JP3162577B2 - 基板姿勢転換装置及び基板受渡し装置並びにそれを用いた基板湿式処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示器用ガラス基
板やマスク、レチクル等の矩形基板、半導体ウエハ等
（以下これらを「基板」という）の姿勢を、水平状態と
起立状態との間で転換する基板姿勢転換装置と、その基
板姿勢転換装置を含む基板受渡し装置と、その基板受渡
し装置を用いた基板湿式処理装置とに関する。

【０００２】

【従来の技術】起立状態の基板に対して所定の処理を行
なう装置として、従来、例えば、特開昭60−110194号公
報に示すような装置（基板の洗浄処理を行なう洗浄装
置）が提案されている。この装置は、ケースに水平状態
に収納された基板（レチクル）を取り出し、起立状態に
姿勢転換してアーム機構に引渡し、アーム機構が起立状
態の基板を各処理槽（洗浄槽、リンス槽、蒸気乾燥槽）
に順次挿入して、基板の洗浄・乾燥等の処理を行なった
後、水平状態に姿勢転換して前記ケースに収納する構成
である。

【０００３】この装置の姿勢転換（水平状態から起立状
態への姿勢転換と起立状態から水平状態への姿勢転換）
は、１台の基板姿勢転換装置により行なわれる。この基
板姿勢転換装置は、保持板に基板を真空吸着して、保持
板を９０°回転させることにより、基板の姿勢を水平状
態と起立状態との間で転換するように構成されている。
また、保持板は複数個のバネにより台座板に支承されて
おり、水平状態の基板を受け渡す際や、起立状態の基板
をアーム機構に受け渡す際の衝撃等を緩衝するように構
成されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。まず、従来装置に備えられた基板姿勢転換装置で
は、基板を保持板に真空吸着する必要があるが、基板を
真空吸着して保持すると基板を汚す等の不都合がある。

【０００５】また、従来の基板姿勢転換装置では、基板
の受渡し時の衝撃を緩衝するためのバネを備えているの
で構成が複雑になるし、バネによる緩衝を必要とするよ
うな基板の受渡しを行なっている従来装置の構成では基
板に損傷を与え易いという問題がある。

【０００６】さらに、従来の基板姿勢転換装置では、基
板の裏面側を覆うように保持板があるので、起立状態の
基板を基板姿勢転換装置とアーム機構との間で受け渡す
のが難しく、そのため、従来例では、アーム機構の構成
が複雑となっている。

【０００７】また、この種の洗浄装置のような基板湿式
処理装置においては、処理槽で基板を洗浄する際、基板
の下側の端辺を傾けて（基板の角部が下端になるよう
に）起立状態で洗浄すると、洗浄液の液切れが良くなる
ことが知られている。しかし、従来の基板姿勢転換装置
では、基板の端辺が下端になるように姿勢転換し、起立
状態の基板を受け取ったアーム機構で基板の端辺を傾け
るように構成しており、基板の端辺を傾けて起立状態で
基板の洗浄処理を行なうための構成が複雑となるという
問題もある。

【０００８】さらに、従来装置では、洗浄前の基板の姿
勢転換と洗浄後の姿勢転換とを同じ基板姿勢転換装置で
行ない、また、ケースと基板姿勢転換装置との間の洗浄
前の基板の搬送と、基板姿勢転換装置とケースとの間の
洗浄後の基板の搬送とを同じ搬送装置で行なっているの
で、洗浄前の基板の汚れが基板姿勢転換装置や搬送装置
等を介して洗浄後の基板に付着することになり、基板を
再汚染させるという問題もある。

【０００９】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、以下のようなことを目的とする。すな
わち、本発明の目的は、基板を真空吸着せず、基板の受
渡し時に基板に損傷を与え難くした基板姿勢転換装置を
提供することにある。

【００１０】また、本発明の別の目的は、上記目的に加
えて、起立状態の矩形基板の角部を下端とした、矩形基
板の受渡しを容易に行なうことができる基板姿勢転換装
置を提供することにある。

【００１１】また、本発明の別の目的は、起立状態の矩
形基板の角部を下端とした、矩形基板の受渡しを簡単な
構成で行なうことができる基板受渡し装置を提供するこ
とにある。

【００１２】さらに、本発明の別の目的は、上記目的に
加えて、装置をコンパクトに構成することができる基板
受渡し装置を提供することにある。

【００１３】さらに、本発明の別の目的は、起立状態の
矩形基板の角部を下端とした矩形基板に対する湿式洗浄
処理を簡単な構成で行なうとともに、処理前の基板の汚
れを処理後の基板に付着させない、基板受渡し装置を用
いた基板湿式処理装置を提供することにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明は、基板が略水平である状態
（以下「水平状態」という）と前記基板が略垂直である
状態（以下「起立状態」という）との間で前記基板の姿
勢を転換する基板姿勢転換装置であって、回動軸と、前
記回動軸を正逆方向に回転させる回転駆動手段と、前記
回動軸に固設され、前記回動軸の回転によって前記基板
の回動軸側端部を下方から支持しながら、水平状態と起
立状態との間で前記基板の姿勢を転換させる第１支持手
段と、前記回動軸に回転自在に取り付けられ、前記基板
の所定の部位を下方から支持する第２支持手段と、前記
回動軸に回転自在に取り付けられ、前記基板の回動軸側
端部を上方から支持する第３支持手段と、前記第１支持
手段の回転に連動して、前記回動軸回りで前記第２支持
手段を回転させる第１連動手段と、前記第１支持手段の
回転に連動して、前記回動軸回りで前記第３支持手段を
回転させる第２連動手段と、前記水平状態と前記起立状
態との間の第１の傾斜状態で前記基板を支持する位置
と、前記起立状態で前記基板を支持する位置との間にお
いて前記第２支持手段の前記第１支持手段に対する連動
回転を規制する第１回転規制手段と、前記水平状態と前
記起立状態との間の第２の傾斜状態で前記基板を支持す
る位置と、前記水平状態で前記基板を支持する位置との
間において前記第３支持手段の前記第１支持手段に対す
る連動回転を規制する第２回転規制手段とを備え、前記
第２の傾斜状態と水平状態との成す角度が、前記第１の
傾斜状態と水平状態との成す角度よりも低いことを特徴
とするものである。

【００１５】また、請求項２に記載の発明は、上記請求
項１に記載の基板姿勢転換装置において、前記基板を水
平状態に支持する水平支持手段を備え、前記第１支持手
段は、前記水平支持手段に支持された基板よりも下方位
置と、前記起立状態で基板を支持する位置との間で回転
し、その回転中に、前記水平支持手段との間で基板の受
渡しを行なうように構成し、前記第２支持手段は、前記
下方位置に位置したときの第１支持手段よりもさらに下
方位置と、前記第１の傾斜状態で基板を支持する位置と
の間で回転し、その回転中に、前記水平支持手段との間
で基板の受渡しを行なうように構成したものである。

【００１６】また、請求項３に記載の発明は、上記請求
項１または請求項２のいずれかに記載の基板姿勢転換装
置において、前記基板は矩形の基板であり、前記第１支
持手段と前記第３支持手段とは、前記矩形基板の前記回
動軸側に位置する角部付近を下方と上方とから支持して
前記矩形基板の姿勢転換を行なうように構成したもので
ある。

【００１７】また、請求項４に記載の発明は、上記請求
項３に記載の基板姿勢転換装置と、前記水平状態で前記
矩形基板を搬送するとともに、前記水平状態で前記矩形
基板を前記基板姿勢転換装置に受け渡す水平搬送装置
と、前記起立状態で前記矩形基板を搬送するとともに、
前記起立状態で前記矩形基板を前記基板姿勢転換装置に
受け渡す起立搬送装置と、からなる基板受渡し装置にお
いて、前記水平搬送装置は、前記矩形基板の端辺を前記
基板姿勢転換装置の姿勢転換方向に対して傾けた状態で
前記矩形基板を前記基板姿勢転換装置に受け渡すように
構成し、前記起立搬送装置は、前記矩形基板の対向する
一対の角部を挟持した状態で前記矩形基板を前記基板姿
勢転換装置に受け渡すように構成したものである。

【００１８】また、請求項５に記載の発明、上記請求項
４に記載の基板受渡し装置において、前記矩形基板を水
平状態で収納するとともに、収納された矩形基板の一辺
に直交する方向に前記矩形基板の挿抜が可能なカセット
を備え、前記水平搬送装置は、前記矩形基板を支持する
支持部を備え、この支持部を進退させて前記カセットか
らの矩形基板の挿抜と前記基板姿勢転換装置との矩形基
板の受渡しを行なうとともに、前記カセットから抜き出
しまたは前記基板姿勢転換装置から受け取り、前記支持
部に支持した矩形基板を水平状態で回転可能に構成し、
前記水平搬送装置は、前記カセットから抜き出し（また
は、前記姿勢転換方向を前記カセットからの矩形基板の
挿抜方向に直交させた基板姿勢転換装置から受け取り）
前記支持部に支持した矩形基板を水平状態で回転させ
て、０°より大きく９０°未満の範囲で回転変位させた
後に、前記基板姿勢転換装置へ引き渡し（または、前記
カセットに挿入）できるように、前記カセット、前記水
平搬送装置、前記基板姿勢転換装置を配置したものであ
る。

【００１９】また、請求項６に記載の発明は、上記請求
項４または請求項５に記載の基板受渡し装置を用いた基
板湿式処理装置であって、起立状態の矩形基板に対して
湿式処理を行なう湿式処理部と、処理前の矩形基板をロ
ーダカセットから取り出し、その矩形基板の姿勢を水平
状態から起立状態へ転換するための基板受渡し装置（ロ
ーダ部基板受渡し装置）と、前記湿式処理部による湿式
処理が終了した矩形基板の姿勢を起立状態から水平状態
へ転換し、その矩形基板をアンローダカセットに収納す
る基板受渡し装置（アンローダ部基板受渡し装置）と、
起立状態の処理前の矩形基板を前記ローダ基板受渡し装
置から受け取り、前記湿式処理部を経て、起立状態の処
理済の矩形基板を前記アンローダ基板受渡し装置へ渡す
ための起立搬送装置と、前記ローダ部基板受渡し装置か
ら前記湿式処理部を経て前記アンローダ部基板受渡し装
置に矩形基板を搬送する間に、前記矩形基板の処理面と
その裏面との向きを転換する処理面転換手段と、を備え
たものである。

