JPH1197849A - Wiring board and its manufacturing method - Google Patents

Wiring board and its manufacturing method

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JPH1197849A
JPH1197849A JP26006497A JP26006497A JPH1197849A JP H1197849 A JPH1197849 A JP H1197849A JP 26006497 A JP26006497 A JP 26006497A JP 26006497 A JP26006497 A JP 26006497A JP H1197849 A JPH1197849 A JP H1197849A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wiring board provided with a conductor circuit, having high conductivity at low cost and a superior migration-resistance, and its manufacturing method. SOLUTION: There are formed an insulating board 1 containing at least an organic resin, a wiring circuit layer 3 composed of mixed powder or alloy powder which have a mean particle size of 3 to 10 μm and contain, as a metal component, copper as a main component and 1 to 30 wt.% of silver, 0.1 to 15 wt.% of palladium wt.% or 0.1 to 25 wt.% of platinum and a conductor circuit 2 such as a via hole conductor 4 or the like. Thereafter, a pulse current is applied to the conductor circuit 2, and a contact part between powder particles is welded to form a neck part composed of an alloy containing at least silver and at least one kind of palladium or platinum.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも有機樹
脂を含む絶縁基板の表面および/または内部に、金属粉
末を含む導体配線層を形成した、半導体素子収納用パッ
ケージなどに適した配線基板とその製造方法に関するも
のであり、特に、導体配線層の低抵抗化とともに、耐マ
イグレーション性の改良に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wiring board suitable for a package for accommodating a semiconductor element, wherein a conductive wiring layer containing a metal powder is formed on at least the surface and / or inside of an insulating substrate containing an organic resin. The present invention relates to a manufacturing method, and more particularly to improvement in resistance to migration of a conductive wiring layer and migration resistance.

【0002】[0002]

【従来技術】従来より、配線基板、例えば、半導体素子
を収納するパッケージに使用される多層配線基板とし
て、アルミナ等の絶縁層とW,Moなどの高融点金属か
らなる配線層とを具備したセラミック配線基板が多用さ
れているが、このようなセラミック配線基板は、硬くて
脆い性質を有することから、製造工程または搬送工程に
おいて、セラミックの欠けや割れ等が発生しやすく、ま
た、焼結前のグリーンシートにメタライズペーストを印
刷して、印刷後のシートを積層して焼結する場合、焼結
により得られる基板に反り等の変形や寸法のばらつき等
が発生しやすいという問題があり、回路基板の超高密度
化やフリップチップ等のような基板の平坦度の厳しい要
求に対して十分に対応できないという問題があった。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a multilayer wiring board used for a wiring board, for example, a package for housing a semiconductor element, a ceramic provided with an insulating layer such as alumina and a wiring layer made of a high melting point metal such as W and Mo. Wiring boards are often used, but such ceramic wiring boards are hard and brittle, so that in the manufacturing process or the transporting process, chipping or cracking of the ceramic is likely to occur, and also before sintering. When a metallized paste is printed on a green sheet, and the printed sheets are laminated and sintered, there is a problem that a substrate obtained by sintering is liable to be deformed such as warpage or dimensional variation, etc. However, there is a problem that it is not possible to sufficiently cope with strict requirements for flatness of a substrate such as ultra-high density and flip chips.

【0003】そこで、最近では、樹脂を含む絶縁層表面
に銅箔を接着した後、これをエッチングして微細な回路
を形成した基板や、銅などの金属粉末を含むペーストを
絶縁層に印刷して配線層を形成した後、これを積層し、
あるいは積層後に、所望位置にマイクロドリルやパンチ
ング等によりビア用の孔明けを行い、そのビア内壁にメ
ッキ法により金属を付着させて配線層を接続して多層化
したプリント配線基板が提案されている。また、絶縁層
としては、その強度を高めるために、樹脂に対して、粉
末状あるいは繊維状の無機質フィラーを分散させた基板
も提案されており、これらの複合材料からなる絶縁層上
に多数の半導体素子を搭載したマルチチップモジュール
(MCM)等への適用も検討されている。
[0003] Therefore, recently, a copper foil is adhered to the surface of an insulating layer containing a resin and then etched to form a substrate on which a fine circuit is formed, or a paste containing a metal powder such as copper is printed on the insulating layer. After forming the wiring layer by laminating,
Alternatively, a printed wiring board has been proposed in which a hole is drilled for a via at a desired position after lamination by microdrilling or punching, a metal is attached to the inner wall of the via by a plating method, and a wiring layer is connected to form a multilayer. . Further, as an insulating layer, a substrate in which a powdery or fibrous inorganic filler is dispersed with respect to a resin in order to increase the strength has been proposed. Application to a multi-chip module (MCM) on which a semiconductor element is mounted is also being studied.

【0004】以上のようなプリント配線板の多層化、配
線の超微細化、精密化の要求に対応して、樹脂を含む絶
縁層の表面に銅などの低抵抗金属を含む導体ペーストで
回路パターンを印刷したり、スルーホール中に導体ペー
ストを充填した高密度に多層化された配線基板を作製す
る試みが行われている。
[0004] In response to the demands for multi-layer printed wiring boards, ultra-fine wiring, and precision as described above, a circuit pattern is formed on a surface of an insulating layer containing a resin by using a conductive paste containing a low-resistance metal such as copper. Attempts have been made to print high-density multi-layered wiring boards in which conductive paste is filled in through holes and conductive paste is filled in through holes.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、低抵抗
金属を含む導体ペースト中には、絶縁性への印刷性を高
めるとともに、金属粉末を互いに結合させるために樹脂
を配合させることから、粉末の接触界面には、樹脂が介
在しやすいために、通常の銅箔や銅メッキにより形成さ
れた回路よりも抵抗値が高いという問題点があった。
However, since a conductive paste containing a low-resistance metal is mixed with a resin in order to enhance the printability on the insulating property and to bond the metal powders to each other, the contact of the powders is reduced. At the interface, there is a problem that the resistance value is higher than that of a circuit formed by ordinary copper foil or copper plating because a resin is easily interposed.

