JPH11204480A - 基板洗浄装置 - Google Patents
基板洗浄装置Info
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- JPH11204480A JPH11204480A JP822998A JP822998A JPH11204480A JP H11204480 A JPH11204480 A JP H11204480A JP 822998 A JP822998 A JP 822998A JP 822998 A JP822998 A JP 822998A JP H11204480 A JPH11204480 A JP H11204480A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 複数種類の洗浄ノズルを配備するためのスペ
ースの縮小化を図ることができる基板洗浄装置を提供す
る。 【解決手段】 超音波洗浄ノズル4を先端部に保持する
第1の保持アーム5を起立姿勢と横臥姿勢とに変位させ
るアーム駆動機構7に取り付けるとともに、このアーム
駆動機構7をアーム移動支持機構9に搭載する。また、
高圧洗浄ノズル8を先端部に保持する第2の保持アーム
10をアーム駆動機構7の保持アーム案内部材7aに固
定支持する。高圧洗浄ノズルを使用するときには、第1
の保持アーム5を起立姿勢で待機させたままで、アーム
移動支持機構9は高圧洗浄ノズルを揺動して、高圧の洗
浄液による基板洗浄を行う。超音波洗浄ノズル4を使用
するときには、第1の保持アームを横臥姿勢として、超
音波洗浄ノズル4を高圧洗浄ノズルとともに揺動して、
超音波洗浄液による基板洗浄を行う。
ースの縮小化を図ることができる基板洗浄装置を提供す
る。 【解決手段】 超音波洗浄ノズル4を先端部に保持する
第1の保持アーム5を起立姿勢と横臥姿勢とに変位させ
るアーム駆動機構7に取り付けるとともに、このアーム
駆動機構7をアーム移動支持機構9に搭載する。また、
高圧洗浄ノズル8を先端部に保持する第2の保持アーム
10をアーム駆動機構7の保持アーム案内部材7aに固
定支持する。高圧洗浄ノズルを使用するときには、第1
の保持アーム5を起立姿勢で待機させたままで、アーム
移動支持機構9は高圧洗浄ノズルを揺動して、高圧の洗
浄液による基板洗浄を行う。超音波洗浄ノズル4を使用
するときには、第1の保持アームを横臥姿勢として、超
音波洗浄ノズル4を高圧洗浄ノズルとともに揺動して、
超音波洗浄液による基板洗浄を行う。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、フ
ォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基
板、光ディスク用の基板などの基板に対して、超音波振
動を付加した洗浄液や、高圧、低圧の洗浄液を供給する
ことで、基板の洗浄を行う基板洗浄装置に係り、特に複
数種類の洗浄ノズルを備えた装置のコンパクト化を図る
技術に関する。
ォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基
板、光ディスク用の基板などの基板に対して、超音波振
動を付加した洗浄液や、高圧、低圧の洗浄液を供給する
ことで、基板の洗浄を行う基板洗浄装置に係り、特に複
数種類の洗浄ノズルを備えた装置のコンパクト化を図る
技術に関する。
【0002】
【従来の技術】以下、従来の基板洗浄装置として、基板
である例えば半導体ウエハに対して洗浄液を供給して洗
浄を行う基板洗浄装置を例に採って説明する。従来のこ
の種の基板洗浄装置として図12に示すようなものがあ
る。図12は、従来の基板洗浄装置の概略構成を示す平
面図である。
である例えば半導体ウエハに対して洗浄液を供給して洗
浄を行う基板洗浄装置を例に採って説明する。従来のこ
の種の基板洗浄装置として図12に示すようなものがあ
る。図12は、従来の基板洗浄装置の概略構成を示す平
面図である。
【0003】図12中、符号1は洗浄の対象である基板
Wを回転可能に支持するためのスピンチャックである。
スピンチャック1の周囲は、洗浄液の飛散を防止するた
めの飛散防止カップ2によって囲われている。この飛散
防止カップ2の傍らには、基板Wに超音波振動を付加し
た洗浄液を供給するための超音波洗浄ノズル50を先端
部に保持する第1の保持アーム51と、基板Wに高圧の
洗浄液を供給する高圧洗浄ノズル52を先端部に保持す
る第2の保持アーム53とが配備されている。第1の保
持アーム51は、その基端部を中心として水平面内で揺
動移動可能に第1の移動機構54に取り付けられてい
る。さらに、移動機構54の下部には、第1の保持アー
ム51を昇降駆動する図示しない昇降機構が取り付けら
れている。また、第2の保持アーム53は、その基端部
を中心として水平面内で揺動移動可能に第2の移動機構
55に取り付けられている。
Wを回転可能に支持するためのスピンチャックである。
スピンチャック1の周囲は、洗浄液の飛散を防止するた
めの飛散防止カップ2によって囲われている。この飛散
防止カップ2の傍らには、基板Wに超音波振動を付加し
た洗浄液を供給するための超音波洗浄ノズル50を先端
部に保持する第1の保持アーム51と、基板Wに高圧の
洗浄液を供給する高圧洗浄ノズル52を先端部に保持す
る第2の保持アーム53とが配備されている。第1の保
持アーム51は、その基端部を中心として水平面内で揺
動移動可能に第1の移動機構54に取り付けられてい
る。さらに、移動機構54の下部には、第1の保持アー
ム51を昇降駆動する図示しない昇降機構が取り付けら
れている。また、第2の保持アーム53は、その基端部
を中心として水平面内で揺動移動可能に第2の移動機構
55に取り付けられている。
【0004】超音波を付加した洗浄液による洗浄を行う
際には、次のように動作する。まず、昇降機構によっ
て、待機位置にある第1の保持アーム51が移動高さに
まで上昇して、超音波洗浄ノズル50をノズル待機位置
から引き上げる。移動機構54によって、第1の保持ア
ーム51は、その先端部に保持する超音波洗浄ノズル5
0を超音波洗浄を行うための所定の位置である超音波洗
浄位置の上方にまで移動するように水平面内で揺動移動
する。さらに、昇降機構によって、第1の保持アーム5
1は下降して、超音波洗浄ノズル50を基板Wの近接す
る超音波洗浄位置にまで移動する。超音波洗浄位置にま
で移動した超音波洗浄ノズル50は、超音波を付加した
洗浄液を基板Wに供給する。移動機構54は、基板Wに
供給される洗浄液が基板中心から周縁にまで移動するよ
うに、第1の保持アーム51を揺動移動させる。この揺
動移動によって、洗浄液が基板Wの全体に供給され、均
一な洗浄が行われる。超音波による基板洗浄が終了する
と、超音波洗浄ノズル50は、超音波洗浄位置からノズ
ル待機位置にまで移動する。
際には、次のように動作する。まず、昇降機構によっ
て、待機位置にある第1の保持アーム51が移動高さに
まで上昇して、超音波洗浄ノズル50をノズル待機位置
から引き上げる。移動機構54によって、第1の保持ア
ーム51は、その先端部に保持する超音波洗浄ノズル5
0を超音波洗浄を行うための所定の位置である超音波洗
浄位置の上方にまで移動するように水平面内で揺動移動
する。さらに、昇降機構によって、第1の保持アーム5
1は下降して、超音波洗浄ノズル50を基板Wの近接す
る超音波洗浄位置にまで移動する。超音波洗浄位置にま
で移動した超音波洗浄ノズル50は、超音波を付加した
洗浄液を基板Wに供給する。移動機構54は、基板Wに
供給される洗浄液が基板中心から周縁にまで移動するよ
うに、第1の保持アーム51を揺動移動させる。この揺
動移動によって、洗浄液が基板Wの全体に供給され、均
一な洗浄が行われる。超音波による基板洗浄が終了する
と、超音波洗浄ノズル50は、超音波洗浄位置からノズ
ル待機位置にまで移動する。
【0005】高圧の洗浄液による洗浄を行う際には、移
動機構55は、高圧洗浄ノズル52が待機するノズル待
機位置から高圧洗浄を行うための所定の位置である高圧
洗浄位置にまで高圧洗浄ノズル52を移動するために、
第2の保持アーム53を水平面内で揺動移動させる。高
圧洗浄位置にまで移動した高圧洗浄ノズル52は、高圧
の洗浄液を基板Wに供給する。このとき、移動機構55
は、高圧洗浄ノズル52から供給される洗浄液が、基板
中心から周縁にまで移動するように、第2の保持アーム
53を揺動移動させる。高圧による基板洗浄が終了する
と、高圧洗浄ノズル52は、高圧洗浄位置からノズル待
機位置にまで移動する。なお、上述した超音波および高
圧の洗浄ノズルを備える基板洗浄装置は、基板Wの洗浄
条件によって、少なくとも一方の洗浄ノズルを選択する
ものである。
動機構55は、高圧洗浄ノズル52が待機するノズル待
機位置から高圧洗浄を行うための所定の位置である高圧
洗浄位置にまで高圧洗浄ノズル52を移動するために、
第2の保持アーム53を水平面内で揺動移動させる。高
圧洗浄位置にまで移動した高圧洗浄ノズル52は、高圧
の洗浄液を基板Wに供給する。このとき、移動機構55
は、高圧洗浄ノズル52から供給される洗浄液が、基板
中心から周縁にまで移動するように、第2の保持アーム
53を揺動移動させる。高圧による基板洗浄が終了する
と、高圧洗浄ノズル52は、高圧洗浄位置からノズル待
機位置にまで移動する。なお、上述した超音波および高
圧の洗浄ノズルを備える基板洗浄装置は、基板Wの洗浄
条件によって、少なくとも一方の洗浄ノズルを選択する
ものである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。上述した各種の基板洗浄条件に対応する基板洗浄
装置は、基板Wに近接した位置から超音波を付加した洗
浄液を基板Wに供給する超音波洗浄ノズル50と、超音
波洗浄ノズル50よりも高い位置から基板Wに高圧の洗
浄液を供給する高圧洗浄ノズル51とを備えている。超
音波振動を付加した洗浄液によって洗浄を行う際に、超
音波洗浄ノズル50は、基板Wに近接した位置にまで移
動するための昇降機構を必要とする。そのため、この基
板洗浄装置は、洗浄ノズルごとに取り付けられた移動機
構が飛散防止カップ2の傍らにそれぞれ配備されて構成
されているので、基板洗浄装置における移動機構を配備
するスペースの占有面積が大きくなるという問題点があ
る。また、洗浄ノズルごとに移動機構を設けたのでは装
置の製造コストが上昇するという問題もある。さらに、
単一の移動機構に、例えば超音波洗浄ノズルと高圧洗浄
ノズルとを取り付けた場合、高圧洗浄ノズルによって洗
浄を行う際に、高圧洗浄ノズルが基板の周縁付近にまで
移動すると、高圧洗浄ノズルよりも低い位置に取り付け
られた超音波洗浄ノズルが、飛散防止カップなどと干渉
するという問題もある。
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。上述した各種の基板洗浄条件に対応する基板洗浄
装置は、基板Wに近接した位置から超音波を付加した洗
浄液を基板Wに供給する超音波洗浄ノズル50と、超音
波洗浄ノズル50よりも高い位置から基板Wに高圧の洗
浄液を供給する高圧洗浄ノズル51とを備えている。超
音波振動を付加した洗浄液によって洗浄を行う際に、超
音波洗浄ノズル50は、基板Wに近接した位置にまで移
動するための昇降機構を必要とする。そのため、この基
板洗浄装置は、洗浄ノズルごとに取り付けられた移動機
構が飛散防止カップ2の傍らにそれぞれ配備されて構成
されているので、基板洗浄装置における移動機構を配備
するスペースの占有面積が大きくなるという問題点があ
る。また、洗浄ノズルごとに移動機構を設けたのでは装
置の製造コストが上昇するという問題もある。さらに、
単一の移動機構に、例えば超音波洗浄ノズルと高圧洗浄
ノズルとを取り付けた場合、高圧洗浄ノズルによって洗
浄を行う際に、高圧洗浄ノズルが基板の周縁付近にまで
移動すると、高圧洗浄ノズルよりも低い位置に取り付け
られた超音波洗浄ノズルが、飛散防止カップなどと干渉
するという問題もある。
【0007】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、複数種類の洗浄ノズルを配備するスペ
ースの縮小化を図ることができる基板洗浄装置を提供す
ることを目的とする。
たものであって、複数種類の洗浄ノズルを配備するスペ
ースの縮小化を図ることができる基板洗浄装置を提供す
ることを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項1に記載の発明は、基板洗浄領域内に水平姿
勢で保持された基板を鉛直軸芯周りに回転させながら洗
浄液を供給して、基板洗浄を行う基板洗浄装置におい
て、基板に第1の洗浄液を供給する第1の洗浄ノズル
と、前記第1の洗浄ノズルを先端部に保持する第1の保
持アームと、前記第1の洗浄ノズルが基板に洗浄液を供
給するときの基板洗浄位置と、基板に対して洗浄液を供
給しないときに、前記第1の洗浄ノズルが待機するノズ
ル待機位置との間を移動するように、前記第1の保持ア
ームを駆動するアーム駆動手段と、基板に第2の洗浄液
を供給する第2の洗浄ノズルと、前記第2の洗浄ノズル
を先端部に保持する第2の保持アームと、前記アーム駆
動手段と第2の保持アームとを支持するとともに、前記
アーム駆動手段と第2の保持アームとを一体的に移動駆
動することで、前記第1の洗浄ノズルおよび第2の洗浄
ノズルから基板にそれぞれ供給される洗浄液が少なくと
も基板中心と基板周縁との間を移動するように、前記第
1の保持アームと第2の保持アームとを移動するアーム
移動支持手段とを備えたことを特徴とするものである。
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項1に記載の発明は、基板洗浄領域内に水平姿
勢で保持された基板を鉛直軸芯周りに回転させながら洗
浄液を供給して、基板洗浄を行う基板洗浄装置におい
て、基板に第1の洗浄液を供給する第1の洗浄ノズル
と、前記第1の洗浄ノズルを先端部に保持する第1の保
