JPH1192165A - 光ファイバ線引炉、およびそれを用いた光ファイバ線引方法 - Google Patents

光ファイバ線引炉、およびそれを用いた光ファイバ線引方法

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JPH1192165A
JPH1192165A JP10208937A JP20893798A JPH1192165A JP H1192165 A JPH1192165 A JP H1192165A JP 10208937 A JP10208937 A JP 10208937A JP 20893798 A JP20893798 A JP 20893798A JP H1192165 A JPH1192165 A JP H1192165A
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drawn
pressure
suction chamber
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哲哉 熊田
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吉之 坂田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 不活性ガスを多量に導入しなくても、外気が
炉内に侵入しにくくすることで、生産性よく光ファイバ
を線引すること。 【解決手段】 線引材16が引き出される炉の出口側に
吸引室22を設け、吸引室22に接続される吸引ポンプ
23により吸引する。吸引室22内の圧力をその上の炉
内空間18内の圧力より小さくすることで、外気の侵入
を極力防ぐ。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は光ファイバ用の母材
を加熱溶融して線引する光ファイバの線引炉と、それを
用いた光ファイバ線引方法に関する。
【0002】
【従来の技術】光ファイバの製造方法として、所定の雰
囲気下で加熱線引して所定の線径に加工する方法が一般
的に採用されている。図8は光ファイバの従来の線引炉
とそれを用いた線引方法を示す説明図である。光ファイ
バ用母材105を炉内空間108内で加熱溶融して線引
することで所定の線径の光ファイバを得る。図中、線引
された光ファイバ106は図の下方に引き出される。
【0003】光ファイバ線引炉101は概ね、炉心管1
02、ヒーター103等を構成要素とし、ヒーター10
3は概ね炉心管102を囲うように配置され、内部に配
置される光ファイバ用母材105は炉心管102を介し
てヒーター103により加熱され、そして線引される。
通常、これら光ファイバ用母材105、炉心管102、
ヒーター103は同心円状に配置される。図中の記号1
04は炉体である。
【0004】炉心管102はカーボン製のものが使用さ
れることが多い。材質や線引する線径等にもよるが、通
常、光ファイバ用母材105は、概ね2000℃程度に
加熱・溶融されて線引されるので、通常の大気成分中で
線引を行うと、カーボン製の炉心管102が酸化消耗し
てダストが生じてしまう。このダストは製造される光フ
ァイバの強度低下等の原因となる等の問題を引き起こ
す。また炉心管102の酸化消耗はその寿命の短縮を招
き、従って製造コストの上昇の原因にもなる。
【0005】そこで図に示されるように、ガス導入部1
07を炉内空間108の下部に設け、そこからAr、N
2 、He等の不活性ガスを炉内空間108内に流し、光
ファイバ用母材105や光ファイバ106の劣化や、炉
心管102の劣化を防ぐことが行われている。その際、
炉内空間108の圧力を常に外気空間より高くしておく
ことが望ましい。こうすることで、シャッター109等
からの外気の侵入が抑制されるからである。ガス導入部
107から炉内空間108に導入されたガスは図の上方
(光ファイバ用母材105の側)から放出される。
【0006】炉内空間108の下部に備わるシャッター
109は、炉内空間108内への外気の混入をなるべく
少なくする意味で設けたものである。尚、このシャッタ
ーという用語は、慣用的な意味で使用したもので、必ず
しも閉めるという意味で用いている訳ではない。
【0007】その他、このシャッター109に相当する
部分に特定の形状の下部ノズルを設けることで、外気の
侵入を防ぐ方法や(特開平2−92838号等参照)、
炉内空間の上の開口部のガスシールを2重にする方法