【0006】そのため、ペースト中の低抵抗金属として
は銀が多用されている。銀が主導体成分として用いられ
る理由は、金属中で最も導電率が高いこと、銅等の卑金
属に比べ化学的安定性が高いこと等による。しかしなが
ら、銀はコストが非常に高く、さらに銀が大気中湿気と
直流電界との相互作用により、銀配線相互間を移行する
現象、いわゆるマイグレーションが生じるために、回路
設計上の制約が多く、使用条件によっては信頼性に問題
があった。これに対して、銅は、比抵抗もある程度低
く、銀に比較して安価に入手できるものの、表面が酸化
しやすいことから、特殊な方法で貯蔵する必要があるな
ど、取り扱いが不便である。
For this reason, silver is frequently used as a low-resistance metal in the paste. The reason why silver is used as the main conductor component is that it has the highest conductivity among metals and has higher chemical stability than a base metal such as copper. However, silver has a very high cost, and silver has a phenomenon of migration between silver wirings due to the interaction between atmospheric moisture and a DC electric field, so-called migration. There was a problem in reliability under some conditions. On the other hand, copper has a low specific resistance to some extent and can be obtained at a lower cost than silver, but its surface is easily oxidized, so it is inconvenient to handle, for example, it needs to be stored by a special method.

【0007】そこで、これらの問題を解決するために、
銅粒子の表面に低抵抗の銀を被覆して、比抵抗の低減と
銅粒子の酸化を抑制した導電材料が特開昭56−101
739号、特開平8−138437号等にて提案されて
いる。
Therefore, in order to solve these problems,
A conductive material in which the surface of copper particles is coated with low-resistance silver to reduce the specific resistance and suppress the oxidation of the copper particles is disclosed in JP-A-56-101.
No. 739 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-13837.

【0008】しかしながら、これらの銀被覆銅粒子を用
いた場合においても、これらの粒子を結合するために全
固形分あたり3重量%以上の樹脂が必要とされており、
この樹脂分が粒子間の接触部に介在して接触抵抗が高く
なり、導体配線層の比抵抗を低減するには至っておら
ず、さらには、銀が単独で存在することからマイグレー
ションが生じるという問題がある。
However, even when these silver-coated copper particles are used, a resin of 3% by weight or more per total solid content is required to bind these particles,
This resin component intervenes in the contact portion between the particles to increase the contact resistance, which has not led to a reduction in the specific resistance of the conductive wiring layer, and furthermore, the silver alone presents a problem of migration. There is.

【0009】そこで、さらにこれらの問題を解決するた
めに、前記の銀被覆銅粉末に対して、さらにパラジウム
あるいは白金を合金化もしくは、添加した導電性粉末が
提案されている。これにより、耐マイグレーション性は
向上するが、抵抗が高くなってしまうという問題がある
のが現状である。
Therefore, in order to further solve these problems, there has been proposed a conductive powder obtained by alloying or adding palladium or platinum to the silver-coated copper powder. As a result, migration resistance is improved, but there is a problem that resistance is increased at present.

【0010】また、ペースト中の樹脂分を加熱分解除去
したり、通電加熱を行うことなど様々な改良も行われて
いるが、これらの加熱処理においても十分な効果が得ら
れておらず、場合によっては、加熱によっては絶縁層に
対して悪影響を及ぼすなどの問題があった。
Various improvements have also been made such as removing the resin component in the paste by thermal decomposition and conducting electric heating. However, these heating treatments have not been sufficiently effective. In some cases, there is a problem that the heating adversely affects the insulating layer depending on the heating.

【0011】本発明は、上記のような欠点が生ぜず、安
価で高導電性を有し、且つ耐マイグレーション性に優れ
たる導体回路を具備した配線基板とその製造方法を提供
することを目的とするものである。
An object of the present invention is to provide a wiring board provided with a conductor circuit which is inexpensive, has high conductivity, and has excellent migration resistance, without causing the above-mentioned disadvantages, and a method for manufacturing the same. Is what you do.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の課題
に対して検討を重ねた結果、金属成分として、パラジウ
ムあるいは白金の少なくとも1種と、銀と、銅とを含有
する混合粉末あるいは合金粉末により導体回路を形成
し、この導体回路に対してパルス電流を印加することに
よって、粉末間の接触部付近に放電を起こし、電気の導
通を妨げていた導電性粉末表面の樹脂や酸化物を除去す
ると同時に粉末同士を溶接して接触部を少なくとも銀
と、パラジウムあるいは白金のうち少なくとも1種とを
含有する合金によって形成することにより、配線層の抵
抗を格段に下げることができ、さらに単独で存在する銀
量を合金化により低減できることから、銀によるマイグ
レーションを抑制できることを見出し、これにより多層
プリント配線基板の超微細化、精密化の要求に応えうる
ことのできる高信頼性の導体配線層を形成することがで
きることを知見した。
Means for Solving the Problems As a result of repeated studies on the above problems, the present inventor has found that a mixed powder containing at least one of palladium or platinum, silver and copper as a metal component, or By forming a conductive circuit from the alloy powder and applying a pulse current to this conductive circuit, a discharge is generated near the contact between the powders, and the resin or oxide on the surface of the conductive powder that prevented the conduction of electricity At the same time, the contact portions are formed of an alloy containing at least silver and at least one of palladium and platinum by welding the powders together, so that the resistance of the wiring layer can be remarkably reduced. It is found that the migration of silver can be suppressed because the amount of silver present in the alloy can be reduced by alloying. Thinning, and found that it is possible to form a highly reliable conductor interconnect layers that can be meet the requirements of refinement.

【0013】即ち、本発明の配線基板は、少なくとも有
機樹脂を含む絶縁基板と、前記絶縁基板の表面及び/ま
たは内部に、銅を主成分とし、銀を1〜30重量%、パ
ラジウムを0.1〜15重量%または白金を0.1〜2
5重量%の割合で含有する平均粒径が3〜10μmの金
属粉末からなる導体回路が形成されてなり、該導体回路
の金属粉末間の接触部に少なくとも銀と、パラジウムま
たは白金とを含有する合金からなるネック部が形成され
てなることを特徴とするものである。
That is, the wiring board of the present invention has at least an insulating substrate containing an organic resin, and a surface and / or inside of the insulating substrate containing copper as a main component, silver of 1 to 30% by weight, and palladium of 0.1 to 0.3% by weight. 1 to 15% by weight or 0.1 to 2% platinum
A conductor circuit is formed of metal powder having an average particle size of 3 to 10 μm, which is contained at a ratio of 5% by weight, and at least silver and palladium or platinum are contained in a contact portion between the metal powders of the conductor circuit. A neck portion made of an alloy is formed.

