JPH1197329A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理具が取付けられた保持アームの待機スペ
ースの縮小化を図ることができる基板処理装置を提供す
る。 【解決手段】 複数個の保持アーム７を飛散防止カップ
２の周りに放射状に配置する。この保持アーム７は、基
端部の揺動軸を介して保持アーム７を揺動可能に支持す
るアーム支持部材９を、エアシリンダによって上昇させ
る。この上昇に伴って、保持アーム７の基端部に設けら
れたカムホロア７ｂが、カム溝に沿って案内されること
により、保持アーム７が待機時の起立姿勢から処理時の
横臥姿勢へと上昇しつつ揺動変位する。基板に対して処
理を行わない時には、保持アーム７を起立姿勢で飛散防
止カップ２の周りに放射状に配置させているで、保持ア
ーム７の待機スペースを縮小することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、フ
ォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基
板、光ディスク用の基板などの基板に対してフォトレジ
スト液や現像液や純水などの処理液を供給することで、
レジスト塗布や現像処理や基板洗浄等の処理を行う基板
処理装置に係り、特に処理液供給ノズルやブラシ等の処
理具を保持する保持アームを収納する技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】以下、従来の基板処理装置として、基板
である例えば半導体ウエハに対してレジストを供給して
レジスト塗布を行うレジスト塗布装置を例にとって説明
する。従来の代表的なレジスト塗布装置として図１４、
図１５に示すように、大きく分けて２種類のレジスト塗
布装置がある。図１４、図１５はレジスト塗布装置の主
要部であるレジスト塗布を行うレジスト塗布処理部の概
略構成を示す平面図である。

【０００３】まず、図１４を参照して第１のレジスト塗
布装置について説明する。図１４中、符号１は処理の対
象であるウエハＷを回転可能に支持するためのスピンチ
ャックである。ウエハＷの周囲は、レジストの飛散を防
止するための飛散防止カップ２によって囲われている。
この飛散防止カップ２の側方の待機位置には、ウエハＷ
に対してレジストを供給するための処理液供給ノズルＮ
ａ〜Ｎｄを先端部に保持する、長さが異なる例えば４本
の保持アームＡ〜Ｄが配備されている。これらの４本の
保持アームＡ〜Ｄは、飛散防止カップ２に近づくにつれ
て、長さの短い保持アームが位置するように並列的に配
備される。また、各保持アームＡ〜Ｄは、基端部Ｐａ〜
Ｐｄを中心として水平面内で揺動自在に取り付けられて
いる。

【０００４】これら４本の保持アームＡ〜Ｄのうちの所
望の保持アーム、例えば、保持アームＢは、次のように
動作する。まず、待機位置にある保持アームＢが移動高
さにまで上昇する。上昇した保持アームＢは水平面内で
揺動し、その先端部に保持されている処理液供給ノズル
ＮｂがウエハＷの回転中心付近の上方に移動する。次い
で、保持アームＢが下降して、処理液供給ノズルＮｂが
レジスト吐出位置にまで下がる。その吐出位置で処理液
供給ノズルＮｂから所定量のレジストがウエハＷに供給
される。レジストの供給が完了すると、ウエハＷが高速
回転駆動され、その表面に均一なレジスト膜が形成され
る。その後、保持アームＢは、移動高さにまで上昇し、
続いて待機位置側に揺動復帰し、さらに待機位置にまで
下降することにより、一連の処理を終了する。

【０００５】次に、図１５を参照して第２のレジスト塗
布装置について説明する。飛散防止カップ２の側方の待
機位置には、同じ長さの例えば４本の保持アームＡ〜Ｄ
が配備され、各保持アームＡ〜Ｄの先端部に処理液供給
ノズルＮａ〜Ｎｄが保持されている。これらの４本の保
持アームＡ〜Ｄは、各保持アームＡ〜Ｄの先端部がスピ
ンチャック１側に向かうように並列に配備されている。
これらの保持アームＡ〜Ｄは、図示しない直進移動機構
を備えるとともに、一軸駆動機構９１上に載置されてい
る。この一軸駆動機構９１は、各保持アームＡ〜Ｄの長
手方向に直角な方向にスライド移動自在である。また、
各保持アームＡ〜Ｄは、直進駆動機構によって各長手方
向に向けて直進移動自在に構成されている。

【０００６】これら４本の保持アームＡ〜Ｄのうちの所
望の保持アーム、例えば、保持アームＤは、次のように
動作する。まず、一軸駆動機構９１がスライド移動する
ことによって保持アームＤがスピンチャック１の回転中
心線上にまで移動する。続いて、待機位置にある保持ア
ームＤがスピンチャック１に向けて直進移動して、処理
液供給ノズルＮｄがウエハＷの回転中心付近の上方にあ
る吐出位置まで移動する。その吐出位置で処理液供給ノ
ズルＮｄから所定量のレジストがウエハＷに供給され
る。レジストの供給が完了すると、ウエハＷが高速回転
駆動され、その表面に均一なレジスト膜が形成される。
その後、保持アームＤは、吐出位置から待機位置にまで
直進移動復帰して、一連の処理を終了する。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。上述した２つの従来装置のいずれも、飛散防止カ
ップ２で囲われた基板処理領域の傍らに設けられた待機
スペースに、複数個の保持アームが水平姿勢で待機して
いるとともに、各保持アームは同一方向に整然と並んで
いるので、基板処理装置における待機スペースの占有面
積が大きくなるという問題点がある。特に、近年の半導
体ウエハの大型化に伴い、保持アームの長さも伸ばさな
くてはならないので、このような長い保持アームを待機
させておくスペースも長大化する傾向にある。また、処
理の効率化や複数種類の処理液などの使用に伴い、１台
の装置で多数の処理具を選択使用することが求められて
いるので、これらの処理具を個々に保持する保持アーム
の個数も増加の傾向にあり、このことも待機スペースが
大きくなる要因になっている。

【０００８】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、各保持アームの待機スペースの縮小化
を図ることができる基板処理装置を提供することを主た
る目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明は、所定の基板処理領域にあ
る基板に対して処理を行う基板処理装置において、前記
基板処理領域の周りに放射状に配置され、前記基板に対
して処理を行う処理具を各々の先端部に保持する複数個
の保持アームと、前記処理具が基板に対する処理位置に
来るように、前記保持アームの位置を変位させるアーム
駆動手段とを備えたことを特徴とするものである。

【００１０】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の基板処理装置において、前記アーム駆動手段は、基板
に対して処理を行わないときには前記保持アームを基板
処理領域からはずれた待機位置に水平姿勢で待機させる
一方、基板に対して処理を行うときに、処理具が基板に
対する処理位置に来るように、前記保持アームを直進移
動させるものである。

