JPH1154864A - Printed circuit board and its manufacture - Google Patents

Printed circuit board and its manufacture

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Publication number
JPH1154864A
JPH1154864A JP20603797A JP20603797A JPH1154864A JP H1154864 A JPH1154864 A JP H1154864A JP 20603797 A JP20603797 A JP 20603797A JP 20603797 A JP20603797 A JP 20603797A JP H1154864 A JPH1154864 A JP H1154864A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silver
wiring layer
conductor wiring
coated
conductor
Prior art date
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Pending
Application number
JP20603797A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Riichi Sasamori
理一 笹森
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Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
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Publication of JPH1154864A publication Critical patent/JPH1154864A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printed circuit board provided with a conductor wiring layer, having high conductivity and superior anti-migration characteristic at low cost, and its manufacture. SOLUTION: This printed circuit board has an insulation board containing at least an organic resin on the front side of which and/or inside of which a conductor wiring layer is formed, containing silver-coated copper powder that is coated with 1-30 wt.% of silver and whose average particle diameter is 3-10 μm. In this case, a pulse current whose current density is 1-2000 A/cm<2> and whose pulse width is 0.01-1000 msec is applied to the conductor wiring layer, to form a neck part consisting of a silver-copper alloy to contact parts among the silver-coated copper powders 5, 5, and then thereby to enhance low resistance and anti-migration performance.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも有機樹
脂を含む絶縁基板の表面および/または内部に、金属粉
末を含む導体配線層を形成した、半導体素子収納用パッ
ケージなどに適した配線基板とその製造方法に関するも
のであり、特に、導体配線層の低抵抗化とともに、耐マ
イグレーション性の改良に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wiring board suitable for a package for accommodating a semiconductor element, wherein a conductive wiring layer containing a metal powder is formed on at least the surface and / or inside of an insulating substrate containing an organic resin. The present invention relates to a manufacturing method, and more particularly to improvement in resistance to migration of a conductive wiring layer and migration resistance.

【0002】[0002]

【従来技術】従来より、配線基板、例えば、半導体素子
を収納するパッケージに使用される多層配線基板とし
て、アルミナ等の絶縁層とW,Moなどの高融点金属か
らなる配線層とを具備したセラミック配線基板が多用さ
れているが、このようなセラミック配線基板は、硬くて
脆い性質を有することから、製造工程または搬送工程に
おいて、セラミックの欠けや割れ等が発生しやすく、ま
た、焼結前のグリーンシートにメタライズペーストを印
刷して、印刷後のシートを積層して焼結する場合、焼結
により得られる基板に反り等の変形や寸法のばらつき等
が発生しやすいという問題があり、回路基板の超高密度
化やフリップチップ等のような基板の平坦度の厳しい要
求に対して十分に対応できないという問題があった。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a multilayer wiring board used for a wiring board, for example, a package for housing a semiconductor element, a ceramic provided with an insulating layer such as alumina and a wiring layer made of a high melting point metal such as W and Mo. Wiring boards are often used, but such ceramic wiring boards are hard and brittle, so that in the manufacturing process or the transporting process, chipping or cracking of the ceramic is likely to occur, and also before sintering. When a metallized paste is printed on a green sheet, and the printed sheets are laminated and sintered, there is a problem that a substrate obtained by sintering is liable to be deformed such as warpage or dimensional variation, etc. However, there is a problem that it is not possible to sufficiently cope with strict requirements for flatness of a substrate such as ultra-high density and flip chips.

【0003】そこで、最近では、樹脂を含む絶縁層表面
に銅箔を接着した後、これをエッチングして微細な回路
を形成した基板や、銅などの金属粉末を含むペーストを
絶縁層に印刷して配線層を形成した後、これを積層し、
あるいは積層後に、所望位置にマイクロドリルやパンチ
ング等によりビア用の孔明けを行い、そのビア内壁にメ
ッキ法により金属を付着させて配線層を接続して多層化
したプリント配線基板が提案されている。また、絶縁層
としては、その強度を高めるために、樹脂に対して、粉
末状あるいは繊維状の無機質フィラーを分散させた基板
も提案されており、これらの複合材料からなる絶縁層上
に多数の半導体素子を搭載したマルチチップモジュール
(MCM)等への適用も検討されている。
[0003] Therefore, recently, a copper foil is adhered to the surface of an insulating layer containing a resin and then etched to form a substrate on which a fine circuit is formed, or a paste containing a metal powder such as copper is printed on the insulating layer. After forming the wiring layer by laminating,
Alternatively, a printed wiring board has been proposed in which a hole is drilled for a via at a desired position after lamination by microdrilling or punching, a metal is attached to the inner wall of the via by a plating method, and a wiring layer is connected to form a multilayer. . Further, as an insulating layer, a substrate in which a powdery or fibrous inorganic filler is dispersed with respect to a resin in order to increase the strength has been proposed. Application to a multi-chip module (MCM) on which a semiconductor element is mounted is also being studied.

【0004】以上のようなプリント配線板の多層化、配
線の超微細化、精密化の要求に対応して、樹脂を含む絶
縁層の表面に銅などの低抵抗金属を含む導体ペーストで
回路パターンを印刷したり、スルーホール中に導体ペー
ストを充填した高密度に多層化された配線基板を作製す
る試みが行われている。
[0004] In response to the demands for multi-layer printed wiring boards, ultra-fine wiring, and precision as described above, a circuit pattern is formed on a surface of an insulating layer containing a resin by using a conductive paste containing a low-resistance metal such as copper. Attempts have been made to print high-density multi-layered wiring boards in which conductive paste is filled in through holes and conductive paste is filled in through holes.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、低抵抗
金属を含む導体ペースト中には、絶縁性への印刷性を高
めるとともに、金属粉末を互いに結合させるために樹脂
を配合させることから、粉末の接触界面には、樹脂が介
在しやすいために、通常の銅箔や銅メッキにより形成さ
れた回路よりも抵抗値が高いという問題点があった。
However, since a conductive paste containing a low-resistance metal is mixed with a resin in order to enhance the printability on the insulating property and to bond the metal powders to each other, the contact of the powders is reduced. At the interface, there is a problem that the resistance value is higher than that of a circuit formed by ordinary copper foil or copper plating because a resin is easily interposed.