【0014】また、かかる配線基板の製造方法として、
少なくとも有機樹脂を含む絶縁基板と、前記絶縁基板の
表面及び/または内部に、銅を主成分とし、銀を1〜3
0重量%、パラジウムを0.1〜15重量%または白金
を0.1〜25重量%の割合で含有する平均粒径が3〜
10μmの金属粉末からなる導体回路を形成した後、該
導体回路にパルス電流を印加して、前記金属粉末間の接
触部を溶接して少なくとも銀と、パラジウムあるいは白
金の少なくとも1種とを含有する合金からなるネック部
を形成してなることを特徴とするものである。なお、印
加するパルス電流は、電流密度が1〜2000A/cm
2 、パルス幅が0.01〜1000msec.であるこ
とを特徴とする。
Further, as a method of manufacturing such a wiring board,
An insulating substrate containing at least an organic resin, and a surface and / or inside of the insulating substrate containing copper as a main component and silver of 1 to 3;
0% by weight, 0.1 to 15% by weight of palladium or 0.1 to 25% by weight of platinum having an average particle size of 3 to 5%.
After forming a conductor circuit made of a 10 μm metal powder, a pulse current is applied to the conductor circuit to weld a contact portion between the metal powders to contain at least silver and at least one of palladium and platinum. A neck portion made of an alloy is formed. The applied pulse current has a current density of 1 to 2000 A / cm.
2. Pulse width of 0.01 to 1000 msec. It is characterized by being.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】本発明の配線基板は、基本的には
図1の概略断面図に示すように、絶縁基板1と導体回路
2によって構成される。また、前記導体回路2として
は、絶縁基板の表面または絶縁層間に形成された配線回
路層3と、異なる層の配線回路層3間を接続するスルー
ホール導体またはビアホール導体4により構成される。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A wiring board according to the present invention is basically composed of an insulating substrate 1 and a conductor circuit 2 as shown in a schematic sectional view of FIG. The conductor circuit 2 includes a wiring circuit layer 3 formed on the surface of an insulating substrate or between insulating layers, and a through-hole conductor or a via-hole conductor 4 for connecting the wiring circuit layers 3 in different layers.

【0016】本発明における絶縁基板1は、絶縁材料と
しての電気的特性、耐熱性、および機械的強度を有する
熱硬化性樹脂、例えば、アラミド樹脂、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂、イミド樹脂、フッ素樹脂、フェニレ
ンエーテル樹脂、ビスマイレイミドトリアジン樹脂、ユ
リア樹脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹
脂、不飽和ポリエステル樹脂およびアリル樹脂等が、単
独または組み合わせで含まれる。
The insulating substrate 1 according to the present invention is made of a thermosetting resin having electrical properties, heat resistance and mechanical strength as an insulating material, for example, aramid resin, phenol resin, epoxy resin, imide resin, fluorine resin, A phenylene ether resin, a bismireimide triazine resin, a urea resin, a melamine resin, a silicone resin, a urethane resin, an unsaturated polyester resin, an allyl resin and the like are included alone or in combination.

【0017】また、上記の絶縁基板1中には、絶縁基板
あるいは配線基板全体の強度を高めるために、有機樹脂
に対してフィラーを複合化させることもできる。有機樹
脂と複合化されるフィラーとしては、SiO2 、Al2
3 、ZrO2 、TiO2 、AlN、SiC、BaTi
3 、SrTiO3 、ゼオライト、CaTiO3 、ほう
酸アルミニウム等の無機質フィラーが好適に用いられ
る。また、ガラスやアラミド樹脂からなる不織布、織布
などに上記樹脂を含浸させて用いてもよい。なお、有機
樹脂とフィラーとは、体積比率で15:85〜50:5
0の比率で複合化されるのが適当である。これらの中で
も、絶縁層の加工性、強度等の点で、エポキシ樹脂、イ
ミド樹脂、フェニレンエーテル樹脂と、シリカまたはア
ラミド不織布との混合物であることが最も望ましい。
In the insulating substrate 1, a filler can be compounded with an organic resin in order to increase the strength of the entire insulating substrate or wiring substrate. SiO 2 , Al 2
O 3 , ZrO 2 , TiO 2 , AlN, SiC, BaTi
Inorganic fillers such as O 3 , SrTiO 3 , zeolite, CaTiO 3 , and aluminum borate are preferably used. Further, a nonwoven fabric or a woven fabric made of glass or aramid resin may be used by impregnating the above resin. The organic resin and the filler are in a volume ratio of 15:85 to 50: 5.
Suitably, the compound is formed in a ratio of 0. Among them, a mixture of an epoxy resin, an imide resin, a phenylene ether resin, and a nonwoven fabric of silica or aramid is most preferable in terms of workability and strength of the insulating layer.

【0018】本発明によれば、導体回路2は、銅を主成
分とし、銀を1〜30重量%、特に3〜10重量%、パ
ラジウムを0.1〜15重量%、特に0.3〜10重量
%、または白金を0.1〜25重量%、特に0.3〜1
0重量%の割合で含有する混合粉末あるいは合金粉末を
金属粉末として含むものである。ここで、銀の含有量を
上記の範囲に限定したのは、1重量%よりも少ないと従
来の銅粉末と同様に耐酸化性が劣化、30重量%よりも
大きくなると銀のマイグレーションが起こるためであ
る。
According to the present invention, the conductor circuit 2 comprises copper as a main component, 1 to 30% by weight of silver, particularly 3 to 10% by weight, and 0.1 to 15% by weight of palladium, particularly 0.3 to 30% by weight. 10% by weight, or 0.1 to 25% by weight of platinum, especially 0.3 to 1%
A mixed powder or an alloy powder containing 0% by weight is contained as a metal powder. Here, the content of silver is limited to the above range. When the content is less than 1% by weight, oxidation resistance is deteriorated similarly to the conventional copper powder, and when the content is more than 30% by weight, migration of silver occurs. It is.

