JPS58106860A - 液晶表示装置 - Google Patents

液晶表示装置

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JPS58106860A
JPS58106860A JP20488281A JP20488281A JPS58106860A JP S58106860 A JPS58106860 A JP S58106860A JP 20488281 A JP20488281 A JP 20488281A JP 20488281 A JP20488281 A JP 20488281A JP S58106860 A JPS58106860 A JP S58106860A
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JP
Japan
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thin film
film transistor
thin
matrix substrate
gate line
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JP20488281A
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English (en)
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JPH0239103B2 (ja
Inventor
Koichi Oguchi
小口 幸一
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Seiko Epson Corp
Suwa Seikosha KK
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Suwa Seikosha KK
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/12Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body

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  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Formation Of Insulating Films (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、薄膜トランジスタマトリックス基板に関する
4のである。さらに本発明は薄膜トランジスタマトリッ
クス基板における構造に関するものである。
薄膜トランジスタに関する研究は、現在、大量生態され
ている単結晶シリコンを用い大半導体集積1路素子よ)
も歴史が古いにもかかわらず、その41性O不安定性及
び信珈性が低い九めに今日においても企業化されていな
い。しかし、単結晶シリコンを用い大半導体集積回路素
子が単結晶シリコンの大きIIK制約されて大面積化が
難かしいのに対し、薄膜トランジスタは、ガラス等の絶
縁基板上に形成されるため、大面積化が容易であるため
に1平面ディスプレイのアクティブマトリックス基板と
して最近その開発がさかんに行なわれる*になって来九
。薄膜トランジスタの半導体材料は、従来のCd8−等
の化合物半導体から、ポリシリコンあるい祉アモルファ
スシリコン等に変わって来ており、シ九がうて薄膜トラ
ンジスタの特性の不安定性中信頼性の問題もかな〕改善
されて来ている。
一方液晶デイスプレイは、低電圧振動で低消費電力であ
ると共に、小WOWが容易であるために時針、電卓等の
ディスプレイとして定着している。
前後は表示容量の大きな液晶ディスプレイの開発が望ま
れる。その丸めの一つの方法として、各画素にアクティ
ブ素子(例えばダイオード、バリスタ、トランジスタ)
を配置して液晶を駆動するいわゆるアクティブマトリッ
クス駆動方式がある。
アクティブ素子として薄膜トランジスタを用いたものは
、大面積化が容易であるため、大容量液晶本発明は、薄
膜トランジスタを用いた大容量液晶ディスプレイの基板
に関するものである。従来の大容量液晶ディスプレイ用
の薄膜トランジスタアクティブマトリックス基板の断面
構造、平面図及び絹路間を第1図に示す。第1図のla
lは断面構造図である0g&Iは平面図であp、(e)
は回路図である。国1&1のムム1で結ばれ九2点鎖線
