JPS58105006A - 回転物体の回転中心位置検出方法 - Google Patents
回転物体の回転中心位置検出方法Info
- Publication number
- JPS58105006A JPS58105006A JP20426081A JP20426081A JPS58105006A JP S58105006 A JPS58105006 A JP S58105006A JP 20426081 A JP20426081 A JP 20426081A JP 20426081 A JP20426081 A JP 20426081A JP S58105006 A JPS58105006 A JP S58105006A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- interference fringe
- measured
- center position
- rotation center
- polarizer
- Prior art date
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/26—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes
- G01B11/27—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes for testing the alignment of axes
- G01B11/272—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes for testing the alignment of axes using photoelectric detection means
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
- Automatic Control Of Machine Tools (AREA)
- Machine Tool Sensing Apparatuses (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は回転物体の回転中心位置を検出するための装
置に関するものである。工作機械において、被加工物の
平面状の加工面を超精密仕上げする場合には、通常その
加工面を工作機械に取付けて回転させ、刃物台に取りつ
けたダイヤモンドパー １ − イト等を加工面の外周部から回転中心部に向けて進める
。而してこのバイト等を加工面の回転中心に向けて正確
に進めるためには、加工面の回転中心位置を検出して、
それを刃物台の制御にフィードバックさせればよいわけ
であるが、この加工面の回転中心位置を検出するための
装置としては未だ満足すべきものを得るに到っていない
。
置に関するものである。工作機械において、被加工物の
平面状の加工面を超精密仕上げする場合には、通常その
加工面を工作機械に取付けて回転させ、刃物台に取りつ
けたダイヤモンドパー １ − イト等を加工面の外周部から回転中心部に向けて進める
。而してこのバイト等を加工面の回転中心に向けて正確
に進めるためには、加工面の回転中心位置を検出して、
それを刃物台の制御にフィードバックさせればよいわけ
であるが、この加工面の回転中心位置を検出するための
装置としては未だ満足すべきものを得るに到っていない
。
この発明は上記のごとき事情に鑑みてなされたものであ
って、レーデドツプラ法を応用して高精度にかつ簡単に
回転面の回転中心を検出する事ができる回転中心位置検
出装置を提供することを目的とするものである。
って、レーデドツプラ法を応用して高精度にかつ簡単に
回転面の回転中心を検出する事ができる回転中心位置検
出装置を提供することを目的とするものである。
この目的に対応して、この発明の回転物体の回転中心位
置検出装置は、レーザドツプラ用干渉縞発生装置と、顕
微鏡、及び干渉縞測定装置とを備え、前記レーザードツ
プラ用干渉縞発生装置によって発生したレーザードツプ
ラ用干渉縞を被測定物の表面に結像させ、前記干渉縞測