【００２０】

【作用】請求項１に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。水平状態の基板を本装置に受け渡す際には、第３支
持手段は、第２回転規制手段により基板を上方から支持
しない位置（第２の傾斜状態の基板を支持する位置）で
回転が規制されており、第１、第２支持手段と、第３支
持手段とは、回動軸を中心として所定角度開いた状態で
あるので、水平状態の基板を本装置に受け渡す際、第３
支持手段等が邪魔にならない。

【００２１】水平状態の基板を受け取り、回転駆動手段
を駆動して回動軸を正方向に回転すると、第１支持手段
は基板の回動軸側端部を下方から支持しながら、基板の
姿勢を起立状態へと転換させ、また、第１連動手段によ
り、第２支持手段は基板の所定の部位を下方から支持し
ながら回転する。そして、この第１、第２支持手段の回
転の途中で、基板が第２の傾斜状態になると、第２回転
規制手段で回転が規制されている第３支持手段が、基板
の回動軸側端部を上方から支持し、第２連動手段によ
り、第３支持手段は第１支持手段に連動して回転するの
で、以後、第１、第３支持手段で基板の回動軸側端部を
下方と上方とから挟み込むように支持するとともに、第
２支持手段で基板の所定の部位を下方から支持しなが
ら、基板の姿勢を起立状態へと転換させていく。

【００２２】そして、基板が第１の傾斜状態になったと
き、第１回転規制手段が、第２支持手段の回転を規制
し、以後、第１、第３支持手段で基板の回動軸側端部を
下方と上方とから挟み込むように支持した状態で基板の
姿勢を起立状態へと転換させていく。なお、この第１の
傾斜状態は、基板にかかる重力が略鉛直方向に作用し、
基板の所定の部位を下方から支持するのが不要（第１、
第３支持手段による基板の回動軸側端部の支持のみで基
板の姿勢が転換される）である基板の状態である。すな
わち、基板が、水平状態から、基板にかかる重力が略鉛
直方向に作用する状態までは、基板の回動軸側端部のみ
の支持では基板が倒れることになり、これを防止するた
めに、第２支持手段で基板の下面の所定の部位を下方か
ら支持する。従って、第２支持手段で支持する部位は、
第１支持手段（と第３支持手段）の支持と合わせて、姿
勢転換中の基板の倒れを防止できる位置に設定される。

【００２３】姿勢転換が終了すると、基板はその回動軸
側端部が第１、第３支持手段で支持された状態で起立さ
れる。このとき、第２支持手段は基板から離れている。
従って、起立状態の基板は、第２支持手段に干渉される
ことなくその下端部を第１、第３支持手段から抜き差し
するように基板の受渡しを行なうことができる。

【００２４】また、上記の状態から基板の姿勢を水平状
態に転換する際には、回転駆動手段を駆動して回動軸を
逆方向に回転すれば、第１支持手段は基板の回動軸側端
部をを下方から支持しながら、基板の姿勢を水平状態へ
と転換させ、また、第２連動手段により、第３支持手段
は基板の回動軸側端部を上方から支持しながら回転す
る。そして、この第１、第３支持手段の回転の途中で、
基板が第１の傾斜状態になると、第１回転規制手段で回
転が規制されている第２支持手段が、基板の所定の部位
を下方から支持し、第１連動手段により、第２支持手段
は第１支持手段に連動して回転するので、以後、第１、
第３支持手段で基板の回動軸側端部を、第２支持手段で
基板の所定の部位を支持しながら、基板の倒れを防止し
て、基板の姿勢を水平状態へと転換させていく。

【００２５】そして、基板が第２の傾斜状態になったと
き、第２回転規制手段が、第３支持手段の回転を規制
し、以後、第１、第２支持手段で基板を下方から支持し
ながら基板の姿勢を水平状態へと転換させていく。

【００２６】また、請求項２に記載の発明によれば、請
求項１の基板姿勢転換装置において、水平状態の基板を
水平支持手段で支持する。このとき、第１、第２、第３
支持手段は基板から離れているので、水平状態の基板の
受渡しの際、第１、第２、第３支持手段が邪魔になら
ず、水平状態の基板の受渡しが容易になる。

【００２７】また、請求項３に記載の発明は、矩形基板
を処理対象とし、第１、第３支持手段は、矩形基板の回
動軸側に位置する角部付近を下方と上方とから支持して
姿勢転換するので、起立状態の矩形基板は、角部を下端
にして起立される。従って、この状態で矩形基板を搬送
すれば、矩形基板の角部を下端にして（基板の下側の端
辺を傾けて）基板湿式処理装置で処理することができ
る。

【００２８】また、請求項４に記載の発明によれば、水
平搬送装置は、矩形基板の端辺を基板姿勢転換装置の姿
勢転換方向に対して傾けた状態で、矩形基板を基板姿勢
転換装置に引き渡す。基板姿勢転換装置は、受け取った
矩形基板の姿勢を起立状態に転換する。このとき、基板
姿勢転換装置は、水平搬送装置から矩形基板の端辺が基
板姿勢転換装置の姿勢転換方向に対して傾いた状態で矩
形基板を受け取ったので、回動軸側に基板の角部が位置
し、起立状態の矩形基板は、その角部を下端として起立
される。そして、起立搬送装置は、角部を下端にして起
立された矩形基板の前記下端の角部に隣接する対向する
一対の角部を挟持して、基板姿勢転換装置から矩形基板
を取り出し搬送する。また、起立状態の矩形基板を起立
搬送装置から基板姿勢転換装置に引渡し、基板姿勢転換
装置で水平状態に姿勢を転換し、水平搬送装置に引き渡
す際は、上述と逆の動作で行なわれる。

【００２９】また、請求項５に記載の発明によれば、起
立状態の矩形基板の角部を下端にして、起立搬送装置が
矩形基板を搬送するために、カセットの基板挿抜方向側
に水平搬送装置を配設し、カセットと水平搬送装置の間
の側部に基板姿勢転換装置を配設するので、カセット、
水平搬送装置、基板姿勢転換装置の配設に要する床の占
有面積が小さくなる。

【００３０】また、請求項６に記載の発明によれば、例
えば、処理面を上に向けてローダカセットに収納された
処理前の矩形基板が、ローダ部基板受渡し装置の水平搬
送装置を介してローダ部基板受渡し装置の基板姿勢転換
装置に引き渡され、角部が下端になるように起立状態に
起立される。起立搬送装置は、その矩形基板をローダ部
基板受渡し装置の基板姿勢転換装置から受け取り、湿式
処理部に搬入して湿式処理を受け、処理面転換手段で、
矩形基板の処理面とその裏面との向きを転換する。そし
て、湿式処理部から搬出された処理済の矩形基板は、ア
ンローダ部基板受渡し装置の基板姿勢転換装置で、水平
状態に姿勢が転換される。このとき、処理面転換手段
で、矩形基板の処理面とその裏面との向きが転換されて
いるので、水平状態の矩形基板の処理面は上に向いてい
る。そして、アンローダ部基板受渡し装置の水平搬送装
置は、アンローダ部基板受渡し装置の基板姿勢転換装置
から水平状態の矩形基板を受け取り、処理面を上に向け
てアンローダカセットに収納する。

【００３１】すなわち、角部を下端にした起立状態の矩
形基板に対して湿式処理を行なうための矩形基板の受渡
しが容易になる。また、処理前の矩形基板の姿勢転換等
の処理と、処理済の矩形基板の姿勢転換等の処理とは、
別個の装置で行なわれるので、それら装置を介して処理
済の矩形基板が汚染されるのが防止される。

【００３２】

【実施例】以下、図面を参照して本発明の一実施例を説
明する。図１は、本発明の基板姿勢転換装置に係る第一
実施例の構成を示す平面図であり、図２は、第３支持部
材の前端部の図示を省略した第一実施例装置の構成を示
す平面図、図３は、第一実施例装置に水平状態の基板を
支持した状態を示す側面図、図４は、第一実施例装置に
起立状態の基板を支持した状態を示す側面図である。こ
の実施例では、矩形基板の角部が下端になるように姿勢
転換を行なう装置を例に採り説明する。なお、この「矩
形基板」を以下では、単に「基板」という。

【００３３】図中、符号１は基台を示し、この基台１に
は、回動軸２を回動自在に支持するための支持台３ａ、
３ｂと、後述する第３支持部材のストッパー等が取り付
けられた支持台４とが設けられているとともに、水平状
態の基板Ｗを支持するための、水平支持手段としての複
数本（図では４本）の支持ピン５…が立設されている。

【００３４】支持台３ａ、３ｂに回動自在に支持された
回動軸２には、第１支持手段としての第１支持部材６の
基端部が固設され、第２支持手段としての第２支持部材
７の基端部と第３支持手段としての第３支持部材８の中
央部がそれぞれ回動自在に支持されている。

【００３５】第１支持部材６は、回動軸２の回転によっ
て、基板Ｗの回動軸側に位置する角部Ｋ３付近を４個の
支持部材６ａで下方から支持しながら、水平状態と起立
状態との間で基板Ｗの姿勢を転換させるためのものであ
る。なお、本実施例では、この第１支持部材６は、図
３、図４に示すように、支持ピン５…に支持された基板
Ｗの下方位置と、起立状態の基板Ｗを支持する位置との
間で回転し、その回転中に、基板Ｗの角部Ｋ３付近を支
持ピン５…との間で受渡すように構成されている。この
第１支持部材６の回転は、回動軸２の回転量で制御され
るがこれについては後述する。

