JPS58110419A - 結晶性アルミノシリケ−トゼオライト及びその製造方法 - Google Patents
結晶性アルミノシリケ−トゼオライト及びその製造方法Info
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-
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Silicates, Zeolites, And Molecular Sieves (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な結晶性アルミ/シリケートゼオライトに
関し、さらに詳しくは、従来知られている結晶性アルミ
/シリケートゼオライトのいずれとも異なった結晶構造
を有する新規な結晶性フル擢ノシリケーFゼオライトそ
の製造方法およびその触媒としての使用に関する。
関し、さらに詳しくは、従来知られている結晶性アルミ
/シリケートゼオライトのいずれとも異なった結晶構造
を有する新規な結晶性フル擢ノシリケーFゼオライトそ
の製造方法およびその触媒としての使用に関する。
本明細書では結晶性フルミノシリケートゼオライトをq
#に断わらない限り略称して、単に“ゼオライト′と呼
ぶことiする。
#に断わらない限り略称して、単に“ゼオライト′と呼
ぶことiする。
ゼオライトは、天然のものも合成のものもNa。
Kまたは水素イオンの如き陽イオンを含有し、主として
8協04とムt04とから構成される三次元網状構造を
有し且つ81原子とムAj子とはIII嵩原子な介して
交叉結合した正四面体の高度記動構造を有しているのが
籍黴である。このゼオライトは、大きさが均一な多数の
細孔な有しており、それを利用して分子節として使用さ
れまた種々の化学合成分野における触媒或いは担保とし
て広汎に使用されている。
8協04とムt04とから構成される三次元網状構造を
有し且つ81原子とムAj子とはIII嵩原子な介して
交叉結合した正四面体の高度記動構造を有しているのが
籍黴である。このゼオライトは、大きさが均一な多数の
細孔な有しており、それを利用して分子節として使用さ
れまた種々の化学合成分野における触媒或いは担保とし
て広汎に使用されている。
殊に合成のゼオライトは、執めて均質で純度が嵩(また
憧れた脊柱な付している。そのため従来多(の合成ゼオ
ライトおよびその5rii法が提案されている。
憧れた脊柱な付している。そのため従来多(の合成ゼオ
ライトおよびその5rii法が提案されている。
例えばsso、/At、o、モル比が少なくとも10以
上である原調シリカ含有量の多いゼオライトは高い安定
性、峙異な酸性度を有し、例えば選択的吸着、クランキ
ング、〕−イドロクラッキ/グ。
上である原調シリカ含有量の多いゼオライトは高い安定
性、峙異な酸性度を有し、例えば選択的吸着、クランキ
ング、〕−イドロクラッキ/グ。
異性化、アルキル化などの炭化水素の転化用の触媒とし
て高い活性を有している。このよ5なシリカ含有量の多
いゼオライトは、28M系のゼオライ)な中心として数
多(提案されている。
て高い活性を有している。このよ5なシリカ含有量の多
いゼオライトは、28M系のゼオライ)な中心として数
多(提案されている。
シリカ含有量の多いゼオライトは、通常シU力源および
アルミナ諒と共に、フルカリ金属カチオンおよびそれと
組合せて使用する他のカチオンを作用させて製造される
が、その他のカチオンの種類および組合せによって得ら
れたゼオライトの構造および特性は異なる。
アルミナ諒と共に、フルカリ金属カチオンおよびそれと
組合せて使用する他のカチオンを作用させて製造される
が、その他のカチオンの種類および組合せによって得ら
れたゼオライトの構造および特性は異なる。
従来、アルカリ金属カチオンと組合されて使用する他の
カチオンとして、特定の第4級アンモニウムを使用する
もの(例えば特公昭46−10064号公報、特開昭5
1−67298号公報、特開昭51−67299号会報
参照)、縦素数2〜10の第1級71ンを使用するもの
(特開昭50−54598号会報参照)、le素数2〜
20のフルキルシフRンを使用するもの(特開昭53−
134799号公報参照)などが知られている。
カチオンとして、特定の第4級アンモニウムを使用する
もの(例えば特公昭46−10064号公報、特開昭5
1−67298号公報、特開昭51−67299号会報
参照)、縦素数2〜10の第1級71ンを使用するもの
(特開昭50−54598号会報参照)、le素数2〜
20のフルキルシフRンを使用するもの(特開昭53−
134799号公報参照)などが知られている。
そこで本発明者らは、新規なゼオライトおよびその製造
法について研究を進めた結果、戚る物足の11g4@に
アンモニウムイオンなアルカリ金属カチオンと組合せて
使用すると従来とは全く結晶構造が真なるゼオライトが
得られること、このゼオライトは熱的に安定で且つ高純
度であて、成る樵の炭化水素の変換に優れた触媒活性を
有していることが判明した。
法について研究を進めた結果、戚る物足の11g4@に
アンモニウムイオンなアルカリ金属カチオンと組合せて
使用すると従来とは全く結晶構造が真なるゼオライトが
得られること、このゼオライトは熱的に安定で且つ高純
度であて、成る樵の炭化水素の変換に優れた触媒活性を
有していることが判明した。
しかして、本発明に従えば、下記式 (1)%式%
で表わされる組成を廟し、かつ下記
11、2±05 中位〜強い99±α5
中位〜強い 467±αl 中位 433±0.1 非常K ! イ表02
土α05 強い〜非常にIji〜旭183±
α05 中位 !L72土α05 弱い〜中位144±α0
4 弱い〜強い133±α04
弱い〜強いλ28±α03 中位 の櫨で実質上表わされる格子rki間陥を有する結晶性
アルミノシリケートゼオライト。
中位〜強い 467±αl 中位 433±0.1 非常K ! イ表02
土α05 強い〜非常にIji〜旭183±
α05 中位 !L72土α05 弱い〜中位144±α0
4 弱い〜強い133±α04
弱い〜強いλ28±α03 中位 の櫨で実質上表わされる格子rki間陥を有する結晶性
アルミノシリケートゼオライト。
が提供される。
本発明により提供されるゼオライ)は、上記のとおり、
シリカ含量の多い、すなわち810./Aj、O,モル
比が10以上のゼオライトであるが、従来から知られて
いる28M−5,28M−11、28M−12、ZSM
−38等のZaM系の葛*olit*やZeta3ゼオ
ライト等の扁シリカ含有ゼオライトとは全く異なるX線
回折パターンな示すt#蜆な結晶m*をもつゼオライト
であり、木用im*において以下[ゼオライトTPZ−
aJと称する。
シリカ含量の多い、すなわち810./Aj、O,モル
比が10以上のゼオライトであるが、従来から知られて
いる28M−5,28M−11、28M−12、ZSM
−38等のZaM系の葛*olit*やZeta3ゼオ
ライト等の扁シリカ含有ゼオライトとは全く異なるX線
回折パターンな示すt#蜆な結晶m*をもつゼオライト
であり、木用im*において以下[ゼオライトTPZ−
aJと称する。
以下、本発明によるゼオライ)TPZ−3の製造法及び
特性を添付図面を参照しながら、さらに詳細に説明する
。
特性を添付図面を参照しながら、さらに詳細に説明する
。
本発明に従えば、ゼオライトTPZ−3は、水溶性アル
カリ金属化合一、 N、N、N、N%N:N’−へキサ
メチル−1,6−ヘキサンジアンモニウム化合物反応条
件下(後述の水溶反応条件下)にシリカを与える化合物
(以下シリカ源という)、反応条件下(後述の氷島反応
条件下)にフルiすを与える化合物(以下アルミナ源と
いう)及び水を含量する混合物を、少なくとも80℃の
温度において結晶が生成するのに光分な時間111#L
、生成するゼオライトを必e<応じてさらに他のカチオ
ンとのイオン交換反応に付することからなる方法によっ
て製造することができる。
カリ金属化合一、 N、N、N、N%N:N’−へキサ
メチル−1,6−ヘキサンジアンモニウム化合物反応条
件下(後述の水溶反応条件下)にシリカを与える化合物
(以下シリカ源という)、反応条件下(後述の氷島反応
条件下)にフルiすを与える化合物(以下アルミナ源と
いう)及び水を含量する混合物を、少なくとも80℃の
温度において結晶が生成するのに光分な時間111#L
、生成するゼオライトを必e<応じてさらに他のカチオ
ンとのイオン交換反応に付することからなる方法によっ
て製造することができる。
しかして、本発明の方法は、ゼオライ)の陽イオン部分
を燐酸する陽イオン−として、水溶性アルカリ金属化合
物に加えて、N、N、N、N−NtN′−ヘキサメチル
−16−ヘキサンジアンモニウム化合物を使用すること
に本員的%黴を有する。
を燐酸する陽イオン−として、水溶性アルカリ金属化合
物に加えて、N、N、N、N−NtN′−ヘキサメチル
−16−ヘキサンジアンモニウム化合物を使用すること
に本員的%黴を有する。
上記本発明の方法においては、上記の各出発物質は、こ
れら各原料を混合した故の反応混合物中における下記の
成分のモル比に換算して下記のモル比を与えるような割
合で混合される。
れら各原料を混合した故の反応混合物中における下記の
成分のモル比に換算して下記のモル比を与えるような割
合で混合される。
S鳳0./AL、O,= t o〜λ000.好ましく
はlO〜500、さらに好まし くは20〜250; R/(Si+At) : I X 10−’ 〜1
、好ましくは5 X 10−’〜05、さらに好 ましくはlx 10−”〜lX1G−’;017(81
+At)== 1−* 10S4〜1.5、好ましくは
1 X 1 G”” 〜1、さらに好ましくは5X10
−魯〜α4m H,O/(81+Aj) =S 〜100 、好ましく
は10〜SO,さらに好ましくは15〜 40; 0H7H,0= I X 10″″′〜I X 1 0
−”、好ましくはI X 10””〜I X 10−1
さらに好ましくはI X 10””〜l Xl0−参〇 ただし、凰はy、N、w、N7N7N’−へキサメチル
−1,6(C12) 5−N(C12)1 )な表わす
。
はlO〜500、さらに好まし くは20〜250; R/(Si+At) : I X 10−’ 〜1
、好ましくは5 X 10−’〜05、さらに好 ましくはlx 10−”〜lX1G−’;017(81
+At)== 1−* 10S4〜1.5、好ましくは
1 X 1 G”” 〜1、さらに好ましくは5X10
−魯〜α4m H,O/(81+Aj) =S 〜100 、好ましく
は10〜SO,さらに好ましくは15〜 40; 0H7H,0= I X 10″″′〜I X 1 0
−”、好ましくはI X 10””〜I X 10−1
さらに好ましくはI X 10””〜l Xl0−参〇 ただし、凰はy、N、w、N7N7N’−へキサメチル
−1,6(C12) 5−N(C12)1 )な表わす
。
また、上記式中OH−は上配鵡合物中のアルカリ性度を
定量的Kllわすものであり、その値は上記水以外の出
発物質によって蟲合1中に持ち込まれる水酸基の全モル
舷から、反応1合物中の#根との中和反応によって消費
される水酸基のモル数を差引くことによって算出される
蝋である。
定量的Kllわすものであり、その値は上記水以外の出
発物質によって蟲合1中に持ち込まれる水酸基の全モル
舷から、反応1合物中の#根との中和反応によって消費
される水酸基のモル数を差引くことによって算出される
蝋である。
次に各出発−質についてさらに詳しく述べる。
(3) シリカ諒としては、ゼオライ) 捩&に:a富
使用されるものがいずれも使用万能であり、例えばシリ
カ粉末、コロイド状シリカ、水溶性ケイ素化合物、ケイ
酸などが挙げられる。
使用されるものがいずれも使用万能であり、例えばシリ
カ粉末、コロイド状シリカ、水溶性ケイ素化合物、ケイ
酸などが挙げられる。
これらの具体例Y#L−<as21jQすると、シリカ
粉末としては、エーロシルシリカ、発燵シリカ、シリカ
ゲルの如きアルカリ金属ケイll塩から沈降法より製造
されたα吋シリカが好適であり、コロイド状シリカとし
ては、檜々の粒子径のもの例えば10〜50ミクρ/の
粒子径のものが利用出来る。また水溶性ケイ素化合物と
しては(NamOまたはに、01モルに対して810.