の断面が図1alである0図中01は、ソーダガラスあ
るいは石英等Oa明ガラス基板である。2は薄膜トラン
ジスタのチャンネル部分、3及び4は薄膜トランジスタ
のソース拡散領域あるいはドレイン拡散領域である。2
〜40領域はポリシリ;ンで構成してもよいし、またア
モルファスシリコンで構成してもよい、!iは電圧保持
用コンデンす−の一方の電極となる導電薄膜であ〉、例
えばドープドポリシリコン膜等で構成される。6は薄膜
トランジスタのダート酸化層、7はゲート電極である。
8は絶縁膜、9紘アル(ニウム勢O金属配線であシ、ま
たlOはa@o、、xto等の導電性透明膜である。
菖1図Lklは、平面図であシ、図中の一点鎖#にて囲
まれ九領域が一画素分に和尚する0図−ml及び161
から4明らかな如く、従来の薄膜トランジスタマトリッ
クス基板は、薄膜トランジスタとコンデンサーにて構成
され九画素回路が一画素を構成している。第1図1sl
は1iii嵩分の回路図である。 11はソースライン
、臣はゲートライン、13は薄膜トランジスタであり、
14は電圧保持用コンデンサーである。15Fi電圧保
持用コンデンサーの共通電極である。16は液晶駆動電
極である。このような従来の薄膜トランジスタマトリッ
クス基板においては、電圧保持用コンデyす−を画素領
域内に構成する九めに、このコンデンサーの一画素領域
において占める面積が大きい場合においては、次Oat
点で大きな問題となる。すなわち、この種の薄膜トラン
ジスタマトリックス基板を液晶表示パネル用基板として
用いる場合、薄膜トランジスタマトリックス基板上では
、光を遮る部分を少なくすることが望ましい。もし光を
遮る部分が多いと、液晶表示パネルは受光型表示パネル
である九めに暗い表示となってしまう。従来の1IIl
IIトランジスタマトリツクス基板は、第1図(610
平面図においても明らかな如く、電圧保持用コンデンサ
ーが一画素領域のか1にルの部分を占る九めに1液晶表
示パネルに用い友場合、暗い表示となってしまう。コン
デンサー電極として透明導電機を用いれば良いが製造工
1iIがかな)長くな〉コスト高となる。
本発明社かかる従来の薄膜トランジスタマトリックス基
板O欠点を解決する九めに発明され九本のであ〉、その
異体的な実施例を第2図に示す。
第3g(tXlは本発明による薄膜トランジスタ!トリ
ツタス基板上〇一画素領域(一点鎖纏にて囲壕え九領域
)を示す平面図であ)、第2WA(61は回路図であゐ
、laから明らかな如く、本発明の薄膜トランジスタマ
トリックス基板においては、電圧保持用コンデンを−が
独立に作)込重れていない。すなわち電圧保持用コンデ
ンサーは、薄膜トランジスタOドレイン電極パッドと、
−行手前のゲートフィンとO間O容量にて形成している
。図中の17はゲートツイン、18はソースフィンであ
る。19はドレイン電極パッドであル、薄膜トランジス
タのドレイン電極と接続され九液晶駆動電極である。
図から明らかな如く、ドレイン電極パッド19と、−行
手前のゲートライン17とはオーバー2ツブしてお)、
ζ01sIKはさまれた絶縁膜がコンデンサーの誘電膜
として働く。第2gt&+は勢価回路である。図中の1
1〜13及び16は第1図##1中の番号と対応してい
る。llI中の(至)は本発11による電圧保持用コン
デンサーである。一般Km像表示用のポケットタイプの
液晶表示パネルを考えた場合においては、一画素のサイ
ズは100js0から2001s0となる。このサイズ
は、画像0分解能として決められる値である。し良がう
てこの領域内に薄膜トランジスタを1lljili威す
るkしても出来るだけ薄膜トランジスタの占める面積を
小さくしないと、前述しえ如く、光が遮られて表示が暗
くなる。
仁の様な理由からゲートツインにしろソースラインにし
ろ出来るだけ細いラインとして構成することKなる0例
えばlO〜20 s wの幅が適轟であろう。
しかし今、仮シにゲートラインの幅を10 J sとす
ると、一つO画素サイズが2001stn0の場合には
、ドレイン電極パッドとゲートラインのオーバーラツプ
面積は2000J1m”となシ、従来の840sc例え
ば気相成長法による)にてIJImの絶縁膜を用い九場
合、電圧保持用コンデンサーの容量は約0.06PFと
なシ液晶を16 m 鱈の時間駆動するKa不十分とな
る。液晶を16mmg、(テV画像表示O場合において
はフレーム周期紘約1614 l!1eである。)の開
駆動するのに必要な電圧保持用コンデンサーの容量は、
薄膜トランジスタ□oyy時09−り電流に依存するが
約1.0Pνは必要である。
本幾$10他01!施例は、従来配線間の絶縁膜として