【0006】そのため、ペースト中の低抵抗金属として
は銀が多用されている。銀が主導体成分として用いられ
る理由は、金属中で最も導電率が高いこと、銅等の卑金
属に比べ化学的安定性が高いこと等による。しかしなが
ら、銀はコストが非常に高く、さらに銀が大気中湿気と
直流電界との相互作用により、銀配線相互間を移行する
現象、いわゆるマイグレーションが生じるために、回路
設計上の制約が多く、使用条件によっては信頼性に問題
があった。これに対して、銅は、比抵抗もある程度低
く、銀に比較して安価に入手できるものの、表面が酸化
しやすいことから、特殊な方法で貯蔵する必要があるな
ど、取り扱いが不便である。
For this reason, silver is frequently used as a low-resistance metal in the paste. The reason why silver is used as the main conductor component is that it has the highest conductivity among metals and has higher chemical stability than a base metal such as copper. However, silver has a very high cost, and silver has a phenomenon of migration between silver wirings due to the interaction between atmospheric moisture and a DC electric field, so-called migration. There was a problem in reliability under some conditions. On the other hand, copper has a low specific resistance to some extent and can be obtained at a lower cost than silver, but its surface is easily oxidized, so it is inconvenient to handle, for example, it needs to be stored by a special method.

【0007】そこで、これらの問題を解決するために、
銅粒子の表面に低抵抗の銀を被覆して、比抵抗の低減と
銅粒子の酸化を抑制した導電材料が特開昭56−101
739号、特開平8−138437号等にて提案されて
いる。
Therefore, in order to solve these problems,
A conductive material in which the surface of copper particles is coated with low-resistance silver to reduce the specific resistance and suppress the oxidation of the copper particles is disclosed in JP-A-56-101.
No. 739 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-13837.

【0008】しかしながら、これらの銀被覆銅粒子を用
いた場合においても、これらの粒子を結合するために全
固形分あたり3重量%以上の樹脂が必要とされており、
この樹脂分が粒子間の接触部に介在して接触抵抗が高く
なり、導体配線層の比抵抗を低減するには至っておら
ず、さらには、銀が単独で存在することからマイグレー
ションが生じるという問題があるのが現状である。ま
た、この樹脂分を加熱分解したり、通電加熱を行うこと
など様々な改良も行われているが、これらの加熱処理に
おいても十分な効果が得られておらず、場合によって
は、加熱によっては絶縁層に対して悪影響を及ぼすなど
の問題があった。
However, even when these silver-coated copper particles are used, a resin of 3% by weight or more per total solid content is required to bind these particles,
This resin component intervenes in the contact portion between the particles and increases the contact resistance, which has not led to a reduction in the specific resistance of the conductor wiring layer, and furthermore, the presence of silver alone causes migration. There is a current situation. In addition, various improvements have been made, such as heat decomposition of this resin component and conducting electric heating.However, sufficient effects have not been obtained in these heat treatments, and in some cases, depending on the heating, There were problems such as adverse effects on the insulating layer.

【0009】本発明は、上記のような欠点が生ぜず、安
価で、かつ高導電性で、且つ耐マイグレーション性に優
れたる導体配線層を具備した配線基板とその製造方法を
提供することを目的とするものである。
An object of the present invention is to provide a wiring board having a conductor wiring layer which is inexpensive, has high conductivity, and has excellent migration resistance, without causing the above-mentioned disadvantages, and a method of manufacturing the same. It is assumed that.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の課題
に対して検討を重ねた結果、導体配線層を形成する主導
体成分として所定量の銀を含有する銀被覆銅粉末を用
い、この粉末を用いて形成された導体配線層に対して高
圧力で加熱処理を行い粒子同士を圧接させるとともに、
該導体配線層に対して、パルス電流を印加することで、
金属粒子間の接点付近に放電を起こし、電気の導通を妨
げていた銀被覆銅粉末表面の樹脂や酸化物を除去すると
同時に粒子同士を溶接して接触部を銀と銅の合金によっ
て形成することにより、配線層の抵抗を格段に下げるこ
とができ、さらに単独で存在する銀量を合金化により低
減できることから、銀によるマイグレーションを抑制で
きることを見出し、これにより多層プリント配線基板の
超微細化、精密化の要求に応えうることのできる高信頼
性の導体配線層を形成することができることを知見し
た。
Means for Solving the Problems As a result of repeated studies on the above problems, the present inventor has used silver-coated copper powder containing a predetermined amount of silver as a main conductor component for forming a conductor wiring layer, A heat treatment is applied to the conductor wiring layer formed using this powder at a high pressure to bring the particles into pressure contact with each other,
By applying a pulse current to the conductor wiring layer,
Discharge occurs near the point of contact between metal particles, removing the resin and oxide on the surface of the silver-coated copper powder that was preventing electrical conduction and simultaneously welding the particles together to form a contact part with an alloy of silver and copper It has been found that the resistance of the wiring layer can be remarkably reduced, and that the amount of silver present alone can be reduced by alloying, so that migration due to silver can be suppressed. It has been found that it is possible to form a highly reliable conductor wiring layer that can respond to the demand for the realization.