【００１１】請求項３に記載の発明は、請求項１に記載
の基板処理装置において、前記アーム駆動手段は、基板
に対して処理を行わないときには前記保持アームを基板
処理領域から外れた待機位置にほぼ起立姿勢で待機させ
る一方、基板に対して処理を行うときに、処理具が基板
に対する処理位置に来るように、前記保持アームをほぼ
横臥姿勢に変位させるものである。

【００１２】請求項４に記載の発明は、請求項３に記載
の基板処理装置において、前記アーム駆動手段は、基板
に対して処理を行わないときに、前記保持アームを基板
処理領域の側方に設定された待機位置にほぼ起立姿勢で
待機させる一方、基板に対して処理を行うときに、待機
位置にある前記保持アームを上昇変位させるとともに、
揺動変位させることによって、処理具が基板に対する処
理位置に来るように、前記保持アームをほぼ横臥姿勢に
変位させるものである。

【００１３】請求項５に記載の発明は、請求項４に記載
の基板処理装置において、前記アーム駆動手段は、前記
保持アームの揺動変位を許容するように保持アームの基
端部に係合して、保持アームを昇降させる昇降駆動手段
と、待機位置にある保持アームに並設され、保持アーム
をほぼ起立姿勢からほぼ横臥姿勢へと案内するために、
ほぼ上下方向に延びるカム溝が形成された保持アーム案
内部材と、前記保持アームの基端部側で前記保持アーム
の揺動変位の中心から外れた位置に取付けられ、前記カ
ム溝に沿って変位するカムホロアとから構成されるもの
である。

【００１４】

【作用】請求項１に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。所定の基板処理領域にある基板に対して処理を行う
ための処理具を先端に保持する複数個の保持アームを、
基板処理領域の周りに放射状に配置する。アーム駆動手
段は、前記放射状に配置された各保持アームに保持され
た処理具を基板に対する処理位置にまで移動するよう
に、保持アームの位置を変位させる。

【００１５】請求項２に記載の発明によれば、保持アー
ムは、基板処理領域から外れた待機位置に水平姿勢で待
機する。基板に対して処理を行う場合、アーム駆動手段
は、各々の保持アームを直進移動させることで、各保持
アームに保持する処理具を基板に対する処理位置にまで
移動させる。

【００１６】請求項３に記載の発明によれば、アーム駆
動手段は、基板に対して処理を行わない場合には基板処
理領域から外れた待機位置に、保持アームをほぼ起立姿
勢で待機させる。一方、処理を行う場合には保持アーム
の先端部に保持する処理具が、基板に対する処理位置に
来るように、起立姿勢の保持アームをほぼ横臥姿勢にま
で変位させる。

【００１７】請求項４に記載の発明によれば、アーム駆
動手段は、保持アームを基板処理領域の側方の待機位置
にほぼ起立姿勢で待機させる。一方、基板に対して処理
を行うときには、保持アームを上昇させつつ揺動させる
ことにより、保持アームをほぼ起立姿勢からほぼ横臥姿
勢にまで変位させる。

【００１８】請求項５に記載の発明の作用は次のとおり
である。昇降駆動手段が保持アームを下限位置にまで下
降させている状態、すなわち待機状態では、保持アーム
の基端部側に取り付けられたカムホロアが、カム溝の下
側に位置している。この状態では保持アームの先端部が
持ち上げられて、保持アームはほぼ起立姿勢をとる。一
方、基板に対して処理を行うときは、昇降駆動手段が保
持アームを昇降駆動する。その結果、カムホロアがカム
溝に沿って上昇移動し、保持アームの基端側が持ち上げ
られることにより、保持アームの先端側が前倒れに傾斜
してゆく。カムホロアがカム溝の上限位置にまで達する
と、保持アームはほぼ横臥姿勢をとり、この状態で基板
に対する処理を行う。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施例を説明する。 ＜第１実施例＞図１は本発明の第１実施例に係る基板処
理装置の要部の概略構成を示す側面図であり、図２はそ
の平面図である。以下、この実施例では、基板処理装置
の一例である、ウエハにレジストを塗布するレジスト塗
布装置について説明する。

【００２０】この実施例に係るレジスト塗布装置は、大
きく分けて、ウエハＷに供給されたレジストを遠心力に
よってウエハＷの塗布面全体に薄く均一な膜厚に塗り拡
げるための回転処理機構と、ウエハＷにレジストを供給
するためのレジスト供給機構とを備える。以下、主にこ
れら２つの機構について図面を参照しながら各構成を説
明する。

【００２１】図２中、符号２０は、上述した回転処理機
構とレジスト供給機構とが配置された領域を示す。この
領域２０は、飛散防止カップ２で囲われた基板処理領域
と、この基板処理領域以外の領域で、扇形テーブル１０
が配備されているアーム待機領域とに分けられる。この
基板処理領域には回転処理機構が配置されている。ま
た、アーム待機領域にはレジスト供給機構が配置されて
いる。

【００２２】回転処理機構は次のように構成されてい
る。飛散防止カップ２で囲われた基板処理領域には、基
板であるウエハＷを一体回転可能に吸着保持するスピン
チャック１が配置されている。このスピンチャック１
は、図１に示すように支持台５に固設された電動モータ
３の駆動によって鉛直方向の軸芯周りで回転する回転軸
４の上端に取り付けられている。また、飛散防止カップ
２は、レジストが供給されたウエハＷを高速で回転させ
た際、このウエハＷから飛び出した余分なレジストが、
周囲に飛び散るのを防止するためのものである。なお、
この飛散防止カップ２には、ウエハＷから飛び出した余
分なレジストを廃液として回収する図示しない廃液回収
構造が設けられている。さらに、この飛散防止カップ２
は、図示しない昇降機構によって昇降自在に取り付けら
れている。なお、本実施例では、スピンチャック１を真
空吸着式のものとしているが、本発明はこれに限られる
ものではなく、例えば、チャック上に複数個の爪を設
け、これらの爪でウエハＷの端面を把持するように構成
してもよい。