【0019】また、パラジウムまたは白金が0.1重量
%よりも少ないと銀のマイグレーションを抑制する効果
が小さくなり、パラジウムが15重量%よりも多いと、
または白金が25重量%よりも多いと、いずれの場合も
抵抗が高くなるためであり、特にパラジウムでは、15
重量%を越えると耐酸化性が悪くなるために望ましくな
い。
If the amount of palladium or platinum is less than 0.1% by weight, the effect of suppressing the migration of silver is reduced. If the amount of palladium is more than 15% by weight,
Alternatively, if the amount of platinum is more than 25% by weight, the resistance becomes high in any case.
Exceeding the weight percent is not desirable because the oxidation resistance deteriorates.

【0020】本発明における金属粉末によれば、上記の
少なくとも3成分からなる金属成分は、すべて合金化さ
れていてもよいし、あるいは混合粉末からなってもよ
い。例えば、銀を銅粉末の表面に被覆した粉末に、パラ
ジウムあるいは白金の粉末を添加混合することができる
が、パラジウムあるいは白金が銀被覆銅粉末の銀と結合
を保っている方が良く、例えば、銀被覆銅粉末の表面
に、パラジウムあるいは白金をメッキ法や共沈粉によっ
て被覆したり、メカニカルアロイ粉として用いることも
できる。特に、銅粉末の表面に、銀とパラジウムあるい
は白金とを合金からなる被覆層を形成することが望まし
い。
According to the metal powder of the present invention, the above-mentioned metal components composed of at least three components may be all alloyed or may be composed of a mixed powder. For example, powder coated with silver on the surface of copper powder, palladium or platinum powder can be added and mixed, but it is better that palladium or platinum maintain the bond with silver of the silver-coated copper powder, for example, The surface of the silver-coated copper powder can be coated with palladium or platinum by a plating method or coprecipitation powder, or can be used as a mechanical alloy powder. In particular, it is desirable to form a coating layer made of an alloy of silver and palladium or platinum on the surface of the copper powder.

【0021】また、金属粉末の平均粒径は3〜10μ
m、特に3〜7μm、最適には3〜5μmであることが
必要である。これは平均粒径が3μmよりも小さいか、
あるいは10μmよりも大きくなるといずれも導体ペー
ストの印刷性および充填性が悪くなるとともに、金属粉
末の充填密度が低下することにより抵抗が高くなってし
まうためである。また、パラジウムあるいは白金を粉末
として混合する場合には、パラジウムあるいは白金の粉
末の平均粒径は3μm以下であることが望ましい。これ
は、平均粒径が3μmを超えると、少量のパラジウムあ
るいは白金を均一に混合するのが難しくなるためであ
る。
The average particle size of the metal powder is 3 to 10 μm.
m, especially 3 to 7 μm, optimally 3 to 5 μm. This means that the average particle size is smaller than 3 μm,
Otherwise, when the thickness is larger than 10 μm, the printability and the filling property of the conductive paste are deteriorated, and the resistance is increased due to the decrease in the filling density of the metal powder. When palladium or platinum is mixed as a powder, the average particle size of the palladium or platinum powder is preferably 3 μm or less. This is because if the average particle size exceeds 3 μm, it becomes difficult to uniformly mix a small amount of palladium or platinum.

【0022】本発明における金属粉末中には、銅、銀、
パラジウムあるいは白金以外の金属成分として、例え
ば、Fe、Co、Ni等を総量で10重量%以下含有さ
れていても良い。
The metal powder in the present invention contains copper, silver,
As a metal component other than palladium or platinum, for example, Fe, Co, Ni or the like may be contained in a total amount of 10% by weight or less.

【0023】また、本発明の配線基板における導体回路
中には、前記金属粉末間の結合を図るために樹脂結合剤
が配合されていてもよく、このような結合剤としては、
印刷性の点でセルロース系、ポリエチレングリコール等
のグリコール系の樹脂が好適に使用されるが、その他、
絶縁基板を形成するのに用いたような前述の熱硬化性樹
脂等を用いることもできる。この樹脂結合剤は、その量
が多くなるほど、粉末間に介在して接触抵抗を増大させ
る傾向にあるため、金属粉末100重量部に対して、2
重量部以下、特に0.05〜1重量部であることが印刷
性および導体回路の低抵抗化を図る上で望ましい。
In the conductor circuit of the wiring board according to the present invention, a resin binder may be blended in order to bond the metal powders.
In terms of printability, cellulose resins and glycol resins such as polyethylene glycol are preferably used.
The aforementioned thermosetting resin or the like used for forming the insulating substrate can also be used. As the amount of the resin binder increases, the amount of the resin binder tends to increase between the powders and increase the contact resistance.
It is desirable that the amount be not more than 5 parts by weight, particularly 0.05 to 1 part by weight, in order to reduce the printability and the resistance of the conductor circuit.

【0024】なお、本発明の配線基板における導体回路
の露出する表面に、ニッケルや金等の耐食性に優れ、か
つ半導体素子等の電子部品との接合性および外部電気回
路基板の配線層との接続性に優れる金属をメッキ法によ
り1〜20μmの厚みで被着形成させておくことによ
り、導体回路が酸化腐食することを有効に防止すること
ができるとともに、導体回路の電気部品あるいは外部電
気回路基板との電気接続を容易、かつ強固に行うことが
できる。
The exposed surface of the conductor circuit of the wiring board of the present invention has excellent corrosion resistance such as nickel and gold, and has good bonding properties with electronic components such as semiconductor elements and connection with the wiring layer of the external electric circuit board. By forming a metal having excellent performance in a thickness of 1 to 20 μm by plating, it is possible to effectively prevent the conductive circuit from being oxidized and corroded, and to provide an electric component of the conductive circuit or an external electric circuit board. And easy and robust electrical connection.

