参考例９４Ｉ９ Ｎ−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル−４−メルカ
プトメチルピペリジンは参考列Φ ９−ｅと同様の方法により、Ｎ−ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニル−４−アセチルチオメチルビペリジシよ
り得た。 ｍ、ｐ、　　　７８〜７６℃ オキザリルクロリド２−の乾燥塩化メチレン５０−溶液
を一６０℃に冷却し、これに乾燥ジメチルスルホキシド
８．４−を滴下し１０分攪拌した。次にＮ−ｐ−二トロ
ベンジｌレオ−）を滴下後、１５分攪拌、トリエチルア
ミシ１４−を最後に加え、−６０℃で５分、その後室温
まで昇温して８０分攪拌後、塩化メチレンと水で希釈、
塩化メチレン層を水、希塩酸、水で順茨洗浄し芒硝乾燥
し溶媒留去後、Ｎ−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル−４−ホルミルピペリジンを得た。 ＩＲ””　（ｍ−’）　：　２７２Ｇ、　１７１５（ｓ
ｈ）、　１６９０．１５１２゜ａｘ １８４５．１２２０．１１２５．１０８０゜０１０ １−ｐ−ニトロベンジル−オキシカルボニル−４−ホル
ミル−ピペリジン４．２８１とｔ−プチルオキシカルボ
ニルメチレントリフェニルホスホラシ１８．６４１を乾
燥塩化メチレジ１６０−中で１時間攪拌した後、＃！ｌ
！留去、残渣をシリカゲルクロマトにて精製し、８−（
４−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）ピペ
リジニル）−アクリル酸ｔ−ブチルエステルを得た。 ｍ、ｐ、　　１０１〜１０８℃ ＩＲ””’（ｍ−’　）　：　１７１０（Ｉｈ）、　１
６８８．１６５０．１５１５゜ａｚ １６５ ８−（４−Ｎ−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルビ
ペリジニル）−アクリル酸ｔ−？ ブチルエステｌし８．ｆ　Ｉにｍ−ジメトキシベンゼン
２−を加え、室温でトリゆロ１：ｌ酢酸５ｍとともに１
５分攪拌、反応液を減圧濃縮後、残渣をエーテルにとか
し、析出した結晶をＰ別乾燥し、８−（４−Ｎ−ｐ−二
トロペンジルオキシカルボニルビペリジニル）−アクリ
ル酸を得た。 ｍ、ｐ、　　　１７０〜１７１．５℃ 参考例赤♂　　′ ２．２−ジメチルグルタル酸無水物１９・８４ｆ、ｐ−
アニスアルコール２２．０８１を乾燥ジオキサン８６０
−に溶かし、これにトリエチルアミン１９．８９１を加
えて８０℃で８．５時間攪拌。溶［’ｌｌ後後残渣に水
を加え次に炭酸カリウムを加えてＰＨ−９とし、ベンゼ
ンで先陣後水層を希塩酸で酸性としベンゼン抽出、水洗
、芒硝乾燥後、溶媒留去し招ルボキシ４−メチルー吉草
酸ｐ−メトキシベンジルエステルを得た。 ｆｉｌｍ　　−１ ”Ｒ（ｃｍ　　）　：　１７２０．１６９０．１６０８
．１５１０゜ａｘ １２４０、１１６７、１０１０ ２５Ｎδ（ＣＩ）Ｃｚ＋＋　）　：　１−２８　（６”
ｅ　’　）、８．７６（８Ｈ，Ｓ）、４．９８Ｃ２Ｈ，
ＩＩ） 千 参考例ｔｏ−ｆ！ｒ ２．２−ジメチルグルタル酸無水物とＰ’−Ｑ３ ニトロベンジルアルコールより参考例か＋と同様にして
得た４−カルボキシ４−メチル−吉草酸ｐ−ニトロベン
ジルエステル１７．２６　Ｆを乾燥ジメチルホルムアミ
ド１０Ｇ艷にとかし、ｐ−メトキシベンジルクロリド９
．１６１゜トリエチルアミン５．９１ｆを加え、８０℃
で９時間攪拌、残渣に水を加え、エーテル抽出、炭酸カ
リウム水、水、希塩酸、水で洗浄し、芒硝乾燥後溶媒留
去し、４−ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル−４
−メチル吉草酸ｐ−ニトロベンジルエステルを得ｔこ。 １Ｂ　””　（ｃＰＲ−”）　：　１７８Ｇ、　１６１
４．１５１７．１８４５゜１１８に １８００、１２４６．１１７５．１０ｇ０．８２３ＮＭ
Ｒａ（ＣＤＣ１ｍ　）　：　１．２Ｇ（６Ｍ、す、８．
７７（８ｔｉ、　り、５．０８（２Ｈ，ＩＩ）、５．１
７（２Ｈ，ＩＩ）デ 参考例１０４ｐ 硫イじソーグーの水和物１２．８５１の水溶液（７ｏｕ
）に４−Ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル−４−
メチル青草Ｍ　−ｐ　−二Ｎ−ロベンジルエステル２５
．４　Ｆのテトラヒト。 フラン浴液（１４０ｄ）を加え、室温で７．５時間攪拌
、反応液に水を加え、エーテル洗浄は、水層を塩酸で酸
性とし、エーテル抽出、水洗後芒硝乾燥、溶媒留去し、
４−ｐ−メトキシベンジルオキシカルボ・ニル−４−メ