【００２３】レジスト供給機構は次のように構成されて
いる。基板処理領域以外の領域であるアーム待機領域に
は、図１に示すように支持台５に固設された２軸駆動機
構１１によって扇形テーブル１０が、平面内で直交する
２方向に移動自在に取付けられている。この扇形テーブ
ル１０には、本発明の処理具に相当する処理液供給ノズ
ル６（以下、「ノズル６」と呼ぶ）を先端部に備える保
持アーム７を、起立姿勢と横臥姿勢とに変位させるため
のアーム駆動手段であるアーム駆動機構１０Ａが例えば
５セット配置されている。また、これらのアーム駆動機
構１０Ａは、図２に示すように扇形テーブル１０上に、
スピンチャック１の回転中心を中心とする円弧状にすな
わち放射状に配置されているとともに、各保持アーム７
の先端部に備えられたノズル６は、全て回転中心に向く
ように配置されている。なお、これら保持アーム７とア
ーム駆動機構１０Ａは、５セットに限定するものではな
く、その設置個数は任意に設定することができる。

【００２４】２軸駆動機構１１は、支持台５に固設され
る駆動系支持部材１１ａと、この駆動系支持部材１１ａ
に対して、Ｘ方向に移動自在に取付けられるＸ方向用部
材１１ｂと、このＸ方向用部材１１ｂ上に取付けられ、
Ｘ方向に直交するＹ方向に移動自在なＹ方向用部材１１
ｃとで構成されている。また、Ｘ方向用部材１１ｂは、
Ｘ方向用部材１１ｂをＸ方向の任意の位置に移動可能さ
せるためのＸ軸モータ１２ａを備え、このＸ軸モータ１
２ａの回転力が図示しない螺子送り機構を介してＸ方向
用部材１１ｂに伝えられるようになっている。Ｙ方向用
部材１１ｃも同様にして構成されるが、Ｙ軸モータ１２
ｂは、Ｘ軸モータ１２ａと直交する方向に取付けられて
いる。このＹ方向用部材１１ｃの上面には、扇形テーブ
ル１０が一体移動可能に取付けられている。

【００２５】これらＸ軸モータ１２ａとＹ軸モータ１２
ｂには、図示しないモータ制御装置からの命令によっ
て、任意の回転方向に回転することができる構成となっ
ている。例えば、Ｘ軸モータ１２ａを時計回りに回転駆
動させると、扇形テーブル１０は、図２における左方向
（−Ｘ方向）に移動する。さらに、Ｙ軸モータ１２ｂを
時計回りに回転駆動させると、扇形テーブル１０は、図
２における下方向（−Ｙ方向）に移動させることができ
る。したがって、扇形テーブル１０のＸ、Ｙ方向の動き
に連動する後述するノズル６の位置を、任意の位置に移
動させることができる。

【００２６】上述したように、扇形テーブル１０には、
保持アーム７を起立姿勢から横臥姿勢に、または、横臥
姿勢から起立姿勢に変位させるためのアーム駆動機構１
０Ａが５セット載置されている。これらのアーム駆動機
構１０Ａの配置は、上述した通りである。さらに、保持
アーム７が起立姿勢で待機しているときに、保持アーム
７の先端部に保持されているノズル６のレジストを吐出
するための吐出口がレジストの凝固によって目詰まりを
起こさないようにするための待機ポット１４も扇形テー
ブル１０上に配備されている。この待機ポット１４内に
は、レジストが凝固しないようにするための溶剤雰囲気
が形成されている。

【００２７】アーム駆動機構１０Ａは、保持アーム７の
基端部側の揺動変位の中心から外れた位置に設けられた
カムホロア７ｂと、このカムホロア７ｂを受けるカム溝
１３ａが形成された保持アーム案内部材１３と、保持ア
ーム７の基端部側に設けられたアーム揺動軸７ａで保持
アーム７を揺動変位可能に支持するアーム支持部材９
と、このアーム支持部材９を昇降駆動にする昇降機構で
あるエアシリンダ８とで構成される。なお、このアーム
支持部材９とエアシリンダ８は、本発明における昇降駆
動手段に相当する。

【００２８】アーム駆動機構１０Ａによって保持アーム
７が、待機状態の起立姿勢から基板処理時の横臥姿勢に
変位する動作およびアーム駆動機構１０Ａの各部の構成
を図３を参照して説明する。図３（ａ）は、保持アーム
７の待機状態を示している。この状態でエアシリンダ８
のロッドは収縮しており、カムホロア７ｂはカム溝１３
ａの下限位置にある。結果、揺動軸７ａを挟んでカムホ
ロア７ｂとは反対側にある保持アーム７の先端部が持ち
上げられて、保持アーム７は起立姿勢で静止している。
図１中に実線で示したように、起立姿勢の保持アーム７
は飛散防止カップ２の側方に位置しているので、起立姿
勢の保持アーム７の先端部の高さは比較的に低く抑えら
れる。仮に、保持アーム７を飛散防止カップ２と同じ高
さ位置で起立姿勢にすると、保持アーム７の先端部の高
さは相当に高くなり、その分、レジスト塗布装置の高さ
が高くなったり、他の機構部分の配置が制限されるなど
の不都合が生じる。

【００２９】図３（ｂ）は保持アーム７の上昇過程を示
している。エアシリンダ８に図示しないエア制御装置か
らエアが送られてくると、エアシリンダ８のロッドが伸
長して、アーム支持部材９を押し上げる。このアーム支
持部材９と一体となって保持アーム７が上昇する。ここ
で、保持アーム案内部材１３に形成されているカム溝１
３ａは、保持アーム案内部材１３の上下端部付近では直
線形状であり、中間部では基板処理領域から遠ざかるよ
うに滑らかに傾斜変化している。したがって、この実施
例でのカム溝１３ａの傾斜部におけるカムホロア７ｂに
は、傾斜方向、すなわち図３（ｂ）における右方向の力
が加わるので、保持アーム７は、アーム支持部材９の上
昇とともに、揺動軸７ａを中心として、左回りに揺動変
位する。

【００３０】図３（ｃ）は基板処理時の横臥姿勢を示し
ている。エアシリンダ８のロッドが伸長して、カムホロ
ア７ｂがカム溝１３ａの上限位置に達すると、保持アー
ム７は横臥姿勢となる。このカム溝１３ａの上限位置
が、ノズル６が基板に対して最も近づく位置となるの
で、この位置は、ウエハＷより高く設定されている。ノ
ズル６がレジスト吐出位置まで来たら、エアシリンダ８
の上昇を終了させる。以上が保持アーム７の姿勢変位で
ある。逆に、保持アーム７を横臥姿勢から起立姿勢に変
位させる場合は、エアシリンダ８のロッドを収縮させる
ことによって、アーム支持部材９を下降させればよい。