持アームと、前記第1の洗浄ノズルが基板に洗浄液を供
給するときの基板洗浄位置と、基板に対して洗浄液を供
給しないときに、前記第1の洗浄ノズルが待機するノズ
ル待機位置との間を移動するように、前記第1の保持ア
ームを駆動するアーム駆動手段と、基板に第2の洗浄液
を供給する第2の洗浄ノズルと、前記第2の洗浄ノズル
を先端部に保持する第2の保持アームと、前記アーム駆
動手段と第2の保持アームとを支持するとともに、前記
アーム駆動手段と第2の保持アームとを一体的に移動駆
動することで、前記第1の洗浄ノズルおよび第2の洗浄
ノズルから基板にそれぞれ供給される洗浄液が少なくと
も基板中心と基板周縁との間を移動するように、前記第
1の保持アームと第2の保持アームとを移動するアーム
移動支持手段とを備えたことを特徴とするものである。
【0009】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の基板洗浄装置において、前記アーム駆動手段は、第1
の洗浄ノズルによる基板洗浄を行わないときに、第1の
洗浄ノズルを前記基板洗浄領域から外れた位置に設けら
れたノズル待機位置に来るように、前記第1の保持アー
ムを基板洗浄領域から外れた位置にほぼ起立姿勢で待機
させる一方、第1の洗浄ノズルによる基板洗浄を行うと
きには、第1の洗浄ノズルが基板洗浄領域内の基板洗浄
位置に来るように、前記保持アームをほぼ横臥姿勢に変
位させるものである。
の基板洗浄装置において、前記アーム駆動手段は、第1
の洗浄ノズルによる基板洗浄を行わないときに、第1の
洗浄ノズルを前記基板洗浄領域から外れた位置に設けら
れたノズル待機位置に来るように、前記第1の保持アー
ムを基板洗浄領域から外れた位置にほぼ起立姿勢で待機
させる一方、第1の洗浄ノズルによる基板洗浄を行うと
きには、第1の洗浄ノズルが基板洗浄領域内の基板洗浄
位置に来るように、前記保持アームをほぼ横臥姿勢に変
位させるものである。
【0010】請求項3に記載の発明は、請求項1に記載
の基板洗浄装置において、前記アーム駆動手段は、第1
の洗浄ノズルによる基板洗浄を行わないときに、第1の
洗浄ノズルを基板洗浄領域から外れた位置に設けられた
ノズル待機位置に来るように、前記第1の保持アームを
基板洗浄領域の側方にほぼ起立姿勢で待機させる一方、
第1の洗浄ノズルによる基板洗浄を行うときには、基板
洗浄領域の側方に待機している前記第1の保持アームを
上昇変位させるとともに、揺動変位させることによっ
て、第1の洗浄ノズルが基板洗浄位置に来るように、前
記第1の保持アームをほぼ横臥姿勢に変位させるもので
ある。
の基板洗浄装置において、前記アーム駆動手段は、第1
の洗浄ノズルによる基板洗浄を行わないときに、第1の
洗浄ノズルを基板洗浄領域から外れた位置に設けられた
ノズル待機位置に来るように、前記第1の保持アームを
基板洗浄領域の側方にほぼ起立姿勢で待機させる一方、
第1の洗浄ノズルによる基板洗浄を行うときには、基板
洗浄領域の側方に待機している前記第1の保持アームを
上昇変位させるとともに、揺動変位させることによっ
て、第1の洗浄ノズルが基板洗浄位置に来るように、前
記第1の保持アームをほぼ横臥姿勢に変位させるもので
ある。
【0011】請求項4に記載の発明は、請求項3に記載
の基板洗浄装置において、前記アーム駆動手段は、前記
第1の保持アームの揺動変位を許容するように第1の保
持アームの基端部に係合して、前記第1の保持アームを
昇降させる昇降駆動手段と、基板処理領域の側方に待機
する前記第1の保持アームに並設され、第1の保持アー
ムをほぼ起立姿勢からほぼ横臥姿勢へと案内するため
に、ほぼ上下方向に延びるカム溝が形成された保持アー
ム案内部材と、前記第1の保持アームの基端部側で第1
の保持アームの揺動変位の中心から外れた位置に取付け
られ、前記カム溝に沿って変位するカムホロアとから構
成されているものである。
の基板洗浄装置において、前記アーム駆動手段は、前記
第1の保持アームの揺動変位を許容するように第1の保
持アームの基端部に係合して、前記第1の保持アームを
昇降させる昇降駆動手段と、基板処理領域の側方に待機
する前記第1の保持アームに並設され、第1の保持アー
ムをほぼ起立姿勢からほぼ横臥姿勢へと案内するため
に、ほぼ上下方向に延びるカム溝が形成された保持アー
ム案内部材と、前記第1の保持アームの基端部側で第1
の保持アームの揺動変位の中心から外れた位置に取付け
られ、前記カム溝に沿って変位するカムホロアとから構
成されているものである。
【0012】請求項5に記載の発明は、請求項4に記載
の基板洗浄装置において、前記第2の保持アームは、前
記保持アーム案内部材を介して、前記アーム移動支持手
段に取り付けられているものである。
の基板洗浄装置において、前記第2の保持アームは、前
記保持アーム案内部材を介して、前記アーム移動支持手
段に取り付けられているものである。
【0013】請求項6に記載の発明は、請求項1ないし
請求項5のいずれかに記載の基板洗浄装置において、前
記第1の保持アームに対する第1の洗浄ノズルの取付け
角度を、前記第1の保持アームの姿勢変化に連動して変
化させるノズル姿勢制御手段を備えたものである。
請求項5のいずれかに記載の基板洗浄装置において、前
記第1の保持アームに対する第1の洗浄ノズルの取付け
角度を、前記第1の保持アームの姿勢変化に連動して変
化させるノズル姿勢制御手段を備えたものである。
【0014】請求項7に記載の発明は、請求項1ないし
請求項6のいずれかに記載の基板洗浄装置において、さ
らに前記装置は、前記洗浄処理を行わないときに、ノズ
ル待機位置における第1の洗浄ノズルの少なくとも先端
部が収納される、前記アーム移動支持手段に取り付けら
れた待機ポットを備えたものである。
請求項6のいずれかに記載の基板洗浄装置において、さ
らに前記装置は、前記洗浄処理を行わないときに、ノズ
ル待機位置における第1の洗浄ノズルの少なくとも先端
部が収納される、前記アーム移動支持手段に取り付けら
れた待機ポットを備えたものである。
【0015】請求項8に記載の発明は、請求項1ないし
請求項7のいずれかに記載の基板洗浄装置において、前
記第1の洗浄ノズルは、第1の洗浄液である超音波振動
を付加した洗浄液を基板に供給する超音波洗浄ノズルで
あり、前記第2の洗浄ノズルは、第2の洗浄液である高
圧の洗浄液を基板に供給する高圧洗浄ノズルである。
請求項7のいずれかに記載の基板洗浄装置において、前
記第1の洗浄ノズルは、第1の洗浄液である超音波振動
を付加した洗浄液を基板に供給する超音波洗浄ノズルで
あり、前記第2の洗浄ノズルは、第2の洗浄液である高
圧の洗浄液を基板に供給する高圧洗浄ノズルである。
【0016】請求項9に記載の発明は、基板洗浄領域内
に水平姿勢で保持された基板を鉛直軸芯周りに回転させ
ながら洗浄液を供給して、基板の洗浄を行う基板洗浄装
置において、基板に第1の洗浄液を供給する第1の洗浄
ノズルと、基板に第2の洗浄液を供給する第2の洗浄ノ
ズルと、前記第1の洗浄ノズルおよび第2の洗浄ノズル
を保持する保持アームと、前記第1の洗浄ノズルおよび
第2の洗浄ノズルが共に基板洗浄を行わないときに、基
板洗浄領域から外れた位置に設けられた、前記第1の洗
浄ノズルおよび第2の洗浄ノズルが待機するためのノズ
ル待機位置と、基板洗浄を行うときに、第1の洗浄ノズ
ルが基板洗浄を行うための第1の基板洗浄位置と、第2
の洗浄ノズルが基板洗浄を行うための第2の基板洗浄位
置とにそれぞれ、第1の洗浄ノズルおよび第2の洗浄ノ
ズルが移動するように前記保持アームの姿勢を変位させ
るアーム駆動手段とを備えたことを特徴とするものであ
る。
に水平姿勢で保持された基板を鉛直軸芯周りに回転させ
ながら洗浄液を供給して、基板の洗浄を行う基板洗浄装
置において、基板に第1の洗浄液を供給する第1の洗浄
ノズルと、基板に第2の洗浄液を供給する第2の洗浄ノ
ズルと、前記第1の洗浄ノズルおよび第2の洗浄ノズル
を保持する保持アームと、前記第1の洗浄ノズルおよび
第2の洗浄ノズルが共に基板洗浄を行わないときに、基
板洗浄領域から外れた位置に設けられた、前記第1の洗
浄ノズルおよび第2の洗浄ノズルが待機するためのノズ
ル待機位置と、基板洗浄を行うときに、第1の洗浄ノズ
ルが基板洗浄を行うための第1の基板洗浄位置と、第2
の洗浄ノズルが基板洗浄を行うための第2の基板洗浄位
置とにそれぞれ、第1の洗浄ノズルおよび第2の洗浄ノ
ズルが移動するように前記保持アームの姿勢を変位させ
るアーム駆動手段とを備えたことを特徴とするものであ
る。
【0017】請求項10に記載の発明は、請求項9に記
載の基板洗浄装置において、前記アーム駆動手段は、第
1の洗浄ノズルおよび第2の洗浄ノズルが共に基板洗浄
を行わないときに、第1の洗浄ノズルおよび第2の洗浄
ノズルが基板洗浄領域から外れた位置に設けられたノズ
ル待機位置に来るように、前記保持アームを基板洗浄領
域の側方にほぼ起立姿勢で待機させる一方、第1の洗浄
液によって基板洗浄を行うときには、第1の洗浄ノズル
が第1の洗浄液を基板に供給する位置である第1の基板
洗浄位置に、第2の洗浄液によって基板洗浄を行うとき
には、第2の洗浄ノズルが第2の洗浄液を基板に供給す
る位置である第2の基板洗浄位置に、第1の洗浄ノズル
および第2の洗浄ノズルがそれぞれ移動するように、前
記保持アームを上昇変位させるとともに、揺動変位させ
ることによって、前記保持アームをほぼ横臥姿勢にまで
変位させる。
載の基板洗浄装置において、前記アーム駆動手段は、第
1の洗浄ノズルおよび第2の洗浄ノズルが共に基板洗浄
を行わないときに、第1の洗浄ノズルおよび第2の洗浄
ノズルが基板洗浄領域から外れた位置に設けられたノズ
ル待機位置に来るように、前記保持アームを基板洗浄領
域の側方にほぼ起立姿勢で待機させる一方、第1の洗浄
液によって基板洗浄を行うときには、第1の洗浄ノズル
が第1の洗浄液を基板に供給する位置である第1の基板
洗浄位置に、第2の洗浄液によって基板洗浄を行うとき
には、第2の洗浄ノズルが第2の洗浄液を基板に供給す
る位置である第2の基板洗浄位置に、第1の洗浄ノズル
および第2の洗浄ノズルがそれぞれ移動するように、前
記保持アームを上昇変位させるとともに、揺動変位させ
ることによって、前記保持アームをほぼ横臥姿勢にまで
変位させる。
【0018】請求項11に記載の発明は、請求項10に
記載の基板洗浄装置において、前記アーム駆動手段は、
前記保持アームの揺動変位を許容するように保持アーム
の基端部に係合して、前記保持アームを昇降させる昇降
駆動手段と、基板処理領域の側方に待機する保持アーム
に並設され、前記保持アームをほぼ起立姿勢からほぼ横
臥姿勢へと案内するために、ほぼ上下方向に延びるカム
溝が形成された保持アーム案内部材と、前記保持アーム
の基端部側で保持アームの揺動変位の中心から外れた位
置に取付けられ、前記カム溝に沿って変位するカムホロ
アとから構成されている。
記載の基板洗浄装置において、前記アーム駆動手段は、
前記保持アームの揺動変位を許容するように保持アーム
の基端部に係合して、前記保持アームを昇降させる昇降
駆動手段と、基板処理領域の側方に待機する保持アーム
に並設され、前記保持アームをほぼ起立姿勢からほぼ横
臥姿勢へと案内するために、ほぼ上下方向に延びるカム
溝が形成された保持アーム案内部材と、前記保持アーム
の基端部側で保持アームの揺動変位の中心から外れた位
置に取付けられ、前記カム溝に沿って変位するカムホロ
アとから構成されている。
【0019】請求項12に記載の発明は、請求項9ない
し請求項11のいずれかに記載の基板洗浄装置におい
て、前記保持アームに対する第1の洗浄ノズルおよび第
2の洗浄ノズルの取付け角度を、前記保持アームの姿勢
変化に連動して変化させるノズル姿勢制御手段を備えた
ものである。
し請求項11のいずれかに記載の基板洗浄装置におい
て、前記保持アームに対する第1の洗浄ノズルおよび第
2の洗浄ノズルの取付け角度を、前記保持アームの姿勢
変化に連動して変化させるノズル姿勢制御手段を備えた
ものである。
【0020】請求項13に記載の発明は、請求項9ない
し請求項12のいずれかに記載の基板洗浄装置におい
て、前記第1の洗浄ノズルは、第1の洗浄液である超音
波振動を付加した洗浄液を基板に供給する超音波洗浄ノ
ズルであり、前記第2の洗浄ノズルは、第2の洗浄液で
ある低圧の洗浄液を基板に供給する低圧洗浄ノズルであ
る。
し請求項12のいずれかに記載の基板洗浄装置におい
て、前記第1の洗浄ノズルは、第1の洗浄液である超音
波振動を付加した洗浄液を基板に供給する超音波洗浄ノ
ズルであり、前記第2の洗浄ノズルは、第2の洗浄液で
ある低圧の洗浄液を基板に供給する低圧洗浄ノズルであ
る。
【0021】
【作用】請求項1に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。第1の洗浄液による基板洗浄を行うときに、アーム
駆動手段は、第1の保持アームを駆動して、その先端部
に保持する第1の洗浄ノズルをノズル待機位置から基板
洗浄位置にまで移動する。第1の洗浄ノズルが基板洗浄
位置にまで移動すると、アーム移動支持手段は、アーム
駆動手段を移動駆動して、第1の保持アームを水平面内
で移動させる。基板洗浄位置にある第1の洗浄ノズル
は、第1の保持アームの移動に伴って、基板洗浄領域で
回転されている基板の中心から周縁にまで第1の洗浄液
を供給して、基板洗浄を行う。なお、このアーム移動支
持手段によって、アーム駆動手段とともに第2の保持ア
ームも移動するが、第2の保持アームの先端部に保持さ
れる第2の洗浄ノズルからは第2の洗浄液を基板に供給
しない。第1の洗浄液による基板洗浄が終了すると、ア
ーム駆動手段は、第1の洗浄ノズルを基板洗浄位置から
ノズル待機位置にまで移動する。また、第2の洗浄液に
よる基板洗浄を行うときには、アーム移動支持手段は、
第1の洗浄ノズルが待機した状態のアーム駆動手段とと
もに第2の保持アームと一体的に移動駆動する。第2の
洗浄ノズルは、第2の保持アームの移動に伴って、基板
中心から基板周縁にまで第2の洗浄液を供給して、基板