チル−吉草酸を得た。 ＩＲｆ′ｊ１−♂”）　：　１７１５．１６１２．１５
１８．１８０５゜ａｘ １２４８、１１７５．１１２８．１０１０８２Ｎδ（Ｃ
ＤＯＡｓ）　：　１．２０（６Ｈ，Ｓ）、８．７６（８
ｔ１．　Ｓ）、５．０１（２Ｈ，ＩＩ） と 参考例１０合 （） コールより参考例幹キと同憬にし上、６−刀ルボキシコ
ハク酸ｏ−ニトロベンジルエステルを得た。 ｍ−Ｐ　　　６ａ〜６５℃ ＩＲ二：セ’（１ｘ−”　）　：　１７２６．１６９８
．１５２８．１８８ｇ。 ８．８−ジメチルグルタル酸６．４１の乾燥ジメチルホ
ルムアミド（１００ａｄ）のｌｓ液に窒素気流下、８０
〜４０℃で水素化ナトリウム（５０Ｘ）１．９２１を４
回にわけて加え、そのまま８０分攪拌、次にｐ−メトキ
シベンジルクロリド６．２８１の乾燥ジメチルポルムア
ミド溶液（２０ｗ／）を加え、６０〜７０℃で１０時間
借攪拌した。反応液を飽和食塩水と酢酸エチルで増稠し
、Ｉｊ＃ｐシ層を炭酸カリウム水溶液で抽出し、水層を
水冷Ｆ濃塩酸で酸性とし、ベンゼン抽出。水洗、ご硝乾
燥侵、ｓｍ留去し８．８−ジメチルグルタル酸モノ−ｐ
−メトキシベンジルエステルを？ｉ　ｆこ。 ＩＲ０ｔ１０”（ｍ−”）　：　１７１５．１６１２．
１５１０．１２４０゜ｍ＆Ｘ １１７０、１０１０ ８７ＮδＣＣＤＣＬ易）　　ｍ　１−１８（６Ｈ，ｓ）
、８．８０（８１−１，ｆｌ）、６．０４（２Ｈ，ＩＩ
） 参考例１０４Ｐ ボン酸より参考例１０＝１）と同様にして、トランス−
１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、モノ−ｐ−メト
キシベンジルエステルｌｋ　１４た。 １口、ｐ、　　　　　　　　　８７　〜８９　℃参考例
１Ｏ♂ ８−カルボキシ−イソ吉草酸より参考例１Ｏ；と同様に
して、８−カルボキシ−イソ吉草酸−ｐ−メトキシベン
ジルエステルと８−ｐ−メトキシベンジルオキシカルボ
ニル−イソ吉草酸の混合物を得た。 ＩＲＣＨＯ”Ｇｘ−”）　：　１７２０．１６１０．１
２４０．１１７０ａｘ ＮＭＲδ（ＣＤＣｚリ　：　１．２９（６ｆＬ　ＩＩ）
、２．６２（２１１，ＩＩ）、８．７８（８ｆｉ、　’
３）、６．０５（２ｉ（、ｂ！’Ｉ）物に誘導し、分離
精製した。 ０ 参考例１伽尋 ４−カルボキシ−４−メチル−吉草酸ｐ−メトキシベベ
ンルエステル８５．４８１１の乾燥テトラヒドロフラン
（１６７ｄ）Ｊ＠［にトリエチルアミン１４．・１４　
Ｎを加え、窒素気流下、２〜６℃でクロルギ酸エチル１
５．２８　Ｆの乾燥テトラヒドロフラン（５０ｍ）溶液
を滴下、０℃で１６分攪拌。反応液を綿栓濾過、Ｆ１％
［をアジ化ナトリウム（７，４０１）の水溶液６７−に
激しく攪拌しながら２〜６℃で滴下、２℃で２８分攪拌
、反応液の水層をベンセン抽出し、有機層と合わせ、水
洗、芒硝乾燥後−夜室温放置、８０°以下で２０〜８０
％まで濃縮し、更に８０〜９０℃で１時間撹拌、溶媒留
去。残渣にｐ−ニトロベンジルアルコール２８、８２　
ｆｌ　、乾燥ジオキサン２２−を加え、１２０〜１８０
℃で７時間攪拌、溶媒留去し４−メチル−４−Ｐ−二ト
ロペンジルオキシカルボニルアミノ吉草酸ｐ−メトキシ
ベンジルエステルを得た。 Ｉ峠Ｓ７１（儒−’）　：　１７２５．　１６１０．　
１５１５．　１Ｂ４２。 １２４４、　１１１８．　１０８０．　１０８０。 ２０ ｍδ（ＣＩ）ｃｔｓ）　　：、ｌ−２９（６Ｌ　’）、
８．７７（８１１．　ｆｌ）、４、９８（２ｆｉ．　ｌ
）、６−０６（２ｈ，　ｓ）４−メチル−４−ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニルアミノ−青草Ｍｌｐーメト
キシベンジルエステル２５１１アニソール２５Ｆにトリ
中ロロ酢酸１２５−を加え、室温ｒ１　５分攪拌、トリ
↓ロロ酢酸を４０℃以下で留去し、残渣にエーテルを加
え、炭酸ナトリウム水溶液で抽出、水層をエーテル洗浄
し、希塩酸により酸性とし、ベンセン抽出、水洗、芒硝
乾燥後、溶媒留去。残渣をエーテル−イソプロピルエー
テル混合液より、結晶化させ、４−メチル−４−ｐ−二
トロベンジルオキシ力ルポニルアミノ吉草酸を得た。 ｍ．Ｐ．　　１０８〜１１２℃ １１１ｍ　　−１ １Ｒ　　　Ｃｃｌｌｌ）　：　１７１５．　１６０６．
　１５２０．　１８５０。 ａｘ １２６０、１２１８．１０８６．　８４５により得た。 ８−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アミノメ
チル−イソ吉草酸 ｍ、ｐ、　　　１４２〜１４５℃ ＩＲ””’（ｍ−”）　：　１７８５．１６０２．１５