1〜5ル%に2〜4モルを貧有する水ガラス)、アルカ
リ金属ケイ者塩などが挙げられるが、シリカ諒としては
就中コロイド状シリカまたは水ガラスが好ましい。
粉末としては、エーロシルシリカ、発燵シリカ、シリカ
ゲルの如きアルカリ金属ケイll塩から沈降法より製造
されたα吋シリカが好適であり、コロイド状シリカとし
ては、檜々の粒子径のもの例えば10〜50ミクρ/の
粒子径のものが利用出来る。また水溶性ケイ素化合物と
しては(NamOまたはに、01モルに対して810.
1〜5ル%に2〜4モルを貧有する水ガラス)、アルカ
リ金属ケイ者塩などが挙げられるが、シリカ諒としては
就中コロイド状シリカまたは水ガラスが好ましい。
(Bl アルミナ諒としては、一般にゼオライトの製
造に使用されているものはいずれも使用可能であり、例
えば塩化物、硝酸塩、硫−塩の ゛如きアルミニウ
ムの塩;例えばコρイド状アルミナ、プンイドペーマイ
ト、ベーマイト。
造に使用されているものはいずれも使用可能であり、例
えば塩化物、硝酸塩、硫−塩の ゛如きアルミニウ
ムの塩;例えばコρイド状アルミナ、プンイドペーマイ
ト、ベーマイト。
r−フルミナ、−−アルミナ、β−アルミナ・三水和物
の如き水和されたもしくは水和されうる状態のアルミナ
;アルミン酸ソーダなどが例示されるが、この中でアル
ミン酸ソーダまたはアルミニウムの塩が好適である。
の如き水和されたもしくは水和されうる状態のアルミナ
;アルミン酸ソーダなどが例示されるが、この中でアル
ミン酸ソーダまたはアルミニウムの塩が好適である。
また、シリカ及びアルミナの双方の供給側としてフルミ
ノケイIII塩化合物例えば、火熱に@出される長石類
カオリン、鞭性白土、ペントナイ゛ト、モンモリカナイ
F等を使用することも可能であり、これらフルミノケイ
酸塩を前述したフル1す諒及び又はシリカ鯨の一部又は
全部と代替してもよい。
ノケイIII塩化合物例えば、火熱に@出される長石類
カオリン、鞭性白土、ペントナイ゛ト、モンモリカナイ
F等を使用することも可能であり、これらフルミノケイ
酸塩を前述したフル1す諒及び又はシリカ鯨の一部又は
全部と代替してもよい。
本発明の原料昶合智におけるシリカ−とアルミナ誰との
配合比は、それぞれを8IO8とA4へとして表わして
810./ム’*Oa (モル比)が1ONλoooの
範囲、好ましくは10〜500の範囲、さらに好ましく
は20〜250の範囲内となるようKすることが好まし
い。
配合比は、それぞれを8IO8とA4へとして表わして
810./ム’*Oa (モル比)が1ONλoooの
範囲、好ましくは10〜500の範囲、さらに好ましく
は20〜250の範囲内となるようKすることが好まし
い。
ICI 一方、水溶性アルカリ金属化合物としては、
水浴性のアルカリ金橋塩及び1ル力リ金w4水酸化物が
通しており、具体的には、アルカリ金網の塩化物、炭酸
基、例えば嘔化す) Uラム、槻嗜ナトリウム、炭酸カ
リウムなど、或いは水酸化ナトリウム、本震111.カ
リウムなどのアルカリ金輌水酸化物が亭げられる。
水浴性のアルカリ金橋塩及び1ル力リ金w4水酸化物が
通しており、具体的には、アルカリ金網の塩化物、炭酸
基、例えば嘔化す) Uラム、槻嗜ナトリウム、炭酸カ
リウムなど、或いは水酸化ナトリウム、本震111.カ
リウムなどのアルカリ金輌水酸化物が亭げられる。
また、シリカ鯨又はアルミナ1−貴ねるものとして、グ
イ−ナトリウム、ケイ醗カリウムなどのアルカリ金属ケ
イlI4’Pアルミ/醗ナトリウム、フルミン醗カリウ
ムなどのアルカリ金域アルミ/醸頃も使用することがで
きる。
イ−ナトリウム、ケイ醗カリウムなどのアルカリ金属ケ
イlI4’Pアルミ/醗ナトリウム、フルミン醗カリウ
ムなどのアルカリ金域アルミ/醸頃も使用することがで
きる。
しかして殊に好適なアルカリ金属化合物としては水酸化
ナトリウム、ケイ醗ナトリウム、アルミン−ナトリウム
等が亭げられる。
ナトリウム、ケイ醗ナトリウム、アルミン−ナトリウム
等が亭げられる。
ID1 本発#4において、上配水落性アルカリ金属
化合物と共に使用されるり、N、N、N’、N’、N’
−へキサメチル−16−ヘキサンジアンモニウム化合物
は下記式 %式%) 式中、Ye、よ21.ゲ、イオ2、OH−イオ7、l
so;−イオン等の如き7ニオ/を表わすで表わしつる
化合物であり、本化合物はこの形で他の出発物質と混合
することができ、或いは混合物中でその場で、例えばN
、N、NSN’ −テトラメ手ルー16〜へキサメチレ
ンジアミンとハpゲ/化メチル例えば日つ化メチルと反
応させて形成させるようにしてもよい。
化合物と共に使用されるり、N、N、N’、N’、N’
−へキサメチル−16−ヘキサンジアンモニウム化合物
は下記式 %式%) 式中、Ye、よ21.ゲ、イオ2、OH−イオ7、l
so;−イオン等の如き7ニオ/を表わすで表わしつる
化合物であり、本化合物はこの形で他の出発物質と混合
することができ、或いは混合物中でその場で、例えばN
、N、NSN’ −テトラメ手ルー16〜へキサメチレ
ンジアミンとハpゲ/化メチル例えば日つ化メチルと反
応させて形成させるようにしてもよい。
かかるジアンモニウム化合物は、シリカ源及びアルミナ
源の811びAAの合計のモル数に換算して、81及び
ムtの合計1モル当りIX 1 G−’〜1モル、好ま
しくは5 X 1 g−4〜05モル さらに好ましく
はlXl0−3〜1×I Q−1モルの範囲内で使用す
ることができる。
源の811びAAの合計のモル数に換算して、81及び
ムtの合計1モル当りIX 1 G−’〜1モル、好ま
しくは5 X 1 g−4〜05モル さらに好ましく
はlXl0−3〜1×I Q−1モルの範囲内で使用す
ることができる。
また、本発明の方法において使用する原料混合物中和は
、少なくとも成る量以上のQH−イオンが存在すること
が会費であり、従って、使用する水以外の出発物質の少
なくとも1つはOH−イオンな鵡−するものでなければ
ならず、通常かかるOB−イオには前述したアルカリ金
属化合物及び/又はジアンモニウム化合物により該混合
物中に供給される。
、少なくとも成る量以上のQH−イオンが存在すること
が会費であり、従って、使用する水以外の出発物質の少
なくとも1つはOH−イオンな鵡−するものでなければ
ならず、通常かかるOB−イオには前述したアルカリ金
属化合物及び/又はジアンモニウム化合物により該混合
物中に供給される。
乙かしてUH−″イオンは、混合物中に、シリカ源及び
アルミナ源のSt及びAtのモル数に換算してStとA
tの合1t 1 モル当りI X 10−’〜1.5モ
ル、好ましくはI X 10−” % 1 モル、さら
に好ましくは5 X l O’−”〜l) 4モルの範
囲内で存在することができる。
アルミナ源のSt及びAtのモル数に換算してStとA
tの合1t 1 モル当りI X 10−’〜1.5モ
ル、好ましくはI X 10−” % 1 モル、さら
に好ましくは5 X l O’−”〜l) 4モルの範
囲内で存在することができる。
また、該OH−イオンは該混合物中の水の量を基準にし
て、水1モル当りlXl0−’−IX 10−”モル、
好ましくはlさ10−’〜l×1O−1モル、さらに好
ましくはI X 10−’〜I X 10−”モルの範
囲内で存在することができる。
て、水1モル当りlXl0−’−IX 10−”モル、
好ましくはlさ10−’〜l×1O−1モル、さらに好
ましくはI X 10−’〜I X 10−”モルの範
囲内で存在することができる。
田1 さらに、本尭#4における礎科混合−において、
水は(81+ At)に対してモル比で5〜100の範
囲、好ましくは10〜5oのm國使用するのがよ<、%
に15〜4oの範囲が好ましい結果が持たらされる。
水は(81+ At)に対してモル比で5〜100の範
囲、好ましくは10〜5oのm國使用するのがよ<、%
に15〜4oの範囲が好ましい結果が持たらされる。
本発明においては、前記した如きアルカリ金属化合一、
N、N、N、N’、N’、N’−ヘキサメチル−1,
6−ヘキサンジアンモニウム化合物、シリカ確、アルミ
ナ源及び水を前述した如き割合で混合し、得られる混合
物をゼオライトが生成するに充分な温度と時間加熱輪持
する(すなわち水熱反応に付する)ことにより目的とす
るゼオライトを生成せしめることができるが、その拳の
反応温度は80℃以上であり、*Kloo〜200℃の
範−内が有利である。
N、N、N、N’、N’、N’−ヘキサメチル−1,
6−ヘキサンジアンモニウム化合物、シリカ確、アルミ
ナ源及び水を前述した如き割合で混合し、得られる混合
物をゼオライトが生成するに充分な温度と時間加熱輪持
する(すなわち水熱反応に付する)ことにより目的とす
るゼオライトを生成せしめることができるが、その拳の
反応温度は80℃以上であり、*Kloo〜200℃の
範−内が有利である。
反応時間は通常5時間〜100日、好ましくは10時間
〜rIO日、臀に好゛ましくは1日〜7日であり、圧力
は自生圧乃至それ以上の加ルが通用され、オートクレー
ブ中で自生圧下に行うのが一般的であるが、必gIIK
応じて量系ガスなどの不活性ガス雰囲気下で行ってもよ
い。
〜rIO日、臀に好゛ましくは1日〜7日であり、圧力
は自生圧乃至それ以上の加ルが通用され、オートクレー
ブ中で自生圧下に行うのが一般的であるが、必gIIK
応じて量系ガスなどの不活性ガス雰囲気下で行ってもよ
い。
ゼオライトの形成反応は、所望の温度に原料混合物を加
熱し、用すれば攪拌下にゼオライトがS成されるまで継
続される。か(して結晶が形成された後反応鵡合物をX
tまで冷却し口過し、好ましくは洸猷のイオン伝辱性が
一収には50μルー以下好ましくは2 B 、u%以下
、さらに好ましくはls 辺72以下となるまで光分に
水洗し、必*により乾燥する。*晶の乾燥は、室温又は
約150℃までの加熱下に行なうことができ、また冨圧
或いは願汁のいずれで行なってもよく、例えば常圧約5
θ〜130℃で5〜24時間機度行なうのが好ましい。
熱し、用すれば攪拌下にゼオライトがS成されるまで継
続される。か(して結晶が形成された後反応鵡合物をX
tまで冷却し口過し、好ましくは洸猷のイオン伝辱性が
一収には50μルー以下好ましくは2 B 、u%以下
、さらに好ましくはls 辺72以下となるまで光分に
水洗し、必*により乾燥する。*晶の乾燥は、室温又は
約150℃までの加熱下に行なうことができ、また冨圧
或いは願汁のいずれで行なってもよく、例えば常圧約5
θ〜130℃で5〜24時間機度行なうのが好ましい。