【００３１】なお、本発明において、カム溝の形状や、
揺動中心とカムホロアの位置関係は上述した実施例のも
のに限定されない。例えば、カム溝は直線傾斜するもの
や、本実施例と対象なカム溝の形状であってもよく、保
持アームの動作時に干渉する可能性のある他の構成要素
を回避することができるように、カム溝の形状や揺動中
心とカムホロアの位置を設定すればよい。さらに、この
実施例では、保持アーム７の起立姿勢を垂直にし、横臥
姿勢を水平にしているが、この発明は、これに限定する
ものではない。例えば、待機時には、飛散防止カップ２
の側方に保持アーム７を傾斜した起立姿勢で待機させて
もよい。また、処理時には、保持アームの先端部または
基端部を持ち上げたような傾斜した横臥姿勢にしてもよ
い。

【００３２】上述したように、保持アーム７は、ウエハ
Ｗに対してレジストを供給するための処理液供給ノズル
（ノズル６）を先端部に備えている。このノズル６は、
保持アーム７の姿勢の変化に伴って、保持アーム７とノ
ズル６との相対角度を変化させることができる。この実
施例において、ノズル姿勢制御機構によってノズル６の
姿勢は、保持アーム７の姿勢の変化にかかわらず常に一
定の姿勢を保つことができる構成となっている。

【００３３】ノズル姿勢制御機構は、図４及び図５に示
すように保持アーム７の内部に収納されている。ノズル
６はベアリング５１に挿通された軸６ａを介して、保持
アーム７に回転可能に支持されている。第１のプーリ４
１は軸６ａに連動連結されている。第２のプーリ４０
は、アーム支持部材９に連結固定されている、保持アー
ム７の基端部の揺動軸７ａに固定設置されている。第１
のプーリ４１と第２のプーリ４０との間に歯付き無端状
ベルト４２が架け渡されている。また、ノズル６と第１
のプーリ４１とを連結している軸６ａと、この軸６ａが
挿入されている保持アーム７との隙間は、磁場に感応す
る液体である磁性流体５２によってシールされている。
この磁性流体５２は、図示しない磁気回路によって軸６
ａと保持アーム７との隙間に形成される磁場によって保
持されている。この実施例では、ノズル６を保持アーム
７の揺動変位角と同じ角度だけ逆方向に変位させるため
に、第１のプーリと第２のプーリとを同一の径としてあ
る。また、保持アーム７が起立姿勢または横臥姿勢をと
るときにノズル６の先端部が下向きになるように設定さ
れている。

【００３４】第２のプーリ４０は、アーム支持部材９に
固定されているので、保持アーム７の姿勢変化にかかわ
らず常に静止状態である。ノズル６と連結連動された第
１のプーリ４１は、保持アーム７に回転可能に取付けら
れているので、無端状ベルト４２の動きに連動させるこ
とができる。したがって、保持アーム７が、例えば起き
上がると、保持アーム７と第２のプーリ４０との間に相
対的な回転変位が生じる。この相対的な回転変位を補う
ために、無端状ベルト４２が第２のプーリ４０の周囲を
回ろうとするが、第２のプーリ４０は固定されているの
で、この回転運動が第１のプーリ４１に伝わる。第１の
プーリ４１は、保持アーム７の起き上がり方向と逆の方
向に回転動作する。つまり、ノズル６の先端部は、保持
アーム７の姿勢変化にかかわらず、常に一定方向に向け
ることができる。なお、本実施例では、第１のプーリ４
１と第２のプーリ４０とを同径とすることで、ノズル６
が常に一定方向に向くようにしたが、本発明はこれに限
定するものではない。例えば、両プーリの径を異なるも
のにすることで、保持アーム７が起立姿勢のときのノズ
ル６の先端方向と、横臥姿勢のときのノズル６の先端方
向とを自在に変えることができる。なお、この実施例に
おいては、ノズル姿勢制御機構を第１のプーリ４１と第
２のプーリ４０との間に歯付き無端状ベルト４２を架け
渡すことにより両プーリ間で回転の伝達が行われるよう
に構成しているが、それに限られるものではなく、例え
ばベルトを設ける代わりに両プーリにそれぞれ軸６ａと
同一の軸向きに軸をベアリングを介してはめ込み、それ
ぞれの軸を連結棒にて連結してリンク機構を構成するこ
とにより、両プーリ間に回転が伝達されるようにするこ
ともできる。

【００３５】ノズル６は、先端部にレジストを吐出する
ための下方に向いた吐出口を備えているとともに、レジ
ストをノズル６に供給するレジスト供給ライン１５に繋
がれている。このレジスト供給ライン１５の他端は、図
示しないレジスト供給タンクに繋がれている。このレジ
スト供給タンクからレジスト供給ライン１５を通じてレ
ジストがノズル６に送られ、ノズル６の先端の吐出口か
らウエハＷに向けて吐出される。

【００３６】以下、本実施例に係るレジスト塗布装置の
一連の動作について説明する。ウエハＷは、図示しない
ウエハ搬送機構によって、ウエハ収納キャリアから搬出
され、レジスト塗布装置の領域２０に搬入される。な
お、この領域２０に搬入されるまでに、ウエハＷは、ウ
エハＷのレジスト塗布面に対する前処理であるＨＭＤＳ
処理やベーク処理等を行う処理工程を通過してきてい
る。

【００３７】ここから、レジスト塗布処理が開始され
る。この搬入されたウエハＷは、スピンチャック１の回
転中心にウエハＷの中心がほぼ一致するように、スピン
チャック１に置かれる。このウエハＷをスピンチャック
１が吸着保持する。ウエハＷが吸着保持されると飛散防
止カップ２は、所定の高さであるウエハＷを囲い込む高
さまで、図示しない上昇機構によって上昇する。

【００３８】飛散防止カップ２が上昇すると、エアシリ
ンダ８がアーム支持部材９を押し上げ始める。アーム支
持部材９の上昇に伴ってカムホロア７ｂがカム溝１３ａ
を上昇変位することにより、保持アーム７は、起立姿勢
から横臥姿勢に向けて姿勢変位を始める（図３（ｂ）参
照）。このとき、保持アーム７に保持されているノズル
６の先端部は、待機ポット１４から引き上げられる。エ
アシリンダ８によるアーム支持部材９の押し上げが終了
した時点で、保持アーム７は所定の横臥姿勢となる（図
３（ｃ）参照）。なお、この所定の横臥姿勢とは、保持
アーム７に保持されたノズル６が、ウエハＷに対してレ
ジストを吐出するための位置（処理位置）に来たときの
保持アーム７の姿勢をいう。