【0011】即ち、本発明の配線基板は、少なくとも有
機樹脂を含む絶縁基板と、前記絶縁基板の表面及び/ま
たは内部に、銀1〜30重量%を被覆してなる平均粒径
が3〜10μmの銀被覆銅粉末を含む導体配線層が形成
されてなる配線基板であって、前記導体配線層の銀被覆
銅粉末間の接触部に銀銅合金からなるネック部が形成さ
れてなることを特徴とするのである。
That is, the wiring board of the present invention has an insulating substrate containing at least an organic resin, and the surface and / or inside of the insulating substrate is coated with 1 to 30% by weight of silver and has an average particle size of 3 to 10 μm. A wiring substrate on which a conductor wiring layer containing silver-coated copper powder is formed, wherein a neck portion made of a silver-copper alloy is formed at a contact portion between the silver-coated copper powders of the conductor wiring layer. That is.

【0012】また、本発明の配線基板の製造方法は、少
なくとも有機樹脂を含む絶縁基板の表面及び/または内
部に、銀1〜30重量%を被覆してなる平均粒径が3〜
10μmの銀被覆銅粉末を含む導体配線層を形成した
後、該導体配線層にパルス電流を印加して、前記銀被覆
銅粉末間の接触部を溶接して銀銅の合金に変換したこと
を特徴とするものであり、特に、印加するパルス電流の
電流密度が1〜2000A/cm2 、パルス幅が0.0
1〜1000msec.であることを特徴とするもので
ある。
Further, in the method for producing a wiring board according to the present invention, the surface and / or inside of an insulating substrate containing at least an organic resin is coated with 1 to 30% by weight of silver and has an average particle size of 3 to 3%.
After forming a conductor wiring layer containing 10 μm silver-coated copper powder, applying a pulse current to the conductor wiring layer, welding the contact portion between the silver-coated copper powder and converting it to a silver-copper alloy. In particular, the current density of the applied pulse current is 1 to 2000 A / cm 2 , and the pulse width is 0.0
1 to 1000 msec. It is characterized by being.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明の配線基板は、基本的には
図1の概略断面図に示すように、絶縁基板1と導体配線
層2によって構成される。また、前記導体配線層2とし
ては、絶縁基板の表面または絶縁層間に形成された配線
回路層3と、異なる層の配線回路層3間を接続するスル
ーホール導体またはビアホール導体4により構成され
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A wiring board according to the present invention is basically composed of an insulating substrate 1 and a conductor wiring layer 2, as shown in a schematic sectional view of FIG. The conductor wiring layer 2 includes a wiring circuit layer 3 formed on the surface of an insulating substrate or between insulating layers, and a through-hole conductor or a via-hole conductor 4 for connecting between different wiring circuit layers 3.

【0014】本発明における絶縁基板は、絶縁材料とし
ての電気的特性、耐熱性、および機械的強度を有する熱
硬化性樹脂、例えば、アラミド樹脂、フェノール樹脂、
エポキシ樹脂、イミド樹脂、フッ素樹脂、フェニレンエ
ーテル樹脂、ビスマイレイドトリアジン樹脂、ユリア樹
脂、メラミン樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、不
飽和ポリエステル樹脂、アリル樹脂等が、単独または組
み合わせで含む。
The insulating substrate in the present invention is made of a thermosetting resin having electrical properties, heat resistance and mechanical strength as an insulating material, for example, aramid resin, phenol resin,
Epoxy resins, imide resins, fluororesins, phenylene ether resins, bismaleide triazine resins, urea resins, melamine resins, silicone resins, urethane resins, unsaturated polyester resins, allyl resins, and the like, alone or in combination.

【0015】また、上記の絶縁基板中には、絶縁基板あ
るいは配線基板全体の強度を高めるために、有機樹脂に
対してフィラーを複合化させることもできる。有機樹脂
と複合化されるフィラーとしては、SiO2 、Al2
3 、ZrO2 、TiO2 、AlN、SiC、BaTiO
3 、SrTiO3 、ゼオライト、CaTiO3 、ほう酸
アルミニウム等の無機質フィラーが好適に用いられる。
また、ガラスやアラミド樹脂からなる不織布、織布など
に上記樹脂を含浸させて用いてもよい。なお、有機樹脂
とフィラーとは、体積比率で15:85〜50:50の
比率で複合化されるのが適当である。これらの中でも、
絶縁層の加工性、強度等の点で、エポキシ樹脂、イミド
樹脂、フェニレンエーテル樹脂と、シリカまたはアラミ
ド不織布との混合物であることが最も望ましい。
In the above-mentioned insulating substrate, a filler can be compounded with an organic resin in order to increase the strength of the entire insulating substrate or wiring substrate. SiO 2 , Al 2 O
3 , ZrO 2 , TiO 2 , AlN, SiC, BaTiO
3 , inorganic fillers such as SrTiO 3 , zeolite, CaTiO 3 and aluminum borate are preferably used.
Further, a nonwoven fabric or a woven fabric made of glass or aramid resin may be used by impregnating the above resin. The organic resin and the filler are preferably compounded in a volume ratio of 15:85 to 50:50. Among these,
In terms of workability, strength and the like of the insulating layer, a mixture of an epoxy resin, an imide resin, a phenylene ether resin, and a silica or aramid nonwoven fabric is most desirable.

【0016】本発明によれば、導体配線層2は、銀被覆
銅粉末を導体材料として含有するものである。この銀被
覆銅粒子は、銀を全量中1〜30重量%、特に1〜15
重量%の割合で含有することが必要である。これは銀被
覆量が1重量%よりも少ないと従来の銅粉末と同様に耐
酸化性が悪くなり、銀含有量が30重量%よりも大きく
なると銀のマイグレーションが起こりやすくなるためで
ある。
According to the present invention, the conductor wiring layer 2 contains silver-coated copper powder as a conductor material. The silver-coated copper particles contain 1 to 30% by weight of silver, preferably 1 to 15% by weight of the total amount.
It is necessary to contain it in a proportion of weight%. This is because when the silver coating amount is less than 1% by weight, the oxidation resistance is deteriorated as in the case of the conventional copper powder, and when the silver content is more than 30% by weight, silver migration is likely to occur.