なお、上記のゼオライトの形成反応な行うに先立ち、原
料混合物中に、目的生成物であるゼオライ)TPZ−3
の粉末粒子を存在せしめると、ゼオライトの形成反応速
度が増大されることがある。
料混合物中に、目的生成物であるゼオライ)TPZ−3
の粉末粒子を存在せしめると、ゼオライトの形成反応速
度が増大されることがある。
従って原料混合物中に目的とするゼオライ)TPZ−3
の粉末粒子を樵として少am人させることは度々好まし
い結果が持らされる。
の粉末粒子を樵として少am人させることは度々好まし
い結果が持らされる。
また、原料混合物中に、前記ジアンモニウム化合物より
も分子量の小さい第四級7/モニウム化合智及び/又は
水溶性アミンを添加してもよく、それKよってゼオライ
トの形成反応速度を増大させることができる。この目的
のために使用し5る第四M7ンモニウム化合物としては
テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム
を例示することができる。
も分子量の小さい第四級7/モニウム化合智及び/又は
水溶性アミンを添加してもよく、それKよってゼオライ
トの形成反応速度を増大させることができる。この目的
のために使用し5る第四M7ンモニウム化合物としては
テトラメチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウム
を例示することができる。
該アミン又はアンモニウム化合物は、N、N。
N、N’、N’、N’−ヘキサメチル−L6−ヘキサン
ンアンモニウム化合物1モルに対して(11〜10モル
、好ましくはα1〜5モルの割合で株加し得る。
ンアンモニウム化合物1モルに対して(11〜10モル
、好ましくはα1〜5モルの割合で株加し得る。
かくして得られたゼオライ)TPZ−3は、陽イオンが
アルカリ金属イオンおよびり、N、N、N’。
アルカリ金属イオンおよびり、N、N、N’。
N−N′−ヘキサメチル−L6−ヘキサンジアンモニウ
ムイオンを含むものであり、例えばこれKNH,CL水
$1敵を作用させてイオン交換しカチオンサイトをアン
モニウムイオンで置換することもできる。
ムイオンを含むものであり、例えばこれKNH,CL水
$1敵を作用させてイオン交換しカチオンサイトをアン
モニウムイオンで置換することもできる。
かくして得られた結晶は、約100〜約600℃、好ま
しくは約300〜約ioo’cの温度で、約8〜約24
時間、好ましくは約8〜約16時間焼成してもよく、こ
れfよって、カチオンサイトの有機カチオ/及び/又は
アンモニウムイオンを除去することができ、その結果、
力士オンタイトが実翼的にアルカリ金属イオン及び/又
は水系イ才/からなるゼオライトTPZ−3に祷ること
ができる。
しくは約300〜約ioo’cの温度で、約8〜約24
時間、好ましくは約8〜約16時間焼成してもよく、こ
れfよって、カチオンサイトの有機カチオ/及び/又は
アンモニウムイオンを除去することができ、その結果、
力士オンタイトが実翼的にアルカリ金属イオン及び/又
は水系イ才/からなるゼオライトTPZ−3に祷ること
ができる。
また、本発明によれば、上記の如くして形成されたゼオ
ライ)TPZ−3のカチオンサイトを他のカチオンによ
るイオン交換反応に付することにより、該カチオンサイ
トに存在するカチオンの少なくともlsな醒他のカチオ
ンと交換することも可能である。
ライ)TPZ−3のカチオンサイトを他のカチオンによ
るイオン交換反応に付することにより、該カチオンサイ
トに存在するカチオンの少なくともlsな醒他のカチオ
ンと交換することも可能である。
該イオン交換反応はそれ自体公知の方法で行なうことが
でき、イオン交換可能なカチオンとしてはイオン交換反
応が行なわれる媒体中でカチオンとして存在しうる任意
のカチオンであることができ、従来からゼオライトのイ
オン交換に際して通常用いられる任意の金属カチオンが
包含される。J4棒的には綱期律次の票!腰、s!nM
、III族及び第1族に属する金属のカチオン、例えば
、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシ
ウム。
でき、イオン交換可能なカチオンとしてはイオン交換反
応が行なわれる媒体中でカチオンとして存在しうる任意
のカチオンであることができ、従来からゼオライトのイ
オン交換に際して通常用いられる任意の金属カチオンが
包含される。J4棒的には綱期律次の票!腰、s!nM
、III族及び第1族に属する金属のカチオン、例えば
、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシ
ウム。
銅、銀、ベリリウム、マグネシウム、カルシウム、スト
ジンチウム。バリウム、!II船、カドミウム、水銀、
スカンジウム、イツトリウム、ランタ/、セリウム、プ
ラセオジウム。
ジンチウム。バリウム、!II船、カドミウム、水銀、
スカンジウム、イツトリウム、ランタ/、セリウム、プ
ラセオジウム。
ネオジウム、プロメチウム、サマリウム、ユーロピウム
、ガドリニウム、テルビウム、ディスプロシウム、ホル
4ウム、エルビウム。
、ガドリニウム、テルビウム、ディスプロシウム、ホル
4ウム、エルビウム。
ツリウム、クツテルビウム、ルテチウム、鉄。
コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム。
パラジウム、オスミウム、インジウム。白金勢が亭げら
れる。
れる。
これらの5ち%KN4期律表の第1ム族(アルカリ金属
)、第11A族(アルカリ土類金属)及び第1B族(希
土類金属)[JIする金属のカチオンが好適である。
)、第11A族(アルカリ土類金属)及び第1B族(希
土類金属)[JIする金属のカチオンが好適である。
これらカチオンとの交換反応は、それ自体公知の方法に
より行なうことができ、例えば、ゼオライトを所望とす
るカチオンを含有する水溶液と接触させることにより打
なうことができる。か匁る接触処理は、バッチまたは連
続式のいずれの方式によっても達成できる。
より行なうことができ、例えば、ゼオライトを所望とす
るカチオンを含有する水溶液と接触させることにより打
なうことができる。か匁る接触処理は、バッチまたは連
続式のいずれの方式によっても達成できる。
前述したイオン交換を行うことにより、本発明のゼオラ
イ)TPZ−3の結晶性を増大せしめ得ることがあり、
また活性を同上せしめ得ることがある。
イ)TPZ−3の結晶性を増大せしめ得ることがあり、
また活性を同上せしめ得ることがある。
以上に述べた如(して1lIi遺される本発明のゼオラ
イトTPZ−3は、性徴あるXliAIgl#rパター
ンを鳴しており、少なくとも下記の特徴的ビークを有す
ることによって従来の高シリカ含有ゼオライトとは明線
に区別されるものである。例えば下記表から明らかなよ
うに433±αIAに非常に強いピークが本発明のゼオ
ライ)TPZ−3には−められるが公知のゼオライト2
8M−5Kはかようなピークは認められない。また本発
明のゼオライ)TPZ−3には4o2±α05AK強い
ピークが認められるが、ゼオライトZSM−12Kは表
02±a05AKは比較的弱いピークしか關められない
。
イトTPZ−3は、性徴あるXliAIgl#rパター
ンを鳴しており、少なくとも下記の特徴的ビークを有す
ることによって従来の高シリカ含有ゼオライトとは明線
に区別されるものである。例えば下記表から明らかなよ
うに433±αIAに非常に強いピークが本発明のゼオ
ライ)TPZ−3には−められるが公知のゼオライト2
8M−5Kはかようなピークは認められない。また本発
明のゼオライ)TPZ−3には4o2±α05AK強い
ピークが認められるが、ゼオライトZSM−12Kは表
02±a05AKは比較的弱いピークしか關められない
。
表
格子面間隔dよ) 相対強度
IL2±O,S 中位〜強い9.9土α5
中位〜強い 467±α1 中位 433fal 非常Ki!lIイ表02±a
OS 強い〜非常に強い龜83±aOS
中位 λ72±αOS 弱い〜中位λ44±(LO
4弱い〜強い λ33±α04. @い〜強い128±α03
中位 これらのX線格子面間隔の4を黴的ピークは、本発明の
ゼオライト丁pz−sの化学的組成を示す式I11にお
けるカチオンMのI[1IIIKよって。
中位〜強い 467±α1 中位 433fal 非常Ki!lIイ表02±a
OS 強い〜非常に強い龜83±aOS
中位 λ72±αOS 弱い〜中位λ44±(LO
4弱い〜強い λ33±α04. @い〜強い128±α03
中位 これらのX線格子面間隔の4を黴的ピークは、本発明の
ゼオライト丁pz−sの化学的組成を示す式I11にお
けるカチオンMのI[1IIIKよって。
格子面間faK若干のシフトがあったり及び/又は相対
強度Kfr干の変化を生ずることもあるが、実質的には
すべてのゼオライ)TPZ−3に共通のものであること
を了解すべきである。
強度Kfr干の変化を生ずることもあるが、実質的には
すべてのゼオライ)TPZ−3に共通のものであること
を了解すべきである。
なお、本発明書に1幀したX−回灯パターにおける格子
面間隔d(AIの値は標準液#によって決定したもので
ある。顧ち、照tt&1は綱のにα双子線で、自紀記一
式ノンナレーション計数分光光度針を便用した。ピーク
嶋さill及び2θ(θは7ラソグ絢)は分九九度針の
チャートから絖みとった。これから相対強度100XI
/1.(10はIIk強の線又はピークの高さ)及び、
記鯨された&lに対応するオシ′ゲストローム単位で表
わした格子面間−であるdを計算した。
面間隔d(AIの値は標準液#によって決定したもので
ある。顧ち、照tt&1は綱のにα双子線で、自紀記一
式ノンナレーション計数分光光度針を便用した。ピーク
嶋さill及び2θ(θは7ラソグ絢)は分九九度針の
チャートから絖みとった。これから相対強度100XI
/1.(10はIIk強の線又はピークの高さ)及び、
記鯨された&lに対応するオシ′ゲストローム単位で表
わした格子面間−であるdを計算した。
尚ここで相対強度は100〜60が非常に強い、60〜
40が強い40〜20が中位、2ONIOが弱いとして
表わした。
40が強い40〜20が中位、2ONIOが弱いとして
表わした。
本発明のゼオライ)TPZ−3には、上記のX線格子面
間隔の特徴的ピークを示すゼオライトである限り、他の
ところにピークが存在すると否とにかかわらず、すべて