多く用いられていえ1i(OsO代nK4−pと誘電率
O高い絶縁膜を用いるととkよ多電圧保持用コンデンサ
ーの容量を高めることKある。例えば−電率が約100
Y冒0.を用いると、8(0,の誘電率03僑O審量が
得られ、ま九誘電率がそれぞれ、2及び鉛の!al’i
及び!(Osを用いた場合に紘、中紘)同じ膜厚及び同
じ面積で10倍及び30倍の容量が得られる。し九がっ
てゲートラインとドレイン電極パッドの間の絶縁膜を1
t(o■から、”101@ ”al’lあるいは!(O
sK変えるだ1で、大きな容量をもつ電圧保持用コンデ
ンサーが構成出来る。仁の電圧保持用コンデンサーの容
量が大きいと、液晶表示パネルの一画素を駆動する実効
電圧が大きく表る九めに1コントラストが高く、シかも
階調表示も十分な表示品質をもつ液晶パネルが実現出来
るため、本発明は、画像表示用液晶ディスプレイの駆動
基板として、大変有望である。
第3図は本発#4による他の実施例を示す。前実施例に
おいては、電圧保持用コンデンサーの容量を大きくする
ために1絶縁yao膜厚及び面積を変えずに1誘電率の
高い絶縁膜を用いることに特徴があり九が本実施例にお
いて祉、ホトプロセスを一工程導入することkよ〉、絶
縁膜の膜厚を薄くして容量を大金くしているとζろに4
1黴がある。
第3図中の4が、ホトエツチングによりて局部的に薄く
し九容量部分である。例えば電圧保持用コンデンサーO
S積は2000ns” として絶縁膜をS(O,とし、
膜厚を600Xとすると容量は1.011となる。
本Il明は以上の実施例において説明し九如く、薄膜ト
ツンジスータ!トリックス基板において、薄膜Fツンジ
スタOドレイン電極パッドと、−行手前のゲートツイン
とが容量的に結合し、電圧保持用コンデンサーとしたこ
とを特徴とし、この電圧保持用コンデンサーの容量を大
きくするために1霞電率oI4い絶縁膜を用いることを
41像とした薄膜トランジスタマトリックスに関するも
のであシ液晶表示用基板として大東有望である。
m1lIO簡単*5iv4 菖l閣は従来O薄膜トランジスタマトリックス基lll
01111閣、第2図及び第3閣紘本発明による薄膜ト
ランジスタマトリックス基板の平面図及び−路■。
1:#jXIN 意:薄膜トランジスタのチャンネル部 3:薄膜トランジスタのソース拡散領域4:薄膜トラン
ジスタのドレイン拡散領域S:電圧保持用コンデンサー
電極 6:ゲート酸化膜 7:ゲート電極 8:絶縁膜 9:アルZ二りム配線 lO:透明導電膜 11:ソースツイン 12=ゲートライン 13′:薄膜トランジスタ 14:電圧保持コンデンサー 15:電圧保持コンデンナー共通電極 16;液晶駆動電極 17:ゲートライン 18:ソースライン 19 : ilk晶駆動駆動電極レイン電極パッド)2
D:電圧保持用;ンデンサー□ 出願人 株式金社詭訪精工★ (″  第1図 (b) 第2図 2/ 第3図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (11絶縁基徐上に複数個の薄膜トランジスタがマトリ
    ックス状に配置され、#被数側の薄膜トランジスタのゲ
    ート電極を共通にしてゲートラインを構成し、また皺複
    数個の薄膜トランジスタのソース電極を共通にしてソー
    スツインを構成し友薄膜トランジスタマトリックス基1
    iにおいて、該薄膜トランジスタのドレイン電極パッド
    祉、前後のゲートラインに容量的に結合されていること
    を特徴とする薄膜トランジスタマトリックス基11.。 (2)  ドレインパッドとゲートツインの間の絶縁膜
    は、誘電率が10以上の高誘電薄膜にて構成されている
    ことを特徴とする特許請求01111第一項記載の薄膜
    トランジスタマトリックス基板。 (31誘電率が10以上の高誘電薄膜は、Y、O。 ” (’ l OI #ティ0鵞のうちの1つであるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の薄膜トラン
    ジスタマトリックス基板。 C4% 薄膜トランジスタのドレイン電極パッドと、ゲ
    ートラインの間の絶縁膜の少なくとも一部分は他の部分
    と比べて膜厚が薄いことを特徴とする特許請求O範囲第
    一項記載の薄膜トランジスタマトリックス基板。
JP20488281A 1981-12-18 1981-12-18 液晶表示装置 Granted JPS58106860A (ja)

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