JPH1195407A - フォトマスク - Google Patents
フォトマスクInfo
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- JPH1195407A JPH1195407A JP25349297A JP25349297A JPH1195407A JP H1195407 A JPH1195407 A JP H1195407A JP 25349297 A JP25349297 A JP 25349297A JP 25349297 A JP25349297 A JP 25349297A JP H1195407 A JPH1195407 A JP H1195407A
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- Japan
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- alignment
- magnification
- point
- marks
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- Granted
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
を備えたフォトマスクにおいて、位置合わせ作業にかか
る時間を低減し、位置合わせ装置の画像認識プログラム
を共通にする。 【解決手段】低倍率のアライメントパターン３は、４個
の同一形状のマーク３１が点Ｃを中心にして十字状に配
置された形状とする。マーク３１は長方形で、十字のラ
インＬ1 ，Ｌ2 がその長辺と平行で、且つ短辺の１／２
の位置を通るように配置してある。ラインＬ1 ，Ｌ2 か
ら点Ｃ側の各短辺までの距離Ｋ3 は同一である。高倍率
のアライメントパターン４は、マーク３１の内側（各マ
ーク３１の点Ｃ側の短辺と点Ｃとの間）に配置する。こ
のパターン４はパターン３の縮小相似形である。このよ
うな図２のアライメントパターンをフォトマスクの一カ
所に配置する。
Description
程等で使用されるフォトマスクであって、拡大倍率の異
なる複数のアライメントパターンを備えたフォトマスク
に関する。
合わせのためのアライメントパターンが形成されてお
り、通常、比較的低い倍率で拡大して全体を大まかに合
わせるための低倍率パターンと、高い倍率で拡大して精
度良く合わせるための高倍率パターンが形成されてい
る。
ンは、図５に示すように、形状の異なる低倍率パターン
２１と高倍率パターン２２がフォトマスク１０の離れた
位置に形成されている。そして、例えば低倍率パターン
２１は十字状に形成され、高倍率パターン２２は平行な
複数本の線分状に形成されている。
来のアライメントパターンが形成されたフォトマスクで
は、低倍率パターンと高倍率パターンが離れた位置に形
成されているため、低倍率パターンによる位置合わせを
行った後に、位置合わせ装置を高倍率パターンが形成さ
れている位置まで移動させる必要がある。また、低倍率
パターンと高倍率パターンの形状が異なるため、位置合
わせ装置に、低倍率パターン用と高倍率パターン用とで
異なる画像認識プログラムが必要である。
目してなされたものであり、拡大倍率の異なる複数のア
ライメントパターンを備えたフォトマスクにおいて、位
置合わせ作業にかかる時間が低減できるとともに、位置
合わせ装置の画像認識プログラムを共通にできるものを
提供する。
に、本発明のフォトマスクは、拡大倍率の異なる複数の
アライメントパターンを備えたフォトマスクにおいて、
全てのアライメントパターンは相似形であって中心点の
回りに複数個のマークが配置された形状であり、高倍率
側のアライメントパターンが低倍率側のアライメントパ
ターンより内側となり、且つ全てのアライメントパター
ンの中心点が同一となるように配置されていることを特
徴とする。
説明する。図１は本発明の一実施形態に相当するフォト
マスクであって、アライメントパターンの位置を示す平
面図である。図１に示すように、このフォトマスク１
は、角部の一カ所にのみアライメントパターン２が形成
されている。このアライメントパターン２としては、例
えば図２〜４に示すものが挙げられる。
アライメントパターン３と高倍率のアライメントパター
ン４で構成されている。低倍率のアライメントパターン
３は、４個の同一形状のマーク３１が点Ｃを中心にして
十字状に配置された形状である。このマーク３１は長方
形であり、十字のラインＬ1 ，Ｌ2 がその長辺と平行に
且つ短辺の１／２の位置を通るように、また、ラインＬ
1 ，Ｌ2 から点Ｃ側の各短辺までの距離Ｋ3 が全て同一
になるように配置されている。
率のアライメントパターン３を構成するマーク３１の内
側（各マーク３１の点Ｃ側の短辺と点Ｃとの間）に配置
してあり、低倍率のアライメントパターン３を所定の倍
率で縮小したときにぴったり重なる相似形となってい
る。
４は、４個の長方形マーク４１が点Ｃを中心にして十字
状に配置された形状であり、十字のラインＬ1 ，Ｌ2 が
その長辺と平行に且つ短辺の１／２の位置を通るよう
に、また、ラインＬ1 ，Ｌ2 から点Ｃ側の短辺までの距
離Ｋ4 が全て同一になるように配置されている。また、
距離Ｋ4 の距離Ｋ3 に対する比、およびマーク４１の寸