包含されることを理解すべきである。しかして、本発明
のゼオライトTPZ−3のx鞄(ロ)折パターンには、
場合により前記特徴的ビーク以外に、20X近傍に強い
ピークが認められることもあるが、このピークの有無は
本質的に本発明のゼオライトTPZ−3の同定に影響を
与えるものではない。
間隔の特徴的ピークを示すゼオライトである限り、他の
ところにピークが存在すると否とにかかわらず、すべて
包含されることを理解すべきである。しかして、本発明
のゼオライトTPZ−3のx鞄(ロ)折パターンには、
場合により前記特徴的ビーク以外に、20X近傍に強い
ピークが認められることもあるが、このピークの有無は
本質的に本発明のゼオライトTPZ−3の同定に影響を
与えるものではない。
本Q明のゼオライトTPZ−3は、化学的には、無水の
状IIKおける酸化物の形で表わした下記一般式(11 %式% の組成を有している。
状IIKおける酸化物の形で表わした下記一般式(11 %式% の組成を有している。
上記式111 において、Sはゼオライトに結合してい
るカチオンの量の指纏であり、本発明のゼオライ)TP
Z−3の場合には0.5〜4、好ましくはα9〜Sの範
囲内であることができる。
るカチオンの量の指纏であり、本発明のゼオライ)TP
Z−3の場合には0.5〜4、好ましくはα9〜Sの範
囲内であることができる。
ゼオライト、すなわち結晶性アルミノシリケートは、モ
デル的には、シリカの四面体とアルミナの四面体との結
合体から基本的になり、このアルミナ四面体の電荷は結
晶内Klaイオンが存在することによって中和さt]た
構造を有している。従って、ゼオライトを表わす前記式
+T1において、カチオンの量を表わす+1.“は理論
的にはアルミナと轡七ル重、すなわちlということKな
るが、しかし実際的には、合成状態のゼオライトにはf
i常のtk浄によっては除去しきれない−イオン前駆物
が包威されているのが普通であり、合成された七オライ
ドの実際の分析データでXが1となることはむしろ希で
ある。か(して、前記式(I)における“X“は、1m
常の洗浄では除去しきれない包蔵された陽イオン前駆智
の陽イオンをも含む精製された合成ゼオライト中のto
talの一イオンの量(モル数)を表わすものとする。
デル的には、シリカの四面体とアルミナの四面体との結
合体から基本的になり、このアルミナ四面体の電荷は結
晶内Klaイオンが存在することによって中和さt]た
構造を有している。従って、ゼオライトを表わす前記式
+T1において、カチオンの量を表わす+1.“は理論
的にはアルミナと轡七ル重、すなわちlということKな
るが、しかし実際的には、合成状態のゼオライトにはf
i常のtk浄によっては除去しきれない−イオン前駆物
が包威されているのが普通であり、合成された七オライ
ドの実際の分析データでXが1となることはむしろ希で
ある。か(して、前記式(I)における“X“は、1m
常の洗浄では除去しきれない包蔵された陽イオン前駆智
の陽イオンをも含む精製された合成ゼオライト中のto
talの一イオンの量(モル数)を表わすものとする。
また、シリカ含有量の、指橡となるンは少なくとも1G
、好ましくはlo#λooo、さらに好ましくはl Q
N50 Gの範囲内が有利であり、就中20〜250の
範囲内が優れた特性のゼライトが得られるので脣に好適
である。
、好ましくはlo#λooo、さらに好ましくはl Q
N50 Gの範囲内が有利であり、就中20〜250の
範囲内が優れた特性のゼライトが得られるので脣に好適
である。
他方、本Inのゼオライトのカチオンサイトを占める前
記式(II Kおける翼は3愉のカチオンであり、典体
的には水素イオン、アンモニウムイオン、有機カ千オ/
及び金属カチオンが包含される。有機カチオンとしては
、例えば、TPZ−3合成時に添加されるものN、 N
、 NN1. N: N7−へキサメチル−L6−ヘキ
サンジ7ンソニウムカチオン、テトラエチルアンモニウ
ムカチオン、テトラメチルアンモニウムカチオン等が挙
げられる。
記式(II Kおける翼は3愉のカチオンであり、典体
的には水素イオン、アンモニウムイオン、有機カ千オ/
及び金属カチオンが包含される。有機カチオンとしては
、例えば、TPZ−3合成時に添加されるものN、 N
、 NN1. N: N7−へキサメチル−L6−ヘキ
サンジ7ンソニウムカチオン、テトラエチルアンモニウ
ムカチオン、テトラメチルアンモニウムカチオン等が挙
げられる。
他方、金属イオンとしては、本発明のゼオライトのイオ
ン交換反応について#I述したものが挙げられる。
ン交換反応について#I述したものが挙げられる。
しかして、前記式(1) Kおける麗としては、水素イ
オン及び金属イオンが好ましく、また、その金属イオン
としてはII!d期停表の菖■族、第…族、ml族及び
第−族に属する金属のカチオン、殊に%第1A族、第1
1A族及び纂鳳B族に槁する音域のカチオンが好適であ
る。
オン及び金属イオンが好ましく、また、その金属イオン
としてはII!d期停表の菖■族、第…族、ml族及び
第−族に属する金属のカチオン、殊に%第1A族、第1
1A族及び纂鳳B族に槁する音域のカチオンが好適であ
る。
また、用途の面から、繭1族金属、就中白金イオンもま
た好ましいイオンの1つである。
た好ましいイオンの1つである。
本発明のゼオライ)TPZ−3はその%性の1つとして
形状選択性を有しており、この特性はシクロヘキサン/
?L−ヘキサン吸■比によって表わすことができる。こ
の吸着比はゼオライト中に存在する細孔の大きさを示し
、一定の温度及び圧力下tおい′て、ゼオライトの単位
1重量りに吸着されるシクロヘキサンのl量対が−ヘキ
サ/の重量の比として足義される。この比が小さいとい
うことはシクロヘキサンのような分子11F向積の大き
い分子はゼオライトの細孔内へ拡畝しKくいことな表わ
し、額m反応の緩点からは選択性の向上につながる。ゼ
オライトの皐位夏量当りのシクロヘキサン又はルーヘキ
サンの吸着量は、電気炉中で450′CK28時間焼成
することによって乾燥したゼオライトの一定量を秤量し
、次いで25’C及び12G±WOWL藁Mlのシクロ
ヘキサン又は九−ヘキサ/の飽和ガス雰囲気中に上記秤
量したゼオライトを6時間保持し。
形状選択性を有しており、この特性はシクロヘキサン/
?L−ヘキサン吸■比によって表わすことができる。こ
の吸着比はゼオライト中に存在する細孔の大きさを示し
、一定の温度及び圧力下tおい′て、ゼオライトの単位
1重量りに吸着されるシクロヘキサンのl量対が−ヘキ
サ/の重量の比として足義される。この比が小さいとい
うことはシクロヘキサンのような分子11F向積の大き
い分子はゼオライトの細孔内へ拡畝しKくいことな表わ
し、額m反応の緩点からは選択性の向上につながる。ゼ
オライトの皐位夏量当りのシクロヘキサン又はルーヘキ
サンの吸着量は、電気炉中で450′CK28時間焼成
することによって乾燥したゼオライトの一定量を秤量し
、次いで25’C及び12G±WOWL藁Mlのシクロ
ヘキサン又は九−ヘキサ/の飽和ガス雰囲気中に上記秤
量したゼオライトを6時間保持し。
!!に、シクρヘキサ/又は九−ヘキサンの不在下にゼ
オライトを25℃で120±201111Hg K Z
wf間保持した後ンクρヘキサン又はn−ヘキサ/が
吸着されたゼオライトを秤量し、吸着操作#後のゼオラ
イトの重量の差を求めることkより決定することができ
る。
オライトを25℃で120±201111Hg K Z
wf間保持した後ンクρヘキサン又はn−ヘキサ/が
吸着されたゼオライトを秤量し、吸着操作#後のゼオラ
イトの重量の差を求めることkより決定することができ
る。
本発明のゼオライ)TPZ−3は一般にα95を越えな
い、好ましくは0.l〜α95のm1内のシクーヘキサ
//?L−ヘキサ710rptloflrati・を有
している。
い、好ましくは0.l〜α95のm1内のシクーヘキサ
//?L−ヘキサ710rptloflrati・を有
している。
また、本発明により提供されるゼオライトTPZ−3は
、商業的に入手し得る高活性シリカ−アルミナクラッキ
ング触媒と比較して、はるかに優れたクラッキング活性
な有している点でも特徴的である。
、商業的に入手し得る高活性シリカ−アルミナクラッキ
ング触媒と比較して、はるかに優れたクラッキング活性
な有している点でも特徴的である。
このクラッキング活性は” Cradcing Ind
@7(C,Iという)で表現することができる。このC
radclng Indexはヘキサ′ンのクラッキン
グ反応に於て、一定の反応速度定数を与える蟲反で表現
したものであり具体的には次の如くして画定される。
@7(C,Iという)で表現することができる。このC
radclng Indexはヘキサ′ンのクラッキン
グ反応に於て、一定の反応速度定数を与える蟲反で表現
したものであり具体的には次の如くして画定される。
lO〜20メツシュに成型したゼオライト又はシリカ−
アルミナ触媒を電気中450℃に28時間焼成した恢、
これを6矢ガラス製反応器に充填し、次いで25℃にお
いてヘキサンで紹相された量系ガスな、IW反応管K。
アルミナ触媒を電気中450℃に28時間焼成した恢、
これを6矢ガラス製反応器に充填し、次いで25℃にお
いてヘキサンで紹相された量系ガスな、IW反応管K。
フィードし、該ヘキサンの転化帯を−足し、それから各
反応湿度に於る反応速度定数な算出し、l[反応速度定
数が0.5となる反応温度を推定する。
反応湿度に於る反応速度定数な算出し、l[反応速度定
数が0.5となる反応温度を推定する。
本発明ゼオライトTPZ−3のCradelng In
dexは、カチオンサイ)K存在するカチオンの種類及
び量によって量なり、その代表的なものKついて例示す
れば次のとおりである。
dexは、カチオンサイ)K存在するカチオンの種類及
び量によって量なり、その代表的なものKついて例示す
れば次のとおりである。
水素イオン型の場合:300以下;ベリ蓼ラムイオン型
(B@、0/At20. モル比=0.97)の場合は
約SOO;ス)Glンチウムイオン型(8rO/Aj!
*Os 4 tk比=a95)の場合は4000又、C
rading愈vhd@xは該カチオンサイトに導入さ
れたカチオンの量によっても若干異なり、例えばナトリ
ウムイオV型f) 場合Nago/at*osモル比が
al=の場合は約300.a55の場合は約400であ
った。
(B@、0/At20. モル比=0.97)の場合は
約SOO;ス)Glンチウムイオン型(8rO/Aj!