洗浄を行う。
る。第1の洗浄液による基板洗浄を行うときに、アーム
駆動手段は、第1の保持アームを駆動して、その先端部
に保持する第1の洗浄ノズルをノズル待機位置から基板
洗浄位置にまで移動する。第1の洗浄ノズルが基板洗浄
位置にまで移動すると、アーム移動支持手段は、アーム
駆動手段を移動駆動して、第1の保持アームを水平面内
で移動させる。基板洗浄位置にある第1の洗浄ノズル
は、第1の保持アームの移動に伴って、基板洗浄領域で
回転されている基板の中心から周縁にまで第1の洗浄液
を供給して、基板洗浄を行う。なお、このアーム移動支
持手段によって、アーム駆動手段とともに第2の保持ア
ームも移動するが、第2の保持アームの先端部に保持さ
れる第2の洗浄ノズルからは第2の洗浄液を基板に供給
しない。第1の洗浄液による基板洗浄が終了すると、ア
ーム駆動手段は、第1の洗浄ノズルを基板洗浄位置から
ノズル待機位置にまで移動する。また、第2の洗浄液に
よる基板洗浄を行うときには、アーム移動支持手段は、
第1の洗浄ノズルが待機した状態のアーム駆動手段とと
もに第2の保持アームと一体的に移動駆動する。第2の
洗浄ノズルは、第2の保持アームの移動に伴って、基板
中心から基板周縁にまで第2の洗浄液を供給して、基板
洗浄を行う。
【0022】請求項2に記載の発明によれば、第1の洗
浄ノズルによる基板洗浄を行わないときに、アーム駆動
手段は、第1の保持アームをほぼ起立姿勢で待機させ
る。一方、第1の洗浄ノズルで基板洗浄を行うときに、
アーム駆動手段は、第1の保持アームをほぼ起立姿勢か
らほぼ横臥姿勢にまで変位させることで、第1の保持ア
ームの先端部に保持された第1の洗浄ノズルは、ノズル
待機位置から基板洗浄位置にまで移動する。
浄ノズルによる基板洗浄を行わないときに、アーム駆動
手段は、第1の保持アームをほぼ起立姿勢で待機させ
る。一方、第1の洗浄ノズルで基板洗浄を行うときに、
アーム駆動手段は、第1の保持アームをほぼ起立姿勢か
らほぼ横臥姿勢にまで変位させることで、第1の保持ア
ームの先端部に保持された第1の洗浄ノズルは、ノズル
待機位置から基板洗浄位置にまで移動する。
【0023】請求項3に記載の発明によれば、アーム駆
動手段は、基板洗浄領域の側方にほぼ起立姿勢で待機さ
せた第1の保持アームを上昇しつつ揺動させることによ
り、第1の保持アームをほぼ横臥姿勢に変位させる。こ
の変位に伴って、第1の保持アームの先端部に保持され
た第1の洗浄ノズルは、ノズル待機位置から基板洗浄位
置にまで移動する。
動手段は、基板洗浄領域の側方にほぼ起立姿勢で待機さ
せた第1の保持アームを上昇しつつ揺動させることによ
り、第1の保持アームをほぼ横臥姿勢に変位させる。こ
の変位に伴って、第1の保持アームの先端部に保持され
た第1の洗浄ノズルは、ノズル待機位置から基板洗浄位
置にまで移動する。
【0024】請求項4に記載の発明によれば、昇降駆動
手段が第1の保持アームを下限位置にまで下降させてい
る状態、すなわち待機状態では、第1の保持アームの基
端部側に取り付けられたカムホロアが、カム溝の下側に
位置している。この状態では第1の保持アームの先端部
が持ち上げられて、第1の保持アームはほぼ起立姿勢を
とる。一方、基板洗浄を行うときは、昇降駆動手段が第
1の保持アームを昇降駆動する。その結果、カムホロア
がカム溝に沿って上昇移動し、第1の保持アームの基端
側が持ち上げられることにより、第1の保持アームの先
端部が前倒れに傾斜してゆく。カムホロアがカム溝の上
限位置にまで達すると、第1の保持アームはほぼ横臥姿
勢をとる。
手段が第1の保持アームを下限位置にまで下降させてい
る状態、すなわち待機状態では、第1の保持アームの基
端部側に取り付けられたカムホロアが、カム溝の下側に
位置している。この状態では第1の保持アームの先端部
が持ち上げられて、第1の保持アームはほぼ起立姿勢を
とる。一方、基板洗浄を行うときは、昇降駆動手段が第
1の保持アームを昇降駆動する。その結果、カムホロア
がカム溝に沿って上昇移動し、第1の保持アームの基端
側が持ち上げられることにより、第1の保持アームの先
端部が前倒れに傾斜してゆく。カムホロアがカム溝の上
限位置にまで達すると、第1の保持アームはほぼ横臥姿
勢をとる。
【0025】請求項5に記載の発明によれば、アーム移
動支持手段は、アーム駆動手段を移動駆動することで、
このアーム駆動手段の保持アーム案内部材に取り付けら
れた第2の保持アームを移動させる。この第2の保持ア
ームの先端部に保持された第2の洗浄ノズルは、この移
動に伴って第2の洗浄液を基板に供給しながら移動す
る。
動支持手段は、アーム駆動手段を移動駆動することで、
このアーム駆動手段の保持アーム案内部材に取り付けら
れた第2の保持アームを移動させる。この第2の保持ア
ームの先端部に保持された第2の洗浄ノズルは、この移
動に伴って第2の洗浄液を基板に供給しながら移動す
る。
【0026】請求項6に記載の発明によれば、ノズル姿
勢制御手段は、第1の保持アームの姿勢変化に連動させ
て、第1の保持アームに保持された第1の洗浄ノズルの
姿勢が変化させる。
勢制御手段は、第1の保持アームの姿勢変化に連動させ
て、第1の保持アームに保持された第1の洗浄ノズルの
姿勢が変化させる。
【0027】請求項7に記載の発明によれば、アーム移
動支持手段に取り付けられた待機ポットとこの待機ポッ
トに収納される第1の洗浄ノズルとは、アーム移動支持
手段の移動駆動に伴って、一体的に移動する。
動支持手段に取り付けられた待機ポットとこの待機ポッ
トに収納される第1の洗浄ノズルとは、アーム移動支持
手段の移動駆動に伴って、一体的に移動する。
【0028】請求項8に記載の発明によれば、超音波振
動が付加された洗浄液によって基板を洗浄するときに
は、第1の保持アームを変位させて超音波洗浄ノズルを
基板洗浄位置にまで移動するとともに、超音波洗浄ノズ
ルを水平面内で移動させながら洗浄液を基板に供給す
る。また、高圧の洗浄液によって基板を洗浄するときに
は、第2の保持アームを移動することで、高圧洗浄ノズ
ルを水平面内で移動させながら洗浄液を基板に供給す
る。
動が付加された洗浄液によって基板を洗浄するときに
は、第1の保持アームを変位させて超音波洗浄ノズルを
基板洗浄位置にまで移動するとともに、超音波洗浄ノズ
ルを水平面内で移動させながら洗浄液を基板に供給す
る。また、高圧の洗浄液によって基板を洗浄するときに
は、第2の保持アームを移動することで、高圧洗浄ノズ
ルを水平面内で移動させながら洗浄液を基板に供給す
る。
【0029】請求項9に記載の発明の作用は次のとおり
である。基板洗浄を行うときに、アーム駆動手段は、保
持アームの姿勢を変位させる。この変位に伴って、保持
アームに保持された第1の洗浄ノズルおよび第2の洗浄
ノズルは、ノズル待機位置から第1の基板洗浄位置また
は第2の基板洗浄位置にまで移動する。第1の基板洗浄
位置にまで移動した第1の洗浄ノズルは、基板処理領域
内で回転している基板に対して、第1の洗浄液を供給し
て、基板洗浄を行う。また、第2の基板洗浄位置にまで
移動した第2の洗浄ノズルは、基板処理領域内で回転し
ている基板に対して、第2の洗浄液を供給して、基板洗
浄を行う。
である。基板洗浄を行うときに、アーム駆動手段は、保
持アームの姿勢を変位させる。この変位に伴って、保持
アームに保持された第1の洗浄ノズルおよび第2の洗浄
ノズルは、ノズル待機位置から第1の基板洗浄位置また
は第2の基板洗浄位置にまで移動する。第1の基板洗浄
位置にまで移動した第1の洗浄ノズルは、基板処理領域
内で回転している基板に対して、第1の洗浄液を供給し
て、基板洗浄を行う。また、第2の基板洗浄位置にまで
移動した第2の洗浄ノズルは、基板処理領域内で回転し
ている基板に対して、第2の洗浄液を供給して、基板洗
浄を行う。
【0030】請求項10に記載の発明によれば、アーム
駆動手段は、基板洗浄領域の側方にほぼ起立姿勢で待機
する保持アームを上昇しつつ揺動させて、保持アームを
ほぼ横臥姿勢に変位させる。この変位によって、保持ア
ームに保持された第1の洗浄ノズルおよび第2の洗浄ノ
ズルは、第1の基板洗浄位置または第2の基板洗浄位置
にまで移動する。
駆動手段は、基板洗浄領域の側方にほぼ起立姿勢で待機
する保持アームを上昇しつつ揺動させて、保持アームを
ほぼ横臥姿勢に変位させる。この変位によって、保持ア
ームに保持された第1の洗浄ノズルおよび第2の洗浄ノ
ズルは、第1の基板洗浄位置または第2の基板洗浄位置
にまで移動する。
【0031】請求項11に記載の発明によれば、昇降駆
動手段が保持アームを下限位置にまで下降させている状
態、すなわち待機状態では、保持アームの基端部側に取
り付けられたカムホロアが、カム溝の下側に位置してい
る。この状態では保持アームの先端部が持ち上げられ
て、保持アームはほぼ起立姿勢をとる。一方、基板洗浄
を行うときは、昇降駆動手段が保持アームを昇降駆動す
る。その結果、カムホロアがカム溝に沿って上昇移動
し、保持アームの基端側が持ち上げられることにより、
保持アームの先端部が前倒れに傾斜してゆく。カムホロ
アがカム溝の上限位置にまで達すると、保持アームはほ
ぼ横臥姿勢をとる。
動手段が保持アームを下限位置にまで下降させている状
態、すなわち待機状態では、保持アームの基端部側に取
り付けられたカムホロアが、カム溝の下側に位置してい
る。この状態では保持アームの先端部が持ち上げられ
て、保持アームはほぼ起立姿勢をとる。一方、基板洗浄
を行うときは、昇降駆動手段が保持アームを昇降駆動す
る。その結果、カムホロアがカム溝に沿って上昇移動
し、保持アームの基端側が持ち上げられることにより、
保持アームの先端部が前倒れに傾斜してゆく。カムホロ
アがカム溝の上限位置にまで達すると、保持アームはほ
ぼ横臥姿勢をとる。
【0032】請求項12に記載の発明によれば、ノズル
姿勢制御手段は、保持アームの姿勢変化に連動させて、
保持アームに保持された第1の洗浄ノズルおよび第2の
洗浄ノズルの姿勢を変化させる。
姿勢制御手段は、保持アームの姿勢変化に連動させて、
保持アームに保持された第1の洗浄ノズルおよび第2の
洗浄ノズルの姿勢を変化させる。
【0033】請求項13に記載の発明によれば、超音波
振動が付加された洗浄液によって基板を洗浄するときに
は、第1の基板洗浄位置にまで超音波洗浄ノズルを移動
させて、超音波振動が付加された洗浄液を基板に供給す
る。また、低圧の洗浄液によって基板を洗浄するときに
は、第2の基板洗浄位置にまで低圧洗浄ノズルを移動さ
せて、低圧の洗浄液を基板に供給する。
振動が付加された洗浄液によって基板を洗浄するときに
は、第1の基板洗浄位置にまで超音波洗浄ノズルを移動
させて、超音波振動が付加された洗浄液を基板に供給す
る。また、低圧の洗浄液によって基板を洗浄するときに
は、第2の基板洗浄位置にまで低圧洗浄ノズルを移動さ
せて、低圧の洗浄液を基板に供給する。
【0034】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施例を説明する。 <第1実施例>図1は本発明の第1実施例に係る基板洗
浄装置の概略構成を示す側面図であり、図2はその平面
図である。なお、この実施例では、高圧の洗浄液を基板
に供給する高圧洗浄ノズルと、超音波振動を付加した洗
浄液を基板に供給する超音波洗浄ノズルとを備える基板
洗浄装置について説明する。
施例を説明する。 <第1実施例>図1は本発明の第1実施例に係る基板洗
浄装置の概略構成を示す側面図であり、図2はその平面
図である。なお、この実施例では、高圧の洗浄液を基板
に供給する高圧洗浄ノズルと、超音波振動を付加した洗
浄液を基板に供給する超音波洗浄ノズルとを備える基板
洗浄装置について説明する。
【0035】飛散防止カップ2で囲われた基板洗浄領域
には、基板Wを一体回転可能に吸着保持するスピンチャ
ック1が配備されている。このスピンチャック1は、図
1に示すように電動モータ3の回転駆動によって鉛直方
向の軸芯P1周りで回転する回転軸3aの上端に一体回
転可能に取り付けられている。また、飛散防止カップ2
は、各洗浄ノズルから洗浄液が基板に供給された際、基
板Wから飛び出した洗浄液が、周囲に飛び散るのを防止
するためのものである。なお、この飛散防止カップ2に
は、基板Wから飛び出した洗浄液を廃液として回収する
図示しない廃液回収構造が設けられている。さらに、こ
の飛散防止カップ2は、基板洗浄領域に基板Wが搬入・
搬出される際に、基板Wの搬入・搬出を許容する高さに
まで下降し、基板Wに洗浄を施す際には、洗浄液が飛散
しない高さにまで上昇するための図示しない昇降機構が
取り付けられている。なお、本実施例では、スピンチャ
ック1を真空吸着式のものとしているが、本発明はこれ
に限られるものではなく、例えば、チャック上に複数個
の爪を設け、これらの爪で基板Wの端面を把持するよう
に構成してもよい。
には、基板Wを一体回転可能に吸着保持するスピンチャ
ック1が配備されている。このスピンチャック1は、図
1に示すように電動モータ3の回転駆動によって鉛直方
向の軸芯P1周りで回転する回転軸3aの上端に一体回
転可能に取り付けられている。また、飛散防止カップ2
は、各洗浄ノズルから洗浄液が基板に供給された際、基
板Wから飛び出した洗浄液が、周囲に飛び散るのを防止
するためのものである。なお、この飛散防止カップ2に
は、基板Wから飛び出した洗浄液を廃液として回収する
図示しない廃液回収構造が設けられている。さらに、こ
の飛散防止カップ2は、基板洗浄領域に基板Wが搬入・
搬出される際に、基板Wの搬入・搬出を許容する高さに
まで下降し、基板Wに洗浄を施す際には、洗浄液が飛散
しない高さにまで上昇するための図示しない昇降機構が
取り付けられている。なお、本実施例では、スピンチャ
ック1を真空吸着式のものとしているが、本発明はこれ
に限られるものではなく、例えば、チャック上に複数個
の爪を設け、これらの爪で基板Wの端面を把持するよう
に構成してもよい。
【0036】飛散防止カップ2の側方には、後述する超
音波洗浄ノズル4と高圧洗浄ノズル8とを基板洗浄領域
上で揺動移動させるアーム移動支持機構9が配備されて