【００３６】また、第２支持部材７は、第１連動手段と
しての圧縮コイルバネ９により第１支持部材６と連結さ
れ、第１支持部材６の回転に連動して、基板Ｗの角部Ｋ
４（上記角部Ｋ３に対向する角部）付近を支持部材７ａ
で下方から支持しながら、基板Ｗの姿勢転換を行なう。
また、この第２支持部材７には、突出部材７ｂが設けら
れており、基板Ｗの姿勢転換中に、図４に示すように、
突出部材７ｂが支持台３ａの側壁に当接することによ
り、水平状態と起立状態との間の第１の傾斜状態で基板
Ｗを支持する位置と、起立状態で基板Ｗを支持する位置
との間において、第２支持部材７の第１支持部材１に対
する連動回転が規制される。なお、突出部材７ｂと支持
台３ａとからなるストッパー機構は、本発明における第
１回転規制手段に相当する。また、本実施例では、支持
部材７ａで支持する基板Ｗの角部Ｋ４付近が、本発明に
おいて第２支持手段により支持される基板の所定の部位
に相当する。

【００３７】また、第３支持部材８は、第１支持部材６
の回転の際、第１支持部材６に押されながら、第１支持
部材６に連動して、基板Ｗの回動軸側に位置する角部Ｋ
３付近を支持部材８ａで上方から支持しながら基板Ｗの
姿勢転換を行なう。また、第３支持部材８の後端部と支
持台４とは圧縮コイルバネ１０で連結され、第３支持部
材８の支持部材８ａは、第１支持部材６の支持部材６ａ
側に付勢されている。このように付勢される結果、基板
Ｗの姿勢転換中、第１支持部材６の支持部材６ａと第３
支持部材８の支持部材８ａとは、基板Ｗの角部Ｋ３付近
を下方と上方とから挟み込むように支持するとともに、
図４に示すように、起立状態の基板Ｗを支持する際、第
３支持部材８が、第１支持部材６と反対側に倒れるのを
防止している。また、支持台４には、突出部材４ａが設
けられており、基板Ｗの姿勢転換中に、図３に示すよう
に、第３支持部材８の後端部が支持台４の突出部材４ａ
に当接することにより、水平状態と起立状態との間の第
２の傾斜状態で基板Ｗを支持する位置と、水平状態で基
板Ｗを支持する位置との間において、第３支持部材８の
第１支持部材１に対する連動回転が規制される。なお、
第３支持部材８の支持部材８ａが第１支持部材６の支持
部材６ａ側に付勢されながら、第１支持部材６に押され
て第１支持部材６に連動して回転する構成は、本発明に
おける第２連動手段に相当する。また、第３支持部材８
の後端部と突出部材４ａとからなるストッパー機構は、
本発明における第２回転規制手段に相当する。

【００３８】次に、回動軸２を正逆回転させるための機
構を図５を参照して説明する。この機構は、図５（ａ）
に示すように、回動軸２とモータ１１の回転軸とをリン
ク機構を介して連結したものである。すなわち、基台１
に対して固定されたモータ１１の回転軸１１ａに第１の
リンク部材１２の基端部が固設され、この第１のリンク
部材１２の先端部の摺動部材１３が、第２のリンク部材
１４の長孔１５に摺動自在に嵌め付けられ、第２のリン
ク部材１４の基端部が回動軸２に固設された構成であ
る。例えば、リンク機構が図の実線で示す状態で、モー
タ１１を正方向に回転すると、第１のリンク部材１２が
時計回りに回転され、それに伴って、摺動部材１３が第
２のリンク部材１４の長孔１５を往復移動し、第２のリ
ンク部材１４が、その基端部を中心として反時計回りに
回転される結果、回動軸２が逆方向に回転される。そし
て、リンク機構が図の二点鎖線で示す状態となったと
き、回動軸２の回転が規制される。また、リンク機構が
図の二点鎖線で示す状態からモータ１１を逆方向に回転
すると、上述と逆の動作により、回動軸２が正方向に回
転され、リンク機構が図の実線で示す状態になったと
き、回動軸２の回転が規制される。すなわち、回動軸２
に固設された第１支持部材６は、図５（ｂ）に実線で示
す状態と二点鎖線で示す状態との間でδだけ回転される
ように、回転軸２の回転を制御する必要があるが、図５
（ａ）のように構成することにより、回動軸２のδの回
転を正確に制御することができる。なお、リンク機構
が、図５（ａ）の実線で示された状態のとき、第１支持
部材６は、図５（ｂ）の実線で示す状態であり、リンク
機構が、図５（ａ）の二点鎖線で示された状態のとき、
第１支持部材６は、図５（ｂ）の二点鎖線で示す状態に
ある。また、このモータ１１とリンク機構とは、本発明
における回転駆動手段に相当する。

【００３９】なお、回動軸２をδの範囲で正逆回転させ
るための機構は、図５（ａ）以外にも、例えば、図５
（ｃ）に示すように構成してもよい。図５（ｃ）の機構
は、回動軸２に基端部が固設されたリンク部材１６の長
孔１７に、基台１に対して固定されたシリンダ１８のロ
ッド１８ａの先端部の摺動部材１９が摺動自在に嵌め付
けられた構成である。この機構によれば、シリンダ１８
のロッド１８ａの伸縮により、リンク部材１６は図の実
線と２点鎖線で示す状態で変位し、その結果、回動軸２
はδの回転を正確に制御される。この構成の場合には、
リンク部材１６とシリンダ１８とが、本発明における回
転駆動手段に相当する。

【００４０】また、回動軸２をδの範囲で正逆回転させ
るための機構は、それ以外にも、例えば、回動軸２をパ
ルスモータで回転させ、回動軸２の回転量をパルス数で
制御するように構成してもよいし、回動軸２をモータで
回転させ、そのモータの回転数または、回動軸２の回転
角を例えばロータリーエンコーダで検出して回動軸２の
回転量を制御するように構成してもよい。

【００４１】次に、本実施例装置の動作を図６等を参照
して説明する。まず、水平状態の基板Ｗを起立状態に姿
勢転換する場合について説明する。

【００４２】第１〜第３支持部材６〜８が図３に示す状
態で、水平状態の基板Ｗが搬入され、支持ピン５…に支
持される。この基板Ｗの搬入は、図６（ａ）、（ｂ）に
示すように、基板Ｗを水平状態で搬送する水平搬送装置
の基板載置部４５上に基板Ｗが保持されて行なわれる。
水平搬送装置の具体的な構成は、後述する基板受渡し装
置の実施例で詳細に説明するが、水平搬送装置は、基板
載置部４５を昇降可能で、かつ、図６（ａ）の矢印で示
す方向に進退可能に構成されている。

【００４３】水平搬送装置は、基板載置部４５上に基板
Ｗを保持し、基板Ｗの下面が支持ピン５…に摺動しない
高さで、図６（ａ）の矢印方向に基板Ｗを搬入する。そ
して、基板載置部４５による基板Ｗの保持を解除して、
基板載置部４５を微小量降下させ、図６（ｂ）に示すよ
うに、基板Ｗを支持ピン５…に渡す。そして、基板載置
部４５をさらに微小量降下させ、基板載置部４５の上面
と基板Ｗの下面とが摺動しないように基板載置部４５を
搬入時と逆方向に移動させて基板姿勢転換装置から退出
させる。このとき、第１、第２支持部材６、７と、第３
支持部材８とは、回動軸２を中心として所定角度開いた
状態であるので、上述したような水平状態の基板Ｗの搬
入動作の際、基板Ｗや基板載置部４５と、第１〜第３支
持部材６〜８との干渉が避けられる。なお、第１〜第３
支持部材６〜８は、搬入動作の際の基板載置部４５や基
板Ｗとの干渉が避けられる適宜の位置に退避されるよう
にその位置（回転の規制）が決められている。

【００４４】次に、回動軸２を正方向に回転させると、
第１支持部材６が正方向に回転し、それに連動して第２
支持部材７も正方向に回転する。そして、第１、第２支
持部材６、７が、図６（ｃ）の状態になったとき、第
１、第２支持部材６、７は、基板Ｗを、支持ピン５…か
ら受け取り、第１支持部材６の支持部材６ａは、基板Ｗ
の角部Ｋ３付近を下方から支持し、第２支持部材７の支
持部材７ａは、基板Ｗの角部Ｋ４付近を下方から支持す
る。そして、第１、第２支持部材６、７が、図６（ｄ）
に示す状態までの回転中に、基板Ｗが第２の傾斜状態に
なったとき、第３支持部材８のストッパー機構で回転が
規制されていた第３支持部材８の支持部材８ａが基板Ｗ
の角部Ｋ３付近を上方から支持し、第３支持部材８は圧
縮コイルバネ１０により第１支持部材６側に付勢されな
がら、第１支持部材６に押されて、第１支持部材６の回
転に連動して回転する。すなわち、第１、第３支持部材
６、７で基板Ｗの角部Ｋ３付近を下方と上方とから挟み
込むように支持するとともに、第２支持部材７で基板Ｗ
の角部Ｋ４付近を下方から支持しながら、基板Ｗの姿勢
を起立状態へと転換させていく。

【００４５】そして、図６（ｅ）の状態になったとき、
すなわち、基板Ｗが第１の傾斜状態になったとき、第２
支持部材７のストッパー機構により第２支持部材７の回
転が規制され、以後、第１、第３支持部材６、８で基板
Ｗの角部Ｋ３付近を下方と上方とから挟み込むように支
持した状態で、図６（ｆ）に示す状態まで、基板Ｗの姿
勢を転換させていく。なお、第２支持部材７の回転が規
制される、基板Ｗの第１の傾斜状態は、図６（ｅ）の状
態から図６（ｆ）の状態までの基板Ｗの姿勢転換におい
て、基板Ｗにかかる重力が略鉛直方向に作用し、第２支
持部材７による支持が不要（第１、第３支持部材６、８
による基板Ｗの角部Ｋ３付近のみの支持で基板Ｗの姿勢
転換可能）となる状態に設定されている。これは、換言
すれば、図６（ｃ）の状態から図６（ｅ）の状態までの
基板Ｗの姿勢転換においては、第１、第３支持部材６、
８による基板Ｗの角部Ｋ３付近のみの支持では、基板Ｗ
が倒れるので、それを防止するために基板Ｗの角部Ｋ４
付近を第２支持部材７で下方から支持したものである。
従って、第２支持部材７による基板Ｗを支持する部位
は、第１支持部材６の支持と合わせて、基板Ｗが倒れな
いように姿勢転換できる部位に設定している。