【００３９】レジスト吐出位置においてノズル６の先端
部からレジストが、ウエハＷに供給される。レジストの
供給が終わると、電動モータ３によってスピンチャック
１を高速で回転させる。このスピンチャック１に保持さ
れたウエハＷも高速で回転するので、ウエハＷ上のレジ
ストは、遠心力によって薄く均一に拡げられる。この
時、ウエハＷから飛び出す余分なレジストは、飛散防止
カップ２によって回収される。このウエハＷを回転させ
ている間に、エアシリンダ８は、アーム支持部材９を引
き下げることで、保持アーム７を横臥姿勢から起立姿勢
に変位させる。これにより、ノズル６は吐出位置から移
動して、待機位置にある待機ポット１４に収納される。

【００４０】上記ウエハＷの回転が終了すると、飛散防
止カップ２は図示しない昇降機構によって下降し、レジ
スト塗布後のウエハＷは、搬送機構によって領域２０か
ら搬出される。この搬出されたウエハＷは、後処理であ
るベーク処理などの処理工程に送られる。上述した処理
を繰り返し行うことで、所定枚数のウエハを処理するこ
とができる。なお、異なるレジストを塗布する場合のよ
うに、先に使用した保持アーム７とは別の保持アーム７
を連続して使用するときには、先に使用した保持アーム
７を起立姿勢にするとともに、別の保持アーム７を横臥
姿勢にすればよい。このとき、保持アーム同士が干渉し
ないように姿勢変位のタイミングを制御する。

【００４１】ところで、複数個の保持アーム７を選択的
に使用した場合、機械的な誤差などのために、基板処理
時の横臥姿勢の状態で各保持アーム７に保持されたノズ
ル６が、全て同じ位置に来るとは限らない。また、ノズ
ル６の種類によっては、吐出位置を積極的に変えること
が望ましい場合もある。このような場合は、図１中に示
した２軸駆動機構１１によって扇形テーブル１０を変位
させて、各保持アーム７ごとにノズル６の吐出位置を適
当な位置に調整すればよい。なお、待機ポット１４は扇
形テーブル１０上に支持されているので、扇形テーブル
１０を変位させても、待機状態（起立姿勢）におけるノ
ズル６と待機ポット１４との位置関係は不変である。し
たがって、待機状態において、各保持アーム６のノズル
６を各々の待機ポット１４内に正確に収納することがで
きる。

【００４２】上述したレジスト塗布装置は、複数個の保
持アーム７を円弧状に配列するとともに、各保持アーム
７は、待機時には基板処理領域の側方に起立姿勢で待機
し、処理時には待機位置から上昇しながら序々に姿勢を
倒しながら横臥姿勢になる。したがって、保持アーム７
の待機時における待機スペースを縮小することができ、
また、起立姿勢または横臥姿勢に変位させるときに必要
な高さを低くすることができるので、装置の設置面積を
小さくすることができる。

【００４３】本発明は、以下のように変形実施すること
も可能である。

【００４４】（１）上記実施例では、アーム保持部材９
を昇降させるために、昇降駆動手段であるエアシリンダ
８を設けたが、このエアシリンダ８の代わりに、電動モ
ータと螺子送り機構によって構成してもよい。このよう
な構成にすれば、保持アーム７を横臥姿勢にするために
アーム保持部材９が必要とする高さを低くすることがで
きる。また、螺子送り機構の特定の位置でアーム保持部
材９を止めることで、保持アーム７を任意の姿勢で処理
あるいは待機させておくことができる。

【００４５】例えば、図６に示すように、アーム支持部
材９ａに螺軸６１を通して、この螺軸６１を電動モータ
６０により一体回転可能に取付ける構成にする。図示し
ないモータ制御手段によって電動モータ６０を回転させ
ることで、螺軸６１は、電動モータ６０の回転方向と同
一方向に回転し、アーム保持部材９ａを上昇または下降
させる。ここで、螺軸６１の特定の位置にアーム保持部
材９ａが来たときに、電動モータ６０の回転を止めるこ
とで、保持アーム７を任意の姿勢で止めることができ
る。したがって、実施例のレジスト塗布装置において、
保持アーム７を起立姿勢で待機させる必要がないような
場合には、横臥姿勢から起立姿勢の姿勢変位の途中であ
る傾斜姿勢における位置を待機位置にすることも可能で
ある。これにより、保持アーム７を変位させる時間を短
縮して、処理効率を上げることができる。

【００４６】（２）上記実施例では、保持アーム７の待
機位置を基板処理領域の側方に設定した関係で、保持ア
ーム７を起立姿勢から横臥姿勢に変位させる場合に、保
持アーム７を上昇変位させながら揺動変位させていた
が、保持アーム７の待機位置を上方に設定しておけば、
保持アーム７の基端部を中心とする揺動変位だけで保持
アーム７を起立姿勢から横臥姿勢に変位させることがで
きる。例えば、図７に示すように、ウエハＷに対する処
理位置である保持アーム７の横臥姿勢における基端部を
揺動中心Ｐとして、図示しない駆動手段によって、保持
アーム７を起立姿勢にする。この起立姿勢した保持アー
ム７の位置を待機位置とする。このような構成にすれ
ば、アーム駆動機構をより単純な構成にすることができ
る。

【００４７】（３）上記実施例では、処理具として薬液
供給ノズル（ノズル６）を例にあげたが、ウエハＷに対
して洗浄処理を行うための洗浄ブラシを処理具として用
いることもできる。このような構成にすることで、設置
面積の小さい基板洗浄装置を構成することができる。

【００４８】（４）上記実施例では、保持アーム７は、
水平方向に揺動することができなかったが、保持アーム
７を水平方向に揺動可能に構成してもよい。例えば、図
１および図２に示した扇形テーブル１０上に水平面内で
回転自在な複数個のターンテーブルを配備し、各テーブ
ル上に各保持アーム７のアーム駆動機構１０Ａを搭載す
る。そして、各ターンテーブルの回転中心と、各アーム
駆動機構１０Ａのアーム揺動軸７ａとが鉛直線上に位置
するように、エアシリンダ８と保持アーム案内部材１３
とを取付ける。この例によれば、保持アーム７に保持さ
れたノズル６を、ウエハＷの中心から外側に向かって、
円弧状に揺動させることができる。

【００４９】（５）上記実施例では、複数個の保持アー
ム７に、それぞれ個別のアーム駆動機構１０Ａを取り付
けたが、選択手段で任意の保持アームを選択し、この選
択された保持アームの姿勢を単一のアーム駆動手段で変
位させるように構成することもできる。以下、図８〜図
１０を参照して、この実施例を説明する。