【0025】本発明によれば、金属粉末間の接触部にネ
ック部が形成されていることが重要であり、しかもネッ
ク部は少なくとも銀と、パラジウムあるいは白金が合金
から形成されていることが重要である。このネック部の
幅は、金属粉末の粒径の1/5以上であることが低抵抗
化を達成する上で望ましい。そして、このネック部は、
また、粉末間の非接触部においても、少なくとも銀と、
パラジウムあるいは白金とが合金化しており、銀が単独
で存在しないことが耐マイグレーションの点で望まし
い。
According to the present invention, it is important that a neck portion is formed at a contact portion between metal powders, and it is important that the neck portion is formed of at least silver and an alloy of palladium or platinum. It is. The width of the neck portion is desirably at least 1/5 of the particle size of the metal powder in order to achieve a low resistance. And this neck part
Also, in the non-contact portion between the powder, at least silver,
It is desirable from the viewpoint of migration resistance that palladium or platinum is alloyed and silver is not present alone.

【0026】本発明の配線基板の製造方法によれば、ま
ず、前述したような熱硬化性樹脂、あるいは熱可塑性樹
脂と無機質フィラーとを用いて、これに適当な硬化剤、
溶剤を添加混合してスラリー状となし、これをドクター
ブレード法、カレンダーロール法、圧延法等によりシー
ト状に成形して絶縁層を作製する。所望によりこれを加
熱硬化させて半硬化あるいは完全硬化させて作製され
る。また、絶縁層としては、上記以外にプリプレグ等を
用いることもできる。
According to the method for manufacturing a wiring board of the present invention, first, a thermosetting resin as described above, or a thermoplastic resin and an inorganic filler, and an appropriate curing agent,
A slurry is formed by adding and mixing a solvent, and the slurry is formed into a sheet by a doctor blade method, a calender roll method, a rolling method, or the like to form an insulating layer. If desired, this is heated and cured to be semi-cured or completely cured. In addition, other than the above, a prepreg or the like can be used as the insulating layer.

【0027】次に、この絶縁層に、金属粉末を含む導体
回路を形成する。適用する導体回路としては、絶縁基板
の表面や絶縁層間に形成される配線回路層および/また
は配線回路層間を接続するビアホール導体やスルーホー
ル導体のいずれでもよい。導体回路を形成する場合に
は、金属粉末を主体とする導体ペーストを、スクリーン
印刷法、グラビア印刷法などの周知の印刷方法によって
厚さ10〜35μmの厚みで印刷する。また、ビアホー
ル導体やスルーホール導体を形成する場合には、絶縁層
にビアホールやスルーホールなどを形成し、そのホール
内に導体ペーストを充填する。
Next, a conductor circuit containing a metal powder is formed on the insulating layer. The conductor circuit to be applied may be a wiring circuit layer formed on the surface of the insulating substrate or between the insulating layers, and / or a via-hole conductor or a through-hole conductor connecting the wiring circuit layers. When a conductive circuit is formed, a conductive paste mainly composed of a metal powder is printed to a thickness of 10 to 35 μm by a known printing method such as a screen printing method or a gravure printing method. When a via-hole conductor or a through-hole conductor is formed, a via-hole or a through-hole is formed in an insulating layer, and the hole is filled with a conductive paste.

【0028】この時に用いる導体ペーストとしては、固
形成分として、前記金属粉末と、金属粉末100重量部
に対して樹脂結合剤を2重量部以下、特に0.05〜1
重量部の割合で含み、さらには、適当な溶剤等を含む。
また、場合によっては、適当な硬化剤を含む場合もあ
る。
The conductor paste used at this time is a solid component containing the metal powder and a resin binder in an amount of 2 parts by weight or less, particularly 0.05 to 1 part by weight, per 100 parts by weight of the metal powder.
Parts by weight, and further contains a suitable solvent and the like.
In some cases, the composition may contain an appropriate curing agent.

【0029】また、多層化する場合には、例えば、導体
ペーストによって導体回路が形成された複数の絶縁層を
積層し、30kg/cm2 以下の圧力で圧着する。この
圧着は、導体回路が軟化した状態で行われることが望ま
しく、樹脂結合剤が熱硬化性樹脂の場合には、半硬化の
状態で積層圧着することにより絶縁層を密着することが
でき、さらには絶縁層間に接着剤を介在させて積層する
こともできる。
In the case of multi-layering, for example, a plurality of insulating layers in which a conductor circuit is formed by a conductor paste are laminated and pressure-bonded at a pressure of 30 kg / cm 2 or less. This crimping is desirably performed in a state where the conductor circuit is softened, and when the resin binder is a thermosetting resin, the insulating layer can be adhered by laminating and crimping in a semi-cured state. Can be laminated with an adhesive between insulating layers.

【0030】このようにして作製された配線基板におい
ては、導体回路における金属粉末の表面には、配線層中
に含まれる樹脂によって粉末表面に薄い樹脂膜が存在し
たり、大気中の酸素によって酸化した薄い酸化膜が形成
されている。また、銀被覆銅粉末の場合、表面に銀の単
独層が存在しており、これにより銀のマイグレーション
が生じやすい。さらに、パラジウムあるいは白金を複合
した銀被覆銅粉末の場合、銀のマイグレーションは若干
抑制されるが、不純物として存在するために抵抗が高く
なってしまう。
In the wiring board manufactured in this manner, a thin resin film exists on the surface of the metal powder in the conductive circuit due to the resin contained in the wiring layer, or the metal powder is oxidized by oxygen in the atmosphere. A thin oxide film is formed. In the case of silver-coated copper powder, a single layer of silver is present on the surface, and silver migration easily occurs. Furthermore, in the case of silver-coated copper powder in which palladium or platinum is compounded, migration of silver is slightly suppressed, but the resistance is increased because of the presence of impurities.

【0031】そこで、本発明によれば、上記のように作
製された配線基板における導体回路に対して、パルス電
流を印加する。この配線層にパルス電流を連続して印加
すると金属粒子間にプラズマ放電を生じる。このプラズ
マにより金属粒子表面の酸化膜や付着物が除去され、い
わゆる溶接された状態となって、金属粒子同士が導電性
を妨げる介在物なしに接触することが可能になり、この
結果、通電加熱のみでは達成されなかった低抵抗の配線
層を、その周辺の絶縁層に悪影響を及ぼすことなく、形
成することができるのである。
Therefore, according to the present invention, a pulse current is applied to the conductor circuit in the wiring board manufactured as described above. When a pulse current is continuously applied to this wiring layer, a plasma discharge is generated between the metal particles. The plasma removes oxide films and deposits on the surface of the metal particles, resulting in a so-called welded state, whereby the metal particles can come into contact with each other without inclusions that impede the conductivity. It is possible to form a low-resistance wiring layer, which has not been achieved only by itself, without adversely affecting the surrounding insulating layer.