*Os 4 tk比=a95)の場合は4000又、C
rading愈vhd@xは該カチオンサイトに導入さ
れたカチオンの量によっても若干異なり、例えばナトリ
ウムイオV型f) 場合Nago/at*osモル比が
al=の場合は約300.a55の場合は約400であ
った。
さらに、本発明のゼオライ)TPZ−3は熱安定性に&
めて優れており1例えば800’CK:1211間また
はそれ以上の時間熱処理しても前記したX線の御所パタ
ーンは寮質的に変化しないのでこのこと自体熱的に極め
て安定であることが了解される。
めて優れており1例えば800’CK:1211間また
はそれ以上の時間熱処理しても前記したX線の御所パタ
ーンは寮質的に変化しないのでこのこと自体熱的に極め
て安定であることが了解される。
本発明のゼオライ)TPZ−3は以上に述ぺた如き曖れ
た穆々の骨性を有することに&き、フルキルベンゼン類
の不均化、量性化、フルキル化及びトランスアルキル化
、脱フルキル化等の芳香族炭化水系の変換反応のための
触媒として、或いは選択的吸着剤や触媒相体として広範
に用いることができる。
た穆々の骨性を有することに&き、フルキルベンゼン類
の不均化、量性化、フルキル化及びトランスアルキル化
、脱フルキル化等の芳香族炭化水系の変換反応のための
触媒として、或いは選択的吸着剤や触媒相体として広範
に用いることができる。
本発明ゼオライトな上記したROき反応のための触媒と
して使用する場合、Uゼオライトはそのまま使用するこ
とができ、或いは*1象とする反応によっては、カチオ
ンサイトに存在する金属イオンと同−又は相異なる@媒
酌に活性な会S<又は金IIA#化物のl植又は2撞以
上をさらに和綴させた故使用してもよい。
して使用する場合、Uゼオライトはそのまま使用するこ
とができ、或いは*1象とする反応によっては、カチオ
ンサイトに存在する金属イオンと同−又は相異なる@媒
酌に活性な会S<又は金IIA#化物のl植又は2撞以
上をさらに和綴させた故使用してもよい。
かかる触媒的に活性な金属又は金属暖化物としては、鉄
、コバルト、ニソクル、m、*a。
、コバルト、ニソクル、m、*a。
ルテニウム、pジウム、パラジウム、レニウム、オマミ
ウム、イリジウム、白金等もしくはこれらの酸化物が等
けられる。
ウム、イリジウム、白金等もしくはこれらの酸化物が等
けられる。
かかる触媒活性を有する金属又は金属暖化物の該ゼオラ
イト上への担持はそれ目体公知の方法、例えばEPC公
開00目1498に記載の方g&により行なうことが゛
できる。
イト上への担持はそれ目体公知の方法、例えばEPC公
開00目1498に記載の方g&により行なうことが゛
できる。
上記触媒活性を有する金属又は金mat化物は、本発明
のゼオライ)Ka1持させる代りに1従米かも用いられ
ている耐火性、噌化愉、脣に好ましくはアルミナ等の担
体に担持させた後、それを本発明のゼオライトと混合し
、ベレット状、タブレット状等の任意の形状に成形した
後、目的とする反応に用いるようにしてもよい。
のゼオライ)Ka1持させる代りに1従米かも用いられ
ている耐火性、噌化愉、脣に好ましくはアルミナ等の担
体に担持させた後、それを本発明のゼオライトと混合し
、ベレット状、タブレット状等の任意の形状に成形した
後、目的とする反応に用いるようにしてもよい。
殊に本発明のゼオライ)TPZ−3はトルエンの不均化
、トルエンのメチル化、キシレンの電性化及びエチルペ
ンゼ/のキシレンへの量性化反応において有利に使用す
ることができる。
、トルエンのメチル化、キシレンの電性化及びエチルペ
ンゼ/のキシレンへの量性化反応において有利に使用す
ることができる。
なお、本発明のゼオライ)TPZ−31かかる反応に使
用するに@してレゼオライト丁PZ−3は、銀粉末状で
或いは会費に応じて通常行なわれているように、所望と
する種々の形状、例えばベレット状又はタブレット状に
成形した畿、かかる反応に供することができる。ゼオラ
イトTPZ−3を成形する場合には、常法に従い、ゼオ
ライト丁PZ−3を通常ゼオライF系触媒の粘結剤とし
て使用されている合成或いは天然の耐火性無**化−1
例えばシリカ。
用するに@してレゼオライト丁PZ−3は、銀粉末状で
或いは会費に応じて通常行なわれているように、所望と
する種々の形状、例えばベレット状又はタブレット状に
成形した畿、かかる反応に供することができる。ゼオラ
イトTPZ−3を成形する場合には、常法に従い、ゼオ
ライト丁PZ−3を通常ゼオライF系触媒の粘結剤とし
て使用されている合成或いは天然の耐火性無**化−1
例えばシリカ。
アルミナ、シリカ−アルミナ、カオリン、シリカ−マグ
ネシア等と混合した彼、所望の形状に成形し、次いで焼
成して固めることができる。かり・る成形管ψにおける
触媒活性成分たるゼオライ)TPZ−3の量は、該成形
物の東量を基準として、 ffK1〜100j[量%
。
ネシア等と混合した彼、所望の形状に成形し、次いで焼
成して固めることができる。かり・る成形管ψにおける
触媒活性成分たるゼオライ)TPZ−3の量は、該成形
物の東量を基準として、 ffK1〜100j[量%
。
好マシ(は10〜9QJi蓋%とするのが有利である。
このようにして11111111された触媒は、使用に
際して、例えば水系ガス中の如き還元雰囲気下で200
〜600℃、好ましくは250〜550℃の温度で処理
することもできる。
際して、例えば水系ガス中の如き還元雰囲気下で200
〜600℃、好ましくは250〜550℃の温度で処理
することもできる。
零発#4者らの研究によれば、本発明の前述したゼオラ
イトTPZ−3は後述するようなキシレン類の異性化反
応もしくはエチルベンゼンのキシレン類の真性化反応に
おける触媒として優れた活性を有していることが見出さ
れた。
イトTPZ−3は後述するようなキシレン類の異性化反
応もしくはエチルベンゼンのキシレン類の真性化反応に
おける触媒として優れた活性を有していることが見出さ
れた。
以下このキシレン鋼の異性化もしくはエチルベンゼンの
キシレン類への異性化について貌明する。
キシレン類への異性化について貌明する。
(1) キシレンの真−性化
本発明により提供されるゼオライトTPZ−3はまた。
キシレン類の異性化反応における触媒として有用であり
、本反応は、かかるゼオライ)TPZ−3触媒の存在下
に、気相で、少なくとも11sのキシレン異性体を熱力
学的平lll一度より少ない量で含有するキシレン異性
体混合物から成る送給原料を加熱することにより達成す
ることができる。
、本反応は、かかるゼオライ)TPZ−3触媒の存在下
に、気相で、少なくとも11sのキシレン異性体を熱力
学的平lll一度より少ない量で含有するキシレン異性
体混合物から成る送給原料を加熱することにより達成す
ることができる。
本反応に用いうる送給原料としては、殊Kp−中シレン
の濃度組成が熱力学的子嚢一度以下のものが有利に使用
され、また例えばp−キンレVem−キシレンおよびQ
−キシレンの3種異性体混合物であってもよく、またこ
れらにさらにエチルベンゼンが含まれている4種異性体
混合物のいずれであってもよい、これら異性体混合物は
気相で前記ゼオライ)TPZ−3触媒と接触せしめられ
る。
の濃度組成が熱力学的子嚢一度以下のものが有利に使用
され、また例えばp−キンレVem−キシレンおよびQ
−キシレンの3種異性体混合物であってもよく、またこ
れらにさらにエチルベンゼンが含まれている4種異性体
混合物のいずれであってもよい、これら異性体混合物は
気相で前記ゼオライ)TPZ−3触媒と接触せしめられ
る。
本異性化反応において原料^合物中忙水累を存在させて
もよく、また存在させなくてもよい。H型のゼオライ)
TPZ−31含有する触媒を使用、する時には水素を使
用しなくとも充分満足し得る結果が得られるが、一般的
には水素を使用した方が好ましいことが多い。その場合
の水素は送給原料中の炭化水素の合計に当して、I N
100モル倍使用するのが望ましい。
もよく、また存在させなくてもよい。H型のゼオライ)
TPZ−31含有する触媒を使用、する時には水素を使
用しなくとも充分満足し得る結果が得られるが、一般的
には水素を使用した方が好ましいことが多い。その場合
の水素は送給原料中の炭化水素の合計に当して、I N
100モル倍使用するのが望ましい。
さらに上記真性化反応においては非芳香族炭化水素、例
えばエチルシクロヘキサン。
えばエチルシクロヘキサン。
フルキル置換シクロペンタン、フルキル置換シクーヘキ
サン、パラフィン、ナフテンの如き常)LKおける擲点
が50〜160℃、脅に320〜150℃の非芳香族炭
化水素を添加して行うこともできる。
サン、パラフィン、ナフテンの如き常)LKおける擲点
が50〜160℃、脅に320〜150℃の非芳香族炭
化水素を添加して行うこともできる。
本異性化反応は電量時間空間速度(WH8V)が一般K
aX〜200、好ましくはαl−50の範囲となるよう
に1また反応一度は一般に280〜soo℃、好寥しく
はso。
aX〜200、好ましくはαl−50の範囲となるよう
に1また反応一度は一般に280〜soo℃、好寥しく
はso。
〜450℃の範囲で行うのが1141である。
また本反応は常圧〜30kjl/C1fG、好ましくは
常圧〜25 kg / cdGの圧力範囲で実施するの
が望ましい。
常圧〜25 kg / cdGの圧力範囲で実施するの
が望ましい。
以上に述ぺた異性化反応によれば、p
−キシレンの子嚢到達率が極めて高−1キシレン混合物
を得ることができ、触媒の活性寿命も長いので工業的に
有利Kpp−キシンの製造することができる。
を得ることができ、触媒の活性寿命も長いので工業的に
有利Kpp−キシンの製造することができる。
時に前記ゼオライトTPZ−3触mt使用することによ
り常圧下でキャリアーガスな用いないでも数日間高いp
−キシレン子嚢到達率を維持し得るというlf!!−異
的な璃象、6を認められる。
り常圧下でキャリアーガスな用いないでも数日間高いp
−キシレン子嚢到達率を維持し得るというlf!!−異
的な璃象、6を認められる。
また、前記ゼオライト’jPZ−3触媒は、長時間使用
しその活性が劣化し一一キシレン平僑到達率が低下した
場合、単に反応温度を上げるととKよって容易にその回
復を計ることが可能であるという工業的に優れた利点を
有している。
しその活性が劣化し一一キシレン平僑到達率が低下した
場合、単に反応温度を上げるととKよって容易にその回
復を計ることが可能であるという工業的に優れた利点を
有している。
さらに上記異性化反応の実施Kmつて所望する異性化反
応以外の不均化反応やトランス・アルキル化反応の如き
副反応が温度、圧力、WH8Vなどの反応条件によって
1められる場合には、その副反応な抑制する?、: メ
K ゼオライ) TPZ−3@mItcQ!rm*I1
4をイオン交換もしくは担持させたり、スチーミング処
理もしくはアミン処理することもでき、また反応に供す
る原料混合物中に7ミンII fil t ハプロビル
アミン、ブチル7ミンのILOきアルキルアミンを−s
添加しておいてもよい。
応以外の不均化反応やトランス・アルキル化反応の如き
副反応が温度、圧力、WH8Vなどの反応条件によって
1められる場合には、その副反応な抑制する?、: メ
K ゼオライ) TPZ−3@mItcQ!rm*I1
4をイオン交換もしくは担持させたり、スチーミング処
理もしくはアミン処理することもでき、また反応に供す
る原料混合物中に7ミンII fil t ハプロビル
アミン、ブチル7ミンのILOきアルキルアミンを−s
添加しておいてもよい。
(21エチルベンゼンのキシレンへの異性化エチルベン
ゼンのキシレンへの異性化はで示されるよ5にベンゼン
核の水素添加及び脱水素を伴う反応であり、促って、触
媒としては水溶脱水集化能なもつ金属でイオン交換され