【００５０】図１で説明したと同様の２軸駆動機構１１
の上に案内部材８７が搭載されている。この案内部材８
７上の飛散防止カップ２側に、複数セットの保持アーム
７と保持アーム案内部材１３が円弧状に配置されてい
る。保持アーム７や保持アーム案内部材１３の構成は図
１に示した実施例と同様であるので、ここでの説明は省
略する。この案内部材８７上に、任意の保持アーム７を
選択する選択機構８０Ａと、この選択機構８０Ａによっ
て選択された保持アーム７を駆動する単一のアーム駆動
機構８０Ｂが配備されている。

【００５１】まず、選択機構８０Ａの構成を説明する。
案内部材８７には、複数個の保持アーム７の円弧状配置
に沿うように円弧状のガイド溝８７ａが形成されてい
る。このガイド溝８７ａの傍らにＹ方向に延びる直線状
のガイド溝８７ｂが形成されている。この直線状のガイ
ド溝８７ｂに、図９に示すように第１のスライド部材８
６の下面から突出している凸部材８６ａが嵌入すること
により、第１のスライド部材８６がガイド溝８７ｂに沿
ってＹ方向に案内される。さらに、ガイド溝８７ｂに沿
って電動モータ８８で回転駆動される螺軸８９が配備さ
れ、この螺軸８９に第１のスライド部材８６が螺合され
ることにより、第１のスライド部材８６が駆動されるよ
うになっている。第１のスライド部材８６にはＸ方向に
延びるガイド溝８６ｂが形成されている。この第１のス
ライド部材８６に第２のスライド部材８５が搭載されて
いる。図９に示すように、この第２のスライド部材８５
の下面に突出形成された凸部材８５ａが、第１のスライ
ド部材８６のガイド溝８６ｂを貫通して、案内部材８７
の円弧状のガイド溝８７ａに嵌入している。以上の構成
により、第１のスライド部材８６がＹ方向に変位する
と、第２のスライド部材８５の凸部材８５ａに、円弧状
のガイド溝８７ａからＸ方向の力が作用して、第２のス
ライド部材８５がガイド溝８６ｂに沿ってＸ方向に移動
するようになっている。

【００５２】次に単一のアーム駆動機構８０Ｂの構成を
説明する。図１０に示すように、アーム駆動機構８０Ｂ
は第２のスライド部材８５に搭載されている。このアー
ム駆動機構８０Ｂは、電動モータ８４と螺軸８３などに
より構成された螺子送り機構によって、把持機構８２を
昇降駆動するように構成されている。把持機構８２は、
図示しないロータリアクチュエータ等で開閉駆動される
挟持片８２ａで、保持アーム７のアーム揺動軸７ａに連
結固定されたアーム支持部材８１の先端部８１ａを挟持
するように構成されている。

【００５３】上記の構成を備えた選択機構８０Ａおよび
アーム駆動機構８０Ｂの動作を説明する。初期状態で把
持機構８２は下限位置にあり、また把持機構８２の挟持
片８２ａは開放している。この状態で電動モータ８８が
駆動することにより、選択しようとしている特定の保持
アーム７の後方位置にまで、第１のスライド部材８６が
ガイド溝８７ｂに沿ってＹ方向に移動する。第１のスラ
イド部材８６の移動に伴って、第２のスライド部材８５
がガイド溝８６ｂに沿ってＸ方向に移動する。その結
果、第２のスライド部材８５に搭載された把持機構８２
が、特定の保持アーム７を把持するための把持位置に移
動する。把持位置に移動した把持機構８２の挟持片８２
ａが閉じて、把持機構８２が特定の保持アーム７のアー
ム支持部材８１を把持する。次に、電動モータ８４が駆
動することにより、把持機構８２が上昇する。把持機構
８２の上昇に伴い、特定の保持アーム７が起立姿勢から
横臥姿勢に変位して、基板の処理が行われる。処理後
は、上述した動作とは逆の手順で特定の保持アーム７が
待機位置に戻る。

【００５４】＜第２実施例＞図１１は本発明の第２実施
例に係る基板処理装置の要部の概略構成を示す平面図で
あり、図１２はその側面図である。以下、この実施例で
は、第１実施例と同様に基板処理装置の一例である、ウ
エハにレジストを塗布するレジスト塗布装置について説
明する。

【００５５】この実施例に係るレジスト塗布装置は、大
きく分けて、ウエハＷに供給されたレジストを遠心力に
よってウエハＷの塗布面全体に薄く均一な膜厚に塗り拡
げるための回転処理機構と、ウエハＷにレジストを供給
するためのレジスト供給機構とを備える。回転処理機構
については、第１実施例と同じなので説明を省略する。
以下、レジスト供給機構について図面を参照しながら説
明する。

【００５６】レジスト供給機構は次のように構成され
る。基板処理領域以外の領域であるアーム待機領域に
は、図１２に示すように支持台５に固設された２軸駆動
機構１１によってテーブル９２が、平面内で直交する２
方向に移動自在に取付けられている。このテーブル９２
には、アーム直進駆動機構９４を昇降可能にするための
エアシリンダ９３と、第１実施例で説明したのと同様の
待機ポット１４とが固設されている。アーム直進駆動機
構９４は、本発明の処理具に相当する処理液供給ノズル
６（以下、「ノズル６」と呼ぶ）を先端部に備える保持
アーム９１を、前後方向に直進移動可能にするものであ
り、本発明のアーム駆動手段に相当する。保持アーム９
１は、基端部においてアーム直進駆動機構９４に接続さ
れ、先端部ではノズル６を保持する。この保持アーム９
１はアーム直進駆動機構９４とともに、テーブル９２上
に次のように配置される。図１１に示すように、７セッ
トの保持アーム９１とアーム直進駆動機構９４とを、テ
ーブル９２上に各保持アーム９１の先端部が、スピンチ
ャック１の回転中心すなわち処理位置に向くように放射
状に配置する。なお、これら保持アーム９１とアーム直
進駆動機構９４とは、７セットに限定するものではな
く、その設置個数は任意に設定することができる。

【００５７】２軸駆動機構１１の構成および動作は、実
施例１と同様であり、この第２実施例では、２軸駆動機
構１１上にはテーブル９２が一体移動可能に取付けられ
ている。したがって、テーブル９２のＸ、Ｙ方向の動き
に連動するように構成された後述するノズル６の位置
は、デーブル９２を操作することで任意の位置に移動さ
せることができる。テーブル９２の操作によって、ノズ
ル６の位置を移動させる場合は、例えば後述する保持ア
ーム９１をアーム直進駆動機構９４によって直進移動さ
せてノズル６をウエハＷに対する処理位置にまで持って
きたが、希望する位置に対して多少ずれがあるときに、
テーブル９２を移動させてノズルの位置を微調整する場
合に使用する。