(実開昭59−153332号等参照)等が提案されて
いる。
【0008】また、炉内空間108内にガスを上部から
(図8において光ファイバ用母材105の側から)導入
し、下部に排出する構造の線引炉において、下部に設け
たノズルの途中に吸引室を設けて、排気されるガス量を
調節することで、外気の侵入を防ぐ方法も提案されてい
る(特公平7−84333号)。
【0009】また、さらに別の方法として、線引炉の上
部または下部の少なくともいずれか一方に、炉内空間1
08内への外気侵入を阻止する気流を発生させる方法も
提案されている(特開昭57−140330)。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】近年は、光ファイバの
需要の急激な増大等により、その生産性の一層の向上が
要求されてきている。そのため、線引すべき光ファイバ
用母材の大径化や、線引速度の向上が図られている。し
かし大径の光ファイバ用母材を高速で線引すると、母材
径の変動による炉内空間の圧力の変動が大きくなり、そ
の結果、線速変動や線径変動が発生したり、炉内空間の
圧力が外気空間に対し負圧になってしまうことがある。
こうなると、炉内空間に外気が侵入し、製造される光フ
ァイバの強度低下等の問題や、光ファイバ線引炉を構成
する炉心管の寿命低下等の問題が生じていた。
【0011】この対策として、炉内空間に流す不活性ガ
スの量を増やす策も有効ではあるが、炉内空間に流すガ
ス量が増加すれば、光ファイバ用母材の温度の低下を招
いてしまう。このため適切な線引温度を維持するために
はヒーターの加熱温度を高める必要が生ずる。ヒーター
はカーボン製のものが使用されることが多いが、ヒータ
ーの加熱温度を高めるとヒーターの劣化が促進され、そ
れによって生じたダストが製造される光ファイバを劣化
させてしまうことがある。また、ヒーターの劣化が促進
されれば、生産コストの上昇にもつながる等の問題もあ
る。
【0012】また、特公平7−84333号には、炉内
ガスを上部から下部に流す線引炉のガス排出部にあたる
下部ノズルにおいて、ガス中のダストが光ファイバに接
触して強度低下を起こすことを防止することを目的とし
ているため、炉内から吸引するガス量を増やすと、光フ
ァイバとダストとの接触回数を増やすことになるため、
吸引ガス量を増やすことができず、外気の侵入を完全に
防ぐことは難しい。さらに、母材径の変動による炉内の
圧力変動が発生した場合の圧力制御については示唆され
ていないため、この点でも外気の侵入を完全に防ぐこと
は難しい。
【0013】また、特開昭57−140330号には、
母材径の変動あるいは線引速度の変動による炉内の圧力
変動に対してシールガスの適正値を決定するような制御
については示唆されていないため、炉内への外気侵入を
常に阻止する気流を発生させることは難しい。
【0014】上述したような事情から、炉内空間への外
気の侵入を効率的に抑制する光ファイバの線引方法と、
その線引炉が望まれていた。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明の第1の解決手段
は、光ファイバ用母材を加熱・溶融して線引された光フ
ァイバが下方に引き出される光ファイバ線引炉におい
て、前記線引炉の出口側に光ファイバが通過する圧力調
整部が設けられ、前記圧力調整部内の圧力と当該圧力調
整部上方の炉内空間の圧力とを適正に保つ機能を備える
ことを特徴とする。
【0016】本発明の第2の解決手段は、光ファイバ用
母材を加熱・溶融して線引された光ファイバが下方に引
き出される光ファイバ線引炉において、前記線引炉の出
口側に吸引室が設けられ、前記吸引室は引き出される光
ファイバが通過する上開口孔と下開口孔とを有し、前記
上開口孔の径D1、長さL1は、前記下開口孔の径D
2、長さL2に対しL1/D1<L2/D2の関係にあ
り、前記吸引室には吸引ポンプが接続されていることを
特徴とする。
【0017】本発明の第3の解決手段は、光ファイバ用
母材を加熱・溶融して線引された光ファイバが下方に引
き出される光ファイバ線引炉の出口側に吸引室が設けら
れ、前記吸引室は引き出される光ファイバが通過する上
開口孔と下開口孔とを有し、前記上開口孔の径D1、長
さL1は、前記下開口孔の径D2、長さL2に対しL1
/D1<L2/D2の関係にあり、前記吸引室に吸引ポ
ンプが接続されている光ファイバ線引炉を用いて、前記
吸引室上方の炉内の圧力をP1、前記吸引室内の圧力を
P2としたとき、P1>P2になるように制御しながら