２８．１８４８゜６ｘ ２７５ ８−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アミノ−
イソ吉草酸 ｍ、ｐ、　　１２８〜１２５．５℃ １Ｋ　”””（ｍ−”）　：　１７１６．１６９５．１
６０６．１５２５゜ａｘ ２２８ ニル）アミノメチル−イソ酪酸 ｍ、ｐ、　　　１１８〜１２０℃ ＩＲＺａｘ’（１ｆｆ−”　）　ａ　１７８２−１６９
０−１６０４−１５１４−１６１ ２７　（２−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルア
ミノ）エチル）−イソ酪酸ｍ−Ｐ−１２２〜１２６　　
℃ ＩＲ潔’　（ｚ−”）：　１７２０．１６８０．１６０
４．１８４０゜１２２５．１１２６．１０６８．９２０
トランス−４−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
アミノ）−シクロヘキサンカルボン酸 ｍ、ｐ、　　　２１４〜２１７℃ ＩＲ富’（ｍ−”）　：　１６８５．１６０４．１５４
１．１５１５゜１２６４、１０５０ ３ 参考例１−４＝ｉＪ！ 水素化リチウムアルミニウム８１の乾燥テトラヒドロフ
ラン５０ｇｄの懸濁液に窒素気流１”５０℃でｐ−シア
ノ安息香酸５．５ｇの乾燥テトラヒドロフラン（５０−
）溶液を滴下し、１時間攪拌、室温まで冷却、水を６−
加え、次いで酢酸エチル１５０−を加え、芒硝乾燥し、
濾過後、溶媒留去して４−ヒドロキシメチルベンジルア
ミンを得り。 ＮＭＲδ（ＯＤＣｔ婁−１−ＣＤｓＣＤ−１−Ｄ＊０）
　：　８．７６（２Ｌす、４．５８（２ｆｉ、　８）、
７．２６（４Ｈ，ｓ）÷ 参考例１１４ ４−ヒドロキシメチルベンジルアミン１．８７１１４−
ジメチルアミノピリジン１．８４ｆを乾燥塩化メチレン
６０−にとかし、これにｐ−ニトロベンジルクロロホル
メート２．１５ｆの乾燥塩化メチレジ（１（ｌｄ）ｍ液
を氷冷ド滴下し、そのまま１時間攪拌、その換水と塩化
メチレンで希釈し、塩化メチレン膚を希塩酸、水で順次
洗浄し、芒硝乾燥、溶媒留去後４−（ｐ−二トロベンジ
ルオキシカルボニル）アミノメチルベンジルアルコール
ヲ得１こ。 ｆｉｌｍ　　−５ ＩＲＣｅｖｓ　　）　：　１７２Ｇ、　１６００．１５
１０．１８３６゜ｍ＆Ｘ １２４０、１１２Ｂ、　１１０２．１０８８゜１００７
、８４５ 参考例１１士 ａ）４−（Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アミ
ノメチルベンジルアルコールを参考−ニトロベンジルオ
キシカルボニル）アミノメチルベンズアルデヒドを得た
。 ｂ）上記りで得たベンズアルデヒドＩＪＦをアセトン３
０−にとかし氷冷下ジョーンズ試薬（Ｊｏｎｅｓ’　ｒ
ｅａｇｅｎｔ　）　　を加え、２時間攪拌し、メタノー
ル１．５４を加え、酢酸エチルで希釈し、水洗、芒硝乾
燥後、溶媒留去し、４−（ｐ−ニトロベンジルオキシカ
ルボニル）アミノメチル−安息香酸を得た。 参考例１１６ ｍ−シアノ安息香酸より参考例１１３　、１１４　。 １１５番ζ記載の方法と同様番こして、８−（Ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アミノメチル−安息香酸
を得たｏ　　”　−ｐ　＊　＊　８０〜ｔ　３３℃４−
メチル−４−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルアミ
ノ吉草酸１４．Ｏｆを乾燥テトラヒドロフラン２８０ｍ
ｇにとかし、トリエチルアミン５．２５Ｆを加え、水冷
下、クロルギ酸エチル５・６４１を滴下し、そのまま８
０分攪拌、生じたトリエチルアミン塩酸塵を綿栓−過し
、Ｐ液を再度氷冷し、水素化ホウ素ナトリウム５ｆの水
溶液（９０ｍ）を加え１．５時間攪拌、減圧下約１２０
−まで濃縮し塩化メチレン抽出。希塩酸、水で洗浄し芒
硝乾燥後、溶媒留去し、残渣をシリカゲルクロマトにて
精製して、４−メチル−４−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニル）アミノ−ペンタノールを得た。 ｆｉｌｍ　　　−ｔ ＩＲＣｃＩｌｌ）　：　１７１０．１６０７．１５１５
．１８４ｇ。 ａｘ １２６０．１２１８．１０８６ Ｎｌ［Ｒδ（ＣＬＸ３Ａｓ）　：　１．８２（６Ｌ　ｌ
）、５．０９（２Ｈ，ｌ）を 参考例１１◆ ４−メチル−４−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル）アミノ−ペンタノール１．６８ｆを乾燥ビリジシ１
７−にとかし、氷冷下にｐ−）ルエンスルホニルクロリ