定装置によって前記被測定物の表面上の前記レーザドツ
プラ用−２− 干渉縞を測定するように構成した事を特徴としている。
置検出装置は、レーザドツプラ用干渉縞発生装置と、顕
微鏡、及び干渉縞測定装置とを備え、前記レーザードツ
プラ用干渉縞発生装置によって発生したレーザードツプ
ラ用干渉縞を被測定物の表面に結像させ、前記干渉縞測
定装置によって前記被測定物の表面上の前記レーザドツ
プラ用−２− 干渉縞を測定するように構成した事を特徴としている。
以下、この発明の詳細を一実施例を示す図面について説
明する。
明する。
第１図において、１は回転中心位置検出装置である。回
転中心位置検出装置１は干渉縞発生装置２、顕微鏡３、
干渉縞測定装置４を備えている。干渉縞発生装［１２は
レーザ発生装置５を備え、かっレーザ発生装置５からの
レーザの進行方向に順次ミラー６、ビームスプリッタ７
．２個のポラライザ８ａ 、 ８ｂ 、他のポラライザ
９、レンズ１１を備えている。２個のポラライザ８ａ、
８ｂはビームスプリッタ７からの光束Ｆ、、 Ｆ２の光
量を一致させるためのものであり、他のポラライザ９は
ポラライザ８ａ 、 ８ｂを使用したためにＦ、Ｆ光束
に生２ じた偏光状態の相違を一致させるためのものである。顕
微１１３は対物レンズを被測定面に対向させて配設され
る。被測定面１２は工作物の仕上げ面であって、工作機
械のチャック等に挾みつけられて回転するものであり、
これがこの発明の装置に−３− よって回転中心位置を検出しようとする対象物である。
転中心位置検出装置１は干渉縞発生装置２、顕微鏡３、
干渉縞測定装置４を備えている。干渉縞発生装［１２は
レーザ発生装置５を備え、かっレーザ発生装置５からの
レーザの進行方向に順次ミラー６、ビームスプリッタ７
．２個のポラライザ８ａ 、 ８ｂ 、他のポラライザ
９、レンズ１１を備えている。２個のポラライザ８ａ、
８ｂはビームスプリッタ７からの光束Ｆ、、 Ｆ２の光
量を一致させるためのものであり、他のポラライザ９は
ポラライザ８ａ 、 ８ｂを使用したためにＦ、Ｆ光束
に生２ じた偏光状態の相違を一致させるためのものである。顕
微１１３は対物レンズを被測定面に対向させて配設され
る。被測定面１２は工作物の仕上げ面であって、工作機
械のチャック等に挾みつけられて回転するものであり、
これがこの発明の装置に−３− よって回転中心位置を検出しようとする対象物である。
干渉縞測定装置４は光電管１３．スペクトラムアナライ
ザ１４を儀えている。
ザ１４を儀えている。
レーザ発生ｖ装置５から発光したレーザ光はミラー６で
光路変換したのちビームスプリッタ７へ入射し、ここで
２つの光束Ｆ、、Ｆ２に分割する。光束Ｆ。
光路変換したのちビームスプリッタ７へ入射し、ここで
２つの光束Ｆ、、Ｆ２に分割する。光束Ｆ。
はポラライザ８ａで光量調整され、さらにポラライザ９
で偏光調整されたのち、レンズ１１を通して焦点位置Ｏ
に結像する。
で偏光調整されたのち、レンズ１１を通して焦点位置Ｏ
に結像する。
一方晃束Ｆ２はポラライザ８ｂで光ｍｌｌ整され、ざら
にポラライザ９で偏光調整されたのち、レンズ１１を通
して焦点位置０に結ｆＩｉする。したがって、この２つ
の光束Ｆ、、Ｆ２が焦点位置０で互いに重なり合い干渉
縞が生じる。
にポラライザ９で偏光調整されたのち、レンズ１１を通
して焦点位置０に結ｆＩｉする。したがって、この２つ
の光束Ｆ、、Ｆ２が焦点位置０で互いに重なり合い干渉
縞が生じる。
この焦点位ＳＯにおける干渉縞は顕微鏡３を通して被測
定面１２上に投影されるが、この干渉縞は回転移動する
被測定面１２上の微小な凹凸によって散乱され、その光
が光電管１３で光電変換され電気信号がスペクトラムア
ナライザ１４によって解析される。
定面１２上に投影されるが、この干渉縞は回転移動する
被測定面１２上の微小な凹凸によって散乱され、その光
が光電管１３で光電変換され電気信号がスペクトラムア
ナライザ１４によって解析される。
＝ ４ −
第２図に示す如く、周波数ｆ、、ｆ２の光が被測定面１
２上の被測定点に、その移動方向に各々（π／２）−β
、（π／２）＋βの方向から入射したとすると、■を被
測定点の移動速度、λを波長とすると ｆ、＝ｆ、 （１＋ （Ｖｓｉｎ β／λ））’２＝