【0017】また、この銀被覆銅粉末の平均粒径が3〜
10μm、特に3〜8μm、最適には3〜7μmである
ことが必要である。これは平均粒径が3μmよりも小さ
いか、あるいは10μmよりも大きくなるといずれも導
体ペーストの印刷性および充填性が悪くなるとともに、
銀被覆銅粒子の充填密度が低下することにより抵抗が高
くなってしまうためである。なお、銀被覆銅粉末中に
は、銅および銀以外の金属粒子、例えば、Fe、Co、
Ni等を総量で10重量%以下含有されていても良い。
The silver-coated copper powder has an average particle size of 3 to
It needs to be 10 μm, especially 3 to 8 μm, optimally 3 to 7 μm. This is because when the average particle diameter is smaller than 3 μm or larger than 10 μm, the printability and filling property of the conductive paste are all deteriorated,
This is because the resistance increases due to a decrease in the packing density of the silver-coated copper particles. In the silver-coated copper powder, metal particles other than copper and silver, for example, Fe, Co,
Ni or the like may be contained in a total amount of 10% by weight or less.

【0018】また、本発明の配線基板における導体配線
層中には、前記銀被覆銅粒子間の結合をとるために樹脂
結合剤が配合されていてもよく、このような結合剤とし
ては、印刷性の点でセルロース系、ポリエチレングリコ
ール等のグリコール系の樹脂が好適に使用されるが、そ
の他、上述した熱硬化性樹脂等を用いることもできる。
この樹脂結合剤は、その量が多くなるほど、粒子間に介
在して接触抵抗を接触抵抗を増大させる傾向にあるた
め、2重量部以下、特に0.05〜1重量部であること
が印刷性および導体配線層の低抵抗化を図る上で望まし
い。
Further, a resin binder may be blended in the conductor wiring layer of the wiring board of the present invention in order to obtain a bond between the silver-coated copper particles. Glycol resins such as cellulose and polyethylene glycol are preferably used in terms of properties, but the above-mentioned thermosetting resins and the like can also be used.
As the amount of the resin binder increases, the contact resistance tends to increase due to interposition between the particles, so that the printability is preferably 2 parts by weight or less, particularly 0.05 to 1 part by weight. In addition, it is desirable to reduce the resistance of the conductor wiring layer.

【0019】なお、本発明の配線基板における導体配線
層の露出する表面に、ニッケルや金等の耐食性に優れ、
かつ半導体素子等の電子部品との接合性および外部電気
回路基板の配線層との接続性に優れる金属をメッキ法に
より1〜20μmの厚みで被着形成させておくことによ
り、導体配線層が酸化腐食することを有効に防止するこ
とができるとともに、導体配線層の電気部品あるいは外
部電気回路基板との電気接続を容易、かつ強固に行うこ
とができる。
The exposed surface of the conductor wiring layer of the wiring board of the present invention has excellent corrosion resistance of nickel, gold, etc.
In addition, a metal having excellent bonding properties with electronic components such as semiconductor elements and connectivity with a wiring layer of an external electric circuit board is formed in a thickness of 1 to 20 μm by plating so that the conductive wiring layer is oxidized. Corrosion can be effectively prevented, and electrical connection of the conductor wiring layer to an electric component or an external electric circuit board can be easily and firmly made.

【0020】また、導体配線層中の銀被覆銅粉末5は、
通常、図2に示すように、銅からなる内部コア6の表面
に所定の厚みの銀からなるシェル7により構成されてお
り、粉末5、5間は点接触している。これに対して、本
発明によれば、図3に示すように、銀被覆銅粉末5、5
間の接触部が、溶接されることによりネック部8が形成
され,しかも少なくともネック部8は内部コア6の銅成
分とシェル7の銀成分により合金化した銀銅合金によっ
て形成されている。このネック部8の幅Lは、粉末5の
粒径の1/5以上であることが低抵抗化を達成する上で
望ましい。そして、このネック部8は、また、粉末間の
非接触部においても、粉末表面のシェル中には、銅成分
が混入して銀銅合金からなる被膜が形成されていること
が耐マイグレーションの点で望ましい。
The silver-coated copper powder 5 in the conductor wiring layer is
Usually, as shown in FIG. 2, a surface of an inner core 6 made of copper is constituted by a shell 7 made of silver having a predetermined thickness, and the powders 5 are in point contact with each other. On the other hand, according to the present invention, as shown in FIG.
The neck portion 8 is formed by welding the contact portion between them, and at least the neck portion 8 is formed of a silver-copper alloy alloyed with the copper component of the inner core 6 and the silver component of the shell 7. The width L of the neck portion 8 is desirably at least 1/5 of the particle size of the powder 5 in order to achieve low resistance. In addition, the neck portion 8 is formed of a silver-copper alloy film in which the copper component is mixed in the shell on the powder surface even in the non-contact portion between the powders, in view of the migration resistance. Is desirable.

【0021】本発明の配線基板の製造方法によれば、ま
ず、前述したような熱硬化性樹脂、あるいは熱可塑性樹
脂と無機質フィラーとを用いて、これに適当な硬化剤、
溶剤を添加混合してスラリー状となし、これをドクター
ブレード法、カレンダーロール法、圧延法等によりシー
ト状に成形して絶縁層を作製する。所望によりこれを加
熱硬化させて半硬化あるいは完全硬化させて作製され
る。また、絶縁層としては、上記以外にプリプレグ等を
用いることもできる。
According to the method for manufacturing a wiring board of the present invention, first, a thermosetting resin or a thermoplastic resin and an inorganic filler as described above are used, and an appropriate curing agent is added thereto.
A slurry is formed by adding and mixing a solvent, and the slurry is formed into a sheet by a doctor blade method, a calender roll method, a rolling method, or the like to form an insulating layer. If desired, this is heated and cured to be semi-cured or completely cured. In addition, other than the above, a prepreg or the like can be used as the insulating layer.