た及び/又はかかる金属を担持串せたゼオライト?PZ
−3を含有する触媒を使用する必要があり、さらに有利
には、前述した如きゼオライトTPZ−3と水#l脱水
素化*@tもつ金属を通常の担体に支持せしめた触媒と
のくみ合わせな使用することが望ましい。
ゼンのキシレンへの異性化はで示されるよ5にベンゼン
核の水素添加及び脱水素を伴う反応であり、促って、触
媒としては水溶脱水集化能なもつ金属でイオン交換され
た及び/又はかかる金属を担持串せたゼオライト?PZ
−3を含有する触媒を使用する必要があり、さらに有利
には、前述した如きゼオライトTPZ−3と水#l脱水
素化*@tもつ金属を通常の担体に支持せしめた触媒と
のくみ合わせな使用することが望ましい。
使用しうる水嬉脱水系化能をもつ金属としては、鉄、コ
バルト、ニッケル、綱、a鉛、ρジウム、ルテニウム、
イリジウム。
バルト、ニッケル、綱、a鉛、ρジウム、ルテニウム、
イリジウム。
パラジウム、レニウム、オスミウム、白金等で挙げられ
、これらはそれぞれ単独で用いてよく、或いは2種以上
組合わせて使用してもよい。2s1以上組合わせて使用
する場合、白金とイリジウム、パラジウム、pジウム、
レニウム、オスミウム及び船から選ばれる。少なくとも
1橋の金属との組合わせな使用することが好適である。
、これらはそれぞれ単独で用いてよく、或いは2種以上
組合わせて使用してもよい。2s1以上組合わせて使用
する場合、白金とイリジウム、パラジウム、pジウム、
レニウム、オスミウム及び船から選ばれる。少なくとも
1橋の金属との組合わせな使用することが好適である。
また、本異性化反応に供されるエチルベンゼンは必ずし
も純粋な体層なものを用いる必要はなく、キシンどの真
性化反応において述べた如きキシレン真性体との混合物
、殊にナフサのり7オーミング、熱的クラツキング又は
ハイドルクランキング反応IKよって得られるC1yf
壷族灰化水木留分が使用小米る。この實分は、キシレン
真性体に加えて、1Ωjじ8個の尻糸な持つエチルベン
ゼンを甘み、通常エチルベンセンとキシンwt% ン異性体の相で少なくとも80 史に好wj% ましくは90 以上のC1芳舎族尿化水素な台むもの
である。
も純粋な体層なものを用いる必要はなく、キシンどの真
性化反応において述べた如きキシレン真性体との混合物
、殊にナフサのり7オーミング、熱的クラツキング又は
ハイドルクランキング反応IKよって得られるC1yf
壷族灰化水木留分が使用小米る。この實分は、キシレン
真性体に加えて、1Ωjじ8個の尻糸な持つエチルベン
ゼンを甘み、通常エチルベンセンとキシンwt% ン異性体の相で少なくとも80 史に好wj% ましくは90 以上のC1芳舎族尿化水素な台むもの
である。
本異性化反応はキシレンの異性化について述べたと同様
の湿度、圧力及び電量時間空間速度条件下に実施するこ
とができ、ただし、本真性化反応Kl#しては込給鯵科
中に水素を存在させておくことが必須であり、その麓は
送結原料中の尿化水^の会意に対して一般に1〜30モ
ル倍、好ましくは1〜20−eル倍とすることができる
。
の湿度、圧力及び電量時間空間速度条件下に実施するこ
とができ、ただし、本真性化反応Kl#しては込給鯵科
中に水素を存在させておくことが必須であり、その麓は
送結原料中の尿化水^の会意に対して一般に1〜30モ
ル倍、好ましくは1〜20−eル倍とすることができる
。
以上に述べた、本発明ゼオライトTPZ−11触媒とし
て利用した。エチルベンゼンのキシレンへの異性化によ
れば、xytの異性化活性が高く、シかも劣化が少ない
ので、比較的低温、低圧での反応が可能であり、望まし
くhい副反応即ち、エチルベンゼン、キシレンの不均化
反応トランスフルキル化反応によるロスな抑える事が出
来る。
て利用した。エチルベンゼンのキシレンへの異性化によ
れば、xytの異性化活性が高く、シかも劣化が少ない
ので、比較的低温、低圧での反応が可能であり、望まし
くhい副反応即ち、エチルベンゼン、キシレンの不均化
反応トランスフルキル化反応によるロスな抑える事が出
来る。
従ってエチルベンゼンからキシレンへの選択性は為水準
を維持する事が可能である。
を維持する事が可能である。
次に実施例により本発明をきらに詳しく説明する。
実施例1
N N N’N’−デトラメチルーL@−ヘキサンジア
ミンtsyのエタノール#11液$0・−へ、(つ化メ
チルS@9を添加する。約3時開場やかに発熱し、沈澱
が生成するが、光を速断して、更に1日timI!する
。生成した白色粉末を 別しアセトンで洗浄した後、減
圧下KIIE婦すると、はば定量的KNNNN’N’N
’−ヘキサメチル−L・−ヘキサンジアンそエクム塩が
得られる。
ミンtsyのエタノール#11液$0・−へ、(つ化メ
チルS@9を添加する。約3時開場やかに発熱し、沈澱
が生成するが、光を速断して、更に1日timI!する
。生成した白色粉末を 別しアセトンで洗浄した後、減
圧下KIIE婦すると、はば定量的KNNNN’N’N
’−ヘキサメチル−L・−ヘキサンジアンそエクム塩が
得られる。
シリカ源として水ガラス171(和光純JIIII81
0m31188wt%、Na、01 G l! @ w
t%、ル044 !i @ wt%)、アルミナ源とし
て硫酸アルミニウム18水塩*s zl (和光M薬製
特設)、中和剤として硫fillsOj+(和光M桑
製 特設9s%)及び有機アンモ−ラムとして、上記の
如(合成したNNNN’N’N’−ヘヤサメチルーL・
−ヘキサンジアンモニウム塩4&6jlを純水意・・−
に加えゲルを1llII11する。
0m31188wt%、Na、01 G l! @ w
t%、ル044 !i @ wt%)、アルミナ源とし
て硫酸アルミニウム18水塩*s zl (和光M薬製
特設)、中和剤として硫fillsOj+(和光M桑
製 特設9s%)及び有機アンモ−ラムとして、上記の
如(合成したNNNN’N’N’−ヘヤサメチルーL・
−ヘキサンジアンモニウム塩4&6jlを純水意・・−
に加えゲルを1llII11する。
このものの組成はモル比で表わして
Stへ/A40m = 100アンモニウ
ム塩/Si+Aj −α02CH−/ 81+A
j = α20&o /Si+Aj
= zLvOR−/)&0
二 7.IXIG−”であった。
ム塩/Si+Aj −α02CH−/ 81+A
j = α20&o /Si+Aj
= zLvOR−/)&0
二 7.IXIG−”であった。
このグルをsoowJ容ステンレス製オートタレーフに
仕込み、場やかに攪拌し乍ら1・・℃自生針で1週間反
応した。
仕込み、場やかに攪拌し乍ら1・・℃自生針で1週間反
応した。
反応物を取り出しP別した稜純水で洗浄液がS OsU
/ex以下になる迄充分に洗浄し、60℃で一晩乾婚し
て結晶性ゼオライトチpz−sztsgを得た。
/ex以下になる迄充分に洗浄し、60℃で一晩乾婚し
て結晶性ゼオライトチpz−sztsgを得た。
とのテpz−sの組成は酸化物のモル比で表わし て
a @ * RO# (L I
I Nano ; Aj* Oh ;
藝 1 丁81へ;xtsl&0(Rはw、
N、 N、N: N; r−へキサメチル−L−−へキ
サンジアンそニウム基を示す。)又、xma折データは
表−1に、チャートをN−1に示す。
a @ * RO# (L I
I Nano ; Aj* Oh ;
藝 1 丁81へ;xtsl&0(Rはw、
N、 N、N: N; r−へキサメチル−L−−へキ
サンジアンそニウム基を示す。)又、xma折データは
表−1に、チャートをN−1に示す。
表−1
このTPZ−m4オライFを以後Z−1と称する。
尚、空気中SOO℃で12時間加熱しても本気的にこの
X線回折データと同じであり、耐熱性の良い事を示して
いる。
X線回折データと同じであり、耐熱性の良い事を示して
いる。
また表中I/Io II) 11強ピーク(4ssd(
1))を100とした場合の強度の比率(%)を示す(
以下同様である)。
1))を100とした場合の強度の比率(%)を示す(
以下同様である)。
実施例2
#Ik酸をl亀4I、実施例−1で合成した凡ににN:
N; K−へキサメチル−L・−ヘキサンジアンそニウ
ム塩4149使用した以外は実施例1と同様にしてゲル
を胸豊した。
N; K−へキサメチル−L・−ヘキサンジアンそニウ
ム塩4149使用した以外は実施例1と同様にしてゲル
を胸豊した。
このゲルの組成はモル比で表わして
81Ck/AjlO,= 100
アンモニ0ム塩/81+Aj = a o
zOR−/81+Aj = a @
@ m&O/Si+AJ =
意 L 20H−/為0 = 龜×
10′″4であった。11施例1と同様にしてT−P
Z −mを5tsy得た。このものの組成は酸化物のモ
ル比で表わして* s @RO;亀・4 Nag Op
klmへ;1翫281へ;1亀? 1&0 (RはN
、 N、凡ににに−へキサメチル−L・−ヘキサンジア
ンモニウム基な示す)であった。
zOR−/81+Aj = a @
@ m&O/Si+AJ =
意 L 20H−/為0 = 龜×
10′″4であった。11施例1と同様にしてT−P
Z −mを5tsy得た。このものの組成は酸化物のモ
ル比で表わして* s @RO;亀・4 Nag Op
klmへ;1翫281へ;1亀? 1&0 (RはN
、 N、凡ににに−へキサメチル−L・−ヘキサンジア
ンモニウム基な示す)であった。
X*a折データとチャートを表−3、図−冨に示すが、
その絶対強度から実施例−1で得られたTPZ−8より
純度は低いであろう。
その絶対強度から実施例−1で得られたTPZ−8より
純度は低いであろう。
ここで得られた’rpz−szオライドを以後2−意と
称す。
称す。
尚、実施例1と同様に$・0℃で熱I&珊してもX線回
折データは変わらず耐熱性の良い事を示している。
折データは変わらず耐熱性の良い事を示している。
実施例3
シリカ源としてシリカゾル(触媒化成製カターイド8−
31)L 810m30wt%)100174ミナ源
としてフルミンーンータ゛(和光純薬製NatO; A
40s =L66 : s ) 12 yjlOH−諒
ととして苛性ソーダ(和光脚条製 特kists%)4
1@j、有機アンモニウムとして実施?111で合成し
たK N、 N、 N: N; N;−ヘキサメチル−
1,6−ヘキサンジアンモニウム塩tiiy、更Kg化
剤として硫酸ソーダlO水塩(和光14桑製 脣級)3
・lを純水1s〇−に加え、ゲルなiJ4mする。
31)L 810m30wt%)100174ミナ源
としてフルミンーンータ゛(和光純薬製NatO; A
40s =L66 : s ) 12 yjlOH−諒
ととして苛性ソーダ(和光脚条製 特kists%)4
1@j、有機アンモニウムとして実施?111で合成し
たK N、 N、 N: N; N;−ヘキサメチル−
1,6−ヘキサンジアンモニウム塩tiiy、更Kg化
剤として硫酸ソーダlO水塩(和光14桑製 脣級)3
・lを純水1s〇−に加え、ゲルなiJ4mする。
このゲルの組成は
SSへ/Aノ、へ = 100アンモニウム
塩/8i+Aj = α020H″″/8i+
Aj = ag。
塩/8i+Aj = α020H″″/8i+
Aj = ag。
ルO/81+*j = 2 400
H/HIO= a 4 X IG−”であった。
H/HIO= a 4 X IG−”であった。
これを実施例1と同様にしてTPZ−NsILoltを
得た。これを−・O℃6時間焼成したものの組成は無水
の状態で酸化物もモル比で表わしてL l I Nan
o tム1mos ; ?、・参siへであり、#!
−s、@−5KX−目折データとチャートを示す・ ここで得られた’rpz−sゼオライトを以後2−3と
称す。
得た。これを−・O℃6時間焼成したものの組成は無水
の状態で酸化物もモル比で表わしてL l I Nan
o tム1mos ; ?、・参siへであり、#!