行うことを特徴とする。
【0018】本発明の第4の解決手段は、本発明の第3
の解決手段において、P1−P2の値をほぼ一定に保ち
ながら光ファイバを線引きすることを特徴とする。
【0019】本発明の第5の解決手段は、光ファイバ用
ガラス母材を加熱・溶融して線引された光ファイバが下
方に引き出される炉の出口側近傍に、下方にガスを噴出
するガス吹き出し部を備えた下部ブロックを設けた光フ
ァイバ線引炉を用いて、前記下部ブロック上方の炉内の
圧力をP3、前記下部ブロック内で前記ガス吹き出し部
より上方の空間の圧力をP4としたとき、P3>P4に
なるように吹き出しガス量を制御しながら光ファイバを
線引することを特徴とする。
【0020】本発明の第6の解決手段は、本発明の第5
の解決手段において、P3−P4の値をほぼ一定に保ち
ながら光ファイバを線引きすることを特徴とする。
【0021】
【発明の実施の形態】図1は本発明の光ファイバ線引炉
の形態の一例を説明する説明図である。本発明の光ファ
イバ線引炉は、図示するように、光ファイバ用母材15
が図の下方に線引されるもので、その光ファイバ16が
引き出される炉の出口側に吸引室22を設けている。炉
内空間18にAr等の不活性ガスを導入するガス導入部
17は、吸引室22より上方に設けてある。
【0022】この吸引室22は圧力調整部に相当し、光
ファイバ16が通過する圧力調整部内の空間の圧力とこ
の圧力調整部の上方の炉内空間18の圧力とを適正に保
つことで、外気の侵入が抑制され、効率的に光ファイバ
を線引することを可能としたものである。
【0023】本発明の光ファイバ線引炉11の形態は、
吸引室22に吸引ポンプ23が接続されており、吸引室
22内のガスを吸引する。図中の符号19は吸引口であ
る。図2は図1の吸引室22の付近を拡大した説明図で
あるが、吸引室22は、図示するように、線引された光
ファイバが通過する上開口部6と下開口部27とは、上
開口部26の径D1、長さL1、下開口部27の径D
2、長さL2として、L1/D1<L2/D2の関係に
ある。
【0024】吸引室22内の圧力をP2、これより上部
の炉内空間18内の圧力をP1とすると、適切に吸引口
から吸引室22内のガスを排気することで、P1>P2
の状態が維持できる。P1>P2の状態を維持すること
で、下開口部27、上開口部26とを通って外気が炉内
空間18に侵入しにくくなる。
【0025】従って、炉内空間18に外気が多く侵入す
ることによる、ヒーター13や炉心管12の酸化消耗等
が抑制でき、また製造される光ファイバ16の特性劣化
も抑制できる。
【0026】P1とP2との差は必ずしも一定に保ちな
がら光ファイバの線引を行う必要はないが、この差圧を
一定に保っておけば、実質的に炉内空間22内に流れる
ガス量がより一定に維持されるため望ましい。
【0027】P1とP2との差は、0.2〜20Paの
範囲にあることが望ましく、さらに0.5〜2Paの範
囲であることがより望ましい。P1とP2との差が0.
2Paより小さくなると、外乱の影響を受けやすくな
り、P1>P2の状態を維持するような制御が困難とな
るため好ましくない。また、P1とP2との差が20P
aより大きくなると、炉の上部から外気を吸い込むおそ
れがあり、また急激な吸い込みにより線引中の光ファイ
バが振動するのでやはり好ましくない。
【0028】図4は本発明の光ファイバ線引方法に用い
られる光ファイバ線引炉の一例を示す説明図である。こ
の光ファイバ線引炉30は、図示するように、光ファイ
バ用母材15が図の下方に線引されるもので、光ファイ
バ16が下方に引き出される炉の出口側近傍に下方にガ
スを噴出するガス吹き出し部を設けたものである。
【0029】図4の例では、炉体32の下部に下部ブロ
ック35を取り付け、その下部ブロック35に形成して
あるスリット36から、パイプ38を経てガスが吹き出
されるようにしてある。図中の符号37はガス流量調節
器であり、差圧計39により測定される差圧が目的の値
となるように、スリット36から吹き出させるガス量を
調整するものである。
【0030】スリット36から下方にガスを吹き出させ
ることにより、スリット36の上部に背圧を生じさせ、
これを以て炉内空間34内の不活性ガスの流れを炉内空
間34から下部ブロック35の方向に向けさせるのであ
る。こうすることにより、下部ブロック35側から炉内
空間34側への外気の侵入が抑制され、効率的に光ファ
イバを線引することを可能としたものである。
【0031】この光ファイバ線引炉30を用いて光ファ