【0022】次に、この絶縁層に、銀被覆銅粉末を含む
導体配線層を形成する。適用する導体配線層としては、
絶縁基板の表面や絶縁層間に形成される配線回路層およ
び/または配線回路層間を接続するビアホール導体やス
ルーホール導体のいずれでもよい。導体配線層を形成す
る場合には、銀被覆銅粉末を主体とする導体ペースト
を、スクリーン印刷法、グラビア印刷法などの周知の印
刷方法によって厚さ10〜35μmの厚みで印刷する。
また、ビアホール導体やスルーホール導体を形成する場
合には、絶縁層にビアホールやスルーホールなどを形成
し、そのホール内に導体ペーストを充填する。
Next, a conductor wiring layer containing silver-coated copper powder is formed on the insulating layer. As the applicable conductor wiring layer,
Either a via-hole conductor or a through-hole conductor connecting the wiring circuit layers formed on the surface of the insulating substrate or between the insulating layers and / or the wiring circuit layers may be used. When forming the conductor wiring layer, a conductor paste mainly composed of silver-coated copper powder is printed to a thickness of 10 to 35 μm by a known printing method such as a screen printing method or a gravure printing method.
When a via-hole conductor or a through-hole conductor is formed, a via-hole or a through-hole is formed in an insulating layer, and the hole is filled with a conductive paste.

【0023】この時に用いる導体ペーストとしては、固
形成分として、平均粒径が3〜10μm、特に3〜7μ
m、最適には3〜5μmの銀被覆銅粉末と、粉末100
重量部に対して樹脂結合剤を2重量部以下、特に0.0
5〜1重量部の割合で含み、さらには、適当な溶剤等を
含む。また、場合によっては、適当な硬化剤を含む場合
もある。
The conductive paste used at this time has a mean particle size of 3 to 10 μm, particularly 3 to 7 μm, as a solid component.
m, optimally 3-5 μm silver-coated copper powder and powder 100
2 parts by weight or less, particularly 0.0
5 to 1 parts by weight, and further contains a suitable solvent and the like. In some cases, the composition may contain an appropriate curing agent.

【0024】また、多層化する場合には、例えば、導体
ペーストによって導体配線層が形成された複数の絶縁層
を積層し、30kg/cm2 以下の圧力で圧着する。こ
の圧着は、導体配線層が軟化した状態で行われることが
望ましく、樹脂結合剤が熱硬化性樹脂の場合には、半硬
化の状態で積層圧着することにより絶縁層を密着するこ
とができ、さらには絶縁層間に接着剤を介在させて積層
することもできる。
In the case of multi-layering, for example, a plurality of insulating layers each having a conductor wiring layer formed by a conductor paste are laminated and pressure-bonded at a pressure of 30 kg / cm 2 or less. This crimping is desirably performed in a state where the conductor wiring layer is softened, and when the resin binder is a thermosetting resin, the insulating layer can be adhered by laminating and crimping in a semi-cured state, Further, they can be laminated with an adhesive interposed between the insulating layers.

【0025】このようにして作製された配線基板におい
ては、導体配線層における金属粉末の表面には、配線層
中に含まれる樹脂によって粉末表面に薄い樹脂膜が存在
したり、大気中の酸素によって酸化した薄い酸化膜が形
成されている。また、銀被覆銅粉末の場合、表面に銀の
単独層が存在しており、これにより銀のマイグレーショ
ンが生じやすい。
In the wiring board thus manufactured, a thin resin film exists on the surface of the metal powder in the conductor wiring layer due to the resin contained in the wiring layer, or the metal powder in the conductive wiring layer is exposed to oxygen in the atmosphere. An oxidized thin oxide film is formed. In the case of silver-coated copper powder, a single layer of silver is present on the surface, and silver migration easily occurs.

【0026】そこで、本発明によれば、上記のように作
製された配線基板における導体配線層に対して、パルス
電流を印加する。この配線層にパルス電流を連続して連
続して印加すると金属粒子間にプラズマ放電を生じる。
このプラズマにより金属粒子表面の酸化膜や付着物が除
去され、いわゆる溶接された状態となって、金属粒子同
士が導電性を妨げる介在物なしに接触することが可能に
なり、この結果、通電加熱のみでは達成されなかった低
抵抗の配線層を、その周辺の絶縁層に悪影響を及ぼすこ
となく、形成することができるのである。
Therefore, according to the present invention, a pulse current is applied to the conductor wiring layer in the wiring board manufactured as described above. When a pulse current is continuously applied to the wiring layer, a plasma discharge is generated between the metal particles.
The plasma removes oxide films and deposits on the surface of the metal particles, resulting in a so-called welded state, whereby the metal particles can come into contact with each other without inclusions that impede the conductivity. It is possible to form a low-resistance wiring layer, which has not been achieved only by itself, without adversely affecting the surrounding insulating layer.

【0027】さらに本発明によれば、上記のように銀被
覆銅粉末同士の接触部が溶接された状態になると同時
に、少なくとも接触部において銀と銅が合金化した状態
となって、単独で存在する銀が減少し耐マイグレーショ
ン性を高めることができる。
Further, according to the present invention, the contact portion between the silver-coated copper powders is in a welded state as described above, and at the same time, silver and copper are alloyed at least in the contact portion. The amount of silver produced decreases, and the migration resistance can be improved.