【0032】さらに本発明によれば、上記のように銀被
覆銅粉末同士の接触部が溶接された状態になり低抵抗を
達成することができると同時に、少なくとも接触部にお
いて合金化した状態となって、単独で存在する銀が減少
し耐マイグレーション性を高めることができる。
Further, according to the present invention, as described above, the contact portion between the silver-coated copper powders is in a welded state, so that a low resistance can be achieved, and at the same time, a state in which at least the contact portion is alloyed is obtained. As a result, silver present alone can be reduced, and the migration resistance can be increased.

【0033】このパルス電流の印加は、電流を印加する
導体回路の両端に電極を押し当ててパルス電流を印加す
る。印加するパルス電流の最適条件としては、電流密度
が1〜2000A/cm2 、パルス幅が0.01〜10
00ms.の条件が良好に用いられ、電流密度が1A/
cm2 より低いと、溶接されずに金属粉末間の界面に存
在する酸化膜や樹脂の除去が難しく、また2000A/
cm2 を越えると、部分的に発熱が起こり絶縁基板を傷
める場合があるためである。また、望ましくは、1パル
スの通電時間3秒以下がよい。なお、望ましくは、この
パルス電流の印加は、5秒〜5分間、特に10秒〜1分
間が望ましい。
The pulse current is applied by pressing electrodes on both ends of the conductor circuit to which the current is applied to apply the pulse current. The optimum conditions for the pulse current to be applied include a current density of 1 to 2000 A / cm 2 and a pulse width of 0.01 to 10
00 ms. Is preferably used, and the current density is 1 A /
If it is lower than 2 cm 2 , it is difficult to remove an oxide film or resin existing at the interface between the metal powders without welding, and it is 2,000 A /
If it exceeds cm 2 , heat may be partially generated to damage the insulating substrate. Further, it is preferable that the energizing time of one pulse be 3 seconds or less. Preferably, the pulse current is applied for 5 seconds to 5 minutes, particularly 10 seconds to 1 minute.

【0034】また、パルス電流が、矩形波であることが
望ましい。正弦波等も用いられるが矩形波が最も効果的
である。また、パルス電流が、直流パルスであることが
望ましい。それは、正弦波よりも矩形波のほうが、粒子
間の放電が起こりやすく、表面の清浄効果が高く、パル
ス電流は交流よりも直流のほうが一旦清浄された粒子表
面に汚れ等が付着しにくいためである。
It is desirable that the pulse current is a rectangular wave. Although a sine wave or the like is used, a rectangular wave is most effective. Further, it is desirable that the pulse current is a DC pulse. The reason is that a rectangular wave is more likely to cause discharge between particles than a sine wave, has a higher surface cleaning effect, and a pulse current is less likely to cause dirt or the like to adhere to a once-cleaned particle surface than to an alternating current. is there.

【0035】さらに、上記パルス電流の印加の後に、配
線層に通電により加熱処理を施すことにより、さらに配
線層の低抵抗化を図ることができる。通電処理は、電流
密度1〜4000A/cm2 の直流、交流でもよく、通
電による加熱温度は100〜350℃の範囲が適当であ
る。この時の温度が100℃よりも低いと、電気抵抗を
下げる効果が小さく、350℃を越えると絶縁層や導体
回路を構成する樹脂が分解する場合がある。この通電加
熱によって、金属粉末間の接点が発熱し粉末同士の結合
力をさらに高めることができる。
Further, after the application of the pulse current, the wiring layer is subjected to a heat treatment by energization, whereby the resistance of the wiring layer can be further reduced. The energization treatment may be DC or AC with a current density of 1 to 4000 A / cm 2 , and the heating temperature by energization is suitably in the range of 100 to 350 ° C. If the temperature at this time is lower than 100 ° C., the effect of lowering the electric resistance is small, and if it exceeds 350 ° C., the resin constituting the insulating layer and the conductor circuit may be decomposed. The contact heating between the metal powders generates heat by the energization heating, so that the bonding force between the powders can be further increased.

【0036】また、この通電加熱は、前述したパルス電
流の印加と同時に行うことができる。具体的には、直流
のパルス電流と直流電流とをあわせた波形、つまり直流
電流波形の上部が矩形波となった電流を印加すると通電
加熱による作用と、パルス電流印加による放電溶接作用
とを同時に付加することができる。
This heating can be performed simultaneously with the application of the pulse current. Specifically, when a waveform obtained by combining a DC pulse current and a DC current, that is, when a current having a rectangular waveform at the top of the DC current waveform is applied, the action of energization heating and the discharge welding action of pulse current application are simultaneously performed. Can be added.

【0037】上記の導体回路に印加するパルス電流を制
御することにより比抵抗5×10-5Ω・cm以下の低抵
抗化を実現することが可能となる。さらに、本発明によ
れば、上述の製造方法により作製した配線基板は、例え
ば、線幅0.5mm、ギャップ0.4mmの櫛歯パター
ンにおいて、130℃85%相対湿度中に5Vの直流電
圧を100時間印加後の絶縁抵抗が5×1013Ω・cm
以上の優れた耐マイグレーション性を示し、これによ
り、配線基板における導体回路の超微細化、精密化の要
求に応えることのできる高信頼性の配線基板を提供する
ことができる。
By controlling the pulse current applied to the above-described conductor circuit, it is possible to reduce the specific resistance to 5 × 10 −5 Ω · cm or less. Further, according to the present invention, the wiring board manufactured by the above-described manufacturing method can apply a DC voltage of 5 V at 130 ° C. and 85% relative humidity in a comb pattern having a line width of 0.5 mm and a gap of 0.4 mm, for example. Insulation resistance after application for 100 hours is 5 × 10 13 Ω · cm
It is possible to provide a highly reliable wiring board that exhibits the above-described excellent migration resistance and that can meet the demand for ultra-fine and precise conductor circuits in the wiring board.