ド２．８１を加え冷蔵庫にて一夜放置、エーテルと水で
希釈し、希塩酸、重曹水、水で順次洗浄し、芒硝乾燥後
、溶媒留去し、５−ｐ−トルエンスルホニルオキシ−２
−メチル−２−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
）アミノーペンタンを得た。 １Ｒｆｔｌシー’　）　：　１７２５．１６０５．１６
２０．１８４８．１２６８゜ａｘ １１７８．１０９２．９５８．９１６ 鵬δ（ＣＤＣｚす：　１．２５（６Ｍ−）、２．４２（
８Ｈ，１）、５．０８（！Ｈ，ＩＩ） 参考例１１Ｊ ↓ チｘ安＆Ｔｉ酸８９Ｇ”９を乾燥ジメチルホルムアミド
８−にとかし、水冷下に水素化ナトリウム（５０％）、
２２０ｗＩｇを加え、１０分間攪拌し、次に５−ｐ−ト
ルエンスルホニルオキシ−２−メチル−２−（Ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アミノーペンタン１．６
４１の乾燥ジメチルホルムアミドＣ３ｙｄ＞溶液を滴下
し、２５分攪拌後、酢酸エチルで希釈し、希塩酸、水で
順次洗浄後、芒硝乾燥、ｓｓｗ去し、残渣をシリカゲル
クロマトにより精製し、５−ベンゾイルチオ−２−メチ
ル−２−Ｃｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アミ
ノ−ペンタンを得た。 ｉａ　、＝１：′ＣｐＲ″”）　：　１７２８．１６５
８．１６０６．１６１５゜１８４８．１２５！、　１２
０ｇ、　１０８０．９１０より得た。 ４−ベンゾイルチオ−２，２−ジメチル−１−（ｐ−ニ
トロベンジルオキシカルボニル）−アミノブタン ｍ、ｐ、　　　　６９〜７０℃ ＩＲＮ＋す”（ｔｖｍ−”）：　１７０２．１６５Ｇ、
１５５０．１６２０゜ｍａ工 １２５２、１２１０ ４−アセチルチオ−２−メチル−２− （ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）−アミノブタ
ン １２５５．１２１Ｇ、１０９４．９５０．８５ＯＮＭｊ
Ｌ　　Ｊ（ＣＬ）ｃｚｓ　）　　：　　１．８７（６Ｈ
−）、　２．８８（８）１−）、６．２８（２Ｈ，８） ８−アセチルチオ−２，２−ジメチル−↓−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アミノープロパン ｆｉｌｍ　　−１ １ＲＣｃＩＩＩ）　：　１７２０．１６８０．１６００
．１Ｆ）２８゜ｍＪ＆Ｘ １８４０．１１２０．９５０．８４５ ＮＭＲδ（ＣＤＯｚｓ）　：　０．９５（６Ｈ，８）、
２．８７（８ｔｌ、　ｓ）、５．２２（２Ｈ，８’） ４−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アミノ−
２，２−ジメチル−１−アセチルチオブタン ｆｉｌｍ　　−１ １Ｒ（ｍ　　）　：　１７００．１６Ｇ０．１６１０．
１８４０゜１ｈＫ １２４０．１１２５．９５０．８４５ 鳩Ｒδ（ＣＤＣｔ＃）：　０．９７（６Ｈ，ａ）、２．
３４（８１［、１１）、参考例１←中 ４−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アミノ−
４−メチル−ペンタジチオール吟 は参考例９◆と同様の方法、により５−ベンゾイルチオ
−２−メチル−２−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル）アミノブンタシより得た。 ｆｉｌｍ　　−４ ＩＲ（５１）　：　１７１５．１６０５．１５１５．１
８４２゜ｍ＆Ｘ １２５０、１２０８．　Ｈ）８Ｇ Ｎｌｌｉ（Ｒδ（ｃｂｃｚｍ）　：　１．８２（６ＨＩ
　１１）、２．５２（２１Ｅ１．　’１゜Ｊ＝６，５Ｈ
す、５．１６（２Ｈ，８）以Ｆのチオール誘導体も対応
するチオアセテート体あるいはチオベンゾエート体より
上述と同様の方法で得、各々次の反応に用いた。 α）　　１慴／′Ｓ￥Ｖ鯨川雪○ＲＯｓ４−（ｐ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル）アミノ−８，８−ジメチ
ルブタンチオール ｆｉｌｍ　　−１ １Ｒ（ｘ　　）　：　１７１０．１６０８．１５２０．
１８ＦＩＯ。 ｍａ！ １２６０．１０８８ ８−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アミノ−
８−メチルブタンチオールＩＲｆｉｌｍ　ｃ♂’）　：
　１７１５．１６Ｇ５．１５１７．１８４２゜ａｘ １２５８、１２１２．１０８５ ８−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル）アミノ−