−s、@−5KX−目折データとチャートを示す・ ここで得られた’rpz−sゼオライトを以後2−3と
称す。
実施v44
シリカ源としてシリカゾル富1・I、アルミナ源として
硫酸アルミニウム18水塩1N661OH−源として苛
性ソーダ1&89p、有機アンモニウム源としてIIJ
、団「−テトラメチル−1,@−ヘキサンジアミン60
9、ヨウ化メチル級9I及び純水5ooyよりゲルを1
贅した。
硫酸アルミニウム18水塩1N661OH−源として苛
性ソーダ1&89p、有機アンモニウム源としてIIJ
、団「−テトラメチル−1,@−ヘキサンジアミン60
9、ヨウ化メチル級9I及び純水5ooyよりゲルを1
贅した。
このものの組成は、モル比で表わして
S i Ox/ Alt Os 二 50
7ンモニウム塩/ = α02 フ OH″″/81+Aj = a s u
九O/81+Aj = 2 & 90H”−
/)&0 = ム5 X 1 0−”であ
った。
7ンモニウム塩/ = α02 フ OH″″/81+Aj = a s u
九O/81+Aj = 2 & 90H”−
/)&0 = ム5 X 1 0−”であ
った。
このゲルを17容ステンレス製オートクレーブに仕込み
橋やかに し乍ら1,60℃自生圧に工1週間反応し
た。
橋やかに し乍ら1,60℃自生圧に工1週間反応し
た。
反応物を取り出し 別した後、純水で洗浄液が!I @
ds’x以下になる迄洗浄し60℃で乾燥し、ゼオラ
イトI 1.5 jlを得た。
ds’x以下になる迄洗浄し60℃で乾燥し、ゼオラ
イトI 1.5 jlを得た。
このゼオライトは図−4及び#!−4に示すX−−折−
を持ち、TPZ−sであった・ 又このゼオライトを分析した所 HLN藤% C181% N 11i% を含南し、CとHの比は甑17o(理論値(L194)
であった。
を持ち、TPZ−sであった・ 又このゼオライトを分析した所 HLN藤% C181% N 11i% を含南し、CとHの比は甑17o(理論値(L194)
であった。
ここで祷られたTPZ−3ゼオライトを以後2−4と称
す。
す。
i−4
実施例S
シリカ源として水ガラス(和光純am 810mN
l 24 vt%、 Nano 17.l @ vt
%、ho4−z&#4 @ vt%)181851.フ
ルjす源として硫酸アルミニウムls水塩霊・・l、中
和剤として硫酸−1##、鉱化剤として塩化ナトリウム
mQOI、有機アンモニウム源としてN、 N、に「−
デトラメチルーL@−ヘキサンジアミン1llj、肩つ
化メチルi・7j及び純水1・jよりゲルを調整した。
l 24 vt%、 Nano 17.l @ vt
%、ho4−z&#4 @ vt%)181851.フ
ルjす源として硫酸アルミニウムls水塩霊・・l、中
和剤として硫酸−1##、鉱化剤として塩化ナトリウム
mQOI、有機アンモニウム源としてN、 N、に「−
デトラメチルーL@−ヘキサンジアミン1llj、肩つ
化メチルi・7j及び純水1・jよりゲルを調整した。
このものの組成はそル比で嵌わして
81へ/A4,0. =、、 S・アン毫ニ
ウム埴/81+ムj= 亀・ −60H78l +
Aj = 亀l・H,0/81+ムJ
= ma@OH/ &0 : l
l X 1 @−”であった。
ウム埴/81+ムj= 亀・ −60H78l +
Aj = 亀l・H,0/81+ムJ
= ma@OH/ &0 : l
l X 1 @−”であった。
このゲルを3・I容ステンレス製オートタレープに仕込
み、穏やかKll科し乍ら凰6・℃自生計で1週間反応
した。
み、穏やかKll科し乍ら凰6・℃自生計で1週間反応
した。
反応物を取り出しr別した後硫水で洗浄液がis^U/
am 以下になる迄洗浄し@O℃で一晩乾燥した。こ
のものは1董L2kgであり、図−1表−iに示すX線
回折図より、TPZ−3である導が分かった。
am 以下になる迄洗浄し@O℃で一晩乾燥した。こ
のものは1董L2kgであり、図−1表−iに示すX線
回折図より、TPZ−3である導が分かった。
このゼオライトの組成は、*化物の対比で表わしてL2
6RO;(121Na*O;AhOi ;4jLO1
Sing; t 7 S 5 hoであり、構出された
CとNの比は儂167であった。ここで祷られたTPZ
−3ゼオライトを以41X−Iと称す。
6RO;(121Na*O;AhOi ;4jLO1
Sing; t 7 S 5 hoであり、構出された
CとNの比は儂167であった。ここで祷られたTPZ
−3ゼオライトを以41X−Iと称す。
壽 −S
実施例6
シリカ源として水ガラス(和光紬薬製s1へ* L R
4wt%、 NO* 017.30 vt%)&o4
亀4・wt%)it4iIi、アルミナ諒として硫酸ア
ルミニウム18水塩167J、中和剤として硫酸5os
Ii、鉱化剤として塩化ナトリウム6G(II。
4wt%、 NO* 017.30 vt%)&o4
亀4・wt%)it4iIi、アルミナ諒として硫酸ア
ルミニウム18水塩167J、中和剤として硫酸5os
Ii、鉱化剤として塩化ナトリウム6G(II。
有機アンモニウム味としてN、N、凡′N′−テトラメ
ルーL6−ヘキサンジアミン341jl、ヨウ化メチル
暴71JI及び純水107よりゲルtMlIした。
ルーL6−ヘキサンジアミン341jl、ヨウ化メチル
暴71JI及び純水107よりゲルtMlIした。
このものの組成はEnで表わして
siへ/ himへ = 911
6アンモニウム塩/8i+A1 = ao y
eoH−/ 8i+aj = (L
t o 。
6アンモニウム塩/8i+A1 = ao y
eoH−/ 8i+aj = (L
t o 。
&0/81+ムj = 2am0H−
/ H,0= 7.6 X s O−3で・あっ
た。
/ H,0= 7.6 X s O−3で・あっ
た。
このゲル120j容ステンレス製オートクレーブに仕込
み、橋やかに攪拌し乍・ら、1@o℃自生圧で1透間反
応した。
み、橋やかに攪拌し乍・ら、1@o℃自生圧で1透間反
応した。
反応物を取り出し、f別した後、純水で洗浄波がS・J
O/1以下になる迄洗浄し60℃で一晩乾燥した。この
ものは重量L3ゆであり1il−S及び表−6に示すX
*a折図よりTPZ−1である事が分った。
O/1以下になる迄洗浄し60℃で一晩乾燥した。この
ものは重量L3ゆであり1il−S及び表−6に示すX
*a折図よりTPZ−1である事が分った。
このゼオライトの組成は酸化物のEwa比で表わして
L 6 S RQ ; a畠INaaOt Al
*Oap @4@08101;117・HrO であり検出されたCとNの比はal?1であった。
*Oap @4@08101;117・HrO であり検出されたCとNの比はal?1であった。
ここで得られたTPZ−sゼオライトを以後2−6と称
す。
す。
夷−例7
シリカ源としてシリカゾル4に#、アルミナ源として硫
酸アル1ニウム18水塩冨・・I、中和剤として苛性ソ
ーダ*xz1t、有1)7ンモニウム源とlcK凡N′
凡′−テトラメチル−L・−へキ97ジ7ミン1ssj
、Wつ化メチル5tay及び純 ”水龜17よりゲル
を鉤肇した。このものの組成はモルで表わして 81へ/ムl*へ ! Ialアンモニウム塩
/81+ムI = 亀10・on−/’s i+ムj
W 11・・ル0/81+AJ
= 8亀:OH/ 81+AJ = l
l X * @−”であった。
酸アル1ニウム18水塩冨・・I、中和剤として苛性ソ
ーダ*xz1t、有1)7ンモニウム源とlcK凡N′
凡′−テトラメチル−L・−へキ97ジ7ミン1ssj
、Wつ化メチル5tay及び純 ”水龜17よりゲル
を鉤肇した。このものの組成はモルで表わして 81へ/ムl*へ ! Ialアンモニウム塩
/81+ムI = 亀10・on−/’s i+ムj
W 11・・ル0/81+AJ
= 8亀:OH/ 81+AJ = l
l X * @−”であった。
このゲルを3・j8オートクレーブに仕込み、穏やかに
攪拌し乍らl・・℃自生圧で1遍間属応した。
攪拌し乍らl・・℃自生圧で1遍間属応した。
反応物を織り出Lf”別した後純水!洗浄箪がi @
Jlo /傷以下になる迄洗浄し、・・℃で一晩乾Mし
た。
Jlo /傷以下になる迄洗浄し、・・℃で一晩乾Mし
た。
このものは重量L4klであり図−マ及び表−7に示す
X11回折園より’rpz−sである事が分つ辷。
X11回折園より’rpz−sである事が分つ辷。
このゼオライトの組成は酸化物のモル比で表わして
L 2 s RO; α 1 7 Nag O#
Al* Os g 4 a I 8810
m # 4L 82 HrO であり検出されたCとNの比はα159であった。
Al* Os g 4 a I 8810
m # 4L 82 HrO であり検出されたCとNの比はα159であった。
ここで得られたTPZ−3ゼオライトを以後2−7と称
す。
す。
シリカ源にシリカゾル、アルミナ源に硫酸アルミニウム
1$水塩、 OH−源に苛性ソーダ、アンモニウムとし
て実施例1で合成したN N N N N’N’N’−
へキサメチル−L・−ヘキサフジ1ンモニタム塩を使用
してくり返し合成した結果な実施例1〜7と併せて表−
8に示す。
1$水塩、 OH−源に苛性ソーダ、アンモニウムとし
て実施例1で合成したN N N N N’N’N’−
へキサメチル−L・−ヘキサフジ1ンモニタム塩を使用
してくり返し合成した結果な実施例1〜7と併せて表−
8に示す。
実施例17−鵞・
シリカ源に水ガラス、アルミナ源に硫酸アルミニウム1
8水塩、中和剤に硫酸、アンモニウムとして実−例1で
合成したに凡凡凡′凡′N′−ヘキサメチル−L・−ヘ
キすンジアンモニウム塩、テトラメチルアンモニウム塩
、 (Mj4NCj として表中に表示した)、テト
ラエチル7ンモニウム塩(It4NCjまたは1eta
NBrとして表中に表示した)、及び種として実施例4
で得られたTPZ−1を使用してくり返し合成した結果
な1llk示す。
8水塩、中和剤に硫酸、アンモニウムとして実−例1で
合成したに凡凡凡′凡′N′−ヘキサメチル−L・−ヘ
キすンジアンモニウム塩、テトラメチルアンモニウム塩
、 (Mj4NCj として表中に表示した)、テト
ラエチル7ンモニウム塩(It4NCjまたは1eta
NBrとして表中に表示した)、及び種として実施例4
で得られたTPZ−1を使用してくり返し合成した結果
な1llk示す。
但し表中
n s KNにべ′に′N′−ヘキサメチルーL6−
ヘキサンジアンモニウム塩 DB8Na ;ドジデシルペンインスルホン酸すトリウ
ム *; シ菅カゾル、アルミン酸ナトリクム。
ヘキサンジアンモニウム塩 DB8Na ;ドジデシルペンインスルホン酸すトリウ
ム *; シ菅カゾル、アルミン酸ナトリクム。
苛性ンー〆を使用
を意味する・
実施例87
TPZ−i(Z−i)*ijをWOO℃、6時間焼成し
た後、塩化アンモニウム1・%水溶液10@114で還
流下にイオン交換してアンそニク装置とE拳*再度乾燥
後電気マツフル炉でs o @’C16時間焼成して、
水素11TPZ−R4−得た。以後これをR2−iと称
す、同様にして各種TPZ−IKついてイオン交換した
。イオン交換後のナトリウム含有量は表−1・に示す如
く、極めて低く、はぼ完全にイオン交換されている事を
示している。
た後、塩化アンモニウム1・%水溶液10@114で還
流下にイオン交換してアンそニク装置とE拳*再度乾燥
後電気マツフル炉でs o @’C16時間焼成して、
水素11TPZ−R4−得た。以後これをR2−iと称
す、同様にして各種TPZ−IKついてイオン交換した
。イオン交換後のナトリウム含有量は表−1・に示す如
く、極めて低く、はぼ完全にイオン交換されている事を
示している。
又、この鰐−丁pz−sのx*a折は台々イオン嶌11
1t、蜂本±1的に同じで、1・℃で熱縄膳しても不変
であった。 比較例として/特会昭46−1・064号
公報記載の方法に従って合成した28M−1の結果も併
せて記載する。
1t、蜂本±1的に同じで、1・℃で熱縄膳しても不変
であった。 比較例として/特会昭46−1・064号
公報記載の方法に従って合成した28M−1の結果も併
せて記載する。
表−10
実施例2薯
実施例27で得られた粉末状の種々のH−TPZ3な付
着水分を除くために+io’cs時間空気囲気下電気マ
ツフル炉中で焼成した後約IJIを量びんに秤量した0
次いで秤量したゼオライト被吸着溶媒を入れたデシケー
タ中に於てZSO12・±go■Hgの減圧下で6時間
放置する事よって被吸着物質を飽和吸着させた0次いで
。
着水分を除くために+io’cs時間空気囲気下電気マ
ツフル炉中で焼成した後約IJIを量びんに秤量した0
次いで秤量したゼオライト被吸着溶媒を入れたデシケー
タ中に於てZSO12・±go■Hgの減圧下で6時間
放置する事よって被吸着物質を飽和吸着させた0次いで
。
フケ−ター中の該被吸着溶媒を除去し更に:5120±
20mH1の減圧下で2時間排気し、再呼量した。ゼオ
ライトの被吸着物質に対する数量は次のように求められ
る。
20mH1の減圧下で2時間排気し、再呼量した。ゼオ
ライトの被吸着物質に対する数量は次のように求められ
る。
@Ill (I −
u : X 1 @・(%)
―l
二でV(%)ゼオライト単位量量当りの吸着量−て定義
され、−及び−は夫々吸着前後のゼオイト重量を表わす
。
され、−及び−は夫々吸着前後のゼオイト重量を表わす
。
(rO、EB 、 PM 、 OX 、 M −ヘキサ
ン、シクρヘキノについて得られた各吸着量とM−ヘキ
サン。
ン、シクρヘキノについて得られた各吸着量とM−ヘキ
サン。
5pヘキサン1lll比(善C−ヘキサン/ 優11−
ヘキサン)を比較例と併せて表−11に纒める。
ヘキサン)を比較例と併せて表−11に纒める。
実施例29
A; 各ym H” −T P Z −3ヲヘL/ 7
) 化シ、10〜20メツシユに粒度−節し【触媒ム
ー五〜A〜Sを得た。
) 化シ、10〜20メツシユに粒度−節し【触媒ム
ー五〜A〜Sを得た。
B; 各種鰐−T P Z −3と褥重1のりρマドグ