いる。このアーム移動支持機構9には、超音波洗浄ノズ
ル4を先端部に保持する第1の保持アーム5と、この第
1の保持アーム5を起立姿勢または横臥姿勢に変位させ
るためのアーム駆動機構7と、このアーム駆動機構7に
支持された、高圧洗浄ノズル8を先端部に保持する第2
の保持アーム10とが搭載されている。
音波洗浄ノズル4と高圧洗浄ノズル8とを基板洗浄領域
上で揺動移動させるアーム移動支持機構9が配備されて
いる。このアーム移動支持機構9には、超音波洗浄ノズ
ル4を先端部に保持する第1の保持アーム5と、この第
1の保持アーム5を起立姿勢または横臥姿勢に変位させ
るためのアーム駆動機構7と、このアーム駆動機構7に
支持された、高圧洗浄ノズル8を先端部に保持する第2
の保持アーム10とが搭載されている。
【0037】アーム移動支持機構9は、電動モータ9a
と、この電動モータ9aの回転駆動によって鉛直方向の
軸芯P2周りで回転する回転軸9bの上端に一体回転可
能に取り付けられたターンテーブル9cとから構成され
ている。アーム移動支持機構9は、図2に示すように、
超音波洗浄ノズル4または高圧洗浄ノズル8が、基板W
に洗浄液を供給する基板洗浄位置にある場合に、ターン
テーブル9cを軸芯P2を中心として正回転および逆回
転駆動を繰り返し行う。このターンテーブル9cの回転
駆動によって超音波洗浄ノズル4または高圧洗浄ノズル
8は、基板洗浄領域上の所定の範囲を複数回にわたって
往復揺動移動する。このとき、超音波洗浄ノズル4また
は高圧洗浄ノズル8は、スピンチャック1によって回転
駆動される基板Wの回転軸芯P1から基板Wの周縁まで
の間に洗浄液を供給しながら複数回にわたって揺動し
て、基板Wの洗浄を行う。アーム移動支持機構9は、本
発明におけるアーム移動支持手段に相当する。
と、この電動モータ9aの回転駆動によって鉛直方向の
軸芯P2周りで回転する回転軸9bの上端に一体回転可
能に取り付けられたターンテーブル9cとから構成され
ている。アーム移動支持機構9は、図2に示すように、
超音波洗浄ノズル4または高圧洗浄ノズル8が、基板W
に洗浄液を供給する基板洗浄位置にある場合に、ターン
テーブル9cを軸芯P2を中心として正回転および逆回
転駆動を繰り返し行う。このターンテーブル9cの回転
駆動によって超音波洗浄ノズル4または高圧洗浄ノズル
8は、基板洗浄領域上の所定の範囲を複数回にわたって
往復揺動移動する。このとき、超音波洗浄ノズル4また
は高圧洗浄ノズル8は、スピンチャック1によって回転
駆動される基板Wの回転軸芯P1から基板Wの周縁まで
の間に洗浄液を供給しながら複数回にわたって揺動し
て、基板Wの洗浄を行う。アーム移動支持機構9は、本
発明におけるアーム移動支持手段に相当する。
【0038】ターンテーブル9cには、第1の保持アー
ム5を起立姿勢から横臥姿勢に、および横臥姿勢から起
立姿勢に変位させるためのアーム駆動機構7が載置され
ている。また、第1の保持アーム5が起立姿勢で待機し
ているときに、第1の保持アーム5の先端部に保持され
た超音波洗浄ノズル4を収納するための待機ポット11
もターンテーブル9c上に搭載されている。この待機ポ
ット11は、上端部に超音波洗浄ノズル4を挿入するた
めのノズル挿入口を備え、超音波洗浄ノズル4内の洗浄
液の汚染防止のため待機ポット11内で仮噴出された洗
浄液を排出するための図示しない排出構造が設けられて
いる。なお、待機ポット11の配備された位置は、本発
明におけるノズル待機位置に相当する。
ム5を起立姿勢から横臥姿勢に、および横臥姿勢から起
立姿勢に変位させるためのアーム駆動機構7が載置され
ている。また、第1の保持アーム5が起立姿勢で待機し
ているときに、第1の保持アーム5の先端部に保持され
た超音波洗浄ノズル4を収納するための待機ポット11
もターンテーブル9c上に搭載されている。この待機ポ
ット11は、上端部に超音波洗浄ノズル4を挿入するた
めのノズル挿入口を備え、超音波洗浄ノズル4内の洗浄
液の汚染防止のため待機ポット11内で仮噴出された洗
浄液を排出するための図示しない排出構造が設けられて
いる。なお、待機ポット11の配備された位置は、本発
明におけるノズル待機位置に相当する。
【0039】アーム駆動機構7は、図1に示すように、
第1の保持アーム5の基端部側の揺動軸5bの中心から
外れた位置に設けられたカムホロア5cと、このカムホ
ロア5cを受けるカム溝7bが形成された保持アーム案
内部材7aと、第1の保持アーム5の基端部側に設けら
れた揺動軸5bで第1の保持アーム5を揺動変位可能に
支持するアーム支持部材7cと、このアーム支持部材7
cを昇降駆動する、いわゆる螺子送り機構を構成する電
動モータ7dおよび螺軸7eなどで構成される。なお、
アーム駆動機構7は、本発明におけるアーム駆動手段に
相当する。電動モータ7dおよび螺軸7eによって構成
される螺子送り機構は、本発明における昇降駆動手段に
相当する。
第1の保持アーム5の基端部側の揺動軸5bの中心から
外れた位置に設けられたカムホロア5cと、このカムホ
ロア5cを受けるカム溝7bが形成された保持アーム案
内部材7aと、第1の保持アーム5の基端部側に設けら
れた揺動軸5bで第1の保持アーム5を揺動変位可能に
支持するアーム支持部材7cと、このアーム支持部材7
cを昇降駆動する、いわゆる螺子送り機構を構成する電
動モータ7dおよび螺軸7eなどで構成される。なお、
アーム駆動機構7は、本発明におけるアーム駆動手段に
相当する。電動モータ7dおよび螺軸7eによって構成
される螺子送り機構は、本発明における昇降駆動手段に
相当する。
【0040】アーム駆動機構7によって第1の保持アー
ム5が、待機状態の起立姿勢から基板洗浄時の横臥姿勢
に変位する動作およびアーム駆動機構7の各部の構成お
よび動作を図1、図5を参照しながら説明する。図1の
実線で示した第1の保持アーム5は、待機状態を示して
いる。アーム支持部材7cは、螺軸7eの下限位置にあ
り、カムホロア5cはカム溝7bの下限位置にある。結
果、揺動軸5bを挟んでカムホロア5cとは反対側にあ
る第1の保持アーム5の先端部が持ち上げられて、第1
の保持アーム5は起立姿勢で静止している。なお、図1
中に実線で示す起立姿勢の第1の保持アーム5は飛散防
止カップ2の側方に位置しているので、起立姿勢の第1
の保持アーム5の先端部の高さは比較的に低く抑えられ
る。
ム5が、待機状態の起立姿勢から基板洗浄時の横臥姿勢
に変位する動作およびアーム駆動機構7の各部の構成お
よび動作を図1、図5を参照しながら説明する。図1の
実線で示した第1の保持アーム5は、待機状態を示して
いる。アーム支持部材7cは、螺軸7eの下限位置にあ
り、カムホロア5cはカム溝7bの下限位置にある。結
果、揺動軸5bを挟んでカムホロア5cとは反対側にあ
る第1の保持アーム5の先端部が持ち上げられて、第1
の保持アーム5は起立姿勢で静止している。なお、図1
中に実線で示す起立姿勢の第1の保持アーム5は飛散防
止カップ2の側方に位置しているので、起立姿勢の第1
の保持アーム5の先端部の高さは比較的に低く抑えられ
る。
【0041】図5に示すように、電動モータ7dが回転
駆動すると、螺軸7eが回転して、アーム支持部材7c
を押し上げる。このアーム支持部材7cと一体となって
第1の保持アーム5が上昇する。ここで、保持アーム案
内部材7aに形成されているカム溝7bは、保持アーム
案内部材7aの上下端部付近では直線形状であり、中間
部では基板洗浄領域から遠ざかるように滑らかに傾斜変
化している。したがって、この実施例でのカム溝7bの
傾斜部におけるカムホロア5cには、傾斜方向の力が加
わるので、第1の保持アーム5は、アーム支持部材7c
の上昇とともに、揺動軸5bを中心として、左回りに揺
動変位する。
駆動すると、螺軸7eが回転して、アーム支持部材7c
を押し上げる。このアーム支持部材7cと一体となって
第1の保持アーム5が上昇する。ここで、保持アーム案
内部材7aに形成されているカム溝7bは、保持アーム
案内部材7aの上下端部付近では直線形状であり、中間
部では基板洗浄領域から遠ざかるように滑らかに傾斜変
化している。したがって、この実施例でのカム溝7bの
傾斜部におけるカムホロア5cには、傾斜方向の力が加
わるので、第1の保持アーム5は、アーム支持部材7c
の上昇とともに、揺動軸5bを中心として、左回りに揺
動変位する。
【0042】超音波洗浄ノズル4が基板洗浄位置にまで
来たら、電動モータ7dの回転駆動を終了させる。この
とき、カムホロア5cがカム溝7bの上限位置に達し、
第1の保持アーム5は横臥姿勢となる。以上が第1の保
持アーム5の姿勢変位である。逆に、第1の保持アーム
5を横臥姿勢から起立姿勢に変位させる場合は、電動モ
ータ7dを逆回転駆動させて、アーム支持部材7cを下
降させればよい。
来たら、電動モータ7dの回転駆動を終了させる。この
とき、カムホロア5cがカム溝7bの上限位置に達し、
第1の保持アーム5は横臥姿勢となる。以上が第1の保
持アーム5の姿勢変位である。逆に、第1の保持アーム
5を横臥姿勢から起立姿勢に変位させる場合は、電動モ
ータ7dを逆回転駆動させて、アーム支持部材7cを下
降させればよい。
【0043】なお、カム溝の形状や、揺動軸とカムホロ
アの位置関係は上述した実施例のものに限定されない。
例えば、カム溝は直線傾斜するものや、本実施例と対称
なカム溝の形状であってもよく、保持アームの動作時に
干渉する可能性のある他の構成要素を回避することがで
きるように、カム溝の形状や揺動軸とカムホロアの位置
を設定すればよい。さらに、この実施例では、第1の保
持アーム5の起立姿勢を垂直にし、横臥姿勢を水平にし
ているが、この発明は、これに限定するものではない。
例えば、待機時には、飛散防止カップ2の側方に第1の
保持アーム5を傾斜した起立姿勢で待機させてもよい。
また、洗浄時には、保持アームの先端部または基端部を
持ち上げたような傾斜した横臥姿勢にしてもよい。
アの位置関係は上述した実施例のものに限定されない。
例えば、カム溝は直線傾斜するものや、本実施例と対称
なカム溝の形状であってもよく、保持アームの動作時に
干渉する可能性のある他の構成要素を回避することがで
きるように、カム溝の形状や揺動軸とカムホロアの位置
を設定すればよい。さらに、この実施例では、第1の保
持アーム5の起立姿勢を垂直にし、横臥姿勢を水平にし
ているが、この発明は、これに限定するものではない。
例えば、待機時には、飛散防止カップ2の側方に第1の
保持アーム5を傾斜した起立姿勢で待機させてもよい。
また、洗浄時には、保持アームの先端部または基端部を
持ち上げたような傾斜した横臥姿勢にしてもよい。
【0044】上述したように、第1の保持アーム5は、
基板Wに対して洗浄液を供給するための超音波洗浄ノズ
ル4を先端部に備えている。この超音波洗浄ノズル4
は、第1の保持アーム5の姿勢の変化に伴って、第1の
保持アーム5と超音波洗浄ノズル4との相対角度を変化
させることができる、第1の保持アーム5の内部に備え
るノズル姿勢制御機構に支持されている。このノズル姿
勢制御機構によって超音波洗浄ノズル4の姿勢は、第1
の保持アーム5の姿勢の変化に連動して、超音波洗浄ノ
ズル4が超音波洗浄位置にある場合には超音波洗浄ノズ
ル4は傾斜姿勢となり、第1の保持アーム5が待機位置
にある場合には超音波洗浄ノズル4はほぼ鉛直姿勢とな
るような構成となっている。
基板Wに対して洗浄液を供給するための超音波洗浄ノズ
ル4を先端部に備えている。この超音波洗浄ノズル4
は、第1の保持アーム5の姿勢の変化に伴って、第1の
保持アーム5と超音波洗浄ノズル4との相対角度を変化
させることができる、第1の保持アーム5の内部に備え
るノズル姿勢制御機構に支持されている。このノズル姿
勢制御機構によって超音波洗浄ノズル4の姿勢は、第1
の保持アーム5の姿勢の変化に連動して、超音波洗浄ノ
ズル4が超音波洗浄位置にある場合には超音波洗浄ノズ
ル4は傾斜姿勢となり、第1の保持アーム5が待機位置
にある場合には超音波洗浄ノズル4はほぼ鉛直姿勢とな
るような構成となっている。
【0045】図3、図4に示すように、第1の保持アー
ム5の内部に収納されるノズル姿勢制御機構30は、次
のように構成される。超音波洗浄ノズル4がベアリング
41に挿通された軸5aを介して、第1の保持アーム5
に揺動可能に支持されている。第1のプーリ31は軸5
aに連動連結されている。第2のプーリ32は、アーム
支持部材7cに連結固定されている、第1の保持アーム
5の基端部の揺動軸5bに固定設置されている。第1の
プーリ31と第2のプーリ32との間に歯付き無端状ベ
ルト33が架け渡されている。また、超音波洗浄ノズル
4と第1のプーリ31とを連結している軸5aと、この
軸5aが挿入されている第1の保持アーム5との隙間
は、磁場に感応する液体である磁性流体34によってシ
ールされている。この磁性流体34は、図示しない磁気
回路によって軸5aと第1の保持アーム5との隙間に形
成される磁場によって保持されている。この実施例で
は、第1の保持アーム5が起立姿勢から横臥姿勢までの
「90度」揺動変位する間に、超音波洗浄ノズル4を
「45度」揺動変位させるために、第1のプーリ径と第
2のプーリ径との比率を「2:3」にしてある。また、
第1の保持アーム5が起立姿勢から横臥姿勢を採るとき
に、超音波洗浄ノズル4の姿勢が鉛直姿勢から傾斜姿勢
になるように設定されている。
ム5の内部に収納されるノズル姿勢制御機構30は、次
のように構成される。超音波洗浄ノズル4がベアリング
41に挿通された軸5aを介して、第1の保持アーム5
に揺動可能に支持されている。第1のプーリ31は軸5
aに連動連結されている。第2のプーリ32は、アーム
支持部材7cに連結固定されている、第1の保持アーム
5の基端部の揺動軸5bに固定設置されている。第1の
プーリ31と第2のプーリ32との間に歯付き無端状ベ
ルト33が架け渡されている。また、超音波洗浄ノズル
4と第1のプーリ31とを連結している軸5aと、この
軸5aが挿入されている第1の保持アーム5との隙間
は、磁場に感応する液体である磁性流体34によってシ