【0028】このパルス電流の印加は、電流を印加する
導体配線層の両端に電極を押し当ててパルス電流を印加
する。印加するパルス電流の最適条件としては、電流密
度が1〜2000A/cm2 、パルス幅が0.01〜1
000msec.の条件が良好に用いられ、電流密度が
1A/cm2 より低いと、溶接されずに金属粉末間の界
面に存在する酸化膜や樹脂の除去が難しく、また200
0A/cm2 を越えると、部分的に発熱が起こり絶縁基
板を傷める場合があるためである。また、望ましくは、
パルス列によるパルス間隔は0.01〜1000mse
c.であり、且つ電流の印加は、5秒〜5分間、特に1
0秒〜1分間が望ましい。
The pulse current is applied by pressing the electrodes against both ends of the conductor wiring layer to which the current is applied to apply the pulse current. The optimum conditions for the applied pulse current are as follows: current density is 1 to 2000 A / cm 2 , and pulse width is 0.01 to 1
000 msec. If the current density is lower than 1 A / cm 2 , it is difficult to remove the oxide film and resin existing at the interface between the metal powders without welding,
If it exceeds 0 A / cm 2 , heat is partially generated and the insulating substrate may be damaged. Also, preferably,
Pulse interval by pulse train is 0.01 to 1000 mse
c. And current is applied for 5 seconds to 5 minutes,
0 seconds to 1 minute is desirable.

【0029】また、パルス電流の低周波領域での1パル
スの形状が、矩形波であることが望ましい。正弦波等も
用いられるが矩形波が最も効果的である。また、パルス
電流が、直流パルスであることが望ましい。それは、正
弦波よりも矩形波のほうが、粒子間の放電が起こりやす
く、表面の清浄効果が高く、パルス電流は交流よりも直
流のほうが一旦清浄された粒子表面に汚れ等が付着しに
くいためである。
It is desirable that the shape of one pulse of the pulse current in the low frequency region be a rectangular wave. Although a sine wave or the like is used, a rectangular wave is most effective. Further, it is desirable that the pulse current is a DC pulse. The reason is that a rectangular wave is more likely to cause discharge between particles than a sine wave, has a higher surface cleaning effect, and a pulse current is less likely to cause dirt or the like to adhere to a once-cleaned particle surface than to an alternating current. is there.

【0030】さらに、上記パルス電流の印加の後に、配
線層に通電により加熱処理を施すことにより、さらに配
線層の低抵抗化を図ることができる。通電処理は、電流
密度1〜4000A/cm2 の直流、交流でもよく、通
電による加熱温度は100〜350℃の範囲が適当であ
る。この時の温度が100℃よりも低いと、電気抵抗を
下げる効果が小さく、350℃を越えると絶縁層や導体
配線層を構成する樹脂が分解する場合がある。この通電
加熱によって、金属粉末間の接点が発熱し粉末同士の結
合力をさらに高めることができる。
Further, after the application of the pulse current, the wiring layer is subjected to a heat treatment by energization, whereby the resistance of the wiring layer can be further reduced. The energization treatment may be DC or AC with a current density of 1 to 4000 A / cm 2 , and the heating temperature by energization is suitably in the range of 100 to 350 ° C. If the temperature at this time is lower than 100 ° C., the effect of lowering the electric resistance is small, and if it is higher than 350 ° C., the resin constituting the insulating layer and the conductor wiring layer may be decomposed. The contact heating between the metal powders generates heat by the energization heating, so that the bonding force between the powders can be further increased.

【0031】また、この通電加熱は、前述したパルス電
流の印加と同時に行うことができる。具体的には、直流
のパルス電流と直流電流とをあわせた波形、つまり直流
電流波形の上部が矩形波となった電流を印加すると通電
加熱による作用と、パルス電流印加による放電溶接作用
とを同時に付加することができる。
The current heating can be performed simultaneously with the application of the pulse current. Specifically, when a waveform obtained by combining a DC pulse current and a DC current, that is, when a current having a rectangular waveform at the top of the DC current waveform is applied, the action of energization heating and the discharge welding action of pulse current application are simultaneously performed. Can be added.

【0032】上記の導体配線層に印加するパルス電流を
制御することにより比抵抗5×10-5以下、特に銀含有
量が5重量%以上で3×10-5Ω・cm以下の低抵抗化
を実現することが可能となる。さらに、本発明によれ
ば、上述の製造方法により作製した配線基板は、例え
ば、線幅0.5mm、ギャップ0.4mmの櫛歯パター
ンにおいて、130℃85%相対湿度中に5Vの直流電
圧を100時間印加後の絶縁抵抗が1×1013Ω・cm
以上、特に銀含有量15重量%以下で6×1013Ω・c
m以上の優れた耐マイグレーション性を示し、これによ
り、配線基板における導体配線層の超微細化、精密化の
要求に応えることのできる高信頼性の配線基板を提供す
ることができる。
By controlling the pulse current applied to the conductor wiring layer, the specific resistance is reduced to 5 × 10 −5 or less, particularly to 3 × 10 −5 Ω · cm or less when the silver content is 5% by weight or more. Can be realized. Further, according to the present invention, the wiring board manufactured by the above-described manufacturing method can apply a DC voltage of 5 V at 130 ° C. and 85% relative humidity in a comb pattern having a line width of 0.5 mm and a gap of 0.4 mm, for example. Insulation resistance after application for 100 hours is 1 × 10 13 Ω · cm
As described above, especially when the silver content is 15% by weight or less, 6 × 10 13 Ω · c
m, which can provide a highly reliable wiring board that can meet the demand for ultra-fine and precise conductor wiring layers in the wiring board.

【0033】[0033]

【実施例】平均粒径が約5μmの略球形の酸化珪素70
体積%、イミド樹脂30体積%を用いてスラリーを調整
し、このスラリーを用いてドクターブレード法によって
キャリアシート上に塗布し、これを50℃の温度で60
分間乾燥して厚み120μmの絶縁層を完成した。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Substantially spherical silicon oxide 70 having an average particle size of about 5 μm
A slurry was prepared by using 30% by volume of imide resin and 30% by volume of imide resin, and the slurry was applied to a carrier sheet by a doctor blade method, and this was applied at a temperature of 50 ° C. to 60%.
After drying for 120 minutes, an insulating layer having a thickness of 120 μm was completed.