【００５８】アーム直進駆動機構９４は、保持アーム９
１の基端部に設けられたアーム支持部材９６に螺合する
螺軸９４ｄを回転駆動させる電動モータ９４ｃと、保持
アーム９１を一定の姿勢に保ったまま直線移動させるた
めの、アーム支持部材９６に貫通するガイド部材９４ｂ
とを備えている。例えば、図示しない電動モータ制御部
によって電動モータ９４ｃを左回転駆動させると、回転
力が螺軸９４ｄを通じてアーム支持部材９６に伝わり、
アーム支持部材９６はガイド部材９４ｂに沿ってスピン
チャック１側に移動する。したがって、電動モータ９４
ｃの回転方向を変化させることで、保持アーム９１を自
在に移動させることができる。

【００５９】以下、本実施例に係るレジスト塗布装置の
一連の動作について説明する。第１実施例で説明したよ
うに、ウエハＷは、スピンチャック１の回転中心にウエ
ハＷの中心がほぼ一致するように、スピンチャック１に
置かれる。このウエハＷをスピンチャック１が吸着保持
する。ウエハＷが吸着保持されると飛散防止カップ２
は、所定の高さであるウエハＷを囲い込む高さまで、図
示しない上昇機構によって上昇する。

【００６０】飛散防止カップ２の上昇が終了すると、エ
アシリンダ９３がアーム直進駆動機構９４を上昇させ
る。この上昇に伴ってノズル６は、待機ポット１４から
引き上げられる。エアシリンダ９３によるアーム直進駆
動機構９４の上昇が終了すると、アーム直進駆動機構９
４は電動モータ９４ｃによって螺軸９４ｄを回転駆動す
る。これによって、螺軸９４ｄに螺合するアーム支持部
材９６と一体に保持アーム９１が直進移動する。保持ア
ーム９１の先端部のノズル６が、ウエハＷに対してレジ
ストを吐出するための位置の上方に来たら、アーム直進
駆動機構９４は電動モータ９４ｃの回転駆動を止める。
続いて、エアシリンダ９３が収縮して保持アーム９１を
下降することで、ノズル６をウエハＷに対してレジスト
を吐出するための所定の位置にまで下降させる（処理位
置）。

【００６１】処理位置においてノズル６の吐出口からレ
ジストがウエハＷに供給される。レジストの供給が終わ
ると、第１実施例と同様に、スピンチャック１を高速で
回転さて、ウエハＷ上にレジストを均一に拡げる。ウエ
ハＷを回転させている間に、エアシリンダ９３は、アー
ム直進駆動機構９４を上昇させる。続いて、電動モータ
９４ｃを回転させて、アーム支持部材９６を電動モータ
９４ｃ側に引き戻し、エアシリンダ９３によって、アー
ム直進駆動機構９４を下降させて、保持アーム９１を待
機位置にまで持ってくる。これにより、ノズル６は、待
機位置にある待機ポット１４に収納される。

【００６２】レジスト塗布後のウエハＷは、第１実施例
と同様に、搬送機構によって搬出されて次の処理工程に
送られる。上述した処理を繰り返し行うことで、所定枚
数のウエハを処理することができる。なお、異なるレジ
ストを塗布する場合のように、先に使用した保持アーム
９１とは別の保持アーム９１を連続して使用するときに
は、先に使用した保持アーム９１を待機位置にまで移動
させた後、他の保持アーム９１を駆動させればよい。

【００６３】上述したレジスト塗布装置は、複数個の保
持アーム９１を放射状に配列するとともに、処理時に
は、選択された特定の保持アーム９１を所定の位置にま
で直進移動して、ウエハＷに対する処理を行う。つま
り、従来の基板処理装置の複数個の保持アームが配置さ
れていた面積に、より多くの保持アームを配置させるこ
とができるので、省スペース化を図ることができる。ま
た、保持アームの大きさや長さの異なるものを複数種類
用意する必要がないので、部品の共通化を図ることがで
きるとともに、単一種類の駆動機構を各保持アームに取
り付ければよいので、装置構成を簡素化することができ
る。

【００６４】本発明は、以下のように変形実施すること
も可能である。

【００６５】（１）上記実施例では、全ての保持アーム
９１をスピンチャック１の回転中心方向にむけて配置し
たが、例えばウエハＷに対する処理位置（処理液をウエ
ハＷに対して供給する位置）が複数箇所ある場合には、
各保持アーム９１をそれぞれ対応する処理位置に向けて
配置することもできる。このような構成にすれば、ウエ
ハＷに対する処理位置が複数箇所ある場合にも、各処理
位置に対応する保持アーム９１を直進移動させること
で、各処理位置における所定の処理をウエハＷに施すこ
とができる。

【００６６】（２）上記実施例では、アーム直進駆動機
構９４における電動モータ９４ｃの位置を、保持アーム
９１の基端部側に設けたが、例えば電動モータ９４ｃを
保持アーム９１の先端部側に設けることもできる。この
ような構成にすれば、飛散防止カップ２の下方に存在す
る空間を有効に活用することができるとともに、待機時
における保持アームの後方の領域を少なくすることがで
きるので、省スペース化を図ることができる。

【００６７】（３）上記実施例では、保持アーム９１と
アーム直進駆動機構９４とを上下に配置したが、保持ア
ーム９１とアーム直進駆動機構９４とを水平面内で並列
配置することもできる。例えば、図１３（ａ）の平面図
および図１３（ｂ）の側面図に示すように、螺軸９４ｄ
に平行になるように、保持アーム９１を取り付ける。こ
のように螺軸９４ｄと保持アーム９１とが左右に並ぶ様
な構成にすることで、待機ポット１４の位置を左右何れ
かにずらして配置することができ、保持アームの長手方
向の寸法を縮小することができる。したがって、保持ア
ーム９１の長手方向の待機スペースをさらに縮小化を図
ることができる。

【００６８】（４）上記実施例では、アーム直進駆動機
構９４を上昇させることで、待機ポット１４からノズル
６を引き上げた後、保持アーム９１を直進移動させて所
定の処理を行ったが、アーム直進機構９４を昇降させる
代わりに、待機ポット１４に昇降機構を設けることで待
機ポット１４を下降させ、ノズル６を待機ポット１４か
ら引き出すこともできる。このように構成すれば、待機
ポット１４を昇降させることができる程度の簡易な昇降
機構を設けるだけでよく、昇降機構を簡素化することが
できる。