ールされている。この磁性流体34は、図示しない磁気
回路によって軸5aと第1の保持アーム5との隙間に形
成される磁場によって保持されている。この実施例で
は、第1の保持アーム5が起立姿勢から横臥姿勢までの
「90度」揺動変位する間に、超音波洗浄ノズル4を
「45度」揺動変位させるために、第1のプーリ径と第
2のプーリ径との比率を「2:3」にしてある。また、
第1の保持アーム5が起立姿勢から横臥姿勢を採るとき
に、超音波洗浄ノズル4の姿勢が鉛直姿勢から傾斜姿勢
になるように設定されている。
【0046】第2のプーリ32は、アーム支持部材7c
に固定されているので、第1の保持アーム5の姿勢変化
にかかわらず常に静止状態である。超音波洗浄ノズル4
と連結連動された第1のプーリ31は、第1の保持アー
ム5に回転可能に取付けられているので、無端状ベルト
33の動きに連動させることができる。したがって、第
1の保持アーム5が、例えば起き上がると、第1の保持
アーム5と第2のプーリ32との間に相対的な回転変位
が生じる。この相対的な回転変位を補うために、無端状
ベルト33が第2のプーリ32の周囲を廻ろうとする
が、第2のプーリ32は固定されているので、この回転
運動が第1のプーリ31に伝わる。第1のプーリ31
は、第1の保持アーム5の起き上がり方向と逆の方向に
回転動作する。つまり、超音波洗浄ノズル4の姿勢は、
第1の保持アーム5の姿勢変位に対して「1/2」の割
合で連動して揺動する。なお、この実施例では、第1の
プーリ31の径と第2のプーリ32の径とを「2:3」
の比率にしたが、これに限定するものではない。例え
ば、両プーリの径の比率を変化させることで、第1の保
持アーム5が起立姿勢のときの超音波洗浄ノズル4の先
端方向と、横臥姿勢のときの超音波洗浄ノズル4の先端
方向とを自在に変えることができる。このノズル姿勢制
御機構30は、本発明におけるノズル姿勢制御手段に相
当する。
に固定されているので、第1の保持アーム5の姿勢変化
にかかわらず常に静止状態である。超音波洗浄ノズル4
と連結連動された第1のプーリ31は、第1の保持アー
ム5に回転可能に取付けられているので、無端状ベルト
33の動きに連動させることができる。したがって、第
1の保持アーム5が、例えば起き上がると、第1の保持
アーム5と第2のプーリ32との間に相対的な回転変位
が生じる。この相対的な回転変位を補うために、無端状
ベルト33が第2のプーリ32の周囲を廻ろうとする
が、第2のプーリ32は固定されているので、この回転
運動が第1のプーリ31に伝わる。第1のプーリ31
は、第1の保持アーム5の起き上がり方向と逆の方向に
回転動作する。つまり、超音波洗浄ノズル4の姿勢は、
第1の保持アーム5の姿勢変位に対して「1/2」の割
合で連動して揺動する。なお、この実施例では、第1の
プーリ31の径と第2のプーリ32の径とを「2:3」
の比率にしたが、これに限定するものではない。例え
ば、両プーリの径の比率を変化させることで、第1の保
持アーム5が起立姿勢のときの超音波洗浄ノズル4の先
端方向と、横臥姿勢のときの超音波洗浄ノズル4の先端
方向とを自在に変えることができる。このノズル姿勢制
御機構30は、本発明におけるノズル姿勢制御手段に相
当する。
【0047】超音波洗浄ノズル4は、洗浄液を超音波洗
浄ノズル4内に供給するための図示しない洗浄液供給ラ
インに繋がれている。超音波洗浄ノズル4の内部に供給
された洗浄液は、その内部に備える超音波振動素子によ
って、超音波振動が付加される。この洗浄液は、超音波
洗浄ノズル4の先端に設けられた吐出口から吐出され
る。
浄ノズル4内に供給するための図示しない洗浄液供給ラ
インに繋がれている。超音波洗浄ノズル4の内部に供給
された洗浄液は、その内部に備える超音波振動素子によ
って、超音波振動が付加される。この洗浄液は、超音波
洗浄ノズル4の先端に設けられた吐出口から吐出され
る。
【0048】第2の保持アーム10は、アーム駆動機構
7の保持アーム案内部材7aに固定支持されている。こ
の第2の保持アーム10の先端部に、高圧洗浄ノズル8
が保持されている。高圧洗浄ノズル8は、飛散防止カッ
プよりも高い位置から基板Wに向けて高圧の洗浄液を吐
出する。
7の保持アーム案内部材7aに固定支持されている。こ
の第2の保持アーム10の先端部に、高圧洗浄ノズル8
が保持されている。高圧洗浄ノズル8は、飛散防止カッ
プよりも高い位置から基板Wに向けて高圧の洗浄液を吐
出する。
【0049】高圧洗浄ノズル8は、その先端面に洗浄液
を吐出するための比較的小径の吐出口を備え、図示しな
い高圧洗浄液供給ラインから供給された高圧の洗浄液を
この吐出口から吐出することで、基板Wに高圧の洗浄液
を供給するように構成されている。
を吐出するための比較的小径の吐出口を備え、図示しな
い高圧洗浄液供給ラインから供給された高圧の洗浄液を
この吐出口から吐出することで、基板Wに高圧の洗浄液
を供給するように構成されている。
【0050】以下、本実施例に係る基板洗浄装置の一連
の動作について説明する。基板Wは、図示しないウエハ
搬送機構によって、ウエハ収納キャリアから搬出され、
基板洗浄装置の飛散防止カップ2内に搬入される。この
搬入された基板Wは、スピンチャック1の回転中心に基
板Wの中心がほぼ一致するように、スピンチャック1に
置かれる。この基板Wをスピンチャック1が吸着保持す
る。基板Wが吸着保持されると飛散防止カップ2は、所
定の高さである基板Wを囲い込む高さまで、図示しない
昇降機構によって上昇する。
の動作について説明する。基板Wは、図示しないウエハ
搬送機構によって、ウエハ収納キャリアから搬出され、
基板洗浄装置の飛散防止カップ2内に搬入される。この
搬入された基板Wは、スピンチャック1の回転中心に基
板Wの中心がほぼ一致するように、スピンチャック1に
置かれる。この基板Wをスピンチャック1が吸着保持す
る。基板Wが吸着保持されると飛散防止カップ2は、所
定の高さである基板Wを囲い込む高さまで、図示しない
昇降機構によって上昇する。
【0051】まず、図5、図6を参照しながら、超音波
洗浄ノズル4によって基板洗浄を行う場合について説明
する。飛散防止カップ2が上昇すると、アーム駆動機構
7の電動モータ7dが作動してアーム支持部材7cが上
がり始める。アーム支持部材7cの上昇に伴ってカムホ
ロア5cがカム溝7bを上昇変位することにより、第1
の保持アーム5は、起立姿勢から横臥姿勢に向けて姿勢
変位を始める。このとき、第1の保持アーム5に保持さ
れている鉛直姿勢の超音波洗浄ノズル4は、待機ポット
11から引き上げられる。アーム駆動機構7によるアー
ム支持部材7cの押し上げが終了した時点で、第1の保
持アーム5は横臥姿勢となる。なお、この第1の保持ア
ーム5の姿勢変位に連動して、超音波洗浄ノズル4の姿
勢は、鉛直姿勢から所定の傾斜姿勢にまで徐々に揺動変
位する。なお、この所定の傾斜姿勢とは、第1の保持ア
ーム5に保持された超音波洗浄ノズル4が、基板Wに対
して洗浄液を噴出するための基板洗浄位置に来たときの
超音波洗浄ノズル4の姿勢をいう。
洗浄ノズル4によって基板洗浄を行う場合について説明
する。飛散防止カップ2が上昇すると、アーム駆動機構
7の電動モータ7dが作動してアーム支持部材7cが上
がり始める。アーム支持部材7cの上昇に伴ってカムホ
ロア5cがカム溝7bを上昇変位することにより、第1
の保持アーム5は、起立姿勢から横臥姿勢に向けて姿勢
変位を始める。このとき、第1の保持アーム5に保持さ
れている鉛直姿勢の超音波洗浄ノズル4は、待機ポット
11から引き上げられる。アーム駆動機構7によるアー
ム支持部材7cの押し上げが終了した時点で、第1の保
持アーム5は横臥姿勢となる。なお、この第1の保持ア
ーム5の姿勢変位に連動して、超音波洗浄ノズル4の姿
勢は、鉛直姿勢から所定の傾斜姿勢にまで徐々に揺動変
位する。なお、この所定の傾斜姿勢とは、第1の保持ア
ーム5に保持された超音波洗浄ノズル4が、基板Wに対
して洗浄液を噴出するための基板洗浄位置に来たときの
超音波洗浄ノズル4の姿勢をいう。
【0052】図6に示すように、基板洗浄位置の超音波
洗浄ノズル4の先端部から洗浄液S1が、基板Wに供給
されるとともに、この洗浄液S1は、ターンテーブル9
の正逆回転に伴って基板Wの中心から周縁までの間で左
右に往復揺動移動する。このとき、基板Wは、電動モー
タ3によって高速で回転されるので、洗浄液S1は遠心
力によって基板Wの処理面を拡がって振り切られる。振
り切られた洗浄液S1は、飛散防止カップ2によって回
収される。基板洗浄が終了すると、アーム駆動機構7
が、アーム支持部材7cを引き下げることで、第1の保
持アーム5を横臥姿勢から起立姿勢に変位させる。これ
により、傾斜姿勢の超音波洗浄ノズル4は、鉛直姿勢に
まで揺動変位して、この鉛直姿勢の状態で、ノズル待機
位置に配備された待機ポット11の上端部のノズル挿入
口から挿入される。
洗浄ノズル4の先端部から洗浄液S1が、基板Wに供給
されるとともに、この洗浄液S1は、ターンテーブル9
の正逆回転に伴って基板Wの中心から周縁までの間で左
右に往復揺動移動する。このとき、基板Wは、電動モー
タ3によって高速で回転されるので、洗浄液S1は遠心
力によって基板Wの処理面を拡がって振り切られる。振
り切られた洗浄液S1は、飛散防止カップ2によって回
収される。基板洗浄が終了すると、アーム駆動機構7
が、アーム支持部材7cを引き下げることで、第1の保
持アーム5を横臥姿勢から起立姿勢に変位させる。これ
により、傾斜姿勢の超音波洗浄ノズル4は、鉛直姿勢に
まで揺動変位して、この鉛直姿勢の状態で、ノズル待機
位置に配備された待機ポット11の上端部のノズル挿入
口から挿入される。
【0053】次に、図7を参照しながら、高圧洗浄ノズ
ル8によって基板洗浄を行う場合について説明する。飛
散防止カップ2が上昇すると、高圧洗浄ノズル8は、ア
ーム移動支持機構9によって基板洗浄領域外から基板洗
浄領域上にまで水平面内で移動する。洗浄液S2を基板
Wに供給する位置まで移動した高圧洗浄ノズル8は、そ
の先端部から洗浄液S2を基板Wに供給する。このとき
基板Wに供給された洗浄液S2は、ターンテーブル9の
正逆回転に伴って基板Wの中心から周縁までの間で左右
に往復揺動移動する。これによって、基板洗浄が行われ
る。基板Wに供給された洗浄液S2は、電動モータ3に
よって高速で回転された基板Wから飛び出し、飛散防止
カップ2によって回収される。基板洗浄が終了すると、
高圧洗浄ノズル8は、基板洗浄領域外に退避する。な
お、この実施例では、超音波洗浄ノズル4および高圧洗
浄ノズル8からの洗浄液S1、S2を、基板Wの中心か
ら周縁までの間で揺動移動するようにしたが、例えば、
洗浄液S1、S2を、基板Wの中心を通過する、基板W
の周縁の一端側から他端側までの間を往復揺動移動する
ようにしてもよい。
ル8によって基板洗浄を行う場合について説明する。飛
散防止カップ2が上昇すると、高圧洗浄ノズル8は、ア
ーム移動支持機構9によって基板洗浄領域外から基板洗
浄領域上にまで水平面内で移動する。洗浄液S2を基板
Wに供給する位置まで移動した高圧洗浄ノズル8は、そ
の先端部から洗浄液S2を基板Wに供給する。このとき
基板Wに供給された洗浄液S2は、ターンテーブル9の
正逆回転に伴って基板Wの中心から周縁までの間で左右
に往復揺動移動する。これによって、基板洗浄が行われ
る。基板Wに供給された洗浄液S2は、電動モータ3に
よって高速で回転された基板Wから飛び出し、飛散防止
カップ2によって回収される。基板洗浄が終了すると、
高圧洗浄ノズル8は、基板洗浄領域外に退避する。な
お、この実施例では、超音波洗浄ノズル4および高圧洗
浄ノズル8からの洗浄液S1、S2を、基板Wの中心か
ら周縁までの間で揺動移動するようにしたが、例えば、
洗浄液S1、S2を、基板Wの中心を通過する、基板W
の周縁の一端側から他端側までの間を往復揺動移動する
ようにしてもよい。
【0054】基板洗浄後の基板Wは、搬送機構によって
飛散防止カップ2から搬出される。上述した処理を繰り
返し行うことで、所定枚数のウエハを処理することがで
きる。なお、基板Wの洗浄条件によって、超音波洗浄ノ
ズル4または高圧洗浄ノズル8の何れか一方若しくは両
方による基板洗浄が行われる。
飛散防止カップ2から搬出される。上述した処理を繰り
返し行うことで、所定枚数のウエハを処理することがで
きる。なお、基板Wの洗浄条件によって、超音波洗浄ノ
ズル4または高圧洗浄ノズル8の何れか一方若しくは両
方による基板洗浄が行われる。
【0055】上述した基板洗浄装置は、超音波洗浄ノズ
ル4を保持する第1の保持アーム5を、待機時には基板
処理領域である飛散防止カップ2の側方に起立姿勢で待
機し、処理時には待機位置から上昇しながら序々に姿勢
を倒しながら横臥姿勢にする。つまり、高圧洗浄ノズル
8を使用するときには、基板Wに近接した基板洗浄位置
の超音波洗浄ノズル4をノズル待機位置にまで退避させ
るので、高圧洗浄ノズル8の揺動移動の範囲が制限され
ない。また、退避させた第1の保持アーム5の待機時に
おける待機スペースを縮小することができるので、装置
の設置面積を小さくすることができる。なお、超音波洗
浄ノズル4を使用する場合、高圧洗浄ノズル8は飛散防
止カップ2よりも常に高い位置に支持されているので、
超音波洗浄ノズル4の揺動移動の範囲は制限されない。
ル4を保持する第1の保持アーム5を、待機時には基板
処理領域である飛散防止カップ2の側方に起立姿勢で待
機し、処理時には待機位置から上昇しながら序々に姿勢
を倒しながら横臥姿勢にする。つまり、高圧洗浄ノズル
8を使用するときには、基板Wに近接した基板洗浄位置
の超音波洗浄ノズル4をノズル待機位置にまで退避させ
るので、高圧洗浄ノズル8の揺動移動の範囲が制限され
ない。また、退避させた第1の保持アーム5の待機時に
おける待機スペースを縮小することができるので、装置
の設置面積を小さくすることができる。なお、超音波洗
浄ノズル4を使用する場合、高圧洗浄ノズル8は飛散防
止カップ2よりも常に高い位置に支持されているので、