【００４６】図６（ｆ）の状態では、基板Ｗはその角部
Ｋ３付近が第１、第３支持部材６、８で支持された状態
で、この角部Ｋ３（図６（ｇ）参照）を下端として起立
され、第２支持部材７は基板Ｗから離れている。この状
態で、図６（ｇ）に示すように、起立搬送装置のチャッ
ク５６ａ、５６ｂで基板Ｗの対向する一対の角部Ｋ１、
Ｋ２を挟持して上方に持ち上げることにより、基板Ｗを
第１、第３支持部材６、８から引き抜く。なお、起立搬
送装置の具体的な構成は、後述する基板受渡し装置の実
施例において詳細に説明する。ここで、第２支持部材７
の回転が規制されず、第２支持部材７の支持部材７ａが
起立状態の基板Ｗに当接している場合には、起立状態の
基板Ｗを起立搬送装置のチャック５６ａ、５６ｂに受け
渡す際、第２支持部材７が邪魔になるし、また、基板Ｗ
をチャック５６ａ、５６ｂに挟持されて上昇させる際、
第２支持部材７の支持部材７ａと基板Ｗとが摺動するこ
とになる。しかし、本実施例では、上述したように、第
２支持部材７の回転を途中で規制し、第２支持部材７が
起立状態の基板Ｗから離れるように構成しているので、
このような不都合は回避される。

【００４７】ところで、第１、第３支持部材６、８の支
持部材６ａ、８ａは、図７に示すように、その内壁に傾
斜が付けられており、これら支持部材６ａ、８ａにより
基板Ｗを挟み込んだとき基板Ｗのエッジ部分ＥＧが支持
される。従って、起立状態の基板Ｗのこれら支持部材６
ａ、８ａとの受渡しの際、基板Ｗとこれら支持部材６
ａ、８ａとの摺動が防止される。

【００４８】次に、起立状態の基板Ｗを水平状態に姿勢
転換する場合について説明する。この場合、上述と逆の
手順、すなわち、図６（ｆ）（図６（ｇ））〜図６（ｂ
（（図６（ａ））の手順で基板Ｗの姿勢転換が行なわれ
る。

【００４９】まず、第１〜第３支持部材６〜８が図４に
示す状態において、上記起立状態の基板Ｗの取り出しと
逆の手順で、起立状態の基板Ｗの角部Ｋ１、Ｋ２が起立
搬送装置のチャック５６ａ、５６ｂに挟持され、基板Ｗ
が第１、第３支持部材６、８の支持部材６ａ、８ａに渡
される。そして、回動軸２を逆方向に回転すると、第１
支持部材６は基板Ｗの角部Ｋ３付近を下方から支持しな
がら、基板Ｗの姿勢を水平状態へと転換させ、また、圧
縮コイルバネ１０により第３支持部材８が第１支持部材
６側に付勢されることによって、第３支持部材８は第１
支持部材６の回転に連動して基板Ｗの角部Ｋ３付近を上
方から支持しながら回転する。そして、この第１、第３
支持部材６、８の回転の途中で、図６（ｅ）に示すよう
に、回転が規制されている第２支持部材７が、基板Ｗの
角部Ｋ４付近を下方から支持し、以後、第１、第３支持
部材６、８で基板Ｗの角部Ｋ３付近を下方と上方とか
ら、第２支持部材７で基板Ｗの角部Ｋ４付近を下方から
支持し、基板Ｗの倒れを防止しながら、基板Ｗの姿勢を
水平状態へと転換させていく。

【００５０】そして、その姿勢転換の途中に第３支持部
材８は回転が規制され、以後、第１、第２支持部材６、
７で基板Ｗを下方から支持して基板Ｗの姿勢を水平状態
へと転換させ、図６（ｃ）に示すように、基板Ｗが水平
状態になったとき、基板Ｗは支持ピン５…に渡され、第
１、第２支持部材６、７は図６（ｂ）に示す位置まで回
転して停止する。この状態で、水平搬送装置は基板載置
部４５を基板Ｗの下方に挿入し、基板載置部４５を上昇
させて支持ピン５…に支持されている基板Ｗを基板載置
部４５に受け取り、基板Ｗを保持し、基板載置部４５を
退出させて基板Ｗの搬出を行なう。

【００５１】なお、上述の実施例では、基板Ｗの角部Ｋ
４付近の１点を第２支持部材７の支持部材７ａで支持す
るように構成したが、基板Ｗの姿勢転換をより安定して
行なうためには、例えば、第２支持部材７の支持部材７
ａで基板Ｗの複数点（または、所定の領域）を下方から
支持するようにしてもよい。但し、基板Ｗに接触する部
分が多くなれば、支持部材７ａで基板Ｗを汚染するなど
の不都合が起きることも考えられるので、第２支持部材
７による支持部分はなるべく少ない（接触部分が小さ
い）方が好ましい。なお、この変形例、および以下の各
変形例は、後述する基板姿勢転換装置の各実施例にも同
様に適用することができる。

【００５２】また、第１連動手段と第１回転規制手段
は、上述の実施例で説明した以外の構成、例えば、図８
に示すような構成で実現してもよい。図８では、第２支
持部材７にプレート状部材７ｃを付設するとともに、第
１支持部材６にプレート状部材６ｃを付設し、これらプ
レート状部材６ｃと７ｃとを圧縮コイルバネ２０で連結
して、第１支持部材６に連動して第２支持部材７が回転
するように構成している。また、第２支持部材７の回転
は、基台１に対して固定された支持台２１と、第２支持
部材７のプレート状部材７ｃとを連結するリンク機構に
より規制する構成である。このリンク機構は、第１のリ
ンク部材２２の基端部が支持台２１に固設され、第１の
リンク部材２２の先端部の摺動部材２３が、第２のリン
ク部材２４の長孔２５に摺動自在に嵌め付けられ、第２
のリンク部材２４の基端部が、プレート状部材７ｃに回
動自在に取り付けられた構成である。図８（ａ）（図３
に対応する状態）に示す状態から、回動軸２を正方向に
回転させて第１支持部材６を回転させると、圧縮コイル
バネ２０により、第２支持部材７が第１支持部材６の回
転に連動して回転し、図８（ｂ）（図４に対応する状
態）に示す状態になると、第２支持部材７はリンク機構
でその回転が規制させる。

【００５３】また、第２連動手段と第２回転規制手段
も、上述の実施例で説明した以外の構成で実現すること
も可能である。

【００５４】さらに、上述の実施例では、第１支持部材
６を回転させ、第２、第３支持部材７、８の回転は圧縮
コイルバネ等を介して第１支持部材６の回転に連動させ
て行ない、各ストッパー機構等で、第２、第３支持部材
７、８の回転を規制するように構成したが、例えば、第
２、第３支持部材７、８の回転を、回動軸２の回転によ
る第１支持部材６の回転と独立して行なうように構成し
てもよい。このとき、第２支持部材７のみを回転させる
回転駆動装置は、第１支持部材６の回転に同期させて第
２支持部材７を回転させるとともに、図３に示す状態と
図４に示す状態との間でのみ第２支持部材７を回転する
ように構成すれば、この第２支持部材７を回転させる回
転駆動装置が、本発明の第１連動手段、第１回転規制手
段として機能するので、圧縮コイルバネ９による連結や
ストッパー機構等は不要となる。また、第３支持部材８
のみを回転させる回転駆動装置も、第１支持部材６の回
転に同期させて第３支持部材８を回転させるとともに、
図３に示す状態と図４に示す状態との間でのみ第３支持
部材８を回転するように構成すれば、この第３支持部材
８を回転させる回転駆動装置が、本発明の第２連動手
段、第２回転規制手段として機能するので、圧縮コイル
バネ１０やストッパー機構等は不要となる。

【００５５】また、上述の実施例に、図９に示すような
水平状態の基板Ｗの位置合わせを行なう機構を付設して
もよい。この位置合わせ機構は、１対の位置合わせ部材
２６ａ、２６ｂが、同期して支持ピン５…に支持された
基板Ｗの対向する一対の角部Ｋ１、Ｋ２を挟み込むよう
にして、基板Ｗの位置合わせを行なう構成である。この
位置合わせ部材２６ａ、２６ｂの同期した変位は、各位
置合わせ部材２６ａ、２６ｂにそれぞれ基端部が連結さ
れた部材２６ｃ、２６ｄの先端部の摺動部材２６ｅ、２
６ｆが、規制部材２７の長孔２７ａ、２７ｂに摺動自在
の嵌め付けられ、この規制部材２７をシリンダ２８のロ
ッド２８ａの伸縮により変位させ、各摺動部材２６ｅ、
２６ｆを長孔２７ａ、２７ｂに沿って摺動させて実現さ
れる。

【００５６】水平搬送装置が、水平状態の基板Ｗを正確
な位置に搬入する場合には特に問題はないが、例えば、
図１０（ａ）に示すように、基板Ｗの搬入位置がずれた
場合にその基板Ｗの姿勢を起立状態に転換させていく
と、第１支持部材６の支持部材６ａと第３支持部材８の
支持部材８ａとが、基板Ｗの角部Ｋ３付近を正確に挟み
込めない結果、基板Ｗに損傷を与えることになる。従っ
て、上述のような位置合わせ機構を用いて、図１０
（ｂ）に示すように、水平状態の基板Ｗの位置合わせを
行なってから基板Ｗの姿勢転換を行なえば、基板Ｗに損
傷を与えるのを防止することができる。

【００５７】次に、本発明に係る基板姿勢転換装置の第
二実施例を図１１を参照して説明する。図１１は、第二
実施例装置に水平状態の基板を支持した状態を示す側面
図である。この第二実施例装置は、図１１に示すよう
に、水平状態の基板Ｗを支持する支持ピン５を無くし、
第１、第２支持部材６、７で、水平状態の基板Ｗを支持
するように構成したものである。

【００５８】この場合、第１〜第３支持部材６〜８は、
図１１〜図４に示す範囲において回転されることにな
る。このとき、第１支持部材６の回転は、回動軸２の回
転量で制御されるが、例えば、図５（ａ）のリンク機構
の第１のリンク部材１２の長さや第２のリンク部材１４
の長孔１５の長さ等を調整することで、回動軸２の回転
量を調整することができ、第１支持部材６の回転を所望
の範囲に規制することができる。また、第２、第３支持
部材７、８は、第１支持部材６に連動するので、上述の
第一実施例（またはその変形例）と同様の構成でそれぞ
れの回転を規制することができる。なお、その他の構成
は、上述した第一実施例装置と同様であるので、ここで
の詳述は省略する。