２，２−ジメチルプロパンチオール ＩＲ””　（ｍ−’）　：　１７１０．１６０８．１６
２０．１８４Ｂ。 ａｘ ２８７ 化メチレン抽出、２Ｎ−水酸化ナトリウム液、水でＦ＃
４次洗浄し、芒硝乾燥、ｆ８媒留去し残渣をシリカゲル
クロマトにて精製して、１−ｐ−二トロベンジルオキシ
カルボニル−４−ピペリジニル酢酸亡−ブチルエステル
を得た。 ｍ、ｐ、　　　　９９〜１００℃ ＩＲＮｕ”’（３−’）　：　１７８２．１６８５．１
６０５．１５１８゜ａｘ ０８４ ｂ）１−Ｐ−ニトロベンジル著キシカルボニル−４−ピ
ペリジニル酢酸は上記で得られたｔ−ブチルエステルを
＃考例場４と同様の方法により処理して得た。 ”−Ｐ−１８６〜１８７．５℃ ＩＲＮ的”（ｆｆｉ−１）　：　１７Ｂ８．１６６２．
１５１５．１２５５゜ａｘ １５９ 十 参考例１２＋ 十 ａ）　　８−ヒドロキシピペリジンから参考例１ｉｅト
同様の方法により１−ｐ−二トロベンジｌレオキシカル
ボニル−８−ヒドロキシピペリジンを得た。 ｂ）　　上記ａ）で得た１−ｐ−二トロベンジルオキシ
カルボニル−８−ヒドロキシピペリジンをテ 参考例１１キｂ）と同様にしてジ１−ンズ酸化に付する
ことにより、１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
−８−ピペリドンを得た。 ｆｉｌｍ　　−５ ＩＲ（Ｇｌｌｌ　　）　：　１７０８．１５２０．１４
８０．１８４２゜ｍ１工 １８１５、１２６６、１２１５．１１０８Ｎ６ＬＲδ（
ＯＤＣｔｓ　）　：　８−６９　（’２Ｌ　ｔ　、　Ｊ
＝５Ｈｚ　）４．１０（２Ｈ，１１）、６．２４（２Ｕ
、　ｌ）参考例１２−？ 参考例１２４ ８−（４−（１−Ｐ−ニトロベンジフレオキと同様にし
、ｆ３−（４−（１−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル）ビペ１】ジニル）プロピオン酸を得た。 ｍ、ｐ、　　　９９〜１０１℃ ＩＲｃＨｔ０ｚ″−一”）　：　１７００．１６０７．
１５２５．１２１Ｂ。 ａ１ １１２２ 参考例１２４ ａ）２−Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボ二Ｊしアミノ
メチル−イソ酪酸から参考例１１４と同様の方法により
８−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ−２，
２−ジメチルプロパツールを得た。 Ｉａ　ＮｕＪＯｆＣｅＭ″”）　：　１６８０．１５６
５．１５１０．１８８８゜ａｘ Ｉｓ！７６、１０８８ ｂ）上記ａ）で得たアルコール誘導体を、＃月例００ 今→と同様の方法により酸化し８−ｐ−ニトロベンジル
オキシカルボニルアミノ−２，２−メチルプロパツール
を得り。 ＩＲＣＨ””に’）　：　１７２ｇ、　１５１２．１８
４５ｍ＆ｘ 躯δ（ＣＤｃＡｍ）　：　１．１Ｂ（６Ｌ　％’）、８
．８８（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝６．５Ｈｚ）、５．１８（２
１１，ｆｉ）、９．４４（１１（、５）Ｃ）上記ｂ）で
得たアルデヒド誘導体と、Ｐ−メトキシベンジルオキシ
力ルポニルメチレント様の方法により、６−ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルアミノ−４，４−ジメチル−
２−　”＜　ンテン酸ｐ−メトキシベンジルエステルを
得ｆこ。 Ｉａ　、４−’、”　（ｆｆｉ−”）　：　１７１８１
１６５（Ｌ　１６１ｇ、　１５２Ｇ。 １４６２、１８４７．１２４８．１０８２．８２ＯＮＭ
ＲδＣＣＤ０Ｌ”　）　：　１　ｍ　０８　（６Ｈ，ｓ
　）、８．１７（Ｌ！Ｒ，ｄ。 Ｊ＝＝ｘ６．５１１１ｚ）、８．７９（８Ｈ−）、５．
１０（２Ｈ，ＩＩ）、５．１５（２Ｈ，ｓ）、５．８８
（ＩＨ，ｄ、　Ｊ　＝１ｇ）ｌｚ）、６．８７（ＩＩｌ
、　ｄ、　Ｊ＝ｌ＠Ｈｚ）参考例１２今 ５−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ−４，
４−ジメチル−２−ペシテン酸ンジルオキシカルボニル
アミノ−４，４−ジメチル−２−ペンテン酸を得た。 ｍ、ｐ、　　　１２８〜１２６℃ ＩＲ：Ｊ：’（ｍ−’）　：　１７２５．１６９８．１
６４２．１６１１゜１５ｊｉ！０．１１４２ ０ 参考例１参会 ５−ｐ−二トロベンジルオキシヵルホニルアミノ−４，
４−ジメチＪレー２−ペシテン酸シジルオキシヵルボニ
ルアミノ−４，４−ジメチルーペシタシ酸を得た。 ＩＲ：：”’（ｃｍ−’）　：　１７０８．１６６０．