超音波洗浄ノズル4の揺動移動の範囲は制限されない。
【0056】本発明は、以下のように変形実施すること
も可能である。 (1)上記第1実施例では、アーム駆動機構7の昇降駆
動手段として、電動モータ7dと螺軸7eとで構成され
る螺子送り機構によって、アーム支持部材7cを昇降す
るように構成したが、例えば、エアシリンダによって、
アーム支持部材7cを昇降するように構成してもよい。
も可能である。 (1)上記第1実施例では、アーム駆動機構7の昇降駆
動手段として、電動モータ7dと螺軸7eとで構成され
る螺子送り機構によって、アーム支持部材7cを昇降す
るように構成したが、例えば、エアシリンダによって、
アーム支持部材7cを昇降するように構成してもよい。
【0057】(2)上記第1実施例では、第1の保持ア
ーム5を基板洗浄領域の側方に待機させた関係で、第1
の保持アーム5を起立姿勢から横臥姿勢に変位させた場
合に、第1の保持アーム5を上昇変位させながら揺動変
位させていたが、第1の保持アーム5を上記実施例の待
機位置の上方に待機させておけば、第1の保持アーム5
の基端部を中心とする揺動変位だけで第1の保持アーム
5を起立姿勢から横臥姿勢に変位させることができる。
例えば、超音波洗浄ノズル4が基板Wに対する基板洗浄
位置にきたときの第1の保持アーム5の横臥姿勢におけ
る基端部を揺動中心Pとして、第1の保持アーム5を起
立姿勢にする。この起立姿勢した状態で第1の保持アー
ム5を待機させる。このような構成にすれば、アーム駆
動機構をより単純な構成にすることが可能である。
ーム5を基板洗浄領域の側方に待機させた関係で、第1
の保持アーム5を起立姿勢から横臥姿勢に変位させた場
合に、第1の保持アーム5を上昇変位させながら揺動変
位させていたが、第1の保持アーム5を上記実施例の待
機位置の上方に待機させておけば、第1の保持アーム5
の基端部を中心とする揺動変位だけで第1の保持アーム
5を起立姿勢から横臥姿勢に変位させることができる。
例えば、超音波洗浄ノズル4が基板Wに対する基板洗浄
位置にきたときの第1の保持アーム5の横臥姿勢におけ
る基端部を揺動中心Pとして、第1の保持アーム5を起
立姿勢にする。この起立姿勢した状態で第1の保持アー
ム5を待機させる。このような構成にすれば、アーム駆
動機構をより単純な構成にすることが可能である。
【0058】(3)上記第1実施例では、アーム移動支
持機構9において電動モータ9aを利用してターンテー
ブル9cを回動可能としたが、例えば、電動モータ9a
の代わりに360度以内で揺動駆動するロータリーアク
チュエータなどを用いてもよい。
持機構9において電動モータ9aを利用してターンテー
ブル9cを回動可能としたが、例えば、電動モータ9a
の代わりに360度以内で揺動駆動するロータリーアク
チュエータなどを用いてもよい。
【0059】(4)上記第1実施例では、第1の保持ア
ーム5に超音波洗浄ノズル4、第2の保持アーム10に
高圧洗浄ノズル8をそれぞれ取り付けたが、例えば、第
1の保持アーム5および第2の保持アーム10には、高
圧洗浄ノズル、超音波洗浄ノズル、または、低圧の洗浄
液を基板に供給する低圧洗浄ノズルの何れを取り付けて
もよい。
ーム5に超音波洗浄ノズル4、第2の保持アーム10に
高圧洗浄ノズル8をそれぞれ取り付けたが、例えば、第
1の保持アーム5および第2の保持アーム10には、高
圧洗浄ノズル、超音波洗浄ノズル、または、低圧の洗浄
液を基板に供給する低圧洗浄ノズルの何れを取り付けて
もよい。
【0060】(5)上記第1実施例では、第2の保持ア
ーム10を保持アーム案内部材7aで固定支持したが、
例えば、第2の保持アーム10をアーム移動支持機構9
のターンテーブル9cに直接に固定支持させてもよい。
ーム10を保持アーム案内部材7aで固定支持したが、
例えば、第2の保持アーム10をアーム移動支持機構9
のターンテーブル9cに直接に固定支持させてもよい。
【0061】(6)上記第1実施例では、アーム移動支
持機構9を電動モータ9aを利用してターンテーブル9
cを回動させることにより、超音波洗浄ノズル4または
高圧洗浄ノズル8を基板洗浄領域上の所定範囲を揺動移
動させるようにしていたが、例えばターンテーブル9c
を水平方向に直進移動させる一軸直進移動機構を設けて
アーム移動支持機構9を構成するようにし、超音波洗浄
ノズル4または高圧洗浄ノズル8を基板洗浄領域上の所
定範囲で直線的に移動させるようにしてもよい。
持機構9を電動モータ9aを利用してターンテーブル9
cを回動させることにより、超音波洗浄ノズル4または
高圧洗浄ノズル8を基板洗浄領域上の所定範囲を揺動移
動させるようにしていたが、例えばターンテーブル9c
を水平方向に直進移動させる一軸直進移動機構を設けて
アーム移動支持機構9を構成するようにし、超音波洗浄
ノズル4または高圧洗浄ノズル8を基板洗浄領域上の所
定範囲で直線的に移動させるようにしてもよい。
【0062】<第2実施例>図8は本発明の第2実施例
に係る基板洗浄装置の概略構成を示す側面図であり、図
9は、その平面図である。なお、この第2実施例では、
第1実施例と共通する部分については、同一符号を付
し、その説明を省略する。
に係る基板洗浄装置の概略構成を示す側面図であり、図
9は、その平面図である。なお、この第2実施例では、
第1実施例と共通する部分については、同一符号を付
し、その説明を省略する。
【0063】図8に示すように、飛散防止カップ2の側
方には、後述する超音波洗浄ノズル4および低圧洗浄ノ
ズル12を基板洗浄領域上で揺動移動可能に指示するア
ーム移動支持機構9が配備されている。このアーム移動
支持機構9には、超音波洗浄ノズル4と低圧洗浄ノズル
12とを先端部に保持する保持アーム5(第1実施例の
第1の保持アーム5に相当する。)と、この保持アーム
5を起立姿勢または横臥姿勢に変位させるためのアーム
駆動機構80とが搭載されている。
方には、後述する超音波洗浄ノズル4および低圧洗浄ノ
ズル12を基板洗浄領域上で揺動移動可能に指示するア
ーム移動支持機構9が配備されている。このアーム移動
支持機構9には、超音波洗浄ノズル4と低圧洗浄ノズル
12とを先端部に保持する保持アーム5(第1実施例の
第1の保持アーム5に相当する。)と、この保持アーム
5を起立姿勢または横臥姿勢に変位させるためのアーム
駆動機構80とが搭載されている。
【0064】アーム駆動機構80は、保持アーム5の基
端部側の揺動軸5bの中心から外れた位置に設けられた
カムホロア5cと、このカムホロア5cを受けるカム溝
7bが形成された保持アーム案内部材7aと、保持アー
ム5の基端部側に設けられた揺動軸5bで保持アーム5
を揺動変位可能に支持するアーム支持部材80cと、こ
のアーム支持部材80cを昇降駆動にする、第1エアシ
リンダ80a、第2エアシリンダ80bなどから構成さ
れる。この第2エアシリンダ80bは第1エアシリンダ
80aの上部に固定支持されていて、第1エアシリンダ
80aを伸長した後、さらに第2エアシリンダ80bを
伸長することで、アーム支持部材80cを2段階に上昇
させる。なお、アーム駆動機構80は、本発明における
アーム駆動手段に相当する。第1、第2エアシリンダ8
0a、80bは、本発明における昇降駆動手段に相当す
る。
端部側の揺動軸5bの中心から外れた位置に設けられた
カムホロア5cと、このカムホロア5cを受けるカム溝
7bが形成された保持アーム案内部材7aと、保持アー
ム5の基端部側に設けられた揺動軸5bで保持アーム5
を揺動変位可能に支持するアーム支持部材80cと、こ
のアーム支持部材80cを昇降駆動にする、第1エアシ
リンダ80a、第2エアシリンダ80bなどから構成さ
れる。この第2エアシリンダ80bは第1エアシリンダ
80aの上部に固定支持されていて、第1エアシリンダ
80aを伸長した後、さらに第2エアシリンダ80bを
伸長することで、アーム支持部材80cを2段階に上昇
させる。なお、アーム駆動機構80は、本発明における
アーム駆動手段に相当する。第1、第2エアシリンダ8
0a、80bは、本発明における昇降駆動手段に相当す
る。
【0065】保持アーム5は、基板Wに超音波振動を付
加した洗浄液を供給する超音波洗浄ノズル4と低圧の洗
浄液を供給する低圧洗浄ノズル12とを一体的に揺動可
能に保持する。超音波洗浄ノズル4と低圧洗浄ノズル1
2とは、保持アーム5の姿勢の変化に伴って、保持アー
ム5と両洗浄ノズルとの相対角度を、保持アーム5の内
部に備えるノズル姿勢制御機構30によって変化させる
ことができる。
加した洗浄液を供給する超音波洗浄ノズル4と低圧の洗
浄液を供給する低圧洗浄ノズル12とを一体的に揺動可
能に保持する。超音波洗浄ノズル4と低圧洗浄ノズル1
2とは、保持アーム5の姿勢の変化に伴って、保持アー
ム5と両洗浄ノズルとの相対角度を、保持アーム5の内
部に備えるノズル姿勢制御機構30によって変化させる
ことができる。
【0066】超音波洗浄ノズル4は、保持アーム5に連
結された連結部材4aに固定されている。この連結部材
4aには低圧洗浄ノズル12も固定されている。連結部
材4aは、保持アーム5のノズル姿勢制御機構30に連
結接続されていて、保持アーム5の姿勢変位に連動して
連結部材4aが揺動する。この揺動に伴って、超音波洗
浄ノズル4と低圧洗浄ノズル12との姿勢が一体に変化
する。なお、保持アーム5が起立姿勢で待機している場
合に、超音波洗浄ノズル4は、ほぼ鉛直姿勢で待機ポッ
ト11にその先端が収納されている。また、低圧洗浄ノ
ズル12もほぼ鉛直姿勢になっている。図8において、
鉛直姿勢の低圧洗浄ノズル12は、図示しない待機ポッ
トに収納されているものである。
結された連結部材4aに固定されている。この連結部材
4aには低圧洗浄ノズル12も固定されている。連結部
材4aは、保持アーム5のノズル姿勢制御機構30に連
結接続されていて、保持アーム5の姿勢変位に連動して
連結部材4aが揺動する。この揺動に伴って、超音波洗
浄ノズル4と低圧洗浄ノズル12との姿勢が一体に変化
する。なお、保持アーム5が起立姿勢で待機している場
合に、超音波洗浄ノズル4は、ほぼ鉛直姿勢で待機ポッ
ト11にその先端が収納されている。また、低圧洗浄ノ
ズル12もほぼ鉛直姿勢になっている。図8において、
鉛直姿勢の低圧洗浄ノズル12は、図示しない待機ポッ
トに収納されているものである。
【0067】以下、第2実施例に係る基板洗浄装置の一
連の動作について説明する。図8、図10、図11
(a)を参照しながら、低圧洗浄ノズル12によって基
板洗浄を行う場合について説明する。
連の動作について説明する。図8、図10、図11
(a)を参照しながら、低圧洗浄ノズル12によって基
板洗浄を行う場合について説明する。
【0068】基板Wが搬入された飛散防止カップ2が上
昇すると、アーム移動支持機構9は所定の位置にまで揺
動回転するとともに、第1エアシリンダ80aが、第2
エアシリンダ80bとアーム支持部材80cとを押し上
げ始める。アーム支持部材80cの上昇に伴ってカムホ
ロア5cがカム溝7bを上昇変位することにより、保持
アーム5は、起立姿勢から横臥姿勢に向けて姿勢変位を
始める(図11(a)参照)。このとき、保持アーム5
に保持されている超音波洗浄ノズル4の先端は、待機ポ
ット11から引き上げられ、低圧洗浄ノズル12と超音
波洗浄ノズル4とは一体に姿勢を変位させながら、低圧
の洗浄液を供給するための位置である低圧洗浄位置に向
かって移動していく。
昇すると、アーム移動支持機構9は所定の位置にまで揺
動回転するとともに、第1エアシリンダ80aが、第2
エアシリンダ80bとアーム支持部材80cとを押し上
げ始める。アーム支持部材80cの上昇に伴ってカムホ
ロア5cがカム溝7bを上昇変位することにより、保持
アーム5は、起立姿勢から横臥姿勢に向けて姿勢変位を
始める(図11(a)参照)。このとき、保持アーム5
に保持されている超音波洗浄ノズル4の先端は、待機ポ
ット11から引き上げられ、低圧洗浄ノズル12と超音
波洗浄ノズル4とは一体に姿勢を変位させながら、低圧
の洗浄液を供給するための位置である低圧洗浄位置に向
かって移動していく。
【0069】第1エアシリンダ80aによる押し上げが
終了した時点で、保持アーム5に保持された低圧洗浄ノ
ズル12は、所定の姿勢で低圧洗浄位置に止まる。この
所定の姿勢とは、低圧洗浄ノズル12から供給される洗
浄液が、基板W上の基板洗浄位置に来るときの姿勢であ
る。また、このとき保持アーム5の姿勢は、その先端部
を持ち上げて傾斜した横臥姿勢となる(図11(a)参
照)。低圧の洗浄液を供給するための基板洗浄位置は、
本発明の第2の基板洗浄位置に相当する。
終了した時点で、保持アーム5に保持された低圧洗浄ノ
ズル12は、所定の姿勢で低圧洗浄位置に止まる。この
所定の姿勢とは、低圧洗浄ノズル12から供給される洗
浄液が、基板W上の基板洗浄位置に来るときの姿勢であ
る。また、このとき保持アーム5の姿勢は、その先端部
を持ち上げて傾斜した横臥姿勢となる(図11(a)参
照)。低圧の洗浄液を供給するための基板洗浄位置は、
本発明の第2の基板洗浄位置に相当する。
【0070】図10に示すように、基板洗浄位置にまで
移動した低圧洗浄ノズル12は、その先端部から低圧の
洗浄液S2を基板洗浄領域内で回転する基板Wに供給し
て、基板洗浄を行う。
移動した低圧洗浄ノズル12は、その先端部から低圧の
洗浄液S2を基板洗浄領域内で回転する基板Wに供給し
て、基板洗浄を行う。
【0071】次に、図8、図9、図11(b)を参照し
ながら、さらに、超音波洗浄ノズル4によって基板洗浄
を行う場合について説明する。
ながら、さらに、超音波洗浄ノズル4によって基板洗浄
を行う場合について説明する。
【0072】図11(b)に示すように、第2エアシリ
ンダ80bは、アーム支持部材80cをさらに押し上げ
始める。アーム支持部材80cの上昇に伴ってカムホロ
ア5cがカム溝7bをさらに上昇変位することにより、
保持アーム5は、先端部を持ち上げて傾斜した横臥姿勢
から、ほぼ水平な横臥姿勢に向けて姿勢変位を始める
(図11(b)参照)。このとき、低圧洗浄ノズル12