法のマーク３１の寸法に対する比は同じになっている。
アライメントパターン３と高倍率のアライメントパター
ン４と、拡大倍率が両者の間の値である中倍率のアライ
メントパターン５とで構成されている。
の同一形状のマーク３２が点Ｃを中心にして十字状に配
置された形状である。各マーク３２は、同一長さで同一
太さの４本の線分状マークを、十字のラインＬ1 ，Ｌ2
と平行に且つラインＬ1 ，Ｌ 2 の両側に２本ずつ、線分
状マークの長さ方向各端を合わせて等間隔に配置したも
のであり、ラインＬ1 ，Ｌ2 から点Ｃ側の端部までの距
離ＫA が全て同一になるように配置されている。
率のアライメントパターン３を構成するマーク３２の内
側（各マーク３２の点Ｃ側の端部と点Ｃとの間）に配置
してあり、低倍率のアライメントパターン３を所定の倍
率で縮小したときにぴったり重なる相似形となってい
る。
５は、４個の同一形状のマーク５２が点Ｃを中心にして
十字状に配置された形状である。各マーク５２は、同一
長さで同一太さの４本の線分状マークを、十字のライン
Ｌ1 ，Ｌ2 と平行に且つラインＬ1 ，Ｌ2 の両側に２本
ずつ、線分状マークの長さ方向各端を合わせて等間隔に
配置したものであり、ラインＬ1 ，Ｌ2 から点Ｃ側の端
部までの距離ＫB が全て同一になるように配置されてい
る。また、距離ＫB の距離ＫA に対する比、およびマー
ク５２の寸法のマーク３２の寸法に対する比は同じにな
っている。
率のアライメントパターン５を構成するマーク５２の内
側（各マーク５２の点Ｃ側の端部と点Ｃとの間）に配置
してあり、中倍率のアライメントパターン５を所定の倍
率で縮小したときにぴったり重なる相似形となってい
る。
４は、４個の同一形状のマーク４２が点Ｃを中心にして
十字状に配置された形状である。各マーク４２は、同一
長さで同一太さの４本の線分状マークを、十字のライン
Ｌ1 ，Ｌ2 と平行に且つラインＬ1 ，Ｌ2 の両側に２本
ずつ、線分状マークの長さ方向各端を合わせて等間隔に
配置したものであり、ラインＬ1 ，Ｌ2 から点Ｃ側の端
部までの距離ＫC が全て同一になるように配置されてい
る。また、距離ＫC の距離ＫB に対する比、およびマー
ク４２の寸法のマーク５２の寸法に対する比は同じにな
っている。
なる４つのアライメントパターン６〜９で構成されてお
り、すべて相似形であって、より低倍率のアライメント
パターンの内側に、より高倍率のアライメントパターン
が配置されている。
点Ｃを中心にした各正方形の四隅にそれぞれマーク６１
〜９１が配置された形状である。各マーク６１〜９１
は、同一長さで同一太さの４本の平行な線分状マーク
を、この線分状マークの長さ方向各端を合わせて等間隔
に、正方形の各辺のいずれかと平行になるように配置さ
れたものであり、各アライメントパターン６〜９内で、
点Ｃに対して点対称となるように配置されている。な
お、ラインＬ1 ，Ｌ2 は各正方形の各辺の垂直二等分線
であり、点ＣはラインＬ1 とラインＬ2 の交点である。
えば図２〜４に示すようなアライメントパターン２がフ
ォトマスク１の一カ所に配置されているため、低倍率側
のアライメントパターンによる位置合わせから高倍率側
のアライメントパターンによる位置合わせに移行する際
に、位置合わせ装置を移動させる必要がない。そのた
め、位置合わせ作業にかかる時間が低減できる。また、
全てのアライメントパターンの形状が相似形であるた
め、全てのアライメントパターンで共通の画像認識プロ
グラムを使用することができる。
大倍率が３段階のアライメントパターン３〜５を有し、
各アライメントパターン３〜５を構成するマーク３２〜
５２がさらに複数本の平行線で構成されているため、図
２のアライメントパターンと比較して高精度の位置合わ
せが可能になる。また、図４のアライメントパターン
は、拡大倍率が４段階のアライメントパターン６〜９を
有し、各アライメントパターン６〜９に正方形の四隅に
点対称となるマーク６１〜９１が形成されているため、
図２および３のアライメントパターンと比較して、特に
高精度の位置合わせが可能になる。
スクによれば、低倍率側のアライメントパターンによる
位置合わせから高倍率側のアライメントパターンによる
位置合わせに移行する際に、位置合わせ装置を移動させ
る必要がないため、位置合わせ作業にかかる時間が低減
できる。また、全てのアライメントパターンの形状が相
似形であるため、全てのアライメントパターンで共通の
画像認識プログラムを使用することができる。
おいて、アライメントパターンの位置を示す平面図であ
る。
図である。
図である。
図である。
ントパターンの位置を示す平面図である。
Claims (1)
- 【請求項１】 拡大倍率の異なる複数のアライメントパ
ターンを備えたフォトマスクにおいて、 全てのアライメントパターンは相似形であって中心点の
回りに複数個のマークが配置された形状であり、高倍率
側のアライメントパターンが低倍率側のアライメントパ
ターンより内側となり、且つ全てのアライメントパター
ンの中心点が同一となるように配置されていることを特