【0038】[0038]

【実施例】【Example】

実施例1 平均粒径が約5μmの略球形の酸化珪素70体積%、イ
ミド樹脂30体積%を用いてスラリーを調整し、このス
ラリーを用いてドクターブレード法によってキャリアシ
ート上に塗布し、これを50℃の温度で60分間乾燥し
て厚み120μmの絶縁層を完成した。
Example 1 A slurry was prepared using 70% by volume of substantially spherical silicon oxide having an average particle diameter of about 5 μm and 30% by volume of an imide resin, and the slurry was applied to a carrier sheet by a doctor blade method. After drying at a temperature of 50 ° C. for 60 minutes, an insulating layer having a thickness of 120 μm was completed.

【0039】次に、前記絶縁基板の表面に、表1の平均
粒径および銀とパラジウムと白金の含有量を有する金属
粉末、即ち、銀被覆銅粉末の表面に、パラジウムあるい
は白金をメッキした粉末100重量部、セルロース0.
2重量部、溶剤として2−オクタノール10重量部とを
混合してなる導電性ペーストを調製し、スクリーン印刷
法により線幅0.5mm、ギャップ0.4mmの櫛歯パ
ターンを印刷した。また、1部に直径が0.1mmのス
ルーホールを形成しそのホール内にこのペーストを充填
した。なお、金属粉末中の金属成分の含有量は、ICP
発光分光分析法によって測定した。
Next, a metal powder having the average particle diameter and the contents of silver, palladium and platinum shown in Table 1 on the surface of the insulating substrate, that is, a powder obtained by plating palladium or platinum on the surface of a silver-coated copper powder 100 parts by weight, cellulose 0.
A conductive paste was prepared by mixing 2 parts by weight and 10 parts by weight of 2-octanol as a solvent, and a comb pattern having a line width of 0.5 mm and a gap of 0.4 mm was printed by a screen printing method. Further, a through hole having a diameter of 0.1 mm was formed in one part, and the paste was filled in the hole. The content of the metal component in the metal powder is determined by ICP
Measured by emission spectroscopy.

【0040】次に、上記のようにして導体回路を形成し
た8層の絶縁層を作製し、これを位置合わせして積層圧
着した。そして、この積層物をプレス機内にセットし、
50kg/cm2 の圧力を印加した。さらに120℃に
加熱してペースト中の有機溶剤を揮散除去した。その
後,250℃で5時間処理して、熱硬化性樹脂を完全硬
化させて配線基板を作製した。(試料No.1〜39)得
られた配線基板に対して、導体回路の両極端に表1に示
す電流密度およびパルス幅で30秒間パルス電流を印加
した。なお、パルス間間隔はパルス幅と同じにした。ま
た、一部の基板に対しては、さらに、表1に示す条件で
通電加熱を行った。
Next, eight layers of insulating layers on which the conductor circuits were formed as described above were prepared, aligned, and laminated and pressed. And set this laminate in the press machine,
A pressure of 50 kg / cm 2 was applied. Further, the paste was heated to 120 ° C. to volatilize and remove the organic solvent in the paste. Thereafter, the substrate was treated at 250 ° C. for 5 hours to completely cure the thermosetting resin, thereby producing a wiring board. (Samples Nos. 1 to 39) A pulse current was applied to the obtained wiring board at the extremes of the conductor circuit at the current density and pulse width shown in Table 1 for 30 seconds. Note that the interval between the pulses was the same as the pulse width. Some of the substrates were further heated by energization under the conditions shown in Table 1.

【0041】そして、これらの処理後の配線基板におけ
る導体回路の初期体積固有抵抗と、130℃、85%相
対湿度中に5Vの直流電圧を100時間印加後の櫛歯パ
ターン間の絶縁抵抗を測定し、その結果を表1に示し
た。また、導体回路の銀被覆銅粉末の接触状況を走査型
電子顕微鏡写真(SEM)により観察し、溶接の有無を
確認し、溶接により形成されたネック幅の金属粉末の粒
径に対する比率を測定しその平均を求めた。
Then, the initial volume specific resistance of the conductor circuit in the wiring board after these treatments and the insulation resistance between the comb tooth patterns after applying a DC voltage of 5 V at 130 ° C. and 85% relative humidity for 100 hours were measured. The results are shown in Table 1. In addition, the contact state of the silver-coated copper powder on the conductor circuit was observed with a scanning electron micrograph (SEM) to confirm the presence or absence of welding, and the ratio of the neck width formed by welding to the particle size of the metal powder was measured. The average was determined.

【0042】実施例2 実施例1における導電性複合粉末に変えて、銅と、銀
と、パラジウムあるいは白金による表3の組成からなる
導電性合金粉末を用いて、上記と全く同様にして配線基
板を作製し、同様に評価を行った。(試料No.40〜4
8)
Example 2 A wiring board was produced in exactly the same manner as described above, except that the conductive composite powder of Example 1 was replaced with a conductive alloy powder composed of copper, silver, palladium or platinum and having the composition shown in Table 3. Was prepared and evaluated similarly. (Sample Nos. 40 to 4
8)

【0043】[0043]

【表1】 [Table 1]

【0044】[0044]

【表2】 [Table 2]

【0045】[0045]

【表3】 [Table 3]

【0046】表1〜3の結果から明らかなように、銀の
含有量が1重量%よりも少ない試料No.8では、比抵抗
が大きくなり、30重量%よりも多い試料No.33で
は、マイグレーションにより配線間の抵抗が低下した。
パラジウムあるいは白金の少なくとも1種が0.1重量
%よりも少ない試料No.10では、マイグレーションを
防止できず、配線間の抵抗が低下した。また、パラジウ
ムが15重量%を越える試料No.20および白金が25
重量%を越える試料No.26では、いずれも配線層の比
抵抗が増大した。
As is clear from the results of Tables 1 to 3, the sample No. 8 having a silver content of less than 1% by weight has a large specific resistance, and the sample No. 33 having a silver content of more than 30% by weight has a high specific resistance. The resistance between the wirings decreased due to the migration.
In Sample No. 10 in which at least one of palladium and platinum was less than 0.1% by weight, migration could not be prevented, and the resistance between wirings was reduced. The sample No. 20 containing palladium exceeding 15% by weight and the platinum containing 25%
In the sample No. 26 in which the weight% is exceeded, the specific resistance of the wiring layer increased in each case.