【００５９】この実施例において、水平状態の基板Ｗを
基板姿勢転換装置に搬入する場合、水平搬送装置は、水
平状態の基板Ｗを第１、第２支持部材６、７の支持部材
６ａ、７ｂの僅か上方に挿入し、基板載置部４５を降下
させて基板Ｗを第１、第２支持部材６、７の支持部材６
ａ、７ｂの上に載置して、基板載置部４５をさらに微小
量降下させ、基板Ｗの下面と基板載置部４５の上面とが
摺動しないようにして基板載置部４５を退出させること
になる。また、水平状態の基板Ｗを基板姿勢転換装置か
ら搬出する場合にはその逆の動作で行なわれる。

【００６０】なお、この場合、基板Ｗと第２支持部材７
との間の幅が、上述した第一実施例装置に比べて狭いの
で、基板載置部４５と第２支持部材７との干渉が生じ易
くなる。このような場合には、例えば、図６（ｇ）のチ
ャック５６ａ、５６ｂによる基板Ｗの搬送と同様の搬
送、すなわち、チャック５６ａ、５６ｂで水平状態の基
板Ｗの対向する一対の角部を挟持して、基板Ｗを第１、
第２支持部材６、７の支持部材６ａ、７ｂの上方に挿入
し、チャック５６ａ、５６ｂを降下させて基板Ｗを第
１、第２支持部材６、７の支持部材６ａ、７ｂの上方に
載置して、チャック５６ａ、５６ｂによる基板Ｗの角部
の挟持を解除してチャック５６ａ、５６ｂを退避させる
ように構成してもよい。また、水平状態の基板Ｗを基板
姿勢転換装置から搬出する場合にはその逆の動作で行な
われる。

【００６１】次に、本発明に係る基板姿勢転換装置の第
三実施例の構成を図１２を参照して説明する。図１２
は、第三実施例装置の第３支持部材の構成を示す図であ
る。この第三実施例装置は、起立状態の基板Ｗの端辺Ｕ
Ｈが下端になるような姿勢転換を行なうための装置であ
る。すなわち、第１、第３支持部材６、８を図１２に示
すように構成し（図１２では、第３支持部材８の支持部
材８ａの構成を示しているが、第１支持部材６の支持部
材６ａの構成も同様である）、基板Ｗの端辺ＵＨが回動
軸２に平行になるように基板Ｗの回動軸２側端部を支持
し、基板Ｗの姿勢転換を行なうものである。なお、図で
は、第２支持部材７の支持部材７ａにより支持される部
位を支持部材７ａで示している。また、その他の構成
は、上述した第一、第二実施例装置と同様であるので、
ここでの詳述は省略する。

【００６２】次に、本発明に係る基板姿勢転換装置の第
四実施例の構成を図１３を参照して説明する。図１３
は、第四実施例装置の第３支持部材の構成を示す図であ
る。この第四実施例装置は、半導体ウエハＷの姿勢転換
を行なうための装置である。すなわち、第１、第３支持
部材６、８を図１３に示すように構成し（図１３では、
第３支持部材８の支持部材８ａの構成を示しているが、
第１支持部材６の支持部材６ａの構成も同様である）、
半導体ウエハＷの回動軸２側端部を支持して、回動軸２
を回転させて半導体ウエハＷの姿勢転換を行なうもので
ある。なお、図では、第２支持部材７の支持部材７ａに
より支持される部位を支持部材７ａで示している。ま
た、その他の構成は、上述した第一、第二実施例装置と
同様であるので、ここでの詳述は省略する。

【００６３】次に、本発明に係る基板受渡し装置の実施
例の構成を図１４ないし図１７を参照して説明する。図
１４は、カセット、水平搬送装置、基板姿勢転換装置の
配置を示す図であり、図１５は、基板姿勢転換装置と起
立搬送装置の配置を示す図、図１６は、水平搬送装置の
構成を示す図、図１７は、起立搬送装置の構成を示す図
である。なお、図１４では、起立搬送装置の図示を省略
しており、図１５では、カセット、水平搬送装置の図示
を省略している。また、本実施例装置、および本実施例
装置の変形例では、矩形基板を処理対象とし、基板姿勢
転換装置としては、起立状態の基板Ｗの角部が下端にな
るように姿勢転換するための、上述した基板姿勢転換装
置の第一実施例を用いている。なお、本実施例装置、お
よび本実施例装置の変形例で用いる基板姿勢転換装置
は、上述した基板姿勢転換装置の第一実施例の変形例ま
たは、第二実施例またはその変形例を用いてもよい。

【００６４】カセット３０には、水平状態の基板Ｗが収
納され、カセット３０からの基板Ｗの挿抜は、図１４に
示すように、受渡し口３１を介して基板Ｗの一辺ＵＨに
直交する方向（図１４では、Ｙ方向に平行な矢印ＷＹで
示す方向）に行なわれるように構成されている。なお、
カセット３０の受渡し口３１には、開閉自在の蓋（図示
せず）が設けられ、基板Ｗをカセット３０に挿抜する場
合のみ、蓋が開かれるように構成されている。

【００６５】また、水平搬送装置４０は、図１６に示す
ように、基台４１に、Ｚ方向に伸縮自在で、かつ、回動
自在の軸４２が設けられ、軸４２の上部に第１アーム４
３の基端部が回動自在に取り付けられ、第１アーム４３
の先端部に第２アーム４４の基端部が回動自在に取り付
けられ、第２アーム４４の先端部に基板載置部４５の基
端部が回動自在に取り付けられた構成である。基板載置
部４５には、基板Ｗの下面を真空吸着するための図示し
ない孔が設けられ、この孔は、各アーム４４、４３、軸
４２、基台４１に内設された管を介して図示しない真空
ポンプに連通されている。また、第１アーム４３の基端
部が所定の方向（例えば、時計回り、図のＨａ方向）に
回転されるとき、第２アーム４４の基端部はそれと反対
方向（反時計回り、図のＨｂ方向）に回転され、さら
に、そのとき、基板載置部４５の基端部は、第２アーム
４４の基端部の回転方向と逆方向（時計回り、図のＨｃ
方向）に同期して回転されるように構成されている。こ
れにより、各アーム４３、４４４は伸縮して、基板載置
部４５を進退させることができる。また、軸４２を回転
させることにより、各アーム４３、４４の伸縮方向、す
なわち、基板載置部４５を進退させる方向を変えること
ができ、軸４２を昇降させることにより、基板載置部４
５のＺ方向の高さを変えることができる。

【００６６】起立搬送装置５０は、図１７（ａ）、
（ｂ）に示すように、Ｘ方向に延びたレール部材５１に
内設されたガイド軸５１１にガイドされるとともに、ネ
ジ軸５１２に螺合されてＸ方向に往復動自在に構成され
た部材５２に、Ｚ方向昇降部材５３が取り付けられ、Ｚ
方向昇降部材５３に内設されたガイド軸５３１にガイド
されるとともに、ネジ軸５３２に螺合されてＺ方向に昇
降自在に構成された部材５４に駆動部５５が取り付けら
れ、この駆動部５５に、開閉自在の２本のチャック５６
ａ、５６ｂが取り付けられた構成である。各チャック５
６ａ、５６ｂの先端部には、角部Ｋ３を下端にした起立
状態の基板Ｗの、下端の角部Ｋ３に隣接する対向する一
対の角部Ｋ１、Ｋ２を挟持するための円板状の部材５７
が、各々２個ずつ取り付けられている。また、図１７
（ｃ）に示すように、各チャック５６ａ、５６ｂの基端
部５６１ａ、５６１ｂはそれぞれガイド軸５５１ａ、５
５１ｂに摺動自在に嵌め付けられ、各チャック５６ａ、
５６ｂの基端部５６１ａ、５６１ｂが、シリンダ５５２
のロッド５５２ａの伸縮によってリンク部材５５３、連
結部材５５４ａ、５５４ｂを介して、同期してガイド軸
５５１ａ、５５１ｂを反対方向に摺動することにより、
各チャック５６ａ、５６ｂの開閉が行なわれるように構
成されている。また、このチャック５６ａ、５６ｂは、
部材５２、Ｚ方向昇降部材５３、部材５４、駆動部５５
を介して、レール部材５１に沿ってＸ方向に往復動可能
であるとともに、部材５４、駆動部５５を介して、Ｚ方
向昇降部材５３に沿ってＺ方向に昇降可能である。

【００６７】この実施例の基板姿勢転換装置ＳＴと起立
搬送装置５０とは、図１５に示すように配置されてい
る。すなわち、起立搬送装置５０の各チャック５６ａ、
５６ｂが、基板姿勢転換装置ＳＴの上方より各チャック
５６ａ、５６ｂを開いてＺ方向に降下し、各チャック５
６ａ、５６ｂの先端部の部材５７を、基板姿勢転換装置
ＳＴで起立された基板Ｗの側方に位置させ、各チャック
５６ａ、５６ｂを閉じて、各チャック５６ａ、５６ｂの
先端部の４個の部材５７で基板Ｗの角部Ｋ１、Ｋ２を挟
持する。そして、各チャック５６ａ、５６ｂをＺ方向に
上昇させて角部Ｋ３を下端にした起立状態の基板Ｗを基
板姿勢転換装置ＳＴより搬出し、搬出された基板Ｗは、
その状態でＸ方向に移動され、所定の湿式処理が施され
る。

【００６８】また、所定の湿式処理が終了して搬送され
てきた基板Ｗは、起立搬送装置５０の各チャック５６
ａ、５６ｂの先端部の部材５７に挟持され、基板姿勢転
換装置ＳＴの上方に搬送され、各チャック５６ａ、５６
ｂをＺ方向に降下させて、角部Ｋ３を下端にした起立状
態の基板Ｗを基板姿勢転換装置ＳＴに渡し、各チャック
５６ａ、５６ｂを開いてＺ方向に上昇させることによ
り、基板Ｗの基板姿勢転換装置ＳＴへの搬入が行なわれ
る。