【0034】次に、前記絶縁基板の表面に、表1の平均
粒径および銀の含有量を有する銀被覆銅粉末99.8重
量部、セルロース0.2重量部、溶剤として2−オクタ
ノール10重量部とを混合してなる導電性ペーストを調
製し、スクリーン印刷法により線幅0.5mm、ギャッ
プ0.4mmの櫛歯パターンを印刷した。また、1部に
直径が0.1mmのスルーホールを形成しそのホール内
にこのペーストを充填した。
Next, 99.8 parts by weight of silver-coated copper powder having an average particle size and silver content shown in Table 1, 0.2 parts by weight of cellulose, and 10 parts by weight of 2-octanol as a solvent were provided on the surface of the insulating substrate. A conductive paste was prepared by mixing the above-mentioned parts and a comb-tooth pattern having a line width of 0.5 mm and a gap of 0.4 mm was printed by a screen printing method. Further, a through hole having a diameter of 0.1 mm was formed in one part, and the paste was filled in the hole.

【0035】次に、上記のようにして導体配線層を形成
した8層の絶縁層を作製し、これを位置合わせして積層
圧着した。そして、この積層物をプレス機内にセット
し、50kg/cm2 の圧力を印加した。さらに120
℃に加熱してペースト中の有機溶剤を揮散除去した。そ
の後、250℃で5時間処理して、熱硬化性樹脂を完全
硬化させて配線基板を作製した。
Next, eight insulating layers on which the conductor wiring layers were formed as described above were prepared, and the resultant was aligned and laminated and pressed. Then, the laminate was set in a press machine, and a pressure of 50 kg / cm 2 was applied. Further 120
C. to remove the organic solvent in the paste. After that, the substrate was treated at 250 ° C. for 5 hours to completely cure the thermosetting resin, thereby producing a wiring board.

【0036】得られた配線基板に対して、導体配線層の
両極端に表1に示す電流密度およびパルス幅で30秒間
パルス電流を印加した。なお、パルス間間隔はパルス幅
と同じにした。また、一部の基板に対しては、さらに、
表1に示す条件で通電加熱を行った。
A pulse current was applied to the obtained wiring board at the extremes of the conductor wiring layer at the current density and pulse width shown in Table 1 for 30 seconds. Note that the interval between the pulses was the same as the pulse width. Also, for some substrates,
Electric heating was performed under the conditions shown in Table 1.

【0037】そして、これらの処理後の配線基板におけ
導体配線層の初期体積固有抵抗と、130℃、85%
相対湿度中に5Vの直流電圧を100時間印加後の櫛歯
パターン間の絶縁抵抗を測定し、その結果を表1に示し
た。また、導体配線層の銀被覆銅粉末の接触状況を走査
型電子顕微鏡写真(SEM)により観察し、溶接の有無
を確認し、溶接により形成されたネック幅の金属粉末の
粒径に対する比率を測定しその平均を求めた。
Then, the initial volume resistivity of the conductor wiring layer in the wiring board after these treatments was measured at 130 ° C. and 85%
The insulation resistance between the comb patterns after applying a DC voltage of 5 V to the relative humidity for 100 hours was measured, and the results are shown in Table 1. In addition, the contact state of the silver-coated copper powder in the conductor wiring layer is observed with a scanning electron micrograph (SEM) to confirm the presence or absence of welding, and the ratio of the neck width formed by welding to the particle size of the metal powder is measured. The average was calculated.

【0038】[0038]

【表1】 [Table 1]

【0039】表1の結果から明らかなように、銀被覆銅
粉末における銀含有量が1重量%よりも少ない試料No.
6は、比抵抗が5×10-5Ω−cmを越えるものであ
り、30重量%よりも多い試料No.25では、高温多湿
での通電処理後の抵抗がマイグレーションによって低下
した。また、平均粒径が3μmよりも小さい試料No.1
〜3、あるいは10μmよりも大きい試料No.20〜2
2では、いずれも比抵抗が大きいものであった。
As is clear from the results shown in Table 1, the sample No. having a silver content in the silver-coated copper powder of less than 1% by weight was used.
Sample No. 6 has a specific resistance of more than 5 × 10 −5 Ω-cm, and in Sample No. 25 containing more than 30% by weight, the resistance after energization treatment at high temperature and high humidity was reduced by migration. Sample No. 1 having an average particle size smaller than 3 μm was used.
33, or sample No. 2032 larger than 10 μm
Sample No. 2 had a large specific resistance.

【0040】また、本発明により、導体配線層に対して
電流密度が1〜2000A/cm2、パルス幅0.01
〜1000msec.のパルス電流を印加したその他の
本発明試料は、SEM観察から粉末間の接触部が溶接に
よるネックの成長が観察された。また、このネックの成
長が見られた各試料に対して、EPMA(X線マイクロ
アナライザー)によりネック部の成分を分析した結果、
いずれもネック部から銀と銅の両方の成分が検出され、
ネック部が銀銅合金になっていることがわかった。ま
た、このうち、パルス電流値が1000A/cm2 以上
の試料については、銀被覆銅粉末間の非接触部の表面に
おいても銀銅合金が生成されていることがわかった。
Further, according to the present invention, the current density is 1 to 2000 A / cm 2 and the pulse width is 0.01
~ 1000 msec. In the other samples of the present invention to which the pulse current was applied, neck growth due to welding at the contact portion between the powders was observed from SEM observation. Further, as a result of analyzing the components of the neck portion by EPMA (X-ray microanalyzer) for each sample in which the growth of the neck was observed,
In both cases, both silver and copper components are detected from the neck,
It was found that the neck was made of a silver-copper alloy. In addition, it was found that among the samples having a pulse current value of 1000 A / cm 2 or more, the silver-copper alloy was formed also on the surface of the non-contact portion between the silver-coated copper powders.