【００６９】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば次の効果を奏する。すなわち、請求項１に記載
の発明によれば、処理具を先端部に保持する保持アーム
を、基板処理領域のまわりに放射状に配置するので、従
来の基板処理装置における保持アームの待機スペース
に、従来と比べてより多くの保持アームを配置すること
ができる。したがって、複数個の保持アームを待機スペ
ースに配置する場合に、待機スペースの省スペース化を
図ることができる。

【００７０】請求項２に記載の発明によれば、保持アー
ムを駆動するアーム駆動手段によって、保持アームを直
進移動させることで、保持アームに保持する処理具を基
板に対する処理位置にまで持ってくる。したがって、保
持アームを直進移動させるための単一種類の駆動機構を
取り付ければよく、保持アームの駆動機構を簡素化する
こともできる。

【００７１】請求項３に記載の発明によれば、処理具を
先端部に保持する保持アームの姿勢を、処理を行わない
場合には、ほぼ起立姿勢で待機させる一方、処理を行う
場合には、ほぼ横臥姿勢となるように構成するととも
に、待機時のほぼ起立姿勢の保持アームを、基板処理領
域の周りに放射状に配置したので、待機時の保持アーム
の待機スペース、特に平面視したときの待機スペースを
縮小することができる。また、基板の大型化に伴い保持
アームが長くなっても、平面視した状態の待機スペース
は拡大しないので、大型の基板を扱う基板処理装置であ
っても、全体として装置をコンパクトに構成することも
可能である。

【００７２】請求項４に記載の発明によれば、複数個の
保持アームを基板処理領域の側方に放射状に、ほぼ起立
姿勢で待機させているので、平面視した状態の保持アー
ムの待機スペースを縮小することができるとともに、保
持アームの待機スペースの高さを低くすることができ
る。したがって、基板処理装置の高さも極力低くするこ
ともできる。

【００７３】請求項５に記載の発明によれば、アーム駆
動手段を、昇降駆動手段と保持アーム案内部材とカムホ
ロアとによって構成しているので、アーム駆動手段を簡
易な構成とすることができるとともに、基板処理装置の
製造コストを低くすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施例に係る基板処理装置の概略
構成を示す側面図である。

【図２】第１実施例に係る装置の概略構成を示す平面図
である。

【図３】第１実施例に係る装置のアーム駆動機構による
保持アームの動きを示す図である。

【図４】第１実施例に係る保持アームの内部構成を示す
図である。

【図５】第１実施例に係る保持アームと処理具との接続
部を示す拡大図である。

【図６】第１実施例のアーム駆動機構の変形例の要部を
示す側面図である。

【図７】変形例に係る保持アームの動作を示す側面図で
ある。

【図８】変形例に係る保持アームの選択機構を示す平面
図である。

【図９】変形例に係る保持アームの選択機構の要部の断
面図である。

【図１０】変形例に係る保持アームの選択機構とアーム
駆動機構とを示す側面図である。

【図１１】本発明の第２実施例に係る基板処理装置の概
略構成を示す平面図である。

【図１２】第２実施例に係る装置の概略構成を示す側面
図である。

【図１３】変形例に係る保持アームのアーム直進駆動機
構の概略構成を示す平面図である。

【図１４】従来の第１の基板処理装置の平面図である。

【図１５】従来の第２の基板処理装置の平面図である。

【符号の説明】

１ … スピンチャック ２ … 飛散防止カップ ６ … ノズル ７ … 保持アーム ７ａ… アーム揺動軸 ７ｂ… カムホロア ８ … エアシリンダ ９ … アーム支持部材 １０ … 扇形テーブル １０Ａ… アーム駆動機構 １１ … ２軸駆動機構 １３ … 保持アーム案内部材 １３ａ… カム溝 １４ … 待機ポット ４０ … 第２のプーリ ４１ … 第１のプーリ ４２ … 歯付き無端状ベルト ５１ … ベアリング ５２ … 磁気性流体 ６０ … 電動モータ ６１ … 螺軸 ７０ … 矩形テーブル ８０Ａ… 選択機構 ８０Ｂ… アーム駆動機構 ９１ … 保持アーム ９２ … テーブル ９４ … アーム直進駆動機構 Ｗ … 基板

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６９Ｃ

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 所定の基板処理領域にある基板に対して
   処理を行う基板処理装置において、 前記基板処理領域の周りに放射状に配置され、前記基板
   に対して処理を行う処理具を各々の先端部に保持する複
   数個の保持アームと、 前記処理具が基板に対する処理位置に来るように、前記
   保持アームの位置を変位させるアーム駆動手段とを備え
   たことを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板処理装置におい
   て、 前記アーム駆動手段は、 基板に対して処理を行わないときには前記保持アームを
   基板処理領域から外れた待機位置に水平姿勢で待機させ
   る一方、基板に対して処理を行うときに、処理具が基板
   に対する処理位置に来るように、前記保持アームを直進
   移動させる基板処理装置。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の基板処理装置におい
   て、 前記アーム駆動手段は、 基板に対して処理を行わないときには前記保持アームを
   基板処理領域から外れた待機位置にほぼ起立姿勢で待機
   させる一方、基板に対して処理を行うときに、処理具が
   基板に対する処理位置に来るように、前記保持アームを
   ほぼ横臥姿勢に変位させる基板処理装置。
4. 【請求項４】 請求項３に記載の基板処理装置におい
   て、 前記アーム駆動手段は、 基板に対して処理を行わないときに、前記保持アームを
   基板処理領域の側方に設定された待機位置にほぼ起立姿
   勢で待機させる一方、基板に対して処理を行うときに、
   待機位置にある前記保持アームを上昇変位させるととも
   に、揺動変位させることによって、処理具が基板に対す
   る処理位置に来るように、前記保持アームをほぼ横臥姿
   勢に変位させる基板処理装置。
5. 【請求項５】 請求項４に記載の基板処理装置におい
   て、 前記アーム駆動手段は、 前記保持アームの揺動変位を許容するように保持アーム
   の基端部に係合して、保持アームを昇降させる昇降駆動
   手段と、 待機位置にある保持アームに並設され、保持アームをほ
   ぼ起立姿勢からほぼ横臥姿勢へと案内するために、ほぼ
   上下方向に延びるカム溝が形成された保持アーム案内部
   材と、 前記保持アームの基端部側で前記保持アームの揺動変位
   の中心から外れた位置に取付けられ、前記カム溝に沿っ
   て変位するカムホロアとから構成されている基板処理装
   置。