【００６９】次に、基板姿勢転換装置ＳＴと水平搬送装
置４０とカセット３０とは、図１４に示すように配置さ
れている。すなわち、カセット３０の基板Ｗの受渡し口
３１の前方に水平搬送装置４０が配置され、基板姿勢転
換装置ＳＴは、カセット３０の側方に、姿勢転換方向
（図１４ではＸ方向に平行な矢印ＳＴＸで示す方向、す
なわち、基板姿勢転換装置ＳＴの回動軸２の軸芯方向に
直交する方向）が基板挿抜方向ＷＹに直交するように配
置されている。

【００７０】カセット３０から基板Ｗを抜き出し、抜き
出した基板Ｗを水平状態で基板姿勢転換装置ＳＴに搬入
する際には、水平搬送装置４０は、軸４２を回転させ、
基板載置部４５の進退方向をカセット３０側に向け、ア
ーム４３、４４を伸長させて基板載置部４５をカセット
３０の受渡し口３１から、収納されている基板Ｗの下方
に挿入し、基板載置部４５をＺ方向に上昇させ、基板Ｗ
を基板載置部４５の上面で受け取り真空吸着する。そし
て、アーム４３、４４を収縮させて基板載置部４５をカ
セット３０から抜き出し基板Ｗを取り出す。次に、水平
搬送装置４０の軸４２をθだけ正方向に回転させ、取り
出した基板Ｗを水平状態で回転させる。このとき、基板
Ｗの端辺ＵＬは、姿勢転換方向ＳＴＸに対して傾いてい
る。この状態で、水平搬送装置４０は、アーム４３、４
４を伸長させ、基板Ｗを基板姿勢転換装置ＳＴに搬入す
る。この搬入の手順は、上述した基板姿勢転換装置の第
一実施例の動作で説明したので、ここでの説明は省略す
る（図６（ａ）、（ｂ）参照）。

【００７１】また、基板姿勢転換装置ＳＴから基板Ｗを
水平状態で受け取り、その基板Ｗをカセット３０に収納
する際には、まず、水平搬送装置４０は、上述した基板
姿勢転換装置の第一実施例の動作で説明したような手順
で水平状態の基板Ｗを基板姿勢転換装置ＳＴから基板載
置部４５で受け取り、アーム４３、４４を収縮させた状
態で、軸４２をθだけ逆方向に回転させ、受け取った基
板Ｗを水平状態で回転させる。このとき、基板Ｗの端辺
ＵＨは、カセット３０の挿抜方向に直交している（カセ
ット３０に収納できる状態となっている）。この状態
で、水平搬送装置４０は、アーム４３、４４を伸長さ
せ、基板Ｗをカセット３０に収納する。なお、この収納
手順は、上述した基板Ｗのカセット３０からの抜き出し
の手順と逆の手順である。

【００７２】通常、カセット３０の基板Ｗの挿抜方向
は、本実施例のように基板Ｗの一辺に対して直交するよ
うに構成されている。従って、基板Ｗをカセット３０か
ら挿抜した状態で、基板Ｗの端辺を姿勢転換方向に直交
（または平行）に基板姿勢転換装置ＳＴに受渡しする構
成では、基板姿勢転換装置ＳＴによる姿勢転換において
は、上述した基板姿勢転換装置の第三実施例のように、
起立状態の基板Ｗは、端辺が下端となった状態で起立さ
せるものであり、基板Ｗを角部を下端にして起立させる
ことができない。これに対して、本実施例では、基板Ｗ
をカセット３０から挿抜した状態で、基板Ｗの端辺を姿
勢転換方向に傾けて基板姿勢転換装置ＳＴに受渡しする
構成であるので、基板Ｗの角部を下端にして起立させる
ことを簡単な構成で実現できる。このように基板Ｗの角
部を下端にして起立させることができると、基板姿勢転
換装置ＳＴと起立搬送装置５０とで、基板Ｗの角部を下
端にした起立状態で基板Ｗの受渡しが行なえ、その状態
で、基板Ｗに対して湿式処理（例えば湿式洗浄処理）を
施した場合、基板Ｗの液切れをよくすることができる。

【００７３】なお、基板Ｗをカセット３０から挿抜した
状態で、基板Ｗの端辺を姿勢転換方向に傾けて基板姿勢
転換装置ＳＴに受渡しする構成は、本実施例のカセット
３０、水平搬送装置４０、基板姿勢転換装置ＳＴの配置
に限らず様々な配置が可能である。図１８（ｂ）〜
（ｄ）にその一例を示す。しかし、本実施例のように、
基板Ｗの回転角θを０＜θ＜９０°の範囲にするように
構成すれば、カセット３０、水平搬送装置４０、基板姿
勢転換装置ＳＴの設置面積が小さくなるし、図１８
（ｃ）、（ｄ）のように縦長にならず、面積を有効に利
用できる。なお、図１８（ａ）は、本実施例の場合の配
置を示し、図１８（ａ）〜（ｄ）の一点鎖線で示す範囲
が各装置の配置に要する面積を示す。

【００７４】次に、本発明に係る基板湿式処理装置の実
施例の構成を図１９を参照して説明する。図１９は、基
板湿式処理装置の実施例の全体構成を示す平面図であ
る。なお、本実施例では、矩形基板を処理対象とし、湿
式の洗浄処理を行なう湿式洗浄装置を例に採り説明す
る。

【００７５】本実施例は、大きく分けて、ローダ部６０
と洗浄処理部７０とアンローダ部８０と図示しない起立
搬送装置とで構成されている。

【００７６】ローダ部６０には、上述したカセット３０
と同じ構成のローダカセット３０Ｌと、上述した水平搬
送装置４０と同じ構成のローダ部水平搬送装置４０Ｌ
と、上述した基板姿勢転換装置の第一実施例または第二
実施例またはそれらの変形例と同じ構成のローダ部基板
姿勢転換装置ＳＴＬとが配置されている。ローダカセッ
ト３０Ｌには、洗浄処理部７０による洗浄処理が行なわ
れる前の基板（以下、「未処理基板」という）が水平状
態で収納されている。なお、ローダ部６０には、図１９
の矢印ＬＹで示す方向よりローダカセット３０Ｌをロー
ダ部６０内に搬入（搬出）するための、図示しないロー
ダカセット受渡し部が設けられている。また、このロー
ダ部６０のローダカセット３０Ｌとローダ部水平搬送装
置４０Ｌとローダ部基板姿勢転換装置ＳＴＬとは、上述
した図１４（図１８（ａ））と同じように配置されてい
る。

【００７７】アンローダ部８０には、上述したカセット
３０と同じ構成のアンローダカセット３０ＵＬと、上述
した水平搬送装置４０と同じ構成のアンローダ部水平搬
送装置４０ＵＬと、上述した基板姿勢転換装置の第一実
施例または第二実施例またはそれらの変形例と同じ構成
のアンローダ部基板姿勢転換装置ＳＴＵＬとが配置され
ている。アンローダカセット３０ＵＬは、洗浄処理部７
０による洗浄処理が終了した基板（以下、「処理済基
板」という）を水平状態で収納するためのものである。
なお、アンローダ部８０には、図１９の矢印ＵＬＹで示
す方向にアンローダカセット３０ＵＬをアンローダ部８
０内から搬出（搬入）するための、図示しないアンロー
ダカセット受渡し部が設けられている。また、このアン
ローダ部８０のアンローダカセット３０ＵＬとアンロー
ダ部水平搬送装置４０ＵＬとアンローダ部基板姿勢転換
装置ＳＴＵＬとは、上述した図１４（図１８（ａ））よ
りも、基板Ｗの回転角度θを若干大きく（但し、０°＜
θ＜９０°）して配置されている。もっとも図２１のよ
うに、図１４（図１８（ａ））と同じく基板Ｗの回転角
度θとほぼ同一に配置してもよい。また、その場合、ア
ンローダカセット３０ＵＬのアンローダ部８０からの搬
出（搬入）方向を符号ＵＬＹ１に設定してもよい。

【００７８】洗浄処理部７０には、ローダ部６０とアン
ローダ部８０との間において、各種の洗浄液で起立状態
の基板Ｗの洗浄／乾燥を行なうための処理槽７１ａ〜７
１ｇと、レーザー洗浄を行なうためのレーザー洗浄処理
部７２とが、Ｘ方向に並んで配置されている。

【００７９】また、起立搬送装置は、上述した起立搬送
装置５０と同様の構成であり、ローダ部６０から角部を
下端にした起立状態の未処理基板Ｗを受け取り、その基
板Ｗを角部を下端にした起立状態で、洗浄処理部７０の
各処理槽７１ａ〜７１ｆ、レーザー洗浄処理部７２、処
理槽７１ｇの順に搬送し、洗浄／乾燥処理を施し、処理
済基板Ｗをアンローダ部８０に渡すように構成されてい
る。

【００８０】なお、ローダカセット３０Ｌとローダ部水
平搬送装置４０Ｌとローダ部基板姿勢転換装置ＳＴＬと
起立搬送装置とは、本発明におけるローダ部基板受渡し
装置に、アンローダカセット３０ＵＬとアンローダ部水
平搬送装置４０ＵＬとアンローダ部基板姿勢転換装置Ｓ
ＴＵＬと起立搬送装置とは、本発明におけるアンローダ
部基板受渡し装置に、洗浄処理部７０は、本発明におけ
る湿式処理部にそれぞれ相当する。