１６０８．１５１９゜１２４０、１１８２．１０１０ ６５Ｎδ（ＣＤＣｔａ　）　：　０．８９（６Ｍ、　Ｉ
）、８．０６（２Ｒ，ｄ。 Ｊ＝７Ｈｚ）、６．２５（２Ｍ−） ８−ｐ−ニトロベンジルオキシ力ルボニルベシジルオキ
シカルボニルアミノ−５−メチル−へキサン酸を得た。 ｍ、ｐ、　　　１０５〜１０８℃ ｆｉ１ｍ　　−５ ＩＲ（３）　：　１７１Ｇ、　１５２Ｇ、　１２６０．
１２１２゜ａｘ ＨへＩＮ（Ｘ）＊ＣＨ！　Ｑ　Ｎｏｔ　→ｔＢｕ（ＸＸ
３ＣＨｉ８（）効西０恥−↓ ａ）１−ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル−４−メ
ルカプトビペリジシ１−１９７とブロモ酢ａｔブチル７
８０１１Ｆを乾燥ベンセン７ｄに窒累気流下室温で１．
８−ジアザビシクロ（５，４，０）ウンデシー７−エン
（１１０）６０８ｑの乾燥ベンゼシ８−を薦トし、５分
攪拌、反応液を水、希塩酸、水で順次洗浄し、芒硝乾燥
後、溶媒留去し、１−ｐ−−１−ロベンジルオキシカル
ポニルー４−ｔブトキシカルボニルメチルチオピペリジ
ンを得た。 ｆｉｌｍ　　−ｓ 工Ｒ（、ｐｍ　　）　：　１７２８（ｌｈ）、　１７１
８．１６１０．１５２ｇ。 ａｘ １８５Ｇ、　１２９８．１２７８．１２５０゜１２１ｇ
、１０１８．８５８ ＮＭＲδ（ＣＤＣｚｓ）　：　１．４６（９１１，８）
、８．１５（２１１，ｓ）、５．１８（２Ｊ１．ｆｉ） ニトロベンジルオキシカルボニル−４−カルボキシメチ
ルチオ−ピペリジンを得た。 ｍ、ｐ、　　　８３９〜８６℃ ｆｓｌｍ　　−１ｍ ＩＲＣａｔｓ　　）　、　１７２５（！Ｉｈ）、１７１
４．１６０８．１５１８゜ａｘ １８４６、１２７８．１２４８．１２１０．１０１０５
０％Ｘ水素化ナトリウム４．８０１を乾燥石油エーテル
でよく洗浄した後、乾燥ジメチルホルムアミド５０−を
加え、窒素気流中、β−クロロピバル酸１８．６６１の
乾燥ジメチルホルムアミド（６０ｍ）溶液を室温で滴下
、３０分攪拌。これにトリメチルクロルシラシ１０．８
５ｆの乾燥ジメチルホルムアミド（１〇−）溶液を一５
°〜−８℃で滴下、そのまま１暗闇撹拌。これにチオ安
息香酸１Ｂ、８１と５０％水素化ナトリウム４．８Ｏｆ
より調製したチオ安息香酸ナトリウムの乾燥ジメチルホ
ルムアミド溶液７０−を、−６〜−８℃で滴ドし、さら
にヨウ化ナトリウム１５．（ｌを加え、室温で８日間攪
拌さらに４０℃で７時間攪拌後、反応液に氷水を加え、
酢酸エチル抽出。水洗、芒硝乾燥、溶媒留去し、残渣を
イソプロピルエーテル−石油エーテルより再結晶し、β
−ペンゾイルチオビバル酸を得た。 ＩＩＩＬ　ｂｌ−♂’）　：　１７Ｇ８．１６６Ｂ、　
１４７２．１４４８゜ｍ＆Ｘ １２０ｇ、１１７５．９０５ ＮＭＲａ（ＣＤＯｔす：　１．８６（６Ｍ、　！＋）、
８．８９（２１１，１）十 参考例１８◆ ａ）！−（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ
）−２−メチル−１−ペンゾイルチの方法によりβ−ペ
ンゾイルチオビパル酸から得た。 ｍ、ｐ、　　８７．５〜８９℃ ｆｉｌｍ　　−１ １Ｒ（５１）　：　１７２０．１６６０．１６０２．１
５１８゜ＡＸ １２０８、１０８０ ｂ）　　　　２−（Ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル）アミノ−２−メチル−プロパンチオールは上記８）
のチオベンゾエートから参考例斗 ９４）と同様の方法により得た。 ｆｉｌｍ　　−１ １Ｒ（ｍ　　）　：　１７１８．１６００．１５１８．
１８４Ｂ。 ａｘ ２４２ シ 参考例１８４Ｐ ａ）テレフタルアルデヒド酸２５．８１の乾燥ベンセン
８０−の懸濁液に塩化チオニル８０．７ｔを還流下に滴
下し、少量のジメチルホルムアミドを加え、４時間還流
後、溶媒留去、残渣をｔ−ブタノール（１８０ｍ）にと
かし乾燥ピリジン１６．８ｆを―下し、６時間還流し、
冷却後水、ベンゼシで希釈し、希塩酸、水で洗浄し、芒
硝乾燥後＠＊留去し、テレフタルアルデヒド酸−ｔブチ
ルエステルを得た。 ｆｉｌｍ　　−＊ Ｉｆ’　　　（ｃｍ　　）　：　２７８０．１７２８（
Ｉｈ）、　１７１Ｌ　１２９２．１１１８ａｘ Ｎ１１１　δ（Ｃ［Ｘ３Ａ畠）　　：　　Ｌ６８（９）
１．ｓ）、　１０．１１（Ｉｌｌ、　　５）ｂ）　　テ
レフタルアルデヒド酸ｔ−ブチルエステル１２．２７ｆ
の乾燥域化メチレン（２５０ｄ）溶液に５０Ｘ苛性ソー
ダ液５．８６ｆを加えこれにＷｉ素％流下、トリエチル
ホスホノアセテし、溶媒留去、残渣をシリカゲルクロマ
トにて精製し、８−（４−ｔブチルオキシカルボニルフ