【0041】これらの本発明の試料は、いずれも導体配
線層の初期比抵抗が5×10-5Ω−cm以下の低抵抗を
示し、且つ高温高湿中での電圧印加後の配線間の抵抗が
1×1013Ω−cm以上の優れた耐マイグレーション性
を示した。
Each of these samples of the present invention has a low initial resistivity of 5 × 10 −5 Ω-cm or less in the conductor wiring layer, and has a low inter-wiring resistance after voltage application in high temperature and high humidity. It exhibited excellent migration resistance with a resistance of 1 × 10 13 Ω-cm or more.

【0042】[0042]

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の配線基板に
よれば、導体配線層を銀被覆銅粉末により形成すること
により、導電性に優れており、パルス電流を印加するこ
とにより、粉末表面の樹脂や酸化物を除去し、粒子同士
の接触部を溶接することができるために、導体配線層の
比抵抗を大幅に低減することができる。さらに、銀被覆
銅粒子間の接触部が合金化するために耐マイグレーショ
ン性も優れている。これにより、配線層の微細化と高密
度化に十分に対応することができ、超微細化、精密化の
要求に応えうることのできる高信頼性の配線基板を作製
することができる。
As described in detail above, according to the wiring board of the present invention, since the conductive wiring layer is formed of silver-coated copper powder, it has excellent conductivity. Since the resin or oxide on the surface can be removed and the contact portion between the particles can be welded, the specific resistance of the conductor wiring layer can be significantly reduced. Furthermore, since the contact portion between the silver-coated copper particles is alloyed, migration resistance is also excellent. As a result, a highly reliable wiring board that can sufficiently cope with the miniaturization and high density of the wiring layer and can meet the demands for ultrafineness and precision can be manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の配線基板の概略断面図を示す。FIG. 1 is a schematic sectional view of a wiring board of the present invention.

【図2】本発明における導体配線層中の銀被覆銅粉末の
接触状態を説明するための要部拡大図である。
FIG. 2 is an enlarged view of a main part for describing a contact state of silver-coated copper powder in a conductor wiring layer according to the present invention.

【図3】従来における導体配線層中の銀被覆銅粉末の接
触状態を説明するための要部拡大図である。
FIG. 3 is an enlarged view of a main part for describing a contact state of silver-coated copper powder in a conductor wiring layer in the related art.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 絶縁基板 2 導体配線層 3 配線回路層 4 スルーホール導体/ビアホール導体 5 銀被覆銅粉末 6 内部コア 7 シェル 8 ネック部 REFERENCE SIGNS LIST 1 insulating substrate 2 conductor wiring layer 3 wiring circuit layer 4 through-hole conductor / via-hole conductor 5 silver-coated copper powder 6 internal core 7 shell 8 neck

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】少なくとも有機樹脂を含む絶縁基板と、前
記絶縁基板の表面及び/または内部に、銀1〜30重量
%を被覆してなる平均粒径が3〜10μmの銀被覆銅粉
末を含む導体配線層が形成されてなる配線基板であっ
て、前記導体配線層の銀被覆銅粉末間の接触部に銀銅合
金からなるネック部が形成されてなることを特徴とする
配線基板。
An insulating substrate containing at least an organic resin, and a silver-coated copper powder coated on a surface and / or inside of the insulating substrate and coated with silver of 1 to 30% by weight and having an average particle size of 3 to 10 μm. A wiring board having a conductor wiring layer formed thereon, wherein a neck portion made of a silver-copper alloy is formed at a contact portion between the silver-coated copper powders of the conductor wiring layer.
【請求項2】少なくとも有機樹脂を含む絶縁基板と、前
記絶縁基板の表面及び/または内部に、銀1〜30重量
%を被覆してなる平均粒径が3〜10μmの銀被覆銅粉
末を含む導体配線層を形成した後、該導体配線層にパル
ス電流を印加して、前記銀被覆銅粉末間の接触部を溶接
して銀銅合金を生成したことを特徴とする配線基板の製
造方法。
2. An insulating substrate containing at least an organic resin, and a silver-coated copper powder coated on the surface and / or inside of the insulating substrate with 1 to 30% by weight of silver and having an average particle size of 3 to 10 μm. A method of manufacturing a wiring board, comprising: forming a conductive wiring layer, applying a pulse current to the conductive wiring layer, and welding a contact portion between the silver-coated copper powders to form a silver-copper alloy.
【請求項3】印加するパルス電流の電流密度が1〜20
00A/cm2 、パルス幅が0.01〜1000mse
c.であることを特徴とする請求項2記載の配線基板の
製造方法。
3. The current density of the applied pulse current is 1 to 20.
00 A / cm 2 , pulse width of 0.01 to 1000 mse
c. 3. The method for manufacturing a wiring board according to claim 2, wherein:
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7267883B2 (en) 2002-09-25 2007-09-11 Kaneka Corporation Polyimide film and laminate having metal layer and same
US7592566B2 (en) * 2001-12-28 2009-09-22 Abb S.P.A. Method for welding contact plates and contact elements obtained with the method
JP2012104857A (en) * 2012-01-30 2012-05-31 Dainippon Printing Co Ltd Conductive substrate
KR20220105329A (en) * 2021-01-20 2022-07-27 서울과학기술대학교 산학협력단 Silver Coated Copper Preform and Sinter Bonding Method using the Same

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7592566B2 (en) * 2001-12-28 2009-09-22 Abb S.P.A. Method for welding contact plates and contact elements obtained with the method
US7267883B2 (en) 2002-09-25 2007-09-11 Kaneka Corporation Polyimide film and laminate having metal layer and same
JP2012104857A (en) * 2012-01-30 2012-05-31 Dainippon Printing Co Ltd Conductive substrate
KR20220105329A (en) * 2021-01-20 2022-07-27 서울과학기술대학교 산학협력단 Silver Coated Copper Preform and Sinter Bonding Method using the Same

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