ｆｏ （１（Ｖ ｓｉｎ β／λ））三光束差動型ＬＤ
Ｖのドツプラ信号周波数ｆはｆ −１ｆ、−Ｆ２１−
（２Ｖｓｉｎβ）／λであるから、このｆを測定するこ
とによって被測定点の速度Ｖを検出することができ、さ
らにこの速度ｖ−０の点を求めれば、被測定面１２の回
転中心位置を検出することができる。速度ｖ＝Ｏの点を
検出するためには第３図に示すごとく干渉縞の測定を、
被測定面１２上のＸ方向の複数の任意点、及びＹ方向の
複数の任意点において行う。
２上の被測定点に、その移動方向に各々（π／２）−β
、（π／２）＋βの方向から入射したとすると、■を被
測定点の移動速度、λを波長とすると ｆ、＝ｆ、 （１＋ （Ｖｓｉｎ β／λ））’２＝
ｆｏ （１（Ｖ ｓｉｎ β／λ））三光束差動型ＬＤ
Ｖのドツプラ信号周波数ｆはｆ −１ｆ、−Ｆ２１−
（２Ｖｓｉｎβ）／λであるから、このｆを測定するこ
とによって被測定点の速度Ｖを検出することができ、さ
らにこの速度ｖ−０の点を求めれば、被測定面１２の回
転中心位置を検出することができる。速度ｖ＝Ｏの点を
検出するためには第３図に示すごとく干渉縞の測定を、
被測定面１２上のＸ方向の複数の任意点、及びＹ方向の
複数の任意点において行う。
なお、この第３図に示す如き検出操作において、被測定
面１２上のＸ、Ｙ方向の複数点での干渉縞の測定をより
簡略化することが望まれる場合及び被測定１ｉｉ１２の
中心部近傍での測定がペデスタル−５＝ 成分の存在によって困難である場合には、干渉縞の測定
を第４図及び第５図に示す如く行ってもよい。すなわち
、被測定面１２上のＸＹ座標軸上に４個の干渉縞Ａ、
Ａ’、 Ｂ、 Ｂ’が生ずるように干渉縞発生装置を構
成する。この様に４個の干渉縞Ａ。
面１２上のＸ、Ｙ方向の複数点での干渉縞の測定をより
簡略化することが望まれる場合及び被測定１ｉｉ１２の
中心部近傍での測定がペデスタル−５＝ 成分の存在によって困難である場合には、干渉縞の測定
を第４図及び第５図に示す如く行ってもよい。すなわち
、被測定面１２上のＸＹ座標軸上に４個の干渉縞Ａ、
Ａ’、 Ｂ、 Ｂ’が生ずるように干渉縞発生装置を構
成する。この様に４個の干渉縞Ａ。
Ａ′、Ｂ、Ｂ’を同時に被測定面１２上に形成すれば、
それらの測定によりＸ軸上のＢ、Ｂ’点の速度が等しく
なり、かつＹ軸上のＡ、Ａ’点の速度が等しくなる点を
被測定面１２の回転中心位置として検出することが出来
る。この様な干渉縞Ａ、Ａ’、Ｂ。
それらの測定によりＸ軸上のＢ、Ｂ’点の速度が等しく
なり、かつＹ軸上のＡ、Ａ’点の速度が等しくなる点を
被測定面１２の回転中心位置として検出することが出来
る。この様な干渉縞Ａ、Ａ’、Ｂ。
Ｂ′の形成のためには、レーザ光を分割して必要数の多
光束を得る必要があり、そのためには、多光束ビームス
プリッタを必要とするが、この多光束ビームスプリッタ
を、多重露光したホログラムによって構成する事ができ
、これにともなってレーザドツプラ用干渉縞発生装置の
構成を簡単にすることができる。すなわち、第６図には
この発明の他の実施例に係わる回転中心位置検出装置１
ａが示されており、この回転中心位置検出装置１ａでは
、干渉縞発生装置２ａがレーザ発生装置５と、−６− レーザ発生装置５からのレーザの進行方向に順次配置さ
れたミラー６、ミラー６ａ、レンズ１５、レンズ１６、
ホログラム１−１、及びレンズ１７で構成されている。
光束を得る必要があり、そのためには、多光束ビームス
プリッタを必要とするが、この多光束ビームスプリッタ
を、多重露光したホログラムによって構成する事ができ
、これにともなってレーザドツプラ用干渉縞発生装置の
構成を簡単にすることができる。すなわち、第６図には
この発明の他の実施例に係わる回転中心位置検出装置１
ａが示されており、この回転中心位置検出装置１ａでは
、干渉縞発生装置２ａがレーザ発生装置５と、−６− レーザ発生装置５からのレーザの進行方向に順次配置さ
れたミラー６、ミラー６ａ、レンズ１５、レンズ１６、
ホログラム１−１、及びレンズ１７で構成されている。
レンズ１５．１６はビームエキスパンダを構成し、レー
ザビームは拡大して平行光束となったのちホログラムＨ
を照明する。ホログラムＨからは複数の物体光が再生さ