徴とするフォトマスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25349297A JP3580992B2 (ja) | 1997-09-18 | 1997-09-18 | フォトマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25349297A JP3580992B2 (ja) | 1997-09-18 | 1997-09-18 | フォトマスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1195407A true JPH1195407A (ja) | 1999-04-09 |
| JP3580992B2 JP3580992B2 (ja) | 2004-10-27 |
Family
ID=17252138
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25349297A Expired - Fee Related JP3580992B2 (ja) | 1997-09-18 | 1997-09-18 | フォトマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3580992B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100424228B1 (ko) * | 2000-06-08 | 2004-03-24 | 가부시끼가이샤 도시바 | 얼라이먼트 방법, 정합 검사 방법, 및 포토마스크 |
| US7876439B2 (en) * | 2005-09-13 | 2011-01-25 | International Business Machines Corporation | Multi layer alignment and overlay target and measurement method |
| JP2016523379A (ja) * | 2013-06-18 | 2016-08-08 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | フォトリソグラフィマスクの基板上のアラインメントマークの基準点の自動決定のための方法及びデバイス |
| US9927718B2 (en) | 2010-08-03 | 2018-03-27 | Kla-Tencor Corporation | Multi-layer overlay metrology target and complimentary overlay metrology measurement systems |
| US10890436B2 (en) | 2011-07-19 | 2021-01-12 | Kla Corporation | Overlay targets with orthogonal underlayer dummyfill |
-
1997
- 1997-09-18 JP JP25349297A patent/JP3580992B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US8107079B2 (en) | 2005-09-13 | 2012-01-31 | International Business Machines Corporation | Multi layer alignment and overlay target and measurement method |
| US8339605B2 (en) | 2005-09-13 | 2012-12-25 | International Business Machines Corporation | Multilayer alignment and overlay target and measurement method |
| US9927718B2 (en) | 2010-08-03 | 2018-03-27 | Kla-Tencor Corporation | Multi-layer overlay metrology target and complimentary overlay metrology measurement systems |
| US10527954B2 (en) | 2010-08-03 | 2020-01-07 | Kla-Tencor Corporation | Multi-layer overlay metrology target and complimentary overlay metrology measurement systems |
| US10890436B2 (en) | 2011-07-19 | 2021-01-12 | Kla Corporation | Overlay targets with orthogonal underlayer dummyfill |
| JP2016523379A (ja) * | 2013-06-18 | 2016-08-08 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | フォトリソグラフィマスクの基板上のアラインメントマークの基準点の自動決定のための方法及びデバイス |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3580992B2 (ja) | 2004-10-27 |
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