ラフ用アルミナゲルで充分混合したものをペレット化し
、10−20メツシユに粒度調節して触媒B−1〜トl
を得た。
ラフ用アルミナゲルで充分混合したものをペレット化し
、10−20メツシユに粒度調節して触媒B−1〜トl
を得た。
表−目
実施例30
実施例29で得られた触媒を電気マンクル炉中空気 −
気下450℃で8時間活性化した。この触媒&Ogを熱
電対を挿入した160φのガラス製反応管に光填しJI
II囲よりニクロム−ヒーターにて加温し所望する温肢
で常圧下に混合キシレンなフィードしてキシレンの其性
化反応を打なった。
気下450℃で8時間活性化した。この触媒&Ogを熱
電対を挿入した160φのガラス製反応管に光填しJI
II囲よりニクロム−ヒーターにて加温し所望する温肢
で常圧下に混合キシレンなフィードしてキシレンの其性
化反応を打なった。
−フィードする混合キシレンはトルエンα5 ut%エ
チルベンゼン1su1%バラキシレン8u&%メタキシ
レン+オルトキシレン7友h Nr%を含有した。
チルベンゼン1su1%バラキシレン8u&%メタキシ
レン+オルトキシレン7友h Nr%を含有した。
結果は表14に示す。尚触媒A−4を使用した時の各特
性値の経時変化を図−8に下すがキシレンの異性化活性
は極めて高く又、長時゛関通油してもその劣化は少ない
事を示している。
性値の経時変化を図−8に下すがキシレンの異性化活性
は極めて高く又、長時゛関通油してもその劣化は少ない
事を示している。
ここで
キシレン中のPX平衡一度 −
フィードのキシレン中のPX濃度
フィード中のキシンン濃度
フィード中のEB虐度
100
但し式中の各製置は重量パーセントな懺ゎす。
実施例s1
触媒A−6を用いsm例3oと同様にキシン/の真性化
反応を行なった。WH8V=4HR””で混合キシレン
を通油したまま類火4o・℃、ns1℃、<66’CK
昇亀し、6日間経続した。
反応を行なった。WH8V=4HR””で混合キシレン
を通油したまま類火4o・℃、ns1℃、<66’CK
昇亀し、6日間経続した。
結果は図−参に示す如く、極めて高いキシレンの14性
化活性を維持しているが、−次昇温する参により、それ
を−更に上げる事が可能である。その間、不均化・トラ
ンスアルキル化活性は安定し【おり、この条件に於て、
昇温による上昇はそれ程太き(はない。
化活性を維持しているが、−次昇温する参により、それ
を−更に上げる事が可能である。その間、不均化・トラ
ンスアルキル化活性は安定し【おり、この条件に於て、
昇温による上昇はそれ程太き(はない。
実施例32
触媒A−1を用い実施例3oと同様に+シレンの異性化
反応を行なった。最4nS時間はプルピルアミン1%を
含有する混合キシレンを通油した後、アミンな含まない
混合キシレンを通油した。その18時間彼の結果な、こ
の様な処理な施さな(・比較例と併わせで表−]sK示
す。
反応を行なった。最4nS時間はプルピルアミン1%を
含有する混合キシレンを通油した後、アミンな含まない
混合キシレンを通油した。その18時間彼の結果な、こ
の様な処理な施さな(・比較例と併わせで表−]sK示
す。
表−目
アミン通油吟咳点を被 する事により、キシレンの異性
化活性を実質的に落とさずに、不均化・トランスフルキ
ル化活性を低下さす事が可能である。
化活性を実質的に落とさずに、不均化・トランスフルキ
ル化活性を低下さす事が可能である。
実施例s3
触mA−6を、ムirをキャリヤーガスとして60@’
CWH8Va44HRで4s時間スチーミング処履を行
なった。スチーミング処理したものを触媒とし【キシレ
ンの異性化反応を行なった結果を、スチーミンダ感履を
行なわなかった比較例と併せて表−16に示す、この結
果、スチーミング処理により、実質的にキシレンの異性
化活性な落とすことなく、不均化・トランスアルキル化
活性を低下さす事が可能である事が分かる。
CWH8Va44HRで4s時間スチーミング処履を行
なった。スチーミング処理したものを触媒とし【キシレ
ンの異性化反応を行なった結果を、スチーミンダ感履を
行なわなかった比較例と併せて表−16に示す、この結
果、スチーミング処理により、実質的にキシレンの異性
化活性な落とすことなく、不均化・トランスアルキル化
活性を低下さす事が可能である事が分かる。
実施例34
実施ガ29で得られた触媒を電気マツフル炉中空気常囲
気下450℃にて8時間焼成した憬ガラス製反応管に充
填した。光いで吸収ビンに入れた25℃のへキサンの中
を音素ガスを超過させた後の簡和ガスK (Pvtx&
ne w 02 atn )をpB媒床に供細した。
気下450℃にて8時間焼成した憬ガラス製反応管に充
填した。光いで吸収ビンに入れた25℃のへキサンの中
を音素ガスを超過させた後の簡和ガスK (Pvtx&
ne w 02 atn )をpB媒床に供細した。
反応度はへキサンの転化率が5〜4070の範囲になる
ように―節した。ここでヘヤサン転化率を次の様に定義
する。但し、フィードしたヘキサンには少なくともM−
ヘキサンを11070以ヒ含むC卜(ラフインである。
ように―節した。ここでヘヤサン転化率を次の様に定義
する。但し、フィードしたヘキサンには少なくともM−
ヘキサンを11070以ヒ含むC卜(ラフインである。
00
フィード開#後10分−20分の間プロダクトをサンプ
リングしてガスクルマドグラフィーにて分析した。
リングしてガスクルマドグラフィーにて分析した。
各反応一度に於る反応速度定数は次のように算出した。
に=(’)jn−
τ 1−1fi
ここでk (S@eす; 速度定数
E ; ヘキサン転化率
尚、上記へキサン転化率は反応温度*so℃〜SSO℃
、接触時間1〜20秒で達成された。
、接触時間1〜20秒で達成された。
該触媒のクラッキング活性の指橡とし【、上記反応速度
定数が1sとなる温度で表わしたタランキング・インデ
ックX (Craklmg Ind@x)を表−17に
纏め丸。
定数が1sとなる温度で表わしたタランキング・インデ
ックX (Craklmg Ind@x)を表−17に
纏め丸。
*集施例!1の比較例で得られたもの
*本日揮化学(株)IlK
図−1〜図−7は、それぞれ実施例1〜7で得られたT
PZ−3のX線回折チャートな示したものであり図の番
号と実施例の番号とは互に1歓している。 図−8は実施例30におけるPX平嚢刺達率(%)、キ
シレンロス、およびエチルベンゼン消失率を経時的に示
したものである。 図−9は、冥施例31におけるPX平慟飼違率(%)、
キシレンジスおよびエチルベンゼン消失率を経時的に示
したものである。
PZ−3のX線回折チャートな示したものであり図の番
号と実施例の番号とは互に1歓している。 図−8は実施例30におけるPX平嚢刺達率(%)、キ
シレンロス、およびエチルベンゼン消失率を経時的に示
したものである。 図−9は、冥施例31におけるPX平慟飼違率(%)、
キシレンジスおよびエチルベンゼン消失率を経時的に示
したものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、下記式 (11 で表わされる組成を有し、かつ下記 lLz±a5 中位〜強い 19土aS 中位#−強い 4L−7±a1 中位 433±a1 非常に111Iい402±al
l 強い〜非常に強い1ilS±&(Is
中位λ72±α05 #い〜中位 144±α04 @い〜強い 133±α04 @い〜強い λ28±(103中位 の値で負負上表わされるxmm格子間間を有する結晶性
アルミ/シリケートゼオライト。 2 鋏Mが水系イ才/及び金属イオンから遺ばれるMl
sA配絨の結晶性アルミ/シリケートゼオライト。 1 金属イオンが周期律表の第1族、第[L票鳳族及び
票1族の金属から選ばれる金属イオンである@2項配蛎
の結晶性アルミノシUケートゼ、オライド。 4 咳Mが水素イオン並びに周期律表の凧lム族、#I
IIム族及び菖JIB族の金員から過ばれる金属イオン
から選ばれる181項記載の結晶性アルミノシリケート
ゼオライト。 翫 該5がα9から3の範囲の数である纂1項記−の結
晶性アルミノシリケートゼオライシ。 亀 該νがlOへλ000の範囲内の数である第131
記載の結晶性アルミノゼオライト。 7.#νがio〜SOOの範囲内の数である萬6項記載
の結晶性アル虐ノシリケートゼオライト & シクρヘキサン/%−ヘキサ/ネ吸着比手(sor
ptioi+ ratlりがα95を越えない第1項記
rati・)がa1〜α9sの範囲内にある第−項記或
の結醜性フルR/シリケートゼオライF01a 水溶
性アルカリ金属化4舎一、 uw、N、W、W、N′−
ヘキサメチル−L6−ヘキサ/ジアン毫ニウム化合物、
反応条件下にシリカを与える化合物、反応条件下にアル
4すな与える化合物及び水を混合するととにより得られ
る、上記各化合物を反応1合物中の下記成分のモル比で
表わして下記のモル比: aso、/ムt、o、 = t o〜スoo。 R/(Ill+ムA)=lX10−4〜Kell−/(
11+AA)= I X 1 G−’ 〜1.5HIQ
/(81+At)= 5〜1000H”−/H,O=
I X 1 0−’ 〜l X J O−”を与
えるような割合で含有する混合eljな、少なくとも8
0℃の温度において結晶が生成するのに充分な時間維持
し、生成する結晶性フルミノシリフートゼオライトを必
I!に応じて他の陽イオンとのイオン交換反応に付する
ことな特徴とするI−/・項に記載した結晶性フル1ノ
シリ°ケートゼオ?イトの製造方法。 目2 #−合物が上記各化合物な反応混合物中の下記成
分のモル比で表わして下記のモル比:810、/At、
O,= 10〜50GR/(81十At) =5
X I Q”’4〜6.50ti7(81+At
)= I X 1 G−” 〜IH,0/(Si+At
) := 10〜50on7n、o = t x
1o−L−s x 1 (1−1’(ただしRは萬lo
項において定義したとおり)を与えるような割合で含有
する第131記載の方法。 12.100〜200℃の温度において反応を行な5第
10項記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56205226A JPS58110419A (ja) | 1981-12-21 | 1981-12-21 | 結晶性アルミノシリケ−トゼオライト及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56205226A JPS58110419A (ja) | 1981-12-21 | 1981-12-21 | 結晶性アルミノシリケ−トゼオライト及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58110419A true JPS58110419A (ja) | 1983-07-01 |
Family
ID=16503491
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56205226A Pending JPS58110419A (ja) | 1981-12-21 | 1981-12-21 | 結晶性アルミノシリケ−トゼオライト及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58110419A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6013722A (ja) * | 1983-07-05 | 1985-01-24 | Teijin Yuka Kk | エチルベンゼンの異性化方法 |
DE112007003647T5 (de) | 2007-09-05 | 2010-10-14 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Verfahren zur Trennung und Herstellung von Cyclohexen |
WO2013008637A1 (ja) | 2011-07-12 | 2013-01-17 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | シクロヘキサノール、シクロヘキサノールの製造方法及びアジピン酸の製造方法 |
-
1981
- 1981-12-21 JP JP56205226A patent/JPS58110419A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6013722A (ja) * | 1983-07-05 | 1985-01-24 | Teijin Yuka Kk | エチルベンゼンの異性化方法 |
JPH0365328B2 (ja) * | 1983-07-05 | 1991-10-11 | ||
DE112007003647T5 (de) | 2007-09-05 | 2010-10-14 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Verfahren zur Trennung und Herstellung von Cyclohexen |
US8237005B2 (en) | 2007-09-05 | 2012-08-07 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Method for separating and producing cyclohexene |
WO2013008637A1 (ja) | 2011-07-12 | 2013-01-17 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | シクロヘキサノール、シクロヘキサノールの製造方法及びアジピン酸の製造方法 |
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