と超音波洗浄ノズル4とは一体に姿勢を変位させなが
ら、超音波振動を付加した洗浄液を供給するための位置
である超音波洗浄位置に向かって移動していく。
ンダ80bは、アーム支持部材80cをさらに押し上げ
始める。アーム支持部材80cの上昇に伴ってカムホロ
ア5cがカム溝7bをさらに上昇変位することにより、
保持アーム5は、先端部を持ち上げて傾斜した横臥姿勢
から、ほぼ水平な横臥姿勢に向けて姿勢変位を始める
(図11(b)参照)。このとき、低圧洗浄ノズル12
と超音波洗浄ノズル4とは一体に姿勢を変位させなが
ら、超音波振動を付加した洗浄液を供給するための位置
である超音波洗浄位置に向かって移動していく。
【0073】第2エアシリンダ80bによる押し上げが
終了した時点で、保持アーム5に保持された超音波洗浄
ノズル4は、所定の姿勢で基板洗浄位置に止まる。この
所定の姿勢とは、超音波洗浄ノズル4から供給される洗
浄液が、基板Wの中心に来る姿勢である。また、このと
き、保持アーム5の姿勢は、ほぼ水平な横臥姿勢となる
(図11(b)参照)。超音波振動を付加した洗浄液を
供給するための基板洗浄位置は、本発明の第1の基板洗
浄位置に相当する。
終了した時点で、保持アーム5に保持された超音波洗浄
ノズル4は、所定の姿勢で基板洗浄位置に止まる。この
所定の姿勢とは、超音波洗浄ノズル4から供給される洗
浄液が、基板Wの中心に来る姿勢である。また、このと
き、保持アーム5の姿勢は、ほぼ水平な横臥姿勢となる
(図11(b)参照)。超音波振動を付加した洗浄液を
供給するための基板洗浄位置は、本発明の第1の基板洗
浄位置に相当する。
【0074】図9に示すように、超音波洗浄位置にまで
移動した超音波洗浄ノズル4は、その先端部から超音波
振動を付加した洗浄液S1を基板洗浄領域内で回転する
基板Wに供給する。このとき、アーム移動支持機構9
は、超音波洗浄ノズル4を基板洗浄領域上で往復揺動移
動することで、基板Wの中心から周縁の間に洗浄液S1
を供給して基板洗浄を行う。なお、超音波洗浄ノズル4
からの洗浄液S1を、基板Wの中心から周縁までの間で
揺動移動するようにしたが、例えば、洗浄液S1を基板
Wの中心を通過する、基板Wの周縁の一端側から他端側
までの間を往復揺動移動するようにしてもよい。
移動した超音波洗浄ノズル4は、その先端部から超音波
振動を付加した洗浄液S1を基板洗浄領域内で回転する
基板Wに供給する。このとき、アーム移動支持機構9
は、超音波洗浄ノズル4を基板洗浄領域上で往復揺動移
動することで、基板Wの中心から周縁の間に洗浄液S1
を供給して基板洗浄を行う。なお、超音波洗浄ノズル4
からの洗浄液S1を、基板Wの中心から周縁までの間で
揺動移動するようにしたが、例えば、洗浄液S1を基板
Wの中心を通過する、基板Wの周縁の一端側から他端側
までの間を往復揺動移動するようにしてもよい。
【0075】以上の超音波洗浄ノズル4と低圧洗浄ノズ
ル12とによる基板洗浄が終了すると、第2エアシリン
ダ80b及び第1エアシリンダ80aが、アーム支持部
材80cを引き下げて、保持アーム5を横臥姿勢から起
立姿勢に変位させる。これにより、超音波洗浄ノズル4
は、鉛直姿勢に揺動変位して、この鉛直姿勢の状態で、
ノズル待機位置に配備された待機ポット11の上端部の
ノズル挿入口から挿入されて、基板洗浄装置で行われる
一連の動作が終了する。なお、この第2実施例では、超
音波洗浄ノズル4と低圧洗浄ノズル12との両方を用い
て基板洗浄を行う場合を説明したが、例えば、何れか一
方の洗浄ノズルを使用するようにしてもよい。
ル12とによる基板洗浄が終了すると、第2エアシリン
ダ80b及び第1エアシリンダ80aが、アーム支持部
材80cを引き下げて、保持アーム5を横臥姿勢から起
立姿勢に変位させる。これにより、超音波洗浄ノズル4
は、鉛直姿勢に揺動変位して、この鉛直姿勢の状態で、
ノズル待機位置に配備された待機ポット11の上端部の
ノズル挿入口から挿入されて、基板洗浄装置で行われる
一連の動作が終了する。なお、この第2実施例では、超
音波洗浄ノズル4と低圧洗浄ノズル12との両方を用い
て基板洗浄を行う場合を説明したが、例えば、何れか一
方の洗浄ノズルを使用するようにしてもよい。
【0076】上述した基板洗浄装置は、単一の保持アー
ムに種類の異なる洗浄ノズルを取り付けるとともに、単
一の保持アームを起立姿勢で待機させるように構成した
ので、保持アームを配置するためのスペースをより縮小
することができる。その結果、装置の設置面積を小さく
することができる。
ムに種類の異なる洗浄ノズルを取り付けるとともに、単
一の保持アームを起立姿勢で待機させるように構成した
ので、保持アームを配置するためのスペースをより縮小
することができる。その結果、装置の設置面積を小さく
することができる。
【0077】また、低圧洗浄ノズル12を保持アーム5
によって基板の中央付近にまで移動できるようにしたの
で、従来のように大型の基板を低圧の洗浄液で洗浄する
ために、低圧洗浄ノズルを基板の中央付近にまで移動さ
せるための駆動手段を設ける必要がない。つまり、基板
が大型化しても、基板洗浄装置内に低圧洗浄ノズルの駆
動手段を配備するためのスペースを必要としないので、
装置の設置面積をより小さくすることができる。
によって基板の中央付近にまで移動できるようにしたの
で、従来のように大型の基板を低圧の洗浄液で洗浄する
ために、低圧洗浄ノズルを基板の中央付近にまで移動さ
せるための駆動手段を設ける必要がない。つまり、基板
が大型化しても、基板洗浄装置内に低圧洗浄ノズルの駆
動手段を配備するためのスペースを必要としないので、
装置の設置面積をより小さくすることができる。
【0078】本発明は、以下のように変形実施すること
も可能である。 (1)上記第2実施例では、第1エアシリンダ80aと
第2エアシリンダ80bとによって、アーム支持部材8
0cを昇降するように構成したが、例えば、第1実施例
で示したように、電動モータと螺軸による螺子送り機構
によって、アーム支持部材80cを昇降するように構成
してもよい。
も可能である。 (1)上記第2実施例では、第1エアシリンダ80aと
第2エアシリンダ80bとによって、アーム支持部材8
0cを昇降するように構成したが、例えば、第1実施例
で示したように、電動モータと螺軸による螺子送り機構
によって、アーム支持部材80cを昇降するように構成
してもよい。
【0079】(2)上記第2実施例では、保持アーム5
に超音波洗浄ノズル4と低圧洗浄ノズル12とを取り付
けたが、例えば、高圧洗浄ノズルと超音波洗浄ノズル、
または、高圧洗浄ノズルと低圧洗浄ノズルとを保持アー
ム5に保持させてもよく、種々の洗浄ノズルを保持アー
ム5に取り付けることができる。
に超音波洗浄ノズル4と低圧洗浄ノズル12とを取り付
けたが、例えば、高圧洗浄ノズルと超音波洗浄ノズル、
または、高圧洗浄ノズルと低圧洗浄ノズルとを保持アー
ム5に保持させてもよく、種々の洗浄ノズルを保持アー
ム5に取り付けることができる。
【0080】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば次の効果を奏する。すなわち、請求項1に記載
の発明によれば、種類の異なる洗浄液を同様の方法によ
って基板に供給する第1の洗浄ノズルと第2の洗浄ノズ
ルとを、単一のアーム移動支持手段によって移動するの
で、従来のように各種の洗浄ノズルを移動するために各
洗浄ノズルごとに移動手段を設ける必要がない。つま
り、移動手段を配備するための領域を縮小することがで
きる。したがって、装置をコンパクトに構成することが
できるとともに、装置のコストの低減を図ることができ
る。
によれば次の効果を奏する。すなわち、請求項1に記載
の発明によれば、種類の異なる洗浄液を同様の方法によ
って基板に供給する第1の洗浄ノズルと第2の洗浄ノズ
ルとを、単一のアーム移動支持手段によって移動するの
で、従来のように各種の洗浄ノズルを移動するために各
洗浄ノズルごとに移動手段を設ける必要がない。つま
り、移動手段を配備するための領域を縮小することがで
きる。したがって、装置をコンパクトに構成することが
できるとともに、装置のコストの低減を図ることができ
る。
【0081】請求項2に記載の発明によれば、第1の洗
浄ノズルを先端部に保持する第1の保持アームの姿勢
を、基板洗浄を行わないときには、ほぼ起立姿勢で待機
させる一方、基板洗浄を行う場合には、ほぼ横臥姿勢と
するように構成したので、待機時の第1の保持アームの
待機スペース、特に平面視したときの待機スペースを縮
小することができる。また、請求項2の発明によれば、
基板の大型化に伴い第1の保持アームが長くなっても、
平面視した状態の待機スペースは拡大しないので、大型
の基板を扱う基板洗浄装置であっても、全体として装置
をコンパクトに構成することも可能である。
浄ノズルを先端部に保持する第1の保持アームの姿勢
を、基板洗浄を行わないときには、ほぼ起立姿勢で待機
させる一方、基板洗浄を行う場合には、ほぼ横臥姿勢と
するように構成したので、待機時の第1の保持アームの
待機スペース、特に平面視したときの待機スペースを縮
小することができる。また、請求項2の発明によれば、
基板の大型化に伴い第1の保持アームが長くなっても、
平面視した状態の待機スペースは拡大しないので、大型
の基板を扱う基板洗浄装置であっても、全体として装置
をコンパクトに構成することも可能である。
【0082】請求項3に記載の発明によれば、第1の保
持アームを基板処理領域の側方にほぼ起立姿勢で待機さ
せているので、平面視した状態の第1の保持アームの待
機スペースを縮小することができるとともに、第1の保
持アームの待機スペースの高さを低くすることができ
る。したがって、請求項3の発明によれば、基板洗浄装
置の高さも極力低くすることができる。
持アームを基板処理領域の側方にほぼ起立姿勢で待機さ
せているので、平面視した状態の第1の保持アームの待
機スペースを縮小することができるとともに、第1の保
持アームの待機スペースの高さを低くすることができ
る。したがって、請求項3の発明によれば、基板洗浄装
置の高さも極力低くすることができる。
【0083】請求項4に記載の発明によれば、アーム駆
動手段を、昇降駆動手段と保持アーム案内部材とカムホ
ロアとによって構成しているので、アーム駆動手段を簡
易な構成とすることができるとともに、基板洗浄装置の
製造コストを低くすることができる。
動手段を、昇降駆動手段と保持アーム案内部材とカムホ
ロアとによって構成しているので、アーム駆動手段を簡
易な構成とすることができるとともに、基板洗浄装置の
製造コストを低くすることができる。
【0084】請求項5に記載の発明によれば、アーム駆
動手段の保持アーム案内部材に第2の保持アームを取り
付けているので、アーム移動支持手段で支持するための
スペースを縮小することができる。したがって、請求項
5の発明によれば、装置をよりコンパクトに構成するこ
とができる。
動手段の保持アーム案内部材に第2の保持アームを取り
付けているので、アーム移動支持手段で支持するための
スペースを縮小することができる。したがって、請求項
5の発明によれば、装置をよりコンパクトに構成するこ
とができる。
【0085】請求項6に記載の発明によれば、第1の保
持アームに保持された第1の洗浄ノズルの姿勢を、第1
の保持アームの姿勢に連動して変化させているので、第
1の保持アームの姿勢に応じて、第1の洗浄ノズルの姿
勢を任意の姿勢とすることができる。
持アームに保持された第1の洗浄ノズルの姿勢を、第1
の保持アームの姿勢に連動して変化させているので、第
1の保持アームの姿勢に応じて、第1の洗浄ノズルの姿
勢を任意の姿勢とすることができる。
【0086】請求項7に記載の発明によれば、アーム移
動支持手段に第1の洗浄ノズルを収納する待機ポットを
取り付けたので、第2の保持アームを移動する際にも、
常に第1の洗浄ノズルが待機ポットに収納された状態と
なるので、第1の洗浄ノズルから常に最適な状態で洗浄
液を供給することができる。
動支持手段に第1の洗浄ノズルを収納する待機ポットを
取り付けたので、第2の保持アームを移動する際にも、
常に第1の洗浄ノズルが待機ポットに収納された状態と
なるので、第1の洗浄ノズルから常に最適な状態で洗浄
液を供給することができる。
【0087】請求項8に記載の発明によれば、超音波振
動を付加した洗浄液と、高圧の洗浄液との少なくともい
ずれか一方を基板に供給することができるので、基板の
洗浄条件ごとに最適な基板洗浄を行うことができる。
動を付加した洗浄液と、高圧の洗浄液との少なくともい
ずれか一方を基板に供給することができるので、基板の
洗浄条件ごとに最適な基板洗浄を行うことができる。
【0088】請求項9に記載の発明によれば、種類の異
なる洗浄液を基板に供給する、第1の洗浄ノズルと第2
の洗浄ノズルとを、単一の保持アームによって保持する
とともに、保持アームの姿勢を変位させることで、各洗
浄ノズルを洗浄ノズルごとの所定の基板洗浄位置にまで
移動しているので、単一の保持アームを駆動するための
単一のアーム駆動手段を設ければよい。したがって、ア
ーム駆動手段を配備する領域を縮小することができる。
その結果、装置をコンパクトに構成することができると
ともに、装置のコストを低減することができる。
なる洗浄液を基板に供給する、第1の洗浄ノズルと第2
の洗浄ノズルとを、単一の保持アームによって保持する
とともに、保持アームの姿勢を変位させることで、各洗
浄ノズルを洗浄ノズルごとの所定の基板洗浄位置にまで
移動しているので、単一の保持アームを駆動するための
単一のアーム駆動手段を設ければよい。したがって、ア
ーム駆動手段を配備する領域を縮小することができる。
その結果、装置をコンパクトに構成することができると
ともに、装置のコストを低減することができる。
【0089】請求項10に記載の発明によれば、保持ア
ームを基板処理領域の側方にほぼ起立姿勢で待機させて
いるので、平面視した状態の保持アームの待機スペース
を縮小することができるとともに、保持アームの待機ス
ペースの高さを低くすることができる。その結果、基板