れて、レンズ１７を通り、焦点位置Ｏ′に集光して干渉
縞を形成する。
ザビームは拡大して平行光束となったのちホログラムＨ
を照明する。ホログラムＨからは複数の物体光が再生さ
れて、レンズ１７を通り、焦点位置Ｏ′に集光して干渉
縞を形成する。
多光束ビームスプリッタとして機能するホログラムＨを
作製する方法は次の通りである。すなわち、第７図及び
第８図に示す如く、角度の異なる４本の平行光束からな
る物体光０１〜０４を平行な４光束からなる参照ビーム
Ｒ１〜Ｒ４によって、ホログラムＨに記録するが、その
際ホログラムを小ブロックにわけ、各部分に各物体光を
記録する。（全面に一度に記録することも可能だが、コ
ントラストや不必要な干渉がおこるのを防ぐためである
。）く１）まず物体光０１を参照ビームＲ１とＲ２によ
って、ホログラムＨのＨ，、Ｈ２のブロックに記録する
。
作製する方法は次の通りである。すなわち、第７図及び
第８図に示す如く、角度の異なる４本の平行光束からな
る物体光０１〜０４を平行な４光束からなる参照ビーム
Ｒ１〜Ｒ４によって、ホログラムＨに記録するが、その
際ホログラムを小ブロックにわけ、各部分に各物体光を
記録する。（全面に一度に記録することも可能だが、コ
ントラストや不必要な干渉がおこるのを防ぐためである
。）く１）まず物体光０１を参照ビームＲ１とＲ２によ
って、ホログラムＨのＨ，、Ｈ２のブロックに記録する
。
−７−
参照ビームＲはブロックＨを、また参照ビームＲ２１
はブロックＨ７を照射し、物体光０１はブロックＨ１゜
Ｈ２両方を照射する。
Ｈ２両方を照射する。
（２）同様に、物体光０２を参照ビームＲ３，Ｒ４によ
ってブロックＨ３，Ｈ４に記録する。
ってブロックＨ３，Ｈ４に記録する。
（３）次に、第８図に示す如く、物体光ｏ、、 ｏ２の
中心光線を含む面と垂直な面内に物体光０．、０．の中
心光線をお（。
中心光線を含む面と垂直な面内に物体光０．、０．の中
心光線をお（。
（４、）前と同様に、物体光ｏ３を参照光Ｒ，，Ｒ４に
よって、ブロックＨ，，Ｈ４に記録する。
よって、ブロックＨ，，Ｈ４に記録する。
（５）物体光冑を参照ビームＲ２，Ｒ３によってブロッ
クＨ２，Ｈ３に記録する。
クＨ２，Ｈ３に記録する。
これらの操作によりブロックＨに物体光ＯＯｌ）
ビ ３ ブロツクＨ２に物体光０．．０４、ブロックＨヨに物体
光０２、 ｏ４、ブロックＨ４に物体光Ｏえ、０３が記
録された。
ビ ３ ブロツクＨ２に物体光０．．０４、ブロックＨヨに物体
光０２、 ｏ４、ブロックＨ４に物体光Ｏえ、０３が記
録された。
次に、これらを再生するときは第９図に示すように、こ
のホログラムＨに参照ビームＲ２〜Ｒ１を包含するよう
な参照光Ｒ４゛あてると、ホログラムＨの作製されてい
る部分から物体光０．−０．が再生される。このときひ
とつの物体光は二つの参照ビーム−８− によってホログラム記録されているので二つの平行に進
むビームとして再生される。従って二つづつ平行な４組
の平行に進むビームが再生されることになる。
のホログラムＨに参照ビームＲ２〜Ｒ１を包含するよう
な参照光Ｒ４゛あてると、ホログラムＨの作製されてい
る部分から物体光０．−０．が再生される。このときひ
とつの物体光は二つの参照ビーム−８− によってホログラム記録されているので二つの平行に進
むビームとして再生される。従って二つづつ平行な４組
の平行に進むビームが再生されることになる。
この後方にレンズ１７をおくことにより、−組の平行な
ビームは焦点上で１点に重なり干渉縞を形成する。ビー
ムは４組あるので４点に干渉縞が形成される。１ビーム
の参照光を４ビームに分割する場合には、第１０図に示
すように２枚の平行平１、゛ 面板１８．１９を使用してもよく、また、第１１図に示
す如く、２個のケスタープリズム２１．２２を使用して
もよい。なおホログラムにレンズ１７の作用を同時に記
録させて、レンズ１７を省略することも可能である。こ
の場合のホログラムＨｂの作製は、第１２図に示すごと
くホログラムＨｂの記録をレンズ１７の後方で行い、か
つ、こうして作製したホログラムＨ５をホログラムＨに
代替する。また、第１３図に示すごと（、ホログラムＨ
からの再生光をレンズ１７を通してホログラムＨｃに他