【００８１】ここで、レーザー洗浄処理部７２の構成を
図２０を参照して説明する。このレーザー洗浄処理部７
２には、図２０に示すような基板支持機構７３が設けら
れている。この基板支持機構７３は、基板Ｗの下端の角
部Ｋ３を挟む２端辺Ｈ１、Ｈ２の４個所を下方より挟持
して支持する支持台７３１と、その支持台７３１を回転
させるモータ７３２とを含む。起立搬送装置は、起立状
態の基板Ｗを、チャック５６ａ、５６ｂで挟持して、基
板支持機構７３の上方より降下させ、基板支持機構７３
の支持台７３１に載置して、基板Ｗの受渡しを行なう。
基板Ｗを受け取った基板支持機構７３は、モータ７３２
により、図１９に示すように、基板Ｗの処理面を９０°
回転せさ、その状態（図１９の２点鎖線で示す状態）
で、図示しないノズルより、基板Ｗの処理面に洗浄液を
流しながら、レーザー光源７２１より図示しないレーザ
ー光導通管を介して導かれたレーザー光ＬＢで基板Ｗの
処理面を走査し、基板Ｗの処理面のレーザー洗浄を行な
う。レーザー洗浄後には、モータ７３２により、基板Ｗ
の処理面をさらに９０°回転させ、このレーザー洗浄処
理部７２に基板Ｗが搬入された状態に対して、基板Ｗの
処理面とその裏面とが逆になるように処理面の方向の転
換を行なう。そして、その基板Ｗを起立搬送装置でレー
ザー洗浄処理部７２より搬出する。従って、レーザー洗
浄処理部７２に搬入される前と、レーザー洗浄処理部７
２から搬出された後とでは、基板Ｗの処理面の方向は逆
転されている。なお、この基板支持機構７３は、本発明
における処理面転換手段に相当する。

【００８２】次に、本実施例装置の動作を説明する。ま
ず、未処理基板Ｗが収納されたローダカセット３０Ｌ
が、ローダカセット受渡し部より図１９に示す位置に搬
入され、一方、空のアンローダカセット３０ＵＬが、ア
ンローダカセット受渡し部より図１９に示す位置に搬入
される。

【００８３】次に、前述した基板受渡し装置の実施例の
動作と同様に、ローダ部水平搬送装置４０Ｌは、ローダ
カセット３０Ｌから未処理基板Ｗを取り出し、その基板
Ｗの端辺を、ローダ部基板姿勢転換装置ＳＴＬの姿勢転
換方向ＳＴＸに傾けてローダ部基板姿勢転換装置ＳＴＬ
に渡す。そして、ローダ部基板姿勢転換装置ＳＴＬは、
受け取った処理前の基板Ｗを、角部が下端になるように
して起立させる。なお、ここで、ローダカセット３０Ｌ
には、未処理基板Ｗが、その処理面を上に向けて収納さ
れているものとすると、ローダ部基板姿勢転換装置ＳＴ
Ｌで起立された基板Ｗの処理面は、アンローダ８０側を
向いていることになる。

【００８４】次に、起立搬送装置は、角部を下端にした
起立状態の未処理基板Ｗをローダ部基板姿勢転換装置Ｓ
ＴＬから受け取り、最初の処理槽７１ａの上方に搬送す
る。そして、チャックをＺ方向に降下させて、基板Ｗ
を、洗浄液が入れられている処理槽７１ａ内に浸漬さ
せ、オーバーフロー方式で洗浄する。

【００８５】処理槽７１ａでの洗浄が終了すると、起立
搬送装置は、基板ＷをＸ方向に搬送し、次の処理槽７１
ｂの上方で停止し、この処理槽７１ｂでの洗浄を行な
う。この処理槽７１ｂ、および以下の各処理槽７１ｃ〜
７１ｇにおいても、上述した処理槽７１ａと同様に、起
立搬送装置のチャックに挟持された状態で基板Ｗの洗浄
を行なうように構成されていてもよい。

【００８６】以後、処理槽７１ｃ〜７１ｆでの洗浄を、
上述と同様にその順で行ない、処理槽７１ｆでの洗浄の
後、基板Ｗはレーザー洗浄処理部７２に搬入され、レー
ザー洗浄が行なわれるとともに、基板Ｗの処理面の方向
転換が行なわれる。すなわち、この場合、レーザー洗浄
処理部７２に搬入される基板Ｗの処理面は、アンローダ
部８０側を向いていたので、レーザー洗浄処理部７２か
ら搬出された基板Ｗの処理面は、ローダ部６０側を向い
ていることになる。

【００８７】そして、最後の処理槽７１ｇでの処理を受
けた後、基板Ｗは、アンローダ部８０のアンローダ部基
板姿勢転換装置ＳＴＵＬに起立状態で渡される。

【００８８】アンローダ部基板姿勢転換装置ＳＴＵＬ
は、受け取った基板Ｗを、図１９の矢印ＳＴＸで示す姿
勢転換方向に、その姿勢を水平状態に転換する。このと
き、基板Ｗの処理面は、ローダ部６０側を向いているの
で、水平状態に転換された基板Ｗの処理面は上を向くこ
とになる。そして、前述した基板受渡し装置の実施例の
動作と同様に、アンローダ部水平搬送装置４０ＵＬは、
アンローダ部基板姿勢転換装置ＳＴＵＬから水平状態の
基板Ｗを受け取り、アンローダカセット３０ＵＬに収納
する。このとき、アンローダカセット３０ＵＬには、基
板Ｗの処理面が上を向いて収納されることになる。この
ように、ローダ部６０からアンローダ部８０までの間に
基板Ｗの処理面の方向を転換したことにより、ローダカ
セット３０Ｌとアンローダカセット３０ＵＬとに収納さ
れる基板Ｗの処理面の向き（上を向いているか下を向い
ているか）を合わせることができる。

【００８９】ローダカセット３０Ｌに収納された基板Ｗ
に対して洗浄処理が完了し、アンローダカセット３０Ｕ
Ｌに収納されると、空のローダカセット３０Ｌは、ロー
ダカセット受渡し部より搬出され、一方、処理済基板Ｗ
が収納されたアンローダカセット３０ＵＬは、アンロー
ダカセット受渡し部より搬出される。

【００９０】このように構成することにより、未処理基
板Ｗをローダカセット３０Ｌに収納し、アンローダカセ
ット３０ＵＬから処理済基板Ｗを取り出すまで、基板Ｗ
は人手に触れることがなく基板Ｗの汚染が防止できる
し、また、未処理基板Ｗの水平搬送、姿勢転換と、処理
済基板Ｗの姿勢転換、水平搬送とは、別個の装置により
行なわれるので、未処理基板Ｗの水平搬送、姿勢転換を
行なう装置を介して、処理済基板Ｗが汚染されるのも防
止できる。さらに、洗浄処理部７０では、基板Ｗは、角
部を下端にした起立状態で洗浄処理が行なわれるので、
基板Ｗからの液切れが良くなる。また、ローダ部６０の
ローダカセット３０Ｌ、ローダ部水平搬送装置４０Ｌ、
ローダ部基板姿勢転換装置ＳＴＬとの配置と、アンロー
ダ部８０のアンローダカセット３０ＵＬ、アンローダ部
水平搬送装置４０ＵＬ、アンローダ部基板姿勢転換装置
ＳＴＵＬとの配置は、基板Ｗの回転角度θを（０°＜θ
＜９０°）にしているので、これら装置の配置の面積
（ローダ部６０、アンローダ部８０の各面積）が小さく
でき、装置全体のコンパクト化を図ることができる。

【００９１】なお、ローダ部６０のローダカセット３０
Ｌ、ローダ部水平搬送装置４０Ｌ、ローダ部基板姿勢転
換装置ＳＴＬの配置、または／および、アンローダ部８
０のアンローダカセット３０ＵＬ、アンローダ部水平搬
送装置４０ＵＬ、アンローダ部基板姿勢転換装置ＳＴＵ
Ｌの配置を、例えば、図１８（ｂ）〜（ｄ）の配置で構
成してもよい。

【００９２】また、上述の実施例では、レーザー洗浄処
理部７２の基板支持機構７３で基板Ｗの処理面とその裏
面の方向を転換するように構成したが、例えば、図２２
に示すように、起立搬送装置５０の部材５２にモータＭ
を設け、そのモータＭの回転により、Ｚ方向移動部材５
３、部材５４、駆動部５５、チャック５６ａ、５６ｂ
を、レール部材５１に対して回動自在に構成し、チャッ
ク５６ａ、５６ｂで基板Ｗを挟持している状態で基板Ｗ
の処理面とその裏面の方向を転換するように構成しても
よい。

【００９３】さらに、上述の実施例では、洗浄処理装置
を例に採り説明したが、その他の基板湿式処理装置につ
いても本発明は同様に適用することができる。

【００９４】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、第１、第３支持手段で基板の
回動軸側端部を下方と上方とから、第２支持手段で基板
の所定の部位を下方から支持して、基板の姿勢転換を行
なうように構成し、従来装置のように基板の真空吸着を
必要としないので、基板の汚染を低減できる。また、水
平状態の基板の受渡しを行なう際には、第３支持手段の
回転が規制されているので、第１、第２支持手段と第３
支持手段とは回動軸を中心として所定角度開いた状態で
あり、水平状態の基板を本装置に受け渡す際、第３支持
手段等が邪魔にならず、水平状態の基板の受渡し時に基
板に損傷を与えるのを低減できる。さらに、起立状態の
基板の受渡しを行なう際には、第２支持手段の回転が規
制され、基板はその回動軸側端部を第１、第３支持部材
で支持された状態であるので、起立状態の基板を本装置
に受け渡す際、第２支持手段等が邪魔にならず、また、
第２支持手段と基板との摺動が避けられ、起立状態の基
板の受渡し時に基板に損傷を与えるのを低減できる。ま
た、請求項２に記載の発明によれば、水平支持手段を備
え、水平状態の基板の受渡し時に、第１、第２支持手段
を、水平支持手段に支持された水平状態の基板の下方位
置に待機させるように構成したので、水平状態の基板を
本装置に受け渡す際、第１、第２支持手段と受け渡され
る基板との干渉を一層低減させることができ、水平状態
の基板の受渡し時に基板に損傷を与えるのをさらに低減
できる。

【００９５】また、請求項３に記載の発明によれば、第
１、第３支持手段は、矩形基板の角部付近を下方と上方
とから支持して姿勢転換し、角部を下端とした起立状態
の基板の回動軸側端部（下端にある角部付近）を第１、
第３支持手段でのみ支持するので、起立状態の基板を受
渡しを容易に行なうことができる。

【００９６】また、請求項４に記載の発明によれば、水
平搬送装置は、上記請求項３の基板姿勢転換装置に、基
板の角部を第１、第３支持手段で支持できるように基板
の受渡しを行ない、また、起立搬送装置は、基板の対向
する一対の角部を支持して基板の受渡しを行なうので、
角部を下端にした起立状態の基板の姿勢転換を含む基板
受渡しを簡単な構成で実現することができる。