洗浄装置の高さも極力低くすることができる。
ームを基板処理領域の側方にほぼ起立姿勢で待機させて
いるので、平面視した状態の保持アームの待機スペース
を縮小することができるとともに、保持アームの待機ス
ペースの高さを低くすることができる。その結果、基板
洗浄装置の高さも極力低くすることができる。
【0090】請求項11に記載の発明によれば、アーム
駆動手段を、昇降駆動手段と保持アーム案内部材とカム
ホロアとによって構成しているので、アーム駆動手段を
簡易な構成とすることができるとともに、基板洗浄装置
の製造コストを低くすることができる。
駆動手段を、昇降駆動手段と保持アーム案内部材とカム
ホロアとによって構成しているので、アーム駆動手段を
簡易な構成とすることができるとともに、基板洗浄装置
の製造コストを低くすることができる。
【0091】請求項12に記載の発明によれば、保持ア
ームに保持された第1の洗浄ノズルの姿勢と第2の洗浄
ノズルとを、保持アームの姿勢に連動して変化させてい
るので、保持アームの姿勢に応じて、第1の洗浄ノズル
と第2の洗浄ノズルとの姿勢を任意の姿勢とすることが
できる。
ームに保持された第1の洗浄ノズルの姿勢と第2の洗浄
ノズルとを、保持アームの姿勢に連動して変化させてい
るので、保持アームの姿勢に応じて、第1の洗浄ノズル
と第2の洗浄ノズルとの姿勢を任意の姿勢とすることが
できる。
【0092】請求項13に記載の発明によれば、超音波
振動を付加した洗浄液と、低圧の洗浄液との少なくとも
何れか一方を基板に供給することができるので、基板の
洗浄条件ごとに最適な基板洗浄を行うことができる。
振動を付加した洗浄液と、低圧の洗浄液との少なくとも
何れか一方を基板に供給することができるので、基板の
洗浄条件ごとに最適な基板洗浄を行うことができる。
【図1】本発明の第1実施例に係る基板洗浄装置の概略
構成を示す側面図である。
構成を示す側面図である。
【図2】第1実施例に係る装置の概略構成を示す平面図
である。
である。
【図3】第1実施例に係る装置のアーム駆動機構による
保持アームと洗浄ノズルとの動きを示す図である。
保持アームと洗浄ノズルとの動きを示す図である。
【図4】第1実施例に係る保持アームの内部構成を示す
図である。
図である。
【図5】第1実施例に係る保持アームの姿勢の変位の動
作を示す図である。
作を示す図である。
【図6】第1実施例に係る超音波洗浄ノズルの動作を示
す平面図である。
す平面図である。
【図7】第1実施例に係る高圧洗浄ノズルの動作を示す
平面図である。
平面図である。
【図8】本発明の第2実施例に係る基板洗浄装置の概略
構成を示す側面図である。
構成を示す側面図である。
【図9】第2実施例に係る超音波洗浄ノズルの動作を示
す平面図である。
す平面図である。
【図10】第2実施例に係る低圧洗浄ノズルの動作を示
す平面図である。
す平面図である。
【図11】第2実施例に係る保持アームの姿勢の変位の
動作を示す図である。
動作を示す図である。
【図12】従来の基板洗浄装置の概略構成を示す平面図
である。
である。
1 … スピンチャック 2 … 飛散防止カップ 4 … 超音波洗浄ノズル 5 … 保持アーム 5b… 揺動軸 5c… カムホロア 7 … アーム駆動機構 7a… 保持アーム案内部材 7b… カム溝 7c… アーム支持部材 7d… 電動モータ 7e… 螺軸 8 … 高圧洗浄ノズル 9 … アーム移動支持機構 9c… ターンテーブル 10 … 保持アーム 11 … 待機ポット 12 … 低圧洗浄ノズル 30 … ノズル姿勢制御機構 80 … ノズル駆動機構 80a… 第1エアシリンダ 80b… 第2エアシリンダ 80c… アーム支持部材 W … 基板
Claims (13)
- 【請求項1】 基板洗浄領域内に水平姿勢で保持された
基板を鉛直軸芯周りに回転させながら洗浄液を供給し
て、基板洗浄を行う基板洗浄装置において、 基板に第1の洗浄液を供給する第1の洗浄ノズルと、 前記第1の洗浄ノズルを先端部に保持する第1の保持ア
ームと、 前記第1の洗浄ノズルが基板に洗浄液を供給するときの
基板洗浄位置と、基板に対して洗浄液を供給しないとき
に、前記第1の洗浄ノズルが待機するノズル待機位置と
の間を移動するように、前記第1の保持アームを駆動す
るアーム駆動手段と、 基板に第2の洗浄液を供給する第2の洗浄ノズルと、 前記第2の洗浄ノズルを先端部に保持する第2の保持ア
ームと、 前記アーム駆動手段と第2の保持アームとを支持すると
ともに、前記アーム駆動手段と第2の保持アームとを一
体的に移動駆動することで、前記第1の洗浄ノズルおよ
び第2の洗浄ノズルから基板にそれぞれ供給される洗浄
液が少なくとも基板中心と基板周縁との間を移動するよ
うに、前記第1の保持アームと第2の保持アームとを移
動するアーム移動支持手段とを備えたことを特徴とする
基板洗浄装置。 - 【請求項2】 請求項1に記載の基板洗浄装置におい
て、 前記アーム駆動手段は、第1の洗浄ノズルによる基板洗
浄を行わないときに、第1の洗浄ノズルを前記基板洗浄
領域から外れた位置に設けられたノズル待機位置に来る
ように、前記第1の保持アームを基板洗浄領域から外れ
た位置にほぼ起立姿勢で待機させる一方、第1の洗浄ノ
ズルによる基板洗浄を行うときには、第1の洗浄ノズル
が基板洗浄領域内の基板洗浄位置に来るように、前記保
持アームをほぼ横臥姿勢に変位させる基板洗浄装置。 - 【請求項3】 請求項1に記載の基板洗浄装置におい
て、 前記アーム駆動手段は、第1の洗浄ノズルによる基板洗
浄を行わないときに、第1の洗浄ノズルを基板洗浄領域
から外れた位置に設けられたノズル待機位置に来るよう
に、前記第1の保持アームを基板洗浄領域の側方にほぼ
起立姿勢で待機させる一方、第1の洗浄ノズルによる基
板洗浄を行うときには、基板洗浄領域の側方に待機して
いる前記第1の保持アームを上昇変位させるとともに、
揺動変位させることによって、第1の洗浄ノズルが基板
洗浄位置に来るように、前記第1の保持アームをほぼ横
臥姿勢に変位させる基板洗浄装置。 - 【請求項4】 請求項3に記載の基板洗浄装置におい
て、 前記アーム駆動手段は、前記第1の保持アームの揺動変
位を許容するように第1の保持アームの基端部に係合し
て、前記第1の保持アームを昇降させる昇降駆動手段
と、 基板処理領域の側方に待機する前記第1の保持アームに
並設され、第1の保持アームをほぼ起立姿勢からほぼ横
臥姿勢へと案内するために、ほぼ上下方向に延びるカム
溝が形成された保持アーム案内部材と、 前記第1の保持アームの基端部側で第1の保持アームの
揺動変位の中心から外れた位置に取付けられ、前記カム
溝に沿って変位するカムホロアとから構成されている基
板洗浄装置。 - 【請求項5】 請求項4に記載の基板洗浄装置におい
て、 前記第2の保持アームは、前記保持アーム案内部材を介
して、前記アーム移動支持手段に取り付けられている基
板洗浄装置。 - 【請求項6】 請求項1ないし請求項5のいずれかに記
載の基板洗浄装置において、 前記第1の保持アームに対する第1の洗浄ノズルの取付
け角度を、前記第1の保持アームの姿勢変化に連動して
変化させるノズル姿勢制御手段を備えた基板洗浄装置。 - 【請求項7】 請求項1ないし請求項6のいずれかに記
載の基板洗浄装置において、さらに前記装置は、 前記洗浄処理を行わないときに、ノズル待機位置におけ
る第1の洗浄ノズルの少なくとも先端部が収納される、
前記アーム移動支持手段に取り付けられた待機ポットを
備えた基板洗浄装置。 - 【請求項8】 請求項1ないし請求項7のいずれかに記
載の基板洗浄装置において、 前記第1の洗浄ノズルは、第1の洗浄液である超音波振
動を付加した洗浄液を基板に供給する超音波洗浄ノズル
であり、 前記第2の洗浄ノズルは、第2の洗浄液である高圧の洗
浄液を基板に供給する高圧洗浄ノズルである基板洗浄装
置。 - 【請求項9】 基板洗浄領域内に水平姿勢で保持された
基板を鉛直軸芯周りに回転させながら洗浄液を供給し
て、基板の洗浄を行う基板洗浄装置において、 基板に第1の洗浄液を供給する第1の洗浄ノズルと、 基板に第2の洗浄液を供給する第2の洗浄ノズルと、 前記第1の洗浄ノズルおよび第2の洗浄ノズルを保持す
る保持アームと、 前記第1の洗浄ノズルおよび第2の洗浄ノズルが共に基
板洗浄を行わないときに、基板洗浄領域から外れた位置
に設けられた、前記第1の洗浄ノズルおよび第2の洗浄
ノズルが待機するためのノズル待機位置と、基板洗浄を
行うときに、第1の洗浄ノズルが基板洗浄を行うための
第1の基板洗浄位置と、第2の洗浄ノズルが基板洗浄を
行うための第2の基板洗浄位置とにそれぞれ、第1の洗
浄ノズルおよび第2の洗浄ノズルが移動するように前記
保持アームの姿勢を変位させるアーム駆動手段とを備え
たことを特徴とする基板洗浄装置。 - 【請求項10】 請求項9に記載の基板洗浄装置におい
て、 前記アーム駆動手段は、第1の洗浄ノズルおよび第2の
洗浄ノズルが共に基板洗浄を行わないときに、第1の洗
浄ノズルおよび第2の洗浄ノズルが基板洗浄領域から外
れた位置に設けられたノズル待機位置に来るように、前
記保持アームを基板洗浄領域の側方にほぼ起立姿勢で待
機させる一方、第1の洗浄液によって基板洗浄を行うと
きには、第1の洗浄ノズルが第1の洗浄液を基板に供給
する位置である第1の基板洗浄位置に、第2の洗浄液に
よって基板洗浄を行うときには、第2の洗浄ノズルが第
2の洗浄液を基板に供給する位置である第2の基板洗浄
位置に、第1の洗浄ノズルおよび第2の洗浄ノズルがそ
れぞれ移動するように、前記保持アームを上昇変位させ
るとともに、揺動変位させることによって、前記保持ア
ームをほぼ横臥姿勢にまで変位させる基板洗浄装置。 - 【請求項11】 請求項10に記載の基板洗浄装置にお
いて、 前記アーム駆動手段は、 前記保持アームの揺動変位を許容するように保持アーム
の基端部に係合して、前記保持アームを昇降させる昇降
駆動手段と、 基板処理領域の側方に待機する保持アームに並設され、
前記保持アームをほぼ起立姿勢からほぼ横臥姿勢へと案
内するために、ほぼ上下方向に延びるカム溝が形成され
た保持アーム案内部材と、 前記保持アームの基端部側で保持アームの揺動変位の中
心から外れた位置に取付けられ、前記カム溝に沿って変
位するカムホロアとから構成されている基板洗浄装置。 - 【請求項12】 請求項9ないし請求項11のいずれか
に記載の基板洗浄装置において、 前記保持アームに対する第1の洗浄ノズルおよび第2の
洗浄ノズルの取付け角度を、前記保持アームの姿勢変化
に連動して変化させるノズル姿勢制御手段を備えた基板
洗浄装置。 - 【請求項13】 請求項9ないし請求項12のいずれか
に記載の基板洗浄装置において、 前記第1の洗浄ノズルは、第1の洗浄液である超音波振
動を付加した洗浄液を基板に供給する超音波洗浄ノズル
であり、 前記第2の洗浄ノズルは、第2の洗浄液である低圧の洗
浄液を基板に供給する低圧洗浄ノズルである基板洗浄装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP822998A JPH11204480A (ja) | 1998-01-20 | 1998-01-20 | 基板洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP822998A JPH11204480A (ja) | 1998-01-20 | 1998-01-20 | 基板洗浄装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11204480A true JPH11204480A (ja) | 1999-07-30 |
Family
ID=11687340
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP822998A Pending JPH11204480A (ja) | 1998-01-20 | 1998-01-20 | 基板洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11204480A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100649326B1 (ko) | 2005-12-28 | 2006-11-27 | 안용욱 | 공압을 이용한 상·하 이동식 자동세척장치 |
CN102580941A (zh) * | 2012-02-27 | 2012-07-18 | 上海集成电路研发中心有限公司 | 提高晶圆清洁度的清洗方法及清洗甩干设备 |
KR20220020389A (ko) | 2019-07-24 | 2022-02-18 | 아사히 슈낙 가부시키 가이샤 | 노즐 및 액체 분사 장치 |
CN116078733A (zh) * | 2023-02-10 | 2023-05-09 | 中环领先半导体材料有限公司 | 一种新型的防止硅片烧结的喷淋装置 |
-
1998
- 1998-01-20 JP JP822998A patent/JPH11204480A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100649326B1 (ko) | 2005-12-28 | 2006-11-27 | 안용욱 | 공압을 이용한 상·하 이동식 자동세척장치 |
CN102580941A (zh) * | 2012-02-27 | 2012-07-18 | 上海集成电路研发中心有限公司 | 提高晶圆清洁度的清洗方法及清洗甩干设备 |
KR20220020389A (ko) | 2019-07-24 | 2022-02-18 | 아사히 슈낙 가부시키 가이샤 | 노즐 및 액체 분사 장치 |
CN116078733A (zh) * | 2023-02-10 | 2023-05-09 | 中环领先半导体材料有限公司 | 一种新型的防止硅片烧结的喷淋装置 |
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