の参照光Ｒ５を用いて記録し、こうして作製さ−
９ − れたホログラムＨ，をホログラム１１に代替して使用す
る。
ビームは焦点上で１点に重なり干渉縞を形成する。ビー
ムは４組あるので４点に干渉縞が形成される。１ビーム
の参照光を４ビームに分割する場合には、第１０図に示
すように２枚の平行平１、゛ 面板１８．１９を使用してもよく、また、第１１図に示
す如く、２個のケスタープリズム２１．２２を使用して
もよい。なおホログラムにレンズ１７の作用を同時に記
録させて、レンズ１７を省略することも可能である。こ
の場合のホログラムＨｂの作製は、第１２図に示すごと
くホログラムＨｂの記録をレンズ１７の後方で行い、か
つ、こうして作製したホログラムＨ５をホログラムＨに
代替する。また、第１３図に示すごと（、ホログラムＨ
からの再生光をレンズ１７を通してホログラムＨｃに他
の参照光Ｒ５を用いて記録し、こうして作製さ−
９ − れたホログラムＨ，をホログラム１１に代替して使用す
る。
第１４図及び第１５図には、第３図に示す測定操作によ
ってそれぞれ被測定面のＹ＝Ｏμ…、Ｙ＝３００μｍの
位置をＸ方向にスキャンして測定した結果のグラフであ
るが、それぞれＸ方向の距離とドツプラ信号周波数ｆと
が比例し、ｆ−０となる点、すなわち回転中心位置が良
好に検出されることを確認することが出来る。
ってそれぞれ被測定面のＹ＝Ｏμ…、Ｙ＝３００μｍの
位置をＸ方向にスキャンして測定した結果のグラフであ
るが、それぞれＸ方向の距離とドツプラ信号周波数ｆと
が比例し、ｆ−０となる点、すなわち回転中心位置が良
好に検出されることを確認することが出来る。
以上の説明から明らかな通り、この発明によれば高精度
に、かつ簡単に回転面の回転中心を検出することが出来
る回転中心位置検出装置を得ることが出来る。
に、かつ簡単に回転面の回転中心を検出することが出来
る回転中心位置検出装置を得ることが出来る。
第１図はこの発明の一実施例に関わる回転中心位置検出
装置を示す構成説明図、第２図は干渉縞形成部位への光
束の入射角を示す説明図、第３図は被測定面上の測定部
位を示す説明図、第４図は他の実施例における干渉縞形
成部位を示す斜視説−１０− 明図、第５図は他の実施例における干渉縞形成部位を示
す正面説明図、第６図はこの発明の他の実施例に係わる
回転中心位置検出装置を示す構成説明図、第７図は多重
露光ホログラムの作製過程を示す説明図、第８図は多重
露光ホログラムの他の作製過程を示す説明図、第９図は
多重露光ホログを示す説明図、第１３図はレンズ効果を
記録した他のホログラムの作製操作を示す説明図、第１
４図は測定結果を示すグラフ、及び第１５図は測定結果
を示すグラフである。 １．１８・・・回転中心位置検出装置 ２．２ｂ・・
・干渉縞発生装置 ３・・・顕微１ｔ４・・・干渉縞
測定装置 １２・・・被測定面 Ｈ，Ｈａ 、Ｈｂ
。 Ｈｃ・・・ホログラム −１１− 第１図 第１４図 箆１５図 ｌ、事件の表示 昭和５４ 年特許願第 ””＠Ｏ号 ２ 発明の名称 回転物体の回転中心位置検出装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都千代田区霞が関１丁目３番１号（１
１４）氏 名 工業技術院長 石 坂 誠 −４
指定代理人 〒３０５ ５、補正命令の日付 昭和！１丁年３月６日 ６ 補正の対象 明細書 ７ 補正の内容 別紙の通りＬ明細書の浄書 （内容に変更なし）１３９
−
装置を示す構成説明図、第２図は干渉縞形成部位への光
束の入射角を示す説明図、第３図は被測定面上の測定部
位を示す説明図、第４図は他の実施例における干渉縞形
成部位を示す斜視説−１０− 明図、第５図は他の実施例における干渉縞形成部位を示
す正面説明図、第６図はこの発明の他の実施例に係わる
回転中心位置検出装置を示す構成説明図、第７図は多重
露光ホログラムの作製過程を示す説明図、第８図は多重
露光ホログラムの他の作製過程を示す説明図、第９図は
多重露光ホログを示す説明図、第１３図はレンズ効果を
記録した他のホログラムの作製操作を示す説明図、第１
４図は測定結果を示すグラフ、及び第１５図は測定結果
を示すグラフである。 １．１８・・・回転中心位置検出装置 ２．２ｂ・・