イバ用母材15を線引する際には、スリット36より上
方の下部ブロック35内の圧力をP3、下部ブロック3
5上部の炉内空間34内の圧力をP4として、P3>P
4となるように制御しながら光ファイバを線引するとよ
い。こうすることで、炉内空間34に下部ブロック35
を通って外気が侵入しにくくなり、ヒーター33や炉心
管31の酸化消耗等が抑制でき、また製造される光ファ
イバ16の特性劣化が抑制できる。
【0032】なお、P3とP4との差は、P1とP2と
の差と同様の理由により、0.2〜20Paの範囲にあ
ることが望ましく、さらに0.5〜2Paの範囲である
ことがより望ましい。
【0033】
【実施例】
本発明例1 図1および図2を参照しながら説明する。炉内空間18
に納まる光ファイバ用母材15は、炉心管12を隔てて
配置されているヒーター13により所定の温度に加熱さ
れ、図の下方に線引される。炉内空間18にはガス導入
部17から所定流量の不活性ガスが導入されている。光
ファイバ16が引き出される炉の出口側には吸引室22
が設けてあり、その吸引室22には吸引ポンプ23が接
続されている。図中の符号19は吸引ポンプ23に繋が
るパイプ、符号24はガス流量調整器である。
【0034】吸引室22は上開口部26を備えたシャッ
ター20、下開口部27を備えたシャッター21、およ
び炉体14により形成されている。本実施例において
は、図2に示す上開口部26の径D1と長さL1は、D
1=10mm、L1=10mmで、下開口部27の径D
2と長さL2は、D2=5mm、L2=10mmとし
た。
【0035】吸引室22の上部近傍の炉内空間18の圧
力P1、および吸引室22内部の圧力P2を測定するた
めに、それぞれ測定ポート251、252を差し込み、
それらを差圧計25に取り付けた。差圧計25にて測定
されるデータはガス流量調節器24に送られ、吸引量が
調整できるように構成してある。
【0036】さて、光ファイバ用母材15(外径100
mm)を線速1000m/minで線引する際に、炉内
空間18の温度を2200℃、炉内空間18に導入する
ガスを、Arガスを5l/min、Heガスを10l/
minとした。またガス流量調整器24により吸引量を
調整し、P1とP2との差圧が概ね1Paに維持される
ように制御した。
【0037】この実施例では、D1/L1の値がD2/
L2の半分であり、吸引ポンプ23による吸引量が3〜
4l/minと比較的少量でも、炉内空間18を吸引室
22に対し正圧にすることが可能であった。
【0038】従って炉内空間18内に外気が侵入するこ
とが極力防止でき、健全な光ファイバを製造することが
できた。製造した光ファイバの断線回数は平均150k
mに1回であり、また炉心管12の寿命は2週間程度で
あった。
【0039】また本発明の光ファイバ線引炉11で、一
定の径を有する光ファイバ母材でなく、径が95〜11
0mmまで変動している光ファイバ用母材を用いて同様
の線引を行った結果、差圧計25でP1とP2の差を適
切に制御することで、上記同様、健全な光ファイバを製
造することができた。
【0040】従来例1 従来例として図8に示すような光ファイバ線引炉101
を用いて光ファイバ用母材105の線引を行った。光フ
ァイバ用母材105の外径は100mm、線速は100
0m/min、炉内空間108の温度は2200℃、炉
内空間108に導入するガスは、Arガスを5l/mi
n、Heガスを10l/minとした。この条件で線引
を行ったところ、炉内空間108の圧力と外気圧との差
圧が−1Pa程度と負圧になった。従って炉内空間10
8に外気が多く侵入し、その結果、炉心管102その他
の酸化劣化を招いた。製造された光ファイバの断線回数
は平均70kmに1回であり、また炉心管102の寿命
は3日程度となった。
【0041】この従来例において、ガス導入口107か
ら炉内空間108に導入するガス量を、Arガスを10
l/min、Heガスを10l/minと増大させれ
ば、炉内空間108の圧力と外気圧との差圧が正圧に維
持することが可能であった。しかしこの場合、炉内空間
108の温度を2250℃に上昇させる必要があり、こ
れにより炉心管102等の劣化が促進され、結局、炉心
管102の寿命は1週間程度となり、また製造された光
ファイバの断線回数は平均100kmに1回となった。
【0042】上述した本発明例1と従来例1の結果を比
較すれば判るように、本発明の光ファイバ線引炉を用い
れば、炉内空間への外気の侵入が抑制され、優れた光フ
ァイバが得られる。また炉心管その他の寿命も伸び、製
造コストの低減にも寄与していることが判る。
【0043】本発明例2 図1の吸引室22に替わり、その部分に図3に示すよう
な下部ブロック28を取り付けた線引炉を用意した。上
述した本発明例1では、シャッター20とシャッター2
1を取り付けることで吸引室22を形成したが、この例
では、一体となった下部ブロック28を用いている。こ
の下部ブロック28は上部と下部に孔が備わり、その中
間部に吸引室29が備わったいる。吸引室29には吸引
口19を経てガス流量調整器24と吸引ポンプ23が接
続されている。また下部ブロック28の上部の炉内空間
18の圧力P1と吸引室29の圧力P2との差圧を測定
すべく差圧計25も取り付けてある。そして、差圧計2
5とガス流量調整器24は接続されており、差圧計25
からの信号によりガス流量調整器24を制御してガス流
量が調整できるようにしてある。この例では、D1=1
5mm、L1=25mm、D2=5mm、L2=10m
mとした。
【0044】この本発明例2においても上述の本発明例
1と同様の条件で光ファイバ用母材の線引を行ったとこ
ろ、本発明例1と同様に優れた結果が得られた。つま
り、炉内空間への外気の侵入が抑制され、優れた光ファ
イバが得られた。また炉心管その他の寿命も長いもので
あった。
【0045】本発明例3 図4を参照しながら説明する。光ファイバ線引炉30に
は、光ファイバ16が下方に引き出される炉の出口側近
傍の下方にガスを噴出するスリット36を設けてある。
図中、符号37は図示しないガス供給装置からのガスの
流量を調整するガス流量調整器で、38はそのガスを通
すパイプである。
【0046】下部ブロック35は炉の出口側に炉体32
に密着させて取り付けたもので、下方にガスを噴出する
スリット36が形成されている。図5は下部ブロック3
5の拡大図であるが、図中に示すD1その他の値は、D
1=15mm、L1=30mm、D2=5mm、L2=
20mmである。差圧計39は炉内空間34内の、下部
ブロック35上部の圧力P3と、下部ブロック35内で
スリット36より上方の部分の圧力P4との差圧を測定
するものである。この差圧計39とガス流量調整器37
とは接続されており、差圧計39からの信号により流量
が調整できるようにしてある。尚、スリット36から吹
き出させるガスはAr、N2 等の不活性ガスである。
【0047】スリット36は、概ね円錐台状の面に挟ま
れた狭いスリットで、幅Cは0.5mmである。またス
リット36の垂直方向に対する角度θ(吹き出し角度)
は15°に設定してある。幅Cはあまり狭いとガスの吹
き出し流速が速くなり過ぎて、光ファイバ16に振動を
与えることがあり、一方、あまり広過ぎるとガス流量を
相当に大きくしないと流速が不足するため、概ね幅Cは
0.3〜1.0mm程度が適当である。また吹き出し角
度θは、ある程度小さい値である方が背圧を生じさせ、
上記P3をP4より大きくする効果が高いが、一方光フ
ァイバ16の振動への影響を考慮すると、概ね5〜20
°程度が適当である。
【0048】さて、光ファイバ用母材15(外径100
mm)を線速1000m/minで線引する際に、炉内
空間34の温度を2200℃、炉内空間34に導入する
ガスを、Arガスを5l/min、Heガスを10l/
minとした。
【0049】ガス流量調整器37によりスリット36か
らの吹き出し量を調整することで、P3とP4との差圧
を制御することが容易にできる。この本発明例では吹き
出し量を4l/minとすることで、P3とP4との差
圧を概ね1Paに維持することができた。従って炉内空
間34内に外気が侵入することが極力防止でき、健全な
光ファイバを製造することができた。製造した光ファイ
バの断線回数は平均160kmに1回であり、また炉心
管12の寿命は2週間程度であった。
【0050】尚、上述の例では上記吹き出し量を4l/
minとしたが、光ファイバ用母材15の線引に伴う径
の変動や線速の変動に対し吹き出し量を適当に調整する
ことで、上記差圧の変動を一層抑制することも可能であ
る。
【0051】従来例2 従来例として図9に示すような光ファイバ線引炉111
を用いて光ファイバ用母材115の線引を行った。図8
に示す従来例1の光ファイバ線引炉101と異なるの
は、炉の上部にガス吹き出し部120を設けた点であ
る。このガス吹き出し部120は、炉の上部からの外気
の侵入を防止するためのものである。
【0052】光ファイバ用母材115は外径100mm
で、線速は1000m/min、炉内空間108の温度
は2200℃、炉内空間118に導入するガスを、Ar
ガスを5l/min、Heガスを10l/minとし
た。また、ガス吹き出し部120からはArガスを20
l/min吹き出した。この条件で線引を行ったとこ
ろ、炉内空間118の圧力と外気圧との差圧が−1Pa
程度と負圧になった。従って炉内空間118に炉の下部
から外気が多く侵入し、その結果、炉心管112その他
の酸化劣化を招いた。製造された光ファイバの断線回数
は平均70kmに1回であり、また炉心管112の寿命
は3日程度となった。
【0053】この従来例において、ガス導入口117か
ら炉内空間118に導入するガス量を、Arガスを10
l/min、Heガスを10l/minと増大させれ
ば、炉内空間118の圧力と外気圧との差圧を正圧に維
持することが可能であった。しかしこの場合、炉内空間
118の温度を2250℃に上昇させる必要があり、こ
れにより炉心管112等の劣化が促進され、結局、炉心
管112の寿命は1週間程度となり、また製造された光
ファイバの断線回数は平均100kmに1回となった。
【0054】上述した本発明例3と従来例2の結果を比
較すれば判るように、本発明の光ファイバ線引炉を用い
れば、炉内空間への外気の侵入が抑制され、優れた光フ
ァイバが得られる。また炉心管その他の寿命も伸び、製
造コストの低減にも寄与していることが判る。
【0055】本発明例4 本発明例4は、図5の下部ブロック34に替わり、図6
に示すような下部ブロック40を設けた例である。下部
ブロック40は、シャッター41とノズル部42とから
なる分割型である。図中のサイズは、D5=6mm,L
5=21mm,D6=6mm、L6=20mmである。
差圧計39は炉内空間34の下部ブロック40上部の圧
力P5と、下部ブロック40内でスリット43より上方
の部分の圧力P6との差圧を測定するものである。この
差圧計39とパイプ38に接続されている図示しないガ
ス流量調整器とは接続されており、差圧計39からの信
号により流量が調整できるようにしてある。尚、スリッ
ト43から吹き出させるガスはAr、N2 等の不活性ガ
スである。
【0056】スリット43は概ね円錐台状の面に挟まれ
た狭いスリットで、幅Cは0.3mmである。またスリ
ット43の吹き出し角度θは10°に設定してある。こ
のスリット43からの吹き出し量を調整することで、P
5とP6との差圧を制御することが容易にできる。この
本発明例では吹き出し量を2〜4l/minの範囲で調
整したところ、P5はP6に対し概ね1Pa程度の正圧
が維持でき、従って炉内空間34内に外気が侵入するこ
とが極力防止でき、健全な光ファイバを製造することが
できた。
【0057】本発明例5 本発明例5は、図4の下部ブロック35に替わり、図7
(ア)(イ)に示すような下部ブロック44を取り付け
た光ファイバ線引炉を用いた例である。(ア)は正面断
面図、(イ)は平面図である。図中のサイズは、D7=
15mm、L7=30mm、D8=5mm、L8=20
mmである。符号39は差圧計、38はガスを送り込む
パイプである。
【0058】図4の下部ブロック35のスリット36に
替え、図7の例では、孔状のものになっている。(イ)
に示されるように、この孔45は概ね放射状に8個設け
られている。孔45は径1mmで、吹き出し角度θ(図
示せず)は15°である。
【0059】この本発明例5においても、吹き出し量を
適度に調整することで炉内空間34内に外気が侵入する
ことが極力防止でき、健全な光ファイバを製造すること
ができた。
【0060】
【発明の効果】以上のように本発明の光ファイバ線引炉
は、炉内に導入するガス量を多くしなくても、炉内への
外気の侵入を極力抑制でき、効率的に光ファイバを線引
することを可能とするものである。また、炉心管その他
の寿命の増大にも寄与し、生産コストの低減も期待でき
るものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係わる光ファイバ線引炉と、それを用
いた線引工程を説明する説明図である。
【図2】図1の一部拡大図である。
【図3】本発明に係わる光ファイバ線引炉の一部を説明
する説明図である。
【図4】本発明に係わる光ファイバ線引方法において使
用する、光ファイバ線引炉の一例を説明する説明図であ
る。
【図5】図4の下部ブロック34の拡大図である。
【図6】本発明に係わる光ファイバ線引方法において使
用する、光ファイバ線引炉の一例を説明する説明図であ
る。
【図7】本発明に係わる光ファイバ線引方法において使
用する、光ファイバ線引炉の一例を説明する説明図であ
る。
【図8】従来の光ファイバ線引炉と、それを用いた線引
工程を説明する説明図である。
【図9】従来の光ファイバ線引炉と、それを用いた線引
工程を説明する説明図である。
【符号の説明】
11 光ファイバ線引炉 12 炉心管 13 ヒーター 14 炉体 15 光ファイバ用母材 16 光ファイバ 17 ガス導入部 18 炉内空間 19 吸引口 20 シャッター 21 シャッター 22 吸引室 23 吸引ポンプ 24 ガス流量調整器 25 差圧計 251 測定ポート 252 測定ポート 26 上開口部 27 下開口部 28 下部ブロック 29 吸引室 30 光ファイバ線引炉 31 炉心管 32 炉体 33 ヒーター 34 炉内空間 35 下部ブロック 36 スリット 37 ガス流量調整器 38 パイプ 39 差圧計 391 測定ポート 392 測定ポート 40 下部ブロック 41 シャッター 42 ノズル部 43 スリット 44 下部ブロック 45 孔 101 光ファイバ線引炉 102 炉心管 103 ヒーター 104 炉体 105 光ファイバ用母材 106 光ファイバ 107 ガス導入部 108 炉内空間 109 シャッター 111 光ファイバ線引炉 112 炉心管 113 ヒーター 114 炉体 115 光ファイバ用母材 116 光ファイバ 117 ガス導入部 118 炉内空間 119 シャッター 120 ガス吹き出し部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小相澤 久 東京都千代田区丸の内2丁目6番1号 古 河電気工業株式会社内

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光ファイバ用母材を加熱・溶融して線引
    された光ファイバが下方に引き出される光ファイバ線引
    炉において、前記線引炉の出口側に光ファイバが通過す
    る圧力調整部が設けられ、前記圧力調整部内の圧力と当
    該圧力調整部上方の炉内空間の圧力とを適正に保つ機能
    を備えることを特徴とする光ファイバ線引炉。
  2. 【請求項2】 光ファイバ用母材を加熱・溶融して線引
    された光ファイバが下方に引き出される光ファイバ線引
    炉において、前記線引炉の出口側に吸引室が設けられ、
    前記吸引室は引き出される光ファイバが通過する上開口
    孔と下開口孔とを有し、前記上開口孔の径D1、長さL
    1は、前記下開口孔の径D2、長さL2に対しL1/D
    1<L2/D2の関係にあり、前記吸引室には吸引ポン
    プが接続されていることを特徴とする光ファイバ線引
    炉。
  3. 【請求項3】 光ファイバ用母材を加熱・溶融して線引
    された光ファイバが下方に引き出される光ファイバ線引
    炉の出口側に吸引室が設けられ、前記吸引室は引き出さ
    れる光ファイバが通過する上開口孔と下開口孔とを有
    し、前記上開口孔の径D1、長さL1は、前記下開口孔
    の径D2、長さL2に対しL1/D1<L2/D2の関
    係にあり、前記吸引室に吸引ポンプが接続されている光
    ファイバ線引炉を用いて、前記吸引室上方の炉内の圧力
    をP1、前記吸引室内の圧力をP2としたとき、P1>
    P2になるように制御しながら光ファイバを線引する、
    光ファイバ線引方法。
  4. 【請求項4】 P1−P2の値をほぼ一定に保ちながら
    光ファイバを線引きする、請求項3に記載の光ファイバ
    線引方法。
  5. 【請求項5】 光ファイバ用ガラス母材を加熱・溶融し
    て線引された光ファイバが下方に引き出される炉の出口
    側近傍に、下方にガスを噴出するガス吹き出し部を備え
    た下部ブロックを設けた光ファイバ線引炉を用いて、前
    記下部ブロック上方の炉内の圧力をP3、前記下部ブロ
    ック内で前記ガス吹き出し部より上方の空間の圧力をP
    4としたとき、P3>P4になるように吹き出しガス量
    を制御しながら光ファイバを線引する、光ファイバ線引
    方法。
  6. 【請求項6】 P3−P4の値をほぼ一定に保ちながら
    光ファイバを線引きする、請求項5に記載の光ファイバ
    線引方法。
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