【００９７】また、請求項５に記載の発明によれば、起
立状態の矩形基板の角部を下端にして、起立搬送装置が
矩形基板を搬送するために、カセットの基板挿抜方向側
に水平搬送装置を配設し、カセットと水平搬送装置の間
の側部に基板姿勢転換装置を配設するので、カセット、
水平搬送装置、基板姿勢転換装置の配設に要する床の占
有面積を小さくすることができ、基板受渡し装置のコン
パクト化を図ることができる。

【００９８】また、請求項６に記載の発明によれば、請
求項４または５に記載の基板受渡し装置を２台備え、一
方を湿式処理部による湿式処理前の基板の姿勢転換等に
用い、他方を湿式処理後の基板の姿勢転換等に用いるよ
うに構成したので、処理前の基板の姿勢転換等に用いた
基板姿勢転換装置や水平搬送装置を介して起こる基板の
汚染が防止できる。また、請求項４または５に記載の基
板受渡し装置を用いているので、これら基板受渡し装置
と、起立搬送装置との、角部を下端にした起立状態の基
板の受渡しを容易に行なうことができ、起立状態の矩形
基板の角部を下端とした矩形基板に対する湿式洗浄処理
を簡単な構成で行なうことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の基板姿勢転換装置に係る第一実施例の
構成を示す平面図である。

【図２】第３支持部材の前端部の図示を省略した第一実
施例装置の構成を示す平面図である。

【図３】第一実施例装置に水平状態の基板を支持した状
態を示す側面図である。

【図４】第一実施例装置に起立状態の基板を支持した状
態を示す側面図である。

【図５】回動軸を正逆回転させる機構を説明するための
図である。

【図６】第一実施例装置の動作を説明するための図であ
る。

【図７】第１支持部材の支持部材と第３支持部材の支持
部材とで基板を支持した状態を示す図である。

【図８】第１連動手段、第１回転規制手段の変形例の構
成を示す図である。

【図９】水平状態の基板の位置合わせ機構の構成を示す
図である。

【図１０】図９の位置合わせ機構による基板の位置合わ
せの動作を示す図である。

【図１１】基板姿勢転換装置に係る第二実施例装置に水
平状態の基板を支持した状態を示す側面図である。

【図１２】基板姿勢転換装置の第三実施例の第３支持部
材の構成を示す図である。

【図１３】基板姿勢転換装置の第四実施例の第３支持部
材の構成を示す図である。

【図１４】本発明の基板受渡し装置に係る実施例のカセ
ット、水平搬送装置、基板姿勢転換装置の配置を示す図
である。

【図１５】図１４の実施例の基板姿勢転換装置と起立搬
送装置の配置を示す図である。

【図１６】水平搬送装置の構成を示す図である。

【図１７】起立搬送装置の構成を示す図である。

【図１８】カセット、水平搬送装置、基板姿勢転換装置
の配置の変形例を示す図である。

【図１９】本発明の基板湿式処理装置に係る実施例の構
成を示す平面図である。

【図２０】レーザー洗浄処理部の基板支持機構の構成を
示す図である。

【図２１】本発明の基板湿式処理装置に係る別の実施例
の構成を示す平面図である。

【図２２】処理面転換手段の変形例の構成を示す図であ
る。

【符号の説明】

２ … 回動軸 ５ … 支持ピン ６ … 第１支持部材 ７ … 第２支持部材 ８ … 第３支持部材 ９、１０ … 圧縮コイルバネ １１ … モータ ３０ … カセット ３０Ｌ … ローダカセット ３０ＵＬ … アンローダカセット ４０ … 水平搬送装置 ５０ … 起立搬送装置 ７０ … 洗浄処理部 ＳＴ … 基板姿勢転換装置 ７３ … 基板支持機構 Ｗ … 基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 児玉 俊作 滋賀県野洲郡野洲町大字三上字口ノ川原 2426番１大日本スクリーン製造株式会社 野洲事業所内 (72)発明者 田中 康博 滋賀県野洲郡野洲町大字三上字口ノ川原 2426番１大日本スクリーン製造株式会社 野洲事業所内 (56)参考文献 実公 昭54−3504（ＪＰ，Ｙ２) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/68 B65G 47/22

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板が略水平である状態（以下「水平状
   態」という）と前記基板が略垂直である状態（以下「起
   立状態」という）との間で前記基板の姿勢を転換する基
   板姿勢転換装置であって、 回動軸と、 前記回動軸を正逆方向に回転させる回転駆動手段と、 前記回動軸に固設され、前記回動軸の回転によって前記
   基板の回動軸側端部を下方から支持しながら、水平状態
   と起立状態との間で前記基板の姿勢を転換させる第１支
   持手段と、 前記回動軸に回転自在に取り付けられ、前記基板の所定
   の部位を下方から支持する第２支持手段と、 前記回動軸に回転自在に取り付けられ、前記基板の回動
   軸側端部を上方から支持する第３支持手段と、 前記第１支持手段の回転に連動して、前記回動軸回りで
   前記第２支持手段を回転させる第１連動手段と、 前記第１支持手段の回転に連動して、前記回動軸回りで
   前記第３支持手段を回転させる第２連動手段と、 前記水平状態と前記起立状態との間の第１の傾斜状態で
   前記基板を支持する位置と、前記起立状態で前記基板を
   支持する位置との間において前記第２支持手段の前記第
   １支持手段に対する連動回転を規制する第１回転規制手
   段と、 前記水平状態と前記起立状態との間の第２の傾斜状態で
   前記基板を支持する位置と、前記水平状態で前記基板を
   支持する位置との間において前記第３支持手段の前記第
   １支持手段に対する連動回転を規制する第２回転規制手
   段とを備え、 前記第２の傾斜状態と水平状態との成す角度が、前記第
   １の傾斜状態と水平状態との成す角度よりも低い ことを
   特徴とする基板姿勢転換装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板姿勢転換装置にお
   いて、 前記基板を水平状態に支持する水平支持手段を備え、 前記第１支持手段は、前記水平支持手段に支持された基
   板よりも下方位置と、前記起立状態で基板を支持する位
   置との間で回転し、その回転中に、前記水平支持手段と
   の間で基板の受渡しを行なうように構成し、 前記第２支持手段は、前記下方位置に位置したときの第
   １支持手段よりもさらに下方位置と、前記第１の傾斜状
   態で基板を支持する位置との間で回転し、その回転中
   に、前記水平支持手段との間で基板の受渡しを行なうよ
   うに構成したことを特徴とする基板姿勢転換装置。
3. 【請求項３】 請求項１または請求項２のいずれかに記
   載の基板姿勢転換装置において、 前記基板は矩形の基板であり、 前記第１支持手段と前記第３支持手段とは、前記矩形基
   板の前記回動軸側に位置する角部付近を下方と上方とか
   ら支持して前記矩形基板の姿勢転換を行なうように構成
   したことを特徴とする基板姿勢転換装置。
4. 【請求項４】 請求項３に記載の基板姿勢転換装置と、 前記水平状態で前記矩形基板を搬送するとともに、前記
   水平状態で前記矩形基板を前記基板姿勢転換装置に受け
   渡す水平搬送装置と、 前記起立状態で前記矩形基板を搬送するとともに、前記
   起立状態で前記矩形基板を前記基板姿勢転換装置に受け
   渡す起立搬送装置と、からなる基板受渡し装置におい
   て、 前記水平搬送装置は、前記矩形基板の端辺を前記基板姿
   勢転換装置の姿勢転換方向に対して傾けた状態で前記矩
   形基板を前記基板姿勢転換装置に受け渡すように構成
   し、 前記起立搬送装置は、前記矩形基板の対向する一対の角
   部を挟持した状態で前記矩形基板を前記基板姿勢転換装
   置に受け渡すように構成したことを特徴とする基板受渡
   し装置。
5. 【請求項５】 請求項４に記載の基板受渡し装置におい
   て、 前記矩形基板を水平状態で収納するとともに、収納され
   た矩形基板の一辺に直交する方向に前記矩形基板の挿抜
   が可能なカセットを備え、 前記水平搬送装置は、前記矩形基板を支持する支持部を
   備え、この支持部を進退させて前記カセットからの矩形
   基板の挿抜と前記基板姿勢転換装置との矩形基板の受渡
   しを行なうとともに、前記カセットから抜き出しまたは
   前記基板姿勢転換装置から受け取り、前記支持部に支持
   した矩形基板を水平状態で回転可能に構成し、 前記水平搬送装置は、前記カセットから抜き出し（また
   は、前記姿勢転換方向を前記カセットからの矩形基板の
   挿抜方向に直交させた基板姿勢転換装置から受け取り）
   前記支持部に支持した矩形基板を水平状態で回転させ
   て、０°より大きく９０°未満の範囲で回転変位させた
   後に、前記基板姿勢転換装置へ引き渡し（または、前記
   カセットに挿入）できるように、前記カセット、前記水
   平搬送装置、前記基板姿勢転換装置を配置したことを特
   徴とする基板受渡し装置。
6. 【請求項６】 請求項４または請求項５に記載の基板受
   渡し装置を用いた基板湿式処理装置であって、 起立状態の矩形基板に対して湿式処理を行なう湿式処理
   部と、 処理前の矩形基板をローダカセットから取り出し、その
   矩形基板の姿勢を水平状態から起立状態へ転換するため
   の基板受渡し装置（ローダ部基板受渡し装置）と、 前記湿式処理部による湿式処理が終了した矩形基板の姿
   勢を起立状態から水平状態へ転換し、その矩形基板をア
   ンローダカセットに収納する基板受渡し装置（アンロー
   ダ部基板受渡し装置）と、 起立状態の処理前の矩形基板を前記ローダ基板受渡し装
   置から受け取り、前記湿式処理部を経て、起立状態の処
   理済の矩形基板を前記アンローダ基板受渡し装置へ渡す
   ための起立搬送装置と、 前記ローダ部基板受渡し装置から前記湿式処理部を経て
   前記アンローダ部基板受渡し装置に矩形基板を搬送する
   間に、前記矩形基板の処理面とその裏面との向きを転換
   する処理面転換手段と、 を備えたことを特徴とする基板湿式処理装置。