・干渉縞発生装置 ３・・・顕微１ｔ４・・・干渉縞
測定装置 １２・・・被測定面 Ｈ，Ｈａ 、Ｈｂ
。 Ｈｃ・・・ホログラム −１１− 第１図 第１４図 箆１５図 ｌ、事件の表示 昭和５４ 年特許願第 ””＠Ｏ号 ２ 発明の名称 回転物体の回転中心位置検出装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都千代田区霞が関１丁目３番１号（１
１４）氏 名 工業技術院長 石 坂 誠 −４
指定代理人 〒３０５ ５、補正命令の日付 昭和！１丁年３月６日 ６ 補正の対象 明細書 ７ 補正の内容 別紙の通りＬ明細書の浄書 （内容に変更なし）１３９
−
Claims (1)
- レーザドツプラ用干渉縞発生装置と、顕微鏡、及び干渉
縞測定装置とを備え、前記レーザドツプラ用干渉縞発生
装置によって発生したレーザドツプラ用干渉縞を被測定
物の表面に結像させ、前記干渉縞測定装置によって前記
被測定物の表面上の前記レーザドツプラ用干渉縞を測定
するように構成した事を特徴とする回転物体の回転中心
位置検出装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20426081A JPS58105006A (ja) | 1981-12-17 | 1981-12-17 | 回転物体の回転中心位置検出方法 |
| US06/424,629 US4529310A (en) | 1981-12-17 | 1982-09-27 | Device for detection of center of rotation of rotating object |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20426081A JPS58105006A (ja) | 1981-12-17 | 1981-12-17 | 回転物体の回転中心位置検出方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58105006A true JPS58105006A (ja) | 1983-06-22 |
| JPS6237325B2 JPS6237325B2 (ja) | 1987-08-12 |
Family
ID=16487510
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20426081A Granted JPS58105006A (ja) | 1981-12-17 | 1981-12-17 | 回転物体の回転中心位置検出方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58105006A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6015503A (ja) * | 1983-07-08 | 1985-01-26 | Res Dev Corp Of Japan | 非接触直径測定方法及び装置 |
| JPS61159104A (ja) * | 1984-12-29 | 1986-07-18 | Omron Tateisi Electronics Co | 回転中心検出装置 |
-
1981
- 1981-12-17 JP JP20426081A patent/JPS58105006A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6015503A (ja) * | 1983-07-08 | 1985-01-26 | Res Dev Corp Of Japan | 非接触直径測定方法及び装置 |
| JPS61159104A (ja) * | 1984-12-29 | 1986-07-18 | Omron Tateisi Electronics Co | 回転中心検出装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6237325B2 (ja) | 1987-08-12 |
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