JP3481466B2 - 光ファイバ線引炉、およびそれを用いた光ファイバ線引方法 - Google Patents
光ファイバ線引炉、およびそれを用いた光ファイバ線引方法Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/02—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor
- C03B37/025—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor from reheated softened tubes, rods, fibres or filaments, e.g. drawing fibres from preforms
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は光ファイバ用の母材
を加熱溶融して線引する光ファイバの線引炉と、それを
用いた光ファイバ線引方法に関する。
を加熱溶融して線引する光ファイバの線引炉と、それを
用いた光ファイバ線引方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光ファイバの製造方法として、所定の雰
囲気下で加熱線引して所定の線径に加工する方法が一般
的に採用されている。図８は光ファイバの従来の線引炉
とそれを用いた線引方法を示す説明図である。光ファイ
バ用母材１０５を炉内空間１０８内で加熱溶融して線引
することで所定の線径の光ファイバを得る。図中、線引
された光ファイバ１０６は図の下方に引き出される。
囲気下で加熱線引して所定の線径に加工する方法が一般
的に採用されている。図８は光ファイバの従来の線引炉
とそれを用いた線引方法を示す説明図である。光ファイ
バ用母材１０５を炉内空間１０８内で加熱溶融して線引
することで所定の線径の光ファイバを得る。図中、線引
された光ファイバ１０６は図の下方に引き出される。
【０００３】光ファイバ線引炉１０１は概ね、炉心管１
０２、ヒーター１０３等を構成要素とし、ヒーター１０
３は概ね炉心管１０２を囲うように配置され、内部に配
置される光ファイバ用母材１０５は炉心管１０２を介し
てヒーター１０３により加熱され、そして線引される。
通常、これら光ファイバ用母材１０５、炉心管１０２、
ヒーター１０３は同心円状に配置される。図中の記号１
０４は炉体である。
０２、ヒーター１０３等を構成要素とし、ヒーター１０
３は概ね炉心管１０２を囲うように配置され、内部に配
置される光ファイバ用母材１０５は炉心管１０２を介し
てヒーター１０３により加熱され、そして線引される。
通常、これら光ファイバ用母材１０５、炉心管１０２、
ヒーター１０３は同心円状に配置される。図中の記号１
０４は炉体である。
【０００４】炉心管１０２はカーボン製のものが使用さ
れることが多い。材質や線引する線径等にもよるが、通
常、光ファイバ用母材１０５は、概ね２０００℃程度に
加熱・溶融されて線引されるので、通常の大気成分中で
線引を行うと、カーボン製の炉心管１０２が酸化消耗し
てダストが生じてしまう。このダストは製造される光フ
ァイバの強度低下等の原因となる等の問題を引き起こ
す。また炉心管１０２の酸化消耗はその寿命の短縮を招
き、従って製造コストの上昇の原因にもなる。
れることが多い。材質や線引する線径等にもよるが、通
常、光ファイバ用母材１０５は、概ね２０００℃程度に
加熱・溶融されて線引されるので、通常の大気成分中で
線引を行うと、カーボン製の炉心管１０２が酸化消耗し
てダストが生じてしまう。このダストは製造される光フ
ァイバの強度低下等の原因となる等の問題を引き起こ
す。また炉心管１０２の酸化消耗はその寿命の短縮を招
き、従って製造コストの上昇の原因にもなる。
【０００５】そこで図に示されるように、ガス導入部１
０７を炉内空間１０８の下部に設け、そこからＡｒ、Ｎ
2 、Ｈｅ等の不活性ガスを炉内空間１０８内に流し、光
ファイバ用母材１０５や光ファイバ１０６の劣化や、炉
心管１０２の劣化を防ぐことが行われている。その際、
炉内空間１０８の圧力を常に外気空間より高くしておく
ことが望ましい。こうすることで、シャッター１０９等
からの外気の侵入が抑制されるからである。ガス導入部
１０７から炉内空間１０８に導入されたガスは図の上方
（光ファイバ用母材１０５の側）から放出される。
０７を炉内空間１０８の下部に設け、そこからＡｒ、Ｎ
2 、Ｈｅ等の不活性ガスを炉内空間１０８内に流し、光
ファイバ用母材１０５や光ファイバ１０６の劣化や、炉
心管１０２の劣化を防ぐことが行われている。その際、
炉内空間１０８の圧力を常に外気空間より高くしておく
ことが望ましい。こうすることで、シャッター１０９等
からの外気の侵入が抑制されるからである。ガス導入部
１０７から炉内空間１０８に導入されたガスは図の上方
（光ファイバ用母材１０５の側）から放出される。
【０００６】炉内空間１０８の下部に備わるシャッター
１０９は、炉内空間１０８内への外気の混入をなるべく
少なくする意味で設けたものである。尚、このシャッタ
ーという用語は、慣用的な意味で使用したもので、必ず
しも閉めるという意味で用いている訳ではない。
１０９は、炉内空間１０８内への外気の混入をなるべく
少なくする意味で設けたものである。尚、このシャッタ
ーという用語は、慣用的な意味で使用したもので、必ず
しも閉めるという意味で用いている訳ではない。
【０００７】その他、このシャッター１０９に相当する
部分に特定の形状の下部ノズルを設けることで、外気の
侵入を防ぐ方法や（特開平２−９２８３８号等参照）、
炉内空間の上の開口部のガスシールを２重にする方法
（実開昭５９−１５３３３２号等参照）等が提案されて
いる。
部分に特定の形状の下部ノズルを設けることで、外気の
侵入を防ぐ方法や（特開平２−９２８３８号等参照）、
炉内空間の上の開口部のガスシールを２重にする方法
（実開昭５９−１５３３３２号等参照）等が提案されて
いる。
【０００８】また、炉内空間１０８内にガスを上部から
（図８において光ファイバ用母材１０５の側から）導入
し、下部に排出する構造の線引炉において、下部に設け
たノズルの途中に吸引室を設けて、排気されるガス量を
調節することで、外気の侵入を防ぐ方法も提案されてい
る（特公平７−８４３３３号）。
（図８において光ファイバ用母材１０５の側から）導入
し、下部に排出する構造の線引炉において、下部に設け
たノズルの途中に吸引室を設けて、排気されるガス量を
調節することで、外気の侵入を防ぐ方法も提案されてい
る（特公平７−８４３３３号）。
【０００９】また、さらに別の方法として、線引炉の上
部または下部の少なくともいずれか一方に、炉内空間１
０８内への外気侵入を阻止する気流を発生させる方法も
提案されている（特開昭５７−１４０３３０）。
部または下部の少なくともいずれか一方に、炉内空間１
０８内への外気侵入を阻止する気流を発生させる方法も
提案されている（特開昭５７−１４０３３０）。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】近年は、光ファイバの
需要の急激な増大等により、その生産性の一層の向上が
要求されてきている。そのため、線引すべき光ファイバ
用母材の大径化や、線引速度の向上が図られている。し
かし大径の光ファイバ用母材を高速で線引すると、母材
径の変動による炉内空間の圧力の変動が大きくなり、そ
の結果、線速変動や線径変動が発生したり、炉内空間の
圧力が外気空間に対し負圧になってしまうことがある。
こうなると、炉内空間に外気が侵入し、製造される光フ
ァイバの強度低下等の問題や、光ファイバ線引炉を構成
する炉心管の寿命低下等の問題が生じていた。
需要の急激な増大等により、その生産性の一層の向上が
要求されてきている。そのため、線引すべき光ファイバ
用母材の大径化や、線引速度の向上が図られている。し
かし大径の光ファイバ用母材を高速で線引すると、母材
径の変動による炉内空間の圧力の変動が大きくなり、そ
の結果、線速変動や線径変動が発生したり、炉内空間の
圧力が外気空間に対し負圧になってしまうことがある。
こうなると、炉内空間に外気が侵入し、製造される光フ
ァイバの強度低下等の問題や、光ファイバ線引炉を構成
する炉心管の寿命低下等の問題が生じていた。
【００１１】この対策として、炉内空間に流す不活性ガ
スの量を増やす策も有効ではあるが、炉内空間に流すガ
ス量が増加すれば、光ファイバ用母材の温度の低下を招
いてしまう。このため適切な線引温度を維持するために
はヒーターの加熱温度を高める必要が生ずる。ヒーター
はカーボン製のものが使用されることが多いが、ヒータ
ーの加熱温度を高めるとヒーターの劣化が促進され、そ
れによって生じたダストが製造される光ファイバを劣化
させてしまうことがある。また、ヒーターの劣化が促進
されれば、生産コストの上昇にもつながる等の問題もあ
る。
スの量を増やす策も有効ではあるが、炉内空間に流すガ
ス量が増加すれば、光ファイバ用母材の温度の低下を招
いてしまう。このため適切な線引温度を維持するために
はヒーターの加熱温度を高める必要が生ずる。ヒーター
はカーボン製のものが使用されることが多いが、ヒータ
ーの加熱温度を高めるとヒーターの劣化が促進され、そ
れによって生じたダストが製造される光ファイバを劣化
させてしまうことがある。また、ヒーターの劣化が促進
されれば、生産コストの上昇にもつながる等の問題もあ
る。
【００１２】また、特公平７−８４３３３号には、炉内
ガスを上部から下部に流す線引炉のガス排出部にあたる
下部ノズルにおいて、ガス中のダストが光ファイバに接
触して強度低下を起こすことを防止することを目的とし
ているため、炉内から吸引するガス量を増やすと、光フ
ァイバとダストとの接触回数を増やすことになるため、
吸引ガス量を増やすことができず、外気の侵入を完全に
防ぐことは難しい。さらに、母材径の変動による炉内の
圧力変動が発生した場合の圧力制御については示唆され
ていないため、この点でも外気の侵入を完全に防ぐこと
は難しい。
ガスを上部から下部に流す線引炉のガス排出部にあたる
下部ノズルにおいて、ガス中のダストが光ファイバに接
触して強度低下を起こすことを防止することを目的とし
ているため、炉内から吸引するガス量を増やすと、光フ
ァイバとダストとの接触回数を増やすことになるため、
吸引ガス量を増やすことができず、外気の侵入を完全に
防ぐことは難しい。さらに、母材径の変動による炉内の
圧力変動が発生した場合の圧力制御については示唆され
ていないため、この点でも外気の侵入を完全に防ぐこと
は難しい。
【００１３】また、特開昭５７−１４０３３０号には、
母材径の変動あるいは線引速度の変動による炉内の圧力
変動に対してシールガスの適正値を決定するような制御
については示唆されていないため、炉内への外気侵入を
常に阻止する気流を発生させることは難しい。
母材径の変動あるいは線引速度の変動による炉内の圧力
変動に対してシールガスの適正値を決定するような制御
については示唆されていないため、炉内への外気侵入を
常に阻止する気流を発生させることは難しい。
【００１４】上述したような事情から、炉内空間への外
気の侵入を効率的に抑制する光ファイバの線引方法と、
その線引炉が望まれていた。
気の侵入を効率的に抑制する光ファイバの線引方法と、
その線引炉が望まれていた。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明の第１の解決手段
は、光ファイバ用母材を加熱・溶融して線引された光フ
ァイバが下方に引き出される光ファイバ線引炉におい
て、前記線引炉の出口側に光ファイバが通過する圧力調
整部が設けられ、前記圧力調整部内の圧力と当該圧力調
整部上方の炉内空間の圧力とを適正に保つ機能を備える
ことを特徴とする。
は、光ファイバ用母材を加熱・溶融して線引された光フ
ァイバが下方に引き出される光ファイバ線引炉におい
て、前記線引炉の出口側に光ファイバが通過する圧力調
整部が設けられ、前記圧力調整部内の圧力と当該圧力調
整部上方の炉内空間の圧力とを適正に保つ機能を備える
ことを特徴とする。
【００１６】本発明の第２の解決手段は、光ファイバ用
母材を加熱・溶融して線引された光ファイバが下方に引
き出される光ファイバ線引炉において、前記線引炉の出
口側に吸引室が設けられ、前記吸引室は引き出される光
ファイバが通過する上開口孔と下開口孔とを有し、前記
上開口孔の径Ｄ１、長さＬ１は、前記下開口孔の径Ｄ
２、長さＬ２に対しＬ１／Ｄ１＜Ｌ２／Ｄ２の関係にあ
り、前記吸引室には吸引ポンプが接続されていることを
特徴とする。
母材を加熱・溶融して線引された光ファイバが下方に引
き出される光ファイバ線引炉において、前記線引炉の出
口側に吸引室が設けられ、前記吸引室は引き出される光
ファイバが通過する上開口孔と下開口孔とを有し、前記
上開口孔の径Ｄ１、長さＬ１は、前記下開口孔の径Ｄ
２、長さＬ２に対しＬ１／Ｄ１＜Ｌ２／Ｄ２の関係にあ
り、前記吸引室には吸引ポンプが接続されていることを
特徴とする。
【００１７】本発明の第３の解決手段は、光ファイバ用
母材を加熱・溶融して線引された光ファイバが下方に引
き出される光ファイバ線引炉の出口側に吸引室が設けら
れ、前記吸引室は引き出される光ファイバが通過する上
開口孔と下開口孔とを有し、前記上開口孔の径Ｄ１、長
さＬ１は、前記下開口孔の径Ｄ２、長さＬ２に対しＬ１
／Ｄ１＜Ｌ２／Ｄ２の関係にあり、前記吸引室に吸引ポ
ンプが接続されている光ファイバ線引炉を用いて、前記
吸引室上方の炉内の圧力をＰ１、前記吸引室内の圧力を
Ｐ２としたとき、Ｐ１＞Ｐ２になるように制御しながら
行うことを特徴とする。
母材を加熱・溶融して線引された光ファイバが下方に引
き出される光ファイバ線引炉の出口側に吸引室が設けら
れ、前記吸引室は引き出される光ファイバが通過する上
開口孔と下開口孔とを有し、前記上開口孔の径Ｄ１、長
さＬ１は、前記下開口孔の径Ｄ２、長さＬ２に対しＬ１
／Ｄ１＜Ｌ２／Ｄ２の関係にあり、前記吸引室に吸引ポ
ンプが接続されている光ファイバ線引炉を用いて、前記
吸引室上方の炉内の圧力をＰ１、前記吸引室内の圧力を
Ｐ２としたとき、Ｐ１＞Ｐ２になるように制御しながら
行うことを特徴とする。
【００１８】本発明の第４の解決手段は、本発明の第３
の解決手段において、Ｐ１−Ｐ２の値をほぼ一定に保ち
ながら光ファイバを線引きすることを特徴とする。
の解決手段において、Ｐ１−Ｐ２の値をほぼ一定に保ち
ながら光ファイバを線引きすることを特徴とする。
【００１９】本発明の第５の解決手段は、光ファイバ用
ガラス母材を加熱・溶融して線引された光ファイバが下
方に引き出される炉の出口側近傍に、下方にガスを噴出
するガス吹き出し部を備えた下部ブロックを設けた光フ
ァイバ線引炉を用いて、前記下部ブロック上方の炉内の
圧力をＰ３、前記下部ブロック内で前記ガス吹き出し部
より上方の空間の圧力をＰ４としたとき、Ｐ３＞Ｐ４に
なるように吹き出しガス量を制御しながら光ファイバを
線引することを特徴とする。
ガラス母材を加熱・溶融して線引された光ファイバが下
方に引き出される炉の出口側近傍に、下方にガスを噴出
するガス吹き出し部を備えた下部ブロックを設けた光フ
ァイバ線引炉を用いて、前記下部ブロック上方の炉内の
圧力をＰ３、前記下部ブロック内で前記ガス吹き出し部
より上方の空間の圧力をＰ４としたとき、Ｐ３＞Ｐ４に
なるように吹き出しガス量を制御しながら光ファイバを
線引することを特徴とする。
【００２０】本発明の第６の解決手段は、本発明の第５
の解決手段において、Ｐ３−Ｐ４の値をほぼ一定に保ち
ながら光ファイバを線引きすることを特徴とする。
の解決手段において、Ｐ３−Ｐ４の値をほぼ一定に保ち
ながら光ファイバを線引きすることを特徴とする。
【００２１】
【発明の実施の形態】図１は本発明の光ファイバ線引炉
の形態の一例を説明する説明図である。本発明の光ファ
イバ線引炉は、図示するように、光ファイバ用母材１５
が図の下方に線引されるもので、その光ファイバ１６が
引き出される炉の出口側に吸引室２２を設けている。炉
内空間１８にＡｒ等の不活性ガスを導入するガス導入部
１７は、吸引室２２より上方に設けてある。
の形態の一例を説明する説明図である。本発明の光ファ
イバ線引炉は、図示するように、光ファイバ用母材１５
が図の下方に線引されるもので、その光ファイバ１６が
引き出される炉の出口側に吸引室２２を設けている。炉
内空間１８にＡｒ等の不活性ガスを導入するガス導入部
１７は、吸引室２２より上方に設けてある。
【００２２】この吸引室２２は圧力調整部に相当し、光
ファイバ１６が通過する圧力調整部内の空間の圧力とこ
の圧力調整部の上方の炉内空間１８の圧力とを適正に保
つことで、外気の侵入が抑制され、効率的に光ファイバ
を線引することを可能としたものである。
ファイバ１６が通過する圧力調整部内の空間の圧力とこ
の圧力調整部の上方の炉内空間１８の圧力とを適正に保
つことで、外気の侵入が抑制され、効率的に光ファイバ
を線引することを可能としたものである。
【００２３】本発明の光ファイバ線引炉１１の形態は、
吸引室２２に吸引ポンプ２３が接続されており、吸引室
２２内のガスを吸引する。図中の符号１９は吸引口であ
る。図２は図１の吸引室２２の付近を拡大した説明図で
あるが、吸引室２２は、図示するように、線引された光
ファイバが通過する上開口部６と下開口部２７とは、上
開口部２６の径Ｄ１、長さＬ１、下開口部２７の径Ｄ
２、長さＬ２として、Ｌ１／Ｄ１＜Ｌ２／Ｄ２の関係に
ある。
吸引室２２に吸引ポンプ２３が接続されており、吸引室
２２内のガスを吸引する。図中の符号１９は吸引口であ
る。図２は図１の吸引室２２の付近を拡大した説明図で
あるが、吸引室２２は、図示するように、線引された光
ファイバが通過する上開口部６と下開口部２７とは、上
開口部２６の径Ｄ１、長さＬ１、下開口部２７の径Ｄ
２、長さＬ２として、Ｌ１／Ｄ１＜Ｌ２／Ｄ２の関係に
ある。
【００２４】吸引室２２内の圧力をＰ２、これより上部
の炉内空間１８内の圧力をＰ１とすると、適切に吸引口
から吸引室２２内のガスを排気することで、Ｐ１＞Ｐ２
の状態が維持できる。Ｐ１＞Ｐ２の状態を維持すること
で、下開口部２７、上開口部２６とを通って外気が炉内
空間１８に侵入しにくくなる。
の炉内空間１８内の圧力をＰ１とすると、適切に吸引口
から吸引室２２内のガスを排気することで、Ｐ１＞Ｐ２
の状態が維持できる。Ｐ１＞Ｐ２の状態を維持すること
で、下開口部２７、上開口部２６とを通って外気が炉内
空間１８に侵入しにくくなる。
【００２５】従って、炉内空間１８に外気が多く侵入す
ることによる、ヒーター１３や炉心管１２の酸化消耗等
が抑制でき、また製造される光ファイバ１６の特性劣化
も抑制できる。
ることによる、ヒーター１３や炉心管１２の酸化消耗等
が抑制でき、また製造される光ファイバ１６の特性劣化
も抑制できる。
【００２６】Ｐ１とＰ２との差は必ずしも一定に保ちな
がら光ファイバの線引を行う必要はないが、この差圧を
一定に保っておけば、実質的に炉内空間２２内に流れる
ガス量がより一定に維持されるため望ましい。
がら光ファイバの線引を行う必要はないが、この差圧を
一定に保っておけば、実質的に炉内空間２２内に流れる
ガス量がより一定に維持されるため望ましい。
【００２７】Ｐ１とＰ２との差は、０．２〜２０Ｐａの
範囲にあることが望ましく、さらに０．５〜２Ｐａの範
囲であることがより望ましい。Ｐ１とＰ２との差が０．
２Ｐａより小さくなると、外乱の影響を受けやすくな
り、Ｐ１＞Ｐ２の状態を維持するような制御が困難とな
るため好ましくない。また、Ｐ１とＰ２との差が２０Ｐ
ａより大きくなると、炉の上部から外気を吸い込むおそ
れがあり、また急激な吸い込みにより線引中の光ファイ
バが振動するのでやはり好ましくない。
範囲にあることが望ましく、さらに０．５〜２Ｐａの範
囲であることがより望ましい。Ｐ１とＰ２との差が０．
２Ｐａより小さくなると、外乱の影響を受けやすくな
り、Ｐ１＞Ｐ２の状態を維持するような制御が困難とな
るため好ましくない。また、Ｐ１とＰ２との差が２０Ｐ
ａより大きくなると、炉の上部から外気を吸い込むおそ
れがあり、また急激な吸い込みにより線引中の光ファイ
バが振動するのでやはり好ましくない。
【００２８】図４は本発明の光ファイバ線引方法に用い
られる光ファイバ線引炉の一例を示す説明図である。こ
の光ファイバ線引炉３０は、図示するように、光ファイ
バ用母材１５が図の下方に線引されるもので、光ファイ
バ１６が下方に引き出される炉の出口側近傍に下方にガ
スを噴出するガス吹き出し部を設けたものである。
られる光ファイバ線引炉の一例を示す説明図である。こ
の光ファイバ線引炉３０は、図示するように、光ファイ
バ用母材１５が図の下方に線引されるもので、光ファイ
バ１６が下方に引き出される炉の出口側近傍に下方にガ
スを噴出するガス吹き出し部を設けたものである。
【００２９】図４の例では、炉体３２の下部に下部ブロ
ック３５を取り付け、その下部ブロック３５に形成して
あるスリット３６から、パイプ３８を経てガスが吹き出
されるようにしてある。図中の符号３７はガス流量調節
器であり、差圧計３９により測定される差圧が目的の値
となるように、スリット３６から吹き出させるガス量を
調整するものである。
ック３５を取り付け、その下部ブロック３５に形成して
あるスリット３６から、パイプ３８を経てガスが吹き出
されるようにしてある。図中の符号３７はガス流量調節
器であり、差圧計３９により測定される差圧が目的の値
となるように、スリット３６から吹き出させるガス量を
調整するものである。
【００３０】スリット３６から下方にガスを吹き出させ
ることにより、スリット３６の上部に背圧を生じさせ、
これを以て炉内空間３４内の不活性ガスの流れを炉内空
間３４から下部ブロック３５の方向に向けさせるのであ
る。こうすることにより、下部ブロック３５側から炉内
空間３４側への外気の侵入が抑制され、効率的に光ファ
イバを線引することを可能としたものである。
ることにより、スリット３６の上部に背圧を生じさせ、
これを以て炉内空間３４内の不活性ガスの流れを炉内空
間３４から下部ブロック３５の方向に向けさせるのであ
る。こうすることにより、下部ブロック３５側から炉内
空間３４側への外気の侵入が抑制され、効率的に光ファ
イバを線引することを可能としたものである。
【００３１】この光ファイバ線引炉３０を用いて光ファ
イバ用母材１５を線引する際には、スリット３６より上
方の下部ブロック３５内の圧力をＰ３、下部ブロック３
５上部の炉内空間３４内の圧力をＰ４として、Ｐ３＞Ｐ
４となるように制御しながら光ファイバを線引するとよ
い。こうすることで、炉内空間３４に下部ブロック３５
を通って外気が侵入しにくくなり、ヒーター３３や炉心
管３１の酸化消耗等が抑制でき、また製造される光ファ
イバ１６の特性劣化が抑制できる。
イバ用母材１５を線引する際には、スリット３６より上
方の下部ブロック３５内の圧力をＰ３、下部ブロック３
５上部の炉内空間３４内の圧力をＰ４として、Ｐ３＞Ｐ
４となるように制御しながら光ファイバを線引するとよ
い。こうすることで、炉内空間３４に下部ブロック３５
を通って外気が侵入しにくくなり、ヒーター３３や炉心
管３１の酸化消耗等が抑制でき、また製造される光ファ
イバ１６の特性劣化が抑制できる。
【００３２】なお、Ｐ３とＰ４との差は、Ｐ１とＰ２と
の差と同様の理由により、０．２〜２０Ｐａの範囲にあ
ることが望ましく、さらに０．５〜２Ｐａの範囲である
ことがより望ましい。
の差と同様の理由により、０．２〜２０Ｐａの範囲にあ
ることが望ましく、さらに０．５〜２Ｐａの範囲である
ことがより望ましい。
【００３３】
本発明例１
図１および図２を参照しながら説明する。炉内空間１８
に納まる光ファイバ用母材１５は、炉心管１２を隔てて
配置されているヒーター１３により所定の温度に加熱さ
れ、図の下方に線引される。炉内空間１８にはガス導入
部１７から所定流量の不活性ガスが導入されている。光
ファイバ１６が引き出される炉の出口側には吸引室２２
が設けてあり、その吸引室２２には吸引ポンプ２３が接
続されている。図中の符号１９は吸引ポンプ２３に繋が
るパイプ、符号２４はガス流量調整器である。
に納まる光ファイバ用母材１５は、炉心管１２を隔てて
配置されているヒーター１３により所定の温度に加熱さ
れ、図の下方に線引される。炉内空間１８にはガス導入
部１７から所定流量の不活性ガスが導入されている。光
ファイバ１６が引き出される炉の出口側には吸引室２２
が設けてあり、その吸引室２２には吸引ポンプ２３が接
続されている。図中の符号１９は吸引ポンプ２３に繋が
るパイプ、符号２４はガス流量調整器である。
【００３４】吸引室２２は上開口部２６を備えたシャッ
ター２０、下開口部２７を備えたシャッター２１、およ
び炉体１４により形成されている。本実施例において
は、図２に示す上開口部２６の径Ｄ１と長さＬ１は、Ｄ
１＝１０ｍｍ、Ｌ１＝１０ｍｍで、下開口部２７の径Ｄ
２と長さＬ２は、Ｄ２＝５ｍｍ、Ｌ２＝１０ｍｍとし
た。
ター２０、下開口部２７を備えたシャッター２１、およ
び炉体１４により形成されている。本実施例において
は、図２に示す上開口部２６の径Ｄ１と長さＬ１は、Ｄ
１＝１０ｍｍ、Ｌ１＝１０ｍｍで、下開口部２７の径Ｄ
２と長さＬ２は、Ｄ２＝５ｍｍ、Ｌ２＝１０ｍｍとし
た。
【００３５】吸引室２２の上部近傍の炉内空間１８の圧
力Ｐ１、および吸引室２２内部の圧力Ｐ２を測定するた
めに、それぞれ測定ポート２５１、２５２を差し込み、
それらを差圧計２５に取り付けた。差圧計２５にて測定
されるデータはガス流量調節器２４に送られ、吸引量が
調整できるように構成してある。
力Ｐ１、および吸引室２２内部の圧力Ｐ２を測定するた
めに、それぞれ測定ポート２５１、２５２を差し込み、
それらを差圧計２５に取り付けた。差圧計２５にて測定
されるデータはガス流量調節器２４に送られ、吸引量が
調整できるように構成してある。
【００３６】さて、光ファイバ用母材１５（外径１００
ｍｍ）を線速１０００ｍ／ｍｉｎで線引する際に、炉内
空間１８の温度を２２００℃、炉内空間１８に導入する
ガスを、Ａｒガスを５ｌ／ｍｉｎ、Ｈｅガスを１０ｌ／
ｍｉｎとした。またガス流量調整器２４により吸引量を
調整し、Ｐ１とＰ２との差圧が概ね１Ｐａに維持される
ように制御した。
ｍｍ）を線速１０００ｍ／ｍｉｎで線引する際に、炉内
空間１８の温度を２２００℃、炉内空間１８に導入する
ガスを、Ａｒガスを５ｌ／ｍｉｎ、Ｈｅガスを１０ｌ／
ｍｉｎとした。またガス流量調整器２４により吸引量を
調整し、Ｐ１とＰ２との差圧が概ね１Ｐａに維持される
ように制御した。
【００３７】この実施例では、Ｄ１／Ｌ１の値がＤ２／
Ｌ２の半分であり、吸引ポンプ２３による吸引量が３〜
４ｌ／ｍｉｎと比較的少量でも、炉内空間１８を吸引室
２２に対し正圧にすることが可能であった。
Ｌ２の半分であり、吸引ポンプ２３による吸引量が３〜
４ｌ／ｍｉｎと比較的少量でも、炉内空間１８を吸引室
２２に対し正圧にすることが可能であった。
【００３８】従って炉内空間１８内に外気が侵入するこ
とが極力防止でき、健全な光ファイバを製造することが
できた。製造した光ファイバの断線回数は平均１５０ｋ
ｍに１回であり、また炉心管１２の寿命は２週間程度で
あった。
とが極力防止でき、健全な光ファイバを製造することが
できた。製造した光ファイバの断線回数は平均１５０ｋ
ｍに１回であり、また炉心管１２の寿命は２週間程度で
あった。
【００３９】また本発明の光ファイバ線引炉１１で、一
定の径を有する光ファイバ母材でなく、径が９５〜１１
０ｍｍまで変動している光ファイバ用母材を用いて同様
の線引を行った結果、差圧計２５でＰ１とＰ２の差を適
切に制御することで、上記同様、健全な光ファイバを製
造することができた。
定の径を有する光ファイバ母材でなく、径が９５〜１１
０ｍｍまで変動している光ファイバ用母材を用いて同様
の線引を行った結果、差圧計２５でＰ１とＰ２の差を適
切に制御することで、上記同様、健全な光ファイバを製
造することができた。
【００４０】従来例１
従来例として図８に示すような光ファイバ線引炉１０１
を用いて光ファイバ用母材１０５の線引を行った。光フ
ァイバ用母材１０５の外径は１００ｍｍ、線速は１００
０ｍ／ｍｉｎ、炉内空間１０８の温度は２２００℃、炉
内空間１０８に導入するガスは、Ａｒガスを５ｌ／ｍｉ
ｎ、Ｈｅガスを１０ｌ／ｍｉｎとした。この条件で線引
を行ったところ、炉内空間１０８の圧力と外気圧との差
圧が−１Ｐａ程度と負圧になった。従って炉内空間１０
８に外気が多く侵入し、その結果、炉心管１０２その他
の酸化劣化を招いた。製造された光ファイバの断線回数
は平均７０ｋｍに１回であり、また炉心管１０２の寿命
は３日程度となった。
を用いて光ファイバ用母材１０５の線引を行った。光フ
ァイバ用母材１０５の外径は１００ｍｍ、線速は１００
０ｍ／ｍｉｎ、炉内空間１０８の温度は２２００℃、炉
内空間１０８に導入するガスは、Ａｒガスを５ｌ／ｍｉ
ｎ、Ｈｅガスを１０ｌ／ｍｉｎとした。この条件で線引
を行ったところ、炉内空間１０８の圧力と外気圧との差
圧が−１Ｐａ程度と負圧になった。従って炉内空間１０
８に外気が多く侵入し、その結果、炉心管１０２その他
の酸化劣化を招いた。製造された光ファイバの断線回数
は平均７０ｋｍに１回であり、また炉心管１０２の寿命
は３日程度となった。
【００４１】この従来例において、ガス導入口１０７か
ら炉内空間１０８に導入するガス量を、Ａｒガスを１０
ｌ／ｍｉｎ、Ｈｅガスを１０ｌ／ｍｉｎと増大させれ
ば、炉内空間１０８の圧力と外気圧との差圧が正圧に維
持することが可能であった。しかしこの場合、炉内空間
１０８の温度を２２５０℃に上昇させる必要があり、こ
れにより炉心管１０２等の劣化が促進され、結局、炉心
管１０２の寿命は１週間程度となり、また製造された光
ファイバの断線回数は平均１００ｋｍに１回となった。
ら炉内空間１０８に導入するガス量を、Ａｒガスを１０
ｌ／ｍｉｎ、Ｈｅガスを１０ｌ／ｍｉｎと増大させれ
ば、炉内空間１０８の圧力と外気圧との差圧が正圧に維
持することが可能であった。しかしこの場合、炉内空間
１０８の温度を２２５０℃に上昇させる必要があり、こ
れにより炉心管１０２等の劣化が促進され、結局、炉心
管１０２の寿命は１週間程度となり、また製造された光
ファイバの断線回数は平均１００ｋｍに１回となった。
【００４２】上述した本発明例１と従来例１の結果を比
較すれば判るように、本発明の光ファイバ線引炉を用い
れば、炉内空間への外気の侵入が抑制され、優れた光フ
ァイバが得られる。また炉心管その他の寿命も伸び、製
造コストの低減にも寄与していることが判る。
較すれば判るように、本発明の光ファイバ線引炉を用い
れば、炉内空間への外気の侵入が抑制され、優れた光フ
ァイバが得られる。また炉心管その他の寿命も伸び、製
造コストの低減にも寄与していることが判る。
【００４３】本発明例２
図１の吸引室２２に替わり、その部分に図３に示すよう
な下部ブロック２８を取り付けた線引炉を用意した。上
述した本発明例１では、シャッター２０とシャッター２
１を取り付けることで吸引室２２を形成したが、この例
では、一体となった下部ブロック２８を用いている。こ
の下部ブロック２８は上部と下部に孔が備わり、その中
間部に吸引室２９が備わったいる。吸引室２９には吸引
口１９を経てガス流量調整器２４と吸引ポンプ２３が接
続されている。また下部ブロック２８の上部の炉内空間
１８の圧力Ｐ１と吸引室２９の圧力Ｐ２との差圧を測定
すべく差圧計２５も取り付けてある。そして、差圧計２
５とガス流量調整器２４は接続されており、差圧計２５
からの信号によりガス流量調整器２４を制御してガス流
量が調整できるようにしてある。この例では、Ｄ１＝１
５ｍｍ、Ｌ１＝２５ｍｍ、Ｄ２＝５ｍｍ、Ｌ２＝１０ｍ
ｍとした。
な下部ブロック２８を取り付けた線引炉を用意した。上
述した本発明例１では、シャッター２０とシャッター２
１を取り付けることで吸引室２２を形成したが、この例
では、一体となった下部ブロック２８を用いている。こ
の下部ブロック２８は上部と下部に孔が備わり、その中
間部に吸引室２９が備わったいる。吸引室２９には吸引
口１９を経てガス流量調整器２４と吸引ポンプ２３が接
続されている。また下部ブロック２８の上部の炉内空間
１８の圧力Ｐ１と吸引室２９の圧力Ｐ２との差圧を測定
すべく差圧計２５も取り付けてある。そして、差圧計２
５とガス流量調整器２４は接続されており、差圧計２５
からの信号によりガス流量調整器２４を制御してガス流
量が調整できるようにしてある。この例では、Ｄ１＝１
５ｍｍ、Ｌ１＝２５ｍｍ、Ｄ２＝５ｍｍ、Ｌ２＝１０ｍ
ｍとした。
【００４４】この本発明例２においても上述の本発明例
１と同様の条件で光ファイバ用母材の線引を行ったとこ
ろ、本発明例１と同様に優れた結果が得られた。つま
り、炉内空間への外気の侵入が抑制され、優れた光ファ
イバが得られた。また炉心管その他の寿命も長いもので
あった。
１と同様の条件で光ファイバ用母材の線引を行ったとこ
ろ、本発明例１と同様に優れた結果が得られた。つま
り、炉内空間への外気の侵入が抑制され、優れた光ファ
イバが得られた。また炉心管その他の寿命も長いもので
あった。
【００４５】本発明例３
図４を参照しながら説明する。光ファイバ線引炉３０に
は、光ファイバ１６が下方に引き出される炉の出口側近
傍の下方にガスを噴出するスリット３６を設けてある。
図中、符号３７は図示しないガス供給装置からのガスの
流量を調整するガス流量調整器で、３８はそのガスを通
すパイプである。
は、光ファイバ１６が下方に引き出される炉の出口側近
傍の下方にガスを噴出するスリット３６を設けてある。
図中、符号３７は図示しないガス供給装置からのガスの
流量を調整するガス流量調整器で、３８はそのガスを通
すパイプである。
【００４６】下部ブロック３５は炉の出口側に炉体３２
に密着させて取り付けたもので、下方にガスを噴出する
スリット３６が形成されている。図５は下部ブロック３
５の拡大図であるが、図中に示すＤ１その他の値は、Ｄ
１＝１５ｍｍ、Ｌ１＝３０ｍｍ、Ｄ２＝５ｍｍ、Ｌ２＝
２０ｍｍである。差圧計３９は炉内空間３４内の、下部
ブロック３５上部の圧力Ｐ３と、下部ブロック３５内で
スリット３６より上方の部分の圧力Ｐ４との差圧を測定
するものである。この差圧計３９とガス流量調整器３７
とは接続されており、差圧計３９からの信号により流量
が調整できるようにしてある。尚、スリット３６から吹
き出させるガスはＡｒ、Ｎ2 等の不活性ガスである。
に密着させて取り付けたもので、下方にガスを噴出する
スリット３６が形成されている。図５は下部ブロック３
５の拡大図であるが、図中に示すＤ１その他の値は、Ｄ
１＝１５ｍｍ、Ｌ１＝３０ｍｍ、Ｄ２＝５ｍｍ、Ｌ２＝
２０ｍｍである。差圧計３９は炉内空間３４内の、下部
ブロック３５上部の圧力Ｐ３と、下部ブロック３５内で
スリット３６より上方の部分の圧力Ｐ４との差圧を測定
するものである。この差圧計３９とガス流量調整器３７
とは接続されており、差圧計３９からの信号により流量
が調整できるようにしてある。尚、スリット３６から吹
き出させるガスはＡｒ、Ｎ2 等の不活性ガスである。
【００４７】スリット３６は、概ね円錐台状の面に挟ま
れた狭いスリットで、幅Ｃは０．５ｍｍである。またス
リット３６の垂直方向に対する角度θ（吹き出し角度）
は１５°に設定してある。幅Ｃはあまり狭いとガスの吹
き出し流速が速くなり過ぎて、光ファイバ１６に振動を
与えることがあり、一方、あまり広過ぎるとガス流量を
相当に大きくしないと流速が不足するため、概ね幅Ｃは
０．３〜１．０ｍｍ程度が適当である。また吹き出し角
度θは、ある程度小さい値である方が背圧を生じさせ、
上記Ｐ３をＰ４より大きくする効果が高いが、一方光フ
ァイバ１６の振動への影響を考慮すると、概ね５〜２０
°程度が適当である。
れた狭いスリットで、幅Ｃは０．５ｍｍである。またス
リット３６の垂直方向に対する角度θ（吹き出し角度）
は１５°に設定してある。幅Ｃはあまり狭いとガスの吹
き出し流速が速くなり過ぎて、光ファイバ１６に振動を
与えることがあり、一方、あまり広過ぎるとガス流量を
相当に大きくしないと流速が不足するため、概ね幅Ｃは
０．３〜１．０ｍｍ程度が適当である。また吹き出し角
度θは、ある程度小さい値である方が背圧を生じさせ、
上記Ｐ３をＰ４より大きくする効果が高いが、一方光フ
ァイバ１６の振動への影響を考慮すると、概ね５〜２０
°程度が適当である。
【００４８】さて、光ファイバ用母材１５（外径１００
ｍｍ）を線速１０００ｍ／ｍｉｎで線引する際に、炉内
空間３４の温度を２２００℃、炉内空間３４に導入する
ガスを、Ａｒガスを５ｌ／ｍｉｎ、Ｈｅガスを１０ｌ／
ｍｉｎとした。
ｍｍ）を線速１０００ｍ／ｍｉｎで線引する際に、炉内
空間３４の温度を２２００℃、炉内空間３４に導入する
ガスを、Ａｒガスを５ｌ／ｍｉｎ、Ｈｅガスを１０ｌ／
ｍｉｎとした。
【００４９】ガス流量調整器３７によりスリット３６か
らの吹き出し量を調整することで、Ｐ３とＰ４との差圧
を制御することが容易にできる。この本発明例では吹き
出し量を４ｌ／ｍｉｎとすることで、Ｐ３とＰ４との差
圧を概ね１Ｐａに維持することができた。従って炉内空
間３４内に外気が侵入することが極力防止でき、健全な
光ファイバを製造することができた。製造した光ファイ
バの断線回数は平均１６０ｋｍに１回であり、また炉心
管１２の寿命は２週間程度であった。
らの吹き出し量を調整することで、Ｐ３とＰ４との差圧
を制御することが容易にできる。この本発明例では吹き
出し量を４ｌ／ｍｉｎとすることで、Ｐ３とＰ４との差
圧を概ね１Ｐａに維持することができた。従って炉内空
間３４内に外気が侵入することが極力防止でき、健全な
光ファイバを製造することができた。製造した光ファイ
バの断線回数は平均１６０ｋｍに１回であり、また炉心
管１２の寿命は２週間程度であった。
【００５０】尚、上述の例では上記吹き出し量を４ｌ／
ｍｉｎとしたが、光ファイバ用母材１５の線引に伴う径
の変動や線速の変動に対し吹き出し量を適当に調整する
ことで、上記差圧の変動を一層抑制することも可能であ
る。
ｍｉｎとしたが、光ファイバ用母材１５の線引に伴う径
の変動や線速の変動に対し吹き出し量を適当に調整する
ことで、上記差圧の変動を一層抑制することも可能であ
る。
【００５１】従来例２
従来例として図９に示すような光ファイバ線引炉１１１
を用いて光ファイバ用母材１１５の線引を行った。図８
に示す従来例１の光ファイバ線引炉１０１と異なるの
は、炉の上部にガス吹き出し部１２０を設けた点であ
る。このガス吹き出し部１２０は、炉の上部からの外気
の侵入を防止するためのものである。
を用いて光ファイバ用母材１１５の線引を行った。図８
に示す従来例１の光ファイバ線引炉１０１と異なるの
は、炉の上部にガス吹き出し部１２０を設けた点であ
る。このガス吹き出し部１２０は、炉の上部からの外気
の侵入を防止するためのものである。
【００５２】光ファイバ用母材１１５は外径１００ｍｍ
で、線速は１０００ｍ／ｍｉｎ、炉内空間１０８の温度
は２２００℃、炉内空間１１８に導入するガスを、Ａｒ
ガスを５ｌ／ｍｉｎ、Ｈｅガスを１０ｌ／ｍｉｎとし
た。また、ガス吹き出し部１２０からはＡｒガスを２０
ｌ／ｍｉｎ吹き出した。この条件で線引を行ったとこ
ろ、炉内空間１１８の圧力と外気圧との差圧が−１Ｐａ
程度と負圧になった。従って炉内空間１１８に炉の下部
から外気が多く侵入し、その結果、炉心管１１２その他
の酸化劣化を招いた。製造された光ファイバの断線回数
は平均７０ｋｍに１回であり、また炉心管１１２の寿命
は３日程度となった。
で、線速は１０００ｍ／ｍｉｎ、炉内空間１０８の温度
は２２００℃、炉内空間１１８に導入するガスを、Ａｒ
ガスを５ｌ／ｍｉｎ、Ｈｅガスを１０ｌ／ｍｉｎとし
た。また、ガス吹き出し部１２０からはＡｒガスを２０
ｌ／ｍｉｎ吹き出した。この条件で線引を行ったとこ
ろ、炉内空間１１８の圧力と外気圧との差圧が−１Ｐａ
程度と負圧になった。従って炉内空間１１８に炉の下部
から外気が多く侵入し、その結果、炉心管１１２その他
の酸化劣化を招いた。製造された光ファイバの断線回数
は平均７０ｋｍに１回であり、また炉心管１１２の寿命
は３日程度となった。
【００５３】この従来例において、ガス導入口１１７か
ら炉内空間１１８に導入するガス量を、Ａｒガスを１０
ｌ／ｍｉｎ、Ｈｅガスを１０ｌ／ｍｉｎと増大させれ
ば、炉内空間１１８の圧力と外気圧との差圧を正圧に維
持することが可能であった。しかしこの場合、炉内空間
１１８の温度を２２５０℃に上昇させる必要があり、こ
れにより炉心管１１２等の劣化が促進され、結局、炉心
管１１２の寿命は１週間程度となり、また製造された光
ファイバの断線回数は平均１００ｋｍに１回となった。
ら炉内空間１１８に導入するガス量を、Ａｒガスを１０
ｌ／ｍｉｎ、Ｈｅガスを１０ｌ／ｍｉｎと増大させれ
ば、炉内空間１１８の圧力と外気圧との差圧を正圧に維
持することが可能であった。しかしこの場合、炉内空間
１１８の温度を２２５０℃に上昇させる必要があり、こ
れにより炉心管１１２等の劣化が促進され、結局、炉心
管１１２の寿命は１週間程度となり、また製造された光
ファイバの断線回数は平均１００ｋｍに１回となった。
【００５４】上述した本発明例３と従来例２の結果を比
較すれば判るように、本発明の光ファイバ線引炉を用い
れば、炉内空間への外気の侵入が抑制され、優れた光フ
ァイバが得られる。また炉心管その他の寿命も伸び、製
造コストの低減にも寄与していることが判る。
較すれば判るように、本発明の光ファイバ線引炉を用い
れば、炉内空間への外気の侵入が抑制され、優れた光フ
ァイバが得られる。また炉心管その他の寿命も伸び、製
造コストの低減にも寄与していることが判る。
【００５５】本発明例４
本発明例４は、図５の下部ブロック３４に替わり、図６
に示すような下部ブロック４０を設けた例である。下部
ブロック４０は、シャッター４１とノズル部４２とから
なる分割型である。図中のサイズは、Ｄ５＝６ｍｍ，Ｌ
５＝２１ｍｍ，Ｄ６＝６ｍｍ、Ｌ６＝２０ｍｍである。
差圧計３９は炉内空間３４の下部ブロック４０上部の圧
力Ｐ５と、下部ブロック４０内でスリット４３より上方
の部分の圧力Ｐ６との差圧を測定するものである。この
差圧計３９とパイプ３８に接続されている図示しないガ
ス流量調整器とは接続されており、差圧計３９からの信
号により流量が調整できるようにしてある。尚、スリッ
ト４３から吹き出させるガスはＡｒ、Ｎ2 等の不活性ガ
スである。
に示すような下部ブロック４０を設けた例である。下部
ブロック４０は、シャッター４１とノズル部４２とから
なる分割型である。図中のサイズは、Ｄ５＝６ｍｍ，Ｌ
５＝２１ｍｍ，Ｄ６＝６ｍｍ、Ｌ６＝２０ｍｍである。
差圧計３９は炉内空間３４の下部ブロック４０上部の圧
力Ｐ５と、下部ブロック４０内でスリット４３より上方
の部分の圧力Ｐ６との差圧を測定するものである。この
差圧計３９とパイプ３８に接続されている図示しないガ
ス流量調整器とは接続されており、差圧計３９からの信
号により流量が調整できるようにしてある。尚、スリッ
ト４３から吹き出させるガスはＡｒ、Ｎ2 等の不活性ガ
スである。
【００５６】スリット４３は概ね円錐台状の面に挟まれ
た狭いスリットで、幅Ｃは０．３ｍｍである。またスリ
ット４３の吹き出し角度θは１０°に設定してある。こ
のスリット４３からの吹き出し量を調整することで、Ｐ
５とＰ６との差圧を制御することが容易にできる。この
本発明例では吹き出し量を２〜４ｌ／ｍｉｎの範囲で調
整したところ、Ｐ５はＰ６に対し概ね１Ｐａ程度の正圧
が維持でき、従って炉内空間３４内に外気が侵入するこ
とが極力防止でき、健全な光ファイバを製造することが
できた。
た狭いスリットで、幅Ｃは０．３ｍｍである。またスリ
ット４３の吹き出し角度θは１０°に設定してある。こ
のスリット４３からの吹き出し量を調整することで、Ｐ
５とＰ６との差圧を制御することが容易にできる。この
本発明例では吹き出し量を２〜４ｌ／ｍｉｎの範囲で調
整したところ、Ｐ５はＰ６に対し概ね１Ｐａ程度の正圧
が維持でき、従って炉内空間３４内に外気が侵入するこ
とが極力防止でき、健全な光ファイバを製造することが
できた。
【００５７】本発明例５
本発明例５は、図４の下部ブロック３５に替わり、図７
（ア）（イ）に示すような下部ブロック４４を取り付け
た光ファイバ線引炉を用いた例である。（ア）は正面断
面図、（イ）は平面図である。図中のサイズは、Ｄ７＝
１５ｍｍ、Ｌ７＝３０ｍｍ、Ｄ８＝５ｍｍ、Ｌ８＝２０
ｍｍである。符号３９は差圧計、３８はガスを送り込む
パイプである。
（ア）（イ）に示すような下部ブロック４４を取り付け
た光ファイバ線引炉を用いた例である。（ア）は正面断
面図、（イ）は平面図である。図中のサイズは、Ｄ７＝
１５ｍｍ、Ｌ７＝３０ｍｍ、Ｄ８＝５ｍｍ、Ｌ８＝２０
ｍｍである。符号３９は差圧計、３８はガスを送り込む
パイプである。
【００５８】図４の下部ブロック３５のスリット３６に
替え、図７の例では、孔状のものになっている。（イ）
に示されるように、この孔４５は概ね放射状に８個設け
られている。孔４５は径１ｍｍで、吹き出し角度θ（図
示せず）は１５°である。
替え、図７の例では、孔状のものになっている。（イ）
に示されるように、この孔４５は概ね放射状に８個設け
られている。孔４５は径１ｍｍで、吹き出し角度θ（図
示せず）は１５°である。
【００５９】この本発明例５においても、吹き出し量を
適度に調整することで炉内空間３４内に外気が侵入する
ことが極力防止でき、健全な光ファイバを製造すること
ができた。
適度に調整することで炉内空間３４内に外気が侵入する
ことが極力防止でき、健全な光ファイバを製造すること
ができた。
【００６０】
【発明の効果】以上のように本発明の光ファイバ線引炉
は、炉内に導入するガス量を多くしなくても、炉内への
外気の侵入を極力抑制でき、効率的に光ファイバを線引
することを可能とするものである。また、炉心管その他
の寿命の増大にも寄与し、生産コストの低減も期待でき
るものである。
は、炉内に導入するガス量を多くしなくても、炉内への
外気の侵入を極力抑制でき、効率的に光ファイバを線引
することを可能とするものである。また、炉心管その他
の寿命の増大にも寄与し、生産コストの低減も期待でき
るものである。
【図１】本発明に係わる光ファイバ線引炉と、それを用
いた線引工程を説明する説明図である。
いた線引工程を説明する説明図である。
【図２】図１の一部拡大図である。
【図３】本発明に係わる光ファイバ線引炉の一部を説明
する説明図である。
する説明図である。
【図４】本発明に係わる光ファイバ線引方法において使
用する、光ファイバ線引炉の一例を説明する説明図であ
る。
用する、光ファイバ線引炉の一例を説明する説明図であ
る。
【図５】図４の下部ブロック３４の拡大図である。
【図６】本発明に係わる光ファイバ線引方法において使
用する、光ファイバ線引炉の一例を説明する説明図であ
る。
用する、光ファイバ線引炉の一例を説明する説明図であ
る。
【図７】本発明に係わる光ファイバ線引方法において使
用する、光ファイバ線引炉の一例を説明する説明図であ
る。
用する、光ファイバ線引炉の一例を説明する説明図であ
る。
【図８】従来の光ファイバ線引炉と、それを用いた線引
工程を説明する説明図である。
工程を説明する説明図である。
【図９】従来の光ファイバ線引炉と、それを用いた線引
工程を説明する説明図である。
工程を説明する説明図である。
１１ 光ファイバ線引炉
１２ 炉心管
１３ ヒーター
１４ 炉体
１５ 光ファイバ用母材
１６ 光ファイバ
１７ ガス導入部
１８ 炉内空間
１９ 吸引口
２０ シャッター
２１ シャッター
２２ 吸引室
２３ 吸引ポンプ
２４ ガス流量調整器
２５ 差圧計
２５１ 測定ポート
２５２ 測定ポート
２６ 上開口部
２７ 下開口部
２８ 下部ブロック
２９ 吸引室
３０ 光ファイバ線引炉
３１ 炉心管
３２ 炉体
３３ ヒーター
３４ 炉内空間
３５ 下部ブロック
３６ スリット
３７ ガス流量調整器
３８ パイプ
３９ 差圧計
３９１ 測定ポート
３９２ 測定ポート
４０ 下部ブロック
４１ シャッター
４２ ノズル部
４３ スリット
４４ 下部ブロック
４５ 孔
１０１ 光ファイバ線引炉
１０２ 炉心管
１０３ ヒーター
１０４ 炉体
１０５ 光ファイバ用母材
１０６ 光ファイバ
１０７ ガス導入部
１０８ 炉内空間
１０９ シャッター
１１１ 光ファイバ線引炉
１１２ 炉心管
１１３ ヒーター
１１４ 炉体
１１５ 光ファイバ用母材
１１６ 光ファイバ
１１７ ガス導入部
１１８ 炉内空間
１１９ シャッター
１２０ ガス吹き出し部
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 昭60−137841（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−243532（ＪＰ，Ａ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C03B 37/029
C03B 37/027
Claims (5)
- 【請求項１】 光ファイバ用母材を加熱・溶融して線引さ
れた光ファイバが下方に引き出される光ファイバ線引炉
において、前記線引炉の出口側に吸引室が設けられ、前
記吸引室は引き出される光ファイバが通過する上開口孔
と下開口孔とを有し、前記上開口孔の径Ｄ１、長さＬ１
は、前記下開口孔の径Ｄ２、長さＬ２に対しＬ１／Ｄ１
＜Ｌ２／Ｄ２の関係にあり、前記吸引室には吸引ポンプ
が接続されていることを特徴とする光ファイバ線引炉。 - 【請求項２】 光ファイバ用母材を加熱・溶融して線引さ
れた光ファイバが下方に引き出される光ファイバ線引炉
の出口側に吸引室が設けられ、前記吸引室は引き出され
る光ファイバが通過する上開口孔と下開口孔とを有し、
前記上開口孔の径Ｄ１、長さＬ１は、前記下開口孔の径
Ｄ２、長さＬ２に対しＬ１／Ｄ１＜Ｌ２／Ｄ２の関係に
あり、前記吸引室に吸引ポンプが接続されている光ファ
イバ線引炉を用いて、前記吸引室上方の炉内の圧力をＰ
１、前記吸引室内の圧力をＰ２としたとき、Ｐ１＞Ｐ２
になるように制御しながら光ファイバを線引する、光フ
ァイバ線引方法。 - 【請求項３】 Ｐ１−Ｐ２の値をほぼ一定に保ちながら光
ファイバを線引きする、請求項２に記載の光ファイバ線
引方法。 - 【請求項４】 光ファイバ用ガラス母材を加熱・溶融して
線引された光ファイバが下方に引き出される炉の出口側
近傍に、下方にガスを噴出するガス吹き出し部を備えた
下部ブロックを設けた光ファイバ線引炉を用いて、前記
下部ブロック上方の炉内の圧力をＰ３、前記下部ブロッ
ク内で前記ガス吹き出し部より上方の空間の圧力をＰ４
としたとき、Ｐ３＞Ｐ４になるように吹き出しガス量を
制御しながら光ファイバを線引する、光ファイバ線引方
法。 - 【請求項５】 Ｐ３−Ｐ４の値をほぼ一定に保ちながら光
ファイバを線引きする、請求項４に記載の光ファイバ線
引方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20893798A JP3481466B2 (ja) | 1997-07-24 | 1998-07-24 | 光ファイバ線引炉、およびそれを用いた光ファイバ線引方法 |
| US09/245,340 US6192715B1 (en) | 1997-07-24 | 1999-02-05 | Furnace for forming optical fiber |
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19764997 | 1997-07-24 | ||
| JP9-197649 | 1997-07-24 | ||
| JP20893798A JP3481466B2 (ja) | 1997-07-24 | 1998-07-24 | 光ファイバ線引炉、およびそれを用いた光ファイバ線引方法 |
| US09/245,340 US6192715B1 (en) | 1997-07-24 | 1999-02-05 | Furnace for forming optical fiber |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1192165A JPH1192165A (ja) | 1999-04-06 |
| JP3481466B2 true JP3481466B2 (ja) | 2003-12-22 |
Family
ID=27327397
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20893798A Expired - Lifetime JP3481466B2 (ja) | 1997-07-24 | 1998-07-24 | 光ファイバ線引炉、およびそれを用いた光ファイバ線引方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6192715B1 (ja) |
| JP (1) | JP3481466B2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| FR2802916B1 (fr) * | 1999-12-27 | 2002-03-15 | Cit Alcatel | Agencement d'entree de preforme pour four de tirage de fibre optique, four dote d'un tel agencement et preforme equipee pour cooperer avec cet agencement |
| KR100393612B1 (ko) * | 2001-01-29 | 2003-08-02 | 삼성전자주식회사 | 비접촉식으로 광섬유 편광모드분산 제어를 위한 광섬유인출 장치 |
| US20030044743A1 (en) * | 2001-08-28 | 2003-03-06 | Bookbinder Dana C. | Furnace assembly for heating an optical waveguide preform |
| US20030041628A1 (en) * | 2001-09-05 | 2003-03-06 | Bird Lindwood A. | Furnaces having dual gas screens and methods for operating the same |
| JP2003212581A (ja) * | 2002-01-21 | 2003-07-30 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 偏波保持ファイバの製造方法 |
| KR100545814B1 (ko) * | 2002-08-31 | 2006-01-24 | 엘에스전선 주식회사 | 광섬유 인선 용해로 및 이를 이용한 광섬유 인선방법 |
| FI113758B (fi) * | 2002-12-05 | 2004-06-15 | Nextrom Holding Sa | Menetelmä ja laite optisten kuitujen valmistamiseksi |
| JP4845034B2 (ja) * | 2004-12-27 | 2011-12-28 | 古河電気工業株式会社 | ガラス条の製造方法 |
| US20070113589A1 (en) * | 2005-11-18 | 2007-05-24 | Paganessi Joseph E | Gas Control Device and Corresponding Method for Recovering Coolant Gases in a Fiber Coolant System |
| KR100812468B1 (ko) * | 2006-02-13 | 2008-03-10 | 엘에스전선 주식회사 | 오버 클래딩 장치 및 오버 클래딩 방법 |
| KR101271559B1 (ko) * | 2006-04-14 | 2013-06-11 | 가부시키가이샤 선 엔지니어링 | 흡진 장치 |
| ES2706877T3 (es) | 2014-11-13 | 2019-04-01 | Gerresheimer Glas Gmbh | Filtro de partículas de máquina para conformar vidrio, unidad de émbolo, cabeza de soplado, soporte de cabeza de soplado y máquina para conformar vidrio adaptada a dicho filtro o que lo comprende |
| US10308544B2 (en) * | 2015-10-13 | 2019-06-04 | Corning Incorporated | Gas reclamation system for optical fiber production |
| JP6965567B2 (ja) * | 2017-05-15 | 2021-11-10 | 住友電気工業株式会社 | 光ファイバ線引装置および光ファイバ線引方法 |
| WO2024129478A1 (en) * | 2022-12-16 | 2024-06-20 | Corning Incorporated | Glass manufacturing apparatus and methods of manufacturing a glass article |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57140330A (en) | 1981-02-23 | 1982-08-30 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Spinning method for optical fiber |
| JPS59153332A (ja) | 1983-02-22 | 1984-09-01 | Nec Ic Microcomput Syst Ltd | 半導体論理回路 |
| US4673428A (en) * | 1985-12-17 | 1987-06-16 | Owens-Corning Fiberglas Corporation | Method and apparatus for forming glass fibers |
| JPH0784333B2 (ja) | 1987-07-13 | 1995-09-13 | 住友電気工業株式会社 | 光フアイバ線引炉 |
| JPH0292838A (ja) | 1988-09-29 | 1990-04-03 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 光ファイバ線引用加熱炉 |
| JPH09142892A (ja) * | 1995-11-28 | 1997-06-03 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 被覆光ファイバの製造装置及び製造方法 |
| US5974838A (en) * | 1998-07-07 | 1999-11-02 | Alcatel | Optical fiber graphite furnace featuring an automatic shutter door system for feeding an optical preform |
-
1998
- 1998-07-24 JP JP20893798A patent/JP3481466B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-02-05 US US09/245,340 patent/US6192715B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH1192165A (ja) | 1999-04-06 |
| US6192715B1 (en) | 2001-02-27 |
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