【0047】また、本発明の組成を満足してもパルス電
流の印加を行わない試料No.4では、全くネック部が形
成されず、通電加熱のみ施した試料No.5では、わずか
にネックが形成されたが、銀とパラジウムまたは白金と
の合金が生成されるまでには至らず、その結果、いずれ
の場合も銀のマイグレーションの抑制効果が不十分とな
り配線間の抵抗が低下した。さらに、平均粒径が3μm
よりも小さい試料No.1〜3では、10μmを越える試
料No.34〜36では、いずれも比抵抗が大きいもので
あった。
Further, in Sample No. 4 to which no pulse current was applied even though the composition of the present invention was satisfied, no neck portion was formed at all, and in Sample No. 5 subjected to only current heating, the neck was slightly formed. Although formed, it did not reach the point where an alloy of silver and palladium or platinum was produced. As a result, in any case, the effect of suppressing the migration of silver was insufficient, and the resistance between wirings was reduced. Furthermore, the average particle size is 3 μm
Samples Nos. 1 to 3 smaller than Samples Nos. 34 to 36 over 10 µm all had large specific resistances.

【0048】これらの比較例に対して、本発明品は、い
ずれもX線マイクロアナライザー(EPMA)による測
定の結果、粉末間に銅と、銀と、パラジウムあるいは白
金とを含むネック部が形成されており、配線回路層の比
抵抗が5×10-5Ω・cm以下の低抵抗を示し、且つ高
温高湿電圧印加後の絶縁抵抗が5×1013Ω・cm以上
の優れた耐マイグレーション性を示した。
In contrast to these comparative examples, all the products of the present invention were measured by an X-ray microanalyzer (EPMA) and found that a neck portion containing copper, silver, palladium or platinum was formed between the powders. Excellent resistance to migration with a specific resistance of the wiring circuit layer of 5 × 10 −5 Ω · cm or less and an insulation resistance of 5 × 10 13 Ω · cm or more after application of high temperature and high humidity voltage. showed that.

【0049】[0049]

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の配線基板
は、導体回路を金属成分として銅と、銀と、パラジウム
あるいは白金とを特定比率で含有する粉末により形成
し、これにパルス電流を印加することにより、粉末表面
の樹脂や酸化物を除去し、粉末同士の接触部にネック部
を形成することができるために、導体回路の比抵抗を大
幅に低減することができる。さらに、金属成分を銀、
銅、パラジウムあるいは白金により複合化しているため
に、高い導電性とともに耐マイグレーション性にも優れ
ている。これにより、配線回路の微細化と高密度化に充
分に対応することができ、超微細化、精密化の要求に応
えうることのできる高信頼性の配線基板を提供すること
ができる。
As described in detail above, the wiring board of the present invention comprises a conductive circuit formed of a powder containing copper, silver, palladium or platinum in a specific ratio as a metal component, and applying a pulse current thereto. By applying the resin, the resin or oxide on the powder surface can be removed and a neck portion can be formed at the contact portion between the powders, so that the specific resistance of the conductor circuit can be significantly reduced. Furthermore, the metal component is silver,
Since it is composited with copper, palladium or platinum, it has high conductivity and excellent migration resistance. This makes it possible to provide a highly reliable wiring board which can sufficiently cope with the miniaturization and high density of the wiring circuit and can meet the demands for ultra-fine and high precision.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の配線基板の基本的構造を説明するため
の概略断面図を示す。
FIG. 1 is a schematic sectional view for explaining a basic structure of a wiring board according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 絶縁基板 2 導体回路 3 配線回路層 4 スルーホール導体/ビアホール導体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Insulating board 2 Conductor circuit 3 Wiring circuit layer 4 Through-hole conductor / via-hole conductor

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】少なくとも有機樹脂を含む絶縁基板と、前
記絶縁基板の表面及び/または内部に、銅を主成分と
し、銀を1〜30重量%、パラジウムを0.1〜15重
量%または白金を0.1〜25重量%の割合で含有する
平均粒径が3〜10μmの金属粉末からなる導体回路が
形成されてなり、該導体回路の金属粉末間の接触部に少
なくとも銀と、パラジウムまたは白金とを含有する合金
からなるネック部が形成されてなることを特徴とする配
線基板。
1. An insulating substrate containing at least an organic resin and a surface and / or inside of the insulating substrate containing copper as a main component, silver of 1 to 30% by weight, palladium of 0.1 to 15% by weight or platinum. Is formed from a metal powder containing 0.1 to 25% by weight and having an average particle size of 3 to 10 μm, and at least silver, palladium or A wiring board, wherein a neck portion made of an alloy containing platinum is formed.
【請求項2】少なくとも有機樹脂を含む絶縁基板と、前
記絶縁基板の表面及び/または内部に、銅を主成分と
し、銀を1〜30重量%、パラジウムを0.1〜15重
量%または白金を0.1〜25重量%の割合で含有する
平均粒径が3〜10μmの金属粉末からなる導体回路を
形成した後、該導体回路にパルス電流を印加して、前記
金属粉末間の接触部を溶接して少なくとも銀と、パラジ
ウムあるいは白金の少なくとも1種とを含有する合金か
らなるネック部を形成することを特徴とする配線基板の
製造方法。
2. An insulating substrate containing at least an organic resin, and 1-30% by weight of silver, 0.1-15% by weight of palladium or platinum on a surface and / or inside of the insulating substrate, the main component being copper. Is formed from a metal powder containing 0.1 to 25% by weight and having an average particle size of 3 to 10 μm, and a pulse current is applied to the conductor circuit to make contact portions between the metal powders. Is welded to form a neck made of an alloy containing at least silver and at least one of palladium and platinum.
【請求項3】印加するパルス電流の電流密度が1〜20
00A/cm2 、パルス幅が0.01〜1000mse
c.であることを特徴とする請求項3記載の配線基板の
製造方法。
3. The current density of the applied pulse current is 1 to 20.
00 A / cm 2 , pulse width of 0.01 to 1000 mse
c. 4. The method for manufacturing a wiring board according to claim 3, wherein
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KR100809428B1 (en) 2006-07-28 2008-03-05 삼성전기주식회사 manufacturing method and device of printed circuit board

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