ェニル）アクリル酸エチルエステルを得た。 ■ＲｆＭ１へ♂’）　：　１７２０．１７１０．１６８
８．１６０５゜ｍ＆ｘ １８６６、１２９５．１１１７．１１ｌ１０６Ｎ　Ｊ（
ＯＤＣｚｓ　）　：　１．８８（８Ｈ，ｔ、　Ｊ＝６．
５Ｈｚ　）、１．６０（９ｆ１．　Ｉ）、 ４．２４（２ｆ１．　ｑ、　Ｊ＝５．５１１ｚ　）、６
．４６（ｌｆｌ、　ｄ、　Ｊ＝１５ｆｌｚ　）Ｃ）　　
上記ｂ）で得られたエチルエステル１１．５２ｆｅエタ
ノール１１５−にとかし、５Ｋｔ＜ラジウム−炭素を用
いて、常圧水素ド攬袢し、触媒を炉別し、Ｐ液を留去し
、８−（４−ｔブチルオキシカルボニルフェニル）プロ
ピオン酸エチルを得た。 ｆｉｌｍ　　−１ １Ｒ（閂　）　：　１７Ｂ７．１７１２．１Ｂ６８．１
２９２゜ａＸ １２６５．１１６６．１１１６．８５ＯＮＭａ　δ（Ｃ
ＤＣｚｓ）　：　１．２０（８Ｈ，ｔ、　Ｊ　＝＝７．
５Ｈｚ）、１．５９（９１１，！Ｉ）、 ４．０９（２Ｈ，’ｑ、　Ｊ　＝７．５Ｈｚ）ｄ）ヒ記
Ｃ）で得られたエチルエステル１１ｆＩをメタノール１
１５−にとかし、ＩＮ−苛性ソーダ８６−を氷冷下に加
え、２５℃で４．５時間攪拌、水で希釈し、エーテル洗
浄後、水層を塩酸で酸性とし、酢酸エチル抽出、水洗、
芒硝乾燥後溶媒留去し、４−（ｔ−ブチルオキシカルボ
ニル）フェニルプロピオン酸ヲ得ｔこ　。 ｍ、ｐ、　　　　８９〜９０℃ ＩＲＮｕ”’（ｍ−’　）：　１６９６．１６０８．１
２８５．１１６１．１１０５ａＸ ニルプロピオン酸がら参ＪＩｉ例１参哨、ｌ今雫と同様
の方法により、４−（２−（ｐ−ニトロベンジルオキシ
ヵルボニルアミノ）エチル）安息香酸を得た。 ｔｎａｐａ　　　　１７８〜１７５℃ トランス−４−７ミノメチルシクロヘキ廿ジカルボン酸
８．９８１の４Ｎ−苛性ソーダ液（８−）に水冷下、ｐ
−ニトロベンジルクロロホーメート８．８８１のジオキ
サン（８−）溶液を滴下し、そのまま１．５時間攪袢計
、生じた沈殿をＰ去し、Ｆ液を水冷下に塩酸で酸性とし
、生じた結晶を集幀、氷水で洗浄し、減圧乾燥してトラ
ンス−４−ｐ−二トロベンジルオキシカルポニルアミノ
メチルシクロヘキサンカルボン酸を得た。 ｍ、ｐ、　　　１６４〜１６６℃ ＩｋＬＮｕｊ０’（ｃｐＨ−’　）　：　１７１８’、
　１６７４．１６０２．１６１２゜ａｘ １８４Ｇ、　１２７６、１２６８ 参考例１８ψ Ｐ−アミノ安息香酸２．０６１の乾燥テトラヒドロフラ
ン（４２＋ｄ）溶液に窒素気流中、水冷下にてビストリ
メチルシリルアセトアミド７．４２−を滴Ｆし、０℃で
４時間攪拌。これにｐ−ニトロベンジルクロロホーメー
ト８．２ＢＩの乾燥テトラヒドロフラン（１０ｍ）浴液
を水冷下で滴Ｆ、更に８時間攪拌。これにメタノール８
＋ｄを１５〜２５℃で滴トシ、冨温で２５分攪拌後、エ
ーテル１８０−を加え、冷却し、析出した結果を炉取し
、エーテルで洗浄後、減圧乾燥し、４−ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルアミノ安息香酸を得た。 ｍ、ｐ・（ｄｅｃ）　　　　２４６〜２５４℃ＩＲ：：
Ｕ：’（ｍ−”）　：　１７８０．１６６７＊　１５９
０．１５８１゜２．０７１を乾燥塩化メチレン６１−に
とがし、４−ジメチルアミノピリジン４．０８Ｆを加え
、ｐ−ニトロベンジルクロロポーメート７．１４１の乾
燥塩化メチレン（６８ｆｎり溶液を水冷下で滴下し、２
０分攪拌後換水藷釈し、希喘酸、水で順次洗浄し、芒硝
乾燥、溶ｔｓ留去後、残渣をシリカゲルクロマトで精製
し、８，４−ダ（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
オキシ ｍ，ｐ．　　　　１２７〜１２９℃ ＩＲ　Ｎｕ”’（ｃｙ−’）　：　２７２Ｇ．　１７５
５．　１６９５，　１５１０。 ｍ＆１ １２４０、１１８６ ｂ）上記で得られたベンズアルデヒドを参考例デ ｔｔ＋ｂ）と同様にしてジツーンズ酸化ζこ付し、８、
４−ジ（ｐ−ニトロペシジルオキシ力Ｊレボニルオキシ
）−安息香酸を％ｒ＝。 ｍ，ｐ．　　　　１　７　０〜１７２℃にＢｒ　　−１
　　− ＩＲ　　　（ｍ　　）　、　１７７２．　１７５８．　
１６８６．　１５２５。 ａｘ １２８０、１２４０ テレフタルアルデヒド酸７．５ｇとトリエチルアミン５
．２ｇを乾燥ジメチルホルムアミド７ルクロリド７、６
ｇを加え、２時間攪拌し更に８０℃で６時間攪拌した。 水で希釈しエーテル抽出、重會水、水で洗浄、芒硝乾燥
、溶媒留去により、テレフタルアルデヒド酸Ｐーメトキ
シベンジルエステルを得た。 ｍ−Ｐ−　　　　４０　〜４１℃ ＨＬ　””’（ｚ−１）　：　２７８０．　１７１２．
　１６１０，　１２７２。 ｍ＆Ｘ テレフタルアルデヒド酸ｐーメトギシベンシ ジルエステルを参考例１１中ｂ）と同様にしてジ習ーン
ス酸化に付することによりテレフタル酸モノｐ−メトキ
シベンジルエステルを得た。 ｍ．ｐ．　　　１６４　〜１６５℃ Ｉ　ｎ　ＮｕＪｏｌ　（ｃＭ″”）　：　１７１２．　
１６８６，　１２７５．　１２５Ｆ）。 ａｘ １０２ １１

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）一般式〔！〕 〔式中、Ｒ１は水素原子、１′−ヒドロキシエチル基あ
   るいはその水酸基が通常の保護基に保護された１′−ヒ
   ドロキシエチル基を示し、Ｒｇは一般式 ％式％ （式中、ルは水素原子又は通常のアミノ基の保護基を、
   ｎ、ｍはＯ〜４を示す。）で表わされる置換基、一般式 ％式％ （式中、Ｒ４、ｎ　、　ｍは前述と同じ意味を有する。 ） で表わされる置換基、一般式 （式中、翫は前述と同じ意味を有し、ｔはＯ〜２を示す
   。） で表わされるシクロヘキサン環を有する置換基、一般式 （式中、ルは前述と同じ意味を有し、Ｘ。 ＩはＸが水素原子でＹが式 ％式％ −ＯＨ諺（３Ｈ−（式中ｔはθ〜２を示す。）で表わさ
   れる置換基、又はＸとＩで ＣＨ− を示す。）で表わされる置換基、一般式（式中、絢は前
   述と同じ意味を有し、Ｘｌ。 Ｙｌは、ｘｌが水素原子でＹｌが式 −ＣＨ＊　− で表わされる置換基又はｘｌとＹｌで式を示す。）で表
   わされる置換基、一般式−ＯＨ＝ＣＨ−Ｒｇ （式中＆は式 −（ＧｊＨ雪）ｎ’　ＮＥＩＲ４−０（ＯＨｓ戸−（ａ
   ｎすｎ’　ＮＨＲａ（式中也は前述と同じ意味を有し、
   ｎ′は１または２を示す。） で表わされる置換基、 一般式 ％式％ （式中、−は水素原子、通常のカルボキシル基の保護基
   を示す。）で表わされる置換基を示す。） で表わされる置換基、一般式 ％式％ （式中、Ｒ７は、低級アルコキシ基、低級アルキルカル
   ボニルオキシ基、水酸基又は通常の保護基で保護された
   水酸基の゛置換した低級アルキル基、あるいは式 で表わされる置換基を示す。なお、文中拘は前述と同じ
   意味を有する。） で表わされる置換基 式 ％式％ （式中、−は前述と同じ意味を有し、ｍ′は２または８
   を示す。） で表わされる置換基又はアリール基を示す。 ＩＬｓは水素原子、通常のカルボキシル基の保護基を示
   す。、〕 で表わされるβ−ラクタム化合物およびその薬理学上許
   容される塩。 Ｃ）一般式［ＩＩ］ 〔式中、Ｒ１は前述と同じ意味を有し、蹟は、一般式 ％式％ （式中Ｒ′４　　は通常のアミノ基の保護基を示す。ｎ
   及びｍは、それぞれ０〜４を示す。）で表わされる置換
   基 一般式 ％式％ （式中、Ｒ４，ｎ、ｆｆｌは前述と同じ意味を有する。 ） で表わされる置換基 一般式 −Ｃ）−（ＣＭすを朋禎 （式中、ｎ′４は前述と同じ意味を有し、ｔは０〜２を
   示す。） で表わされるシクロヘキサン環を有する置換基、 一般式 （式中爪は前述と同じ意味を有し、Ｘ、　ＹはＸが水素
   原子でＹが式 ％式％ −ＣＨ＝ＣＨ−（式中ｔはθ〜２を示す。）で表わされ
   る置換基、又は ＸとＹで −ＣＨ＝ を示す。）で表わされる置換基、 一般式 （式中、ｎ′４は前述と同じ意味を有し、ＸＩ　。 Ｙｌは、Ｘｌが水素原子でＹｌが式 −Ｃ１ｈ− で表わされる置換基あるいはｘ１″と￥１で式％式％ を示す。）で表わされる置換基 一般式 ％式％ （式中現は、式 −（ＯＨｓ）ｎ’ＮＨＪＬｊａ　　　−（３（０１（す
   ｓ　−（ＣＨすｎ’冊払（式中瓜は前述と同じ意味を有
   し、ｎ′ハ１又は２を示す。） で表わされる置換基、 一般式 ％式％ （式中６は、通常のカルボキシル基の保護基を示す。）
   で表わされる置換基を示す。）で表わされる置換基、′ 一般式 ％式％ （式中Ｒｓ　、　ｍ’は前述と同し意味を有する。）で
   表わされる置換基又はアリール基を示す。 ムは酸素原子、硫黄原子を示す。〕で表わされる化合物
   を加熱して一般式 〔式中、Ｒ１，ｍｓ　、　Ｒｓは前述と同じ意味を有す
   る。〕 で表わされるβ−ラクタム化合物を製造し、次いで必要
   に応じて得られた化合物をカルボキシル基の保護基Ｒ−
   の除去反応並びにそれぞれ対応するカルボキシル基、ア
   ミノ基、水酸基の保護奉を除去してカルボキシル基、ア
   ミノ基、水酸基を復元する反応を適宜組合せて付すこと
   を特徴とする一般式（１ 〔式中、Ｒｓ　、　Ｒｚ　、　Ｒｓは前述と同じ意味を
   有する。〕 で表わされるβ−ラクタム化合物およびその薬理学上許
   容される塩の製造方法。