JPH1190232A - オキシ塩素化用触媒の製造方法 - Google Patents
オキシ塩素化用触媒の製造方法Info
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- JPH1190232A JPH1190232A JP9253668A JP25366897A JPH1190232A JP H1190232 A JPH1190232 A JP H1190232A JP 9253668 A JP9253668 A JP 9253668A JP 25366897 A JP25366897 A JP 25366897A JP H1190232 A JPH1190232 A JP H1190232A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- ethylene
- alkaline earth
- oxygen
- reaction
- Prior art date
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 Ｃｕ−Ａｌ−Ｃｌ共沈触媒に、アルカリ
土類金属の少なくとも一種の金属元素を担持することに
より製造した触媒の存在下に、エチレンおよび塩化水素
と、酸素または酸素含有ガスとを、１５０℃〜３５０℃
の温度で流動床または固定床で反応させることを特徴と
する１，２−ジクロルエタンの製造方法。 【効果】 アルカリ土類金属元素を担持する事により、
触媒の流動性が向上し、塩化水素の高転化率におけると
きのエチレンの燃焼率が約半分になる。
土類金属の少なくとも一種の金属元素を担持することに
より製造した触媒の存在下に、エチレンおよび塩化水素
と、酸素または酸素含有ガスとを、１５０℃〜３５０℃
の温度で流動床または固定床で反応させることを特徴と
する１，２−ジクロルエタンの製造方法。 【効果】 アルカリ土類金属元素を担持する事により、
触媒の流動性が向上し、塩化水素の高転化率におけると
きのエチレンの燃焼率が約半分になる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、エチレンのオキシ
塩素化用触媒の製造方法、およびその触媒を使用した
１，２−ジクロルエタンの製造方法に関するものであ
る。
塩素化用触媒の製造方法、およびその触媒を使用した
１，２−ジクロルエタンの製造方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】オキシ塩素化法による脂肪族炭化水素の
塩素化には一般に、多孔質なアルミナ、シリカアルミ
ナ、粘土などの不活性担体に金属塩を担持させた触媒が
用いられている。特にエチレンのオキシクロリネーショ
ンによる１，２−ジクロルエタンの製造には、工業的に
は古くから塩化第二銅をアルミナ担体に担持させた触媒
が用いられる。
塩素化には一般に、多孔質なアルミナ、シリカアルミ
ナ、粘土などの不活性担体に金属塩を担持させた触媒が
用いられている。特にエチレンのオキシクロリネーショ
ンによる１，２−ジクロルエタンの製造には、工業的に
は古くから塩化第二銅をアルミナ担体に担持させた触媒
が用いられる。
【０００３】しかしこの触媒は活性成分が揮発し活性の
低下を引き起こす。また、この活性成分が反応中に粘着
性を有することから、特に流動床においては、この表面
での粘着性により流動状態の悪化を引き起こし、その結
果、触媒層の温度分布が不均一となり高温部においてエ
チレンの燃焼反応が進行し易くなるなどの工業上極めて
重要な問題を抱えている。
低下を引き起こす。また、この活性成分が反応中に粘着
性を有することから、特に流動床においては、この表面
での粘着性により流動状態の悪化を引き起こし、その結
果、触媒層の温度分布が不均一となり高温部においてエ
チレンの燃焼反応が進行し易くなるなどの工業上極めて
重要な問題を抱えている。
【０００４】これらの問題は一般に活性成分である塩化
第二銅が還元状態において融点の低い塩化第一銅となる
ことから生じる。そこで問題を解決するために例えば特
開平０２−２２５４２９に開示されているように、触媒
をシリカやアルミナ等の不活性な担体で希釈したり、触
媒表面の銅濃度をコントロールする事で触媒粘着性を抑
えている。また特開平０２−２１１２５１および特公平
０３−３９７４０の様にアルカリ金属、アルカリ土類金
属または希土類金属等の成分を添加することにより融点
を実質的に引き上げ、揮発または粘着性を抑制してい
る。しかしながら、これらの触媒は含浸触媒であるがた
めに、必然的に表面における活性成分の濃度が高く、問
題を解決するには十分ではない。このため特公昭４９−
５１１９ではアンモニアの存在下でアルミナヒドロゲル
中に水酸化銅微粒子を高分散させることにより改善がな
されている。しかしながら完全には問題を解決するには
至っておらず、更なる改善が期待されている。
第二銅が還元状態において融点の低い塩化第一銅となる
ことから生じる。そこで問題を解決するために例えば特
開平０２−２２５４２９に開示されているように、触媒
をシリカやアルミナ等の不活性な担体で希釈したり、触
媒表面の銅濃度をコントロールする事で触媒粘着性を抑
えている。また特開平０２−２１１２５１および特公平
０３−３９７４０の様にアルカリ金属、アルカリ土類金
属または希土類金属等の成分を添加することにより融点
を実質的に引き上げ、揮発または粘着性を抑制してい
る。しかしながら、これらの触媒は含浸触媒であるがた
めに、必然的に表面における活性成分の濃度が高く、問
題を解決するには十分ではない。このため特公昭４９−
５１１９ではアンモニアの存在下でアルミナヒドロゲル
中に水酸化銅微粒子を高分散させることにより改善がな
されている。しかしながら完全には問題を解決するには
至っておらず、更なる改善が期待されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の課題
は、活性低下を引き起こすことなく、エチレンの燃焼反
応を抑え、１，２−ジクロルエタンを高収率で得られる
触媒を提供する事である。
は、活性低下を引き起こすことなく、エチレンの燃焼反
応を抑え、１，２−ジクロルエタンを高収率で得られる
触媒を提供する事である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、Ｃｕ−Ａｌ−
Ｃｌ共沈触媒に、アルカリ土類金属の少なくとも一種の
金属元素を担持することを特徴とするエチレンのオキシ
塩素化用触媒の製造方法である。また、本発明は、この
方法によって製造されたエチレンのオキシ塩素化用触媒
を提供するものである。また、本発明は、Ｃｕ−Ａｌ−
Ｃｌ共沈触媒にアルカリ土類金属の少なくとも一種の金
属元素を担持することにより製造した触媒の存在下に、
エチレンおよび塩化水素と、酸素または酸素含有ガスと
を、１５０℃〜３５０℃の温度で流動床または固定床で
反応させることを特徴とする１，２−ジクロルエタンの
製造方法である。
Ｃｌ共沈触媒に、アルカリ土類金属の少なくとも一種の
金属元素を担持することを特徴とするエチレンのオキシ
塩素化用触媒の製造方法である。また、本発明は、この
方法によって製造されたエチレンのオキシ塩素化用触媒
を提供するものである。また、本発明は、Ｃｕ−Ａｌ−
Ｃｌ共沈触媒にアルカリ土類金属の少なくとも一種の金
属元素を担持することにより製造した触媒の存在下に、
エチレンおよび塩化水素と、酸素または酸素含有ガスと
を、１５０℃〜３５０℃の温度で流動床または固定床で
反応させることを特徴とする１，２−ジクロルエタンの
製造方法である。
【０００７】
【発明の実施の形態】Ｃｕ−Ａｌ−Ｃｌ共沈触媒の調製
法は、例えば塩化銅１４．４ｇに対して水３１７ｇ、３
６％ＨＣｌ溶液３５〜１６７ｇを混合溶解したＡ液と、
水酸化アルミニウム２７〜１１０ｇ、ＮａＯＨ１８〜７
３ｇ、水３４〜１３５ｇを混合溶解したＢ液を、純水３
００ｇ中に同時に供給し、Ｃｕ−Ａｌ−Ｃｌ系の共沈ス
ラリーを生成させ、スラリー生成後、２０〜４０℃で２
４〜４８時間熟成後、このスラリーを濾過する。濾過し
たケーキを再び純水中に分散し、このリスラリーを噴霧
乾燥により、１００〜１５０℃で３〜２４時間乾燥後、
更に３００〜６００℃で３〜２４時間焼成することによ
り行うことができる。本発明で使用する銅の金属塩は、
塩化物、硝酸塩または硫酸塩の何れでも良い。
法は、例えば塩化銅１４．４ｇに対して水３１７ｇ、３
６％ＨＣｌ溶液３５〜１６７ｇを混合溶解したＡ液と、
水酸化アルミニウム２７〜１１０ｇ、ＮａＯＨ１８〜７
３ｇ、水３４〜１３５ｇを混合溶解したＢ液を、純水３
００ｇ中に同時に供給し、Ｃｕ−Ａｌ−Ｃｌ系の共沈ス
ラリーを生成させ、スラリー生成後、２０〜４０℃で２
４〜４８時間熟成後、このスラリーを濾過する。濾過し
たケーキを再び純水中に分散し、このリスラリーを噴霧
乾燥により、１００〜１５０℃で３〜２４時間乾燥後、
更に３００〜６００℃で３〜２４時間焼成することによ
り行うことができる。本発明で使用する銅の金属塩は、
塩化物、硝酸塩または硫酸塩の何れでも良い。
【０００８】アルカリ土類金属の担持方法は、焼成後の
Ｃｕ−Ａｌ−Ｃｌ共沈触媒に、アルカリ土類金属として
０．１〜１０ｗｔ％になるようにアルカリ土類金属塩の
水溶液を含浸させ、１００〜１５０℃で３〜１０時間乾
燥後、３００〜６００℃で３〜１０時間焼成する。ま
た、含浸金属元素は塩化物、硝酸塩、炭酸塩、硫酸塩、
酢酸塩、アンモニウム塩等一般使用される金属塩が用い
られる。特に硝酸塩または塩化物が好ましい。
Ｃｕ−Ａｌ−Ｃｌ共沈触媒に、アルカリ土類金属として
０．１〜１０ｗｔ％になるようにアルカリ土類金属塩の
水溶液を含浸させ、１００〜１５０℃で３〜１０時間乾
燥後、３００〜６００℃で３〜１０時間焼成する。ま
た、含浸金属元素は塩化物、硝酸塩、炭酸塩、硫酸塩、
酢酸塩、アンモニウム塩等一般使用される金属塩が用い
られる。特に硝酸塩または塩化物が好ましい。
【０００９】本発明の触媒は、Ｃｕ−Ａｌ−Ｃｌ共沈触
媒にアルカリ土類金属を担持させた触媒で、触媒全重量
に対し金属銅として３〜２０ｗｔ％、好ましくは６〜１
５ｗｔ％、Ｃｌとして３〜１５ｗｔ％、好ましくは４〜
１０ｗｔ％、その他は主としてアルミナもしくは含水ア
ルミナを含有する。アルカリ土類金属としては、マグネ
シウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムであ
り、担持量は触媒全重量に対し、０．１〜１０ｗｔ％、
好ましくは０．２〜６ｗｔ％である。
媒にアルカリ土類金属を担持させた触媒で、触媒全重量
に対し金属銅として３〜２０ｗｔ％、好ましくは６〜１
５ｗｔ％、Ｃｌとして３〜１５ｗｔ％、好ましくは４〜
１０ｗｔ％、その他は主としてアルミナもしくは含水ア
ルミナを含有する。アルカリ土類金属としては、マグネ
シウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウムであ
り、担持量は触媒全重量に対し、０．１〜１０ｗｔ％、
好ましくは０．２〜６ｗｔ％である。
【００１０】オキシ塩素化方法は、エチレンと塩化水
素、酸素または酸素含有ガスと不活性ガス（無くても良
い）を反応温度１５０〜３５０℃、大気圧〜０．５ＭＰ
ａの圧力下、ＧＨＳＶ１，０００〜５，０００／ｈｒで
触媒の存在下で反応させる。
素、酸素または酸素含有ガスと不活性ガス（無くても良
い）を反応温度１５０〜３５０℃、大気圧〜０．５ＭＰ
ａの圧力下、ＧＨＳＶ１，０００〜５，０００／ｈｒで
触媒の存在下で反応させる。
【００１１】１，２−ジクロルエタン（ＥＤＣと略称す
る。）の選択率は、消費したエチレンのモル数に対す
る、生成した１，２−ＥＤＣのモル数から計算する。
る。）の選択率は、消費したエチレンのモル数に対す
る、生成した１，２−ＥＤＣのモル数から計算する。
【００１２】
【数１】ＥＤＣの選択率＝１００＊1,2-ＥＤＣ／（仕込
みエチレン−未反応エチレン） エチレンの燃焼率は、消費したエチレンのモル数に対す
る、生成した反応器出口のＣＯおよびＣＯ2 の生成モル
数から計算する。
みエチレン−未反応エチレン） エチレンの燃焼率は、消費したエチレンのモル数に対す
る、生成した反応器出口のＣＯおよびＣＯ2 の生成モル
数から計算する。
【００１３】
【数２】エチレンの燃焼率＝１００＊｛（ＣＯ＋Ｃ
Ｏ2）／２｝／（仕込みエチレン−未反応エチレン）
Ｏ2）／２｝／（仕込みエチレン−未反応エチレン）
【００１４】
【実施例】本発明を以下、実施例によりさらに具体的に
説明する。 触媒の製造方法 触媒Ｂ 塩化銅２．８ｇ、塩化マグネシウム４．２ｇを水３０ｇ
に混合溶解し、その溶液にガンマーアルミナ（フジミイ
ンコーポレッド Ｓ−１１）３０ｇを浸漬し、風乾後、
１５０℃で３時間乾燥後、４００℃で５時間焼成した。
この触媒を、触媒Ｂとした。触媒Ｂを打錠、破砕後、篩
いで篩い分けて２０〜４２メッシュを取り出し使用し
た。調製後の触媒の組成は表１に示した。この触媒は一
般に工業用に使用されている代表的な触媒である。 触媒Ｃ 塩化銅１４．４ｇ、３６％ＨＣｌ溶液９１ｇ、水３１７
ｇを混合溶解しＡ液を調製した。水酸化アルミニウム６
２ｇ、ＮａＯＨ４１．５ｇ、水７７ｇを混合溶解させＢ
液を調製した。同時にＡ液、Ｂ液を純水３００ｇ中に供
給し反応させた。生成したスラリーを濾過後、ケーキを
純水に分散し、リスラリーさせて噴霧乾燥させた。この
粉体を１５０℃で乾燥後、更に４００℃で焼成した。こ
の触媒を、触媒Ｃとした。 触媒Ｉ 焼成後の触媒Ｃ３０ｇを３．９％塩化マグネシウム水溶
液４０ｇに浸し１５０℃で乾燥後、更に４００℃で焼成
した。この触媒を、触媒Ｉとした。組成を表１に示し
た。 触媒Ｊ 焼成後の触媒Ｃ３０ｇを２．７７％塩化カルシウム水溶
液４０ｇに浸し１５０℃で乾燥後、更に４００℃で焼成
した。この触媒を、触媒Ｊとした。組成を表１に示し
た。 触媒Ｋ 焼成後の触媒Ｃ３０ｇを１．８１％塩化ストロンチウム
水溶液４０ｇに浸し１５０℃で乾燥後、更に４００℃で
焼成した。この触媒を、触媒Ｋとした。組成を表１に示
した。 触媒Ｌ 焼成後の触媒Ｃ３０ｇを１．５２％塩化バリウム水溶液
４０ｇに浸し１５０℃で乾燥後、更に４００℃で焼成し
た。この触媒を、触媒Ｌとした。組成を表１に示した。 触媒Ｓ 塩化銅１４．４ｇ、３６％ＨＣｌ溶液６４ｇ、水３１７
ｇを混合溶解しＡ液を調製した。水酸化アルミニウム４
６ｇ、ＮａＯＨ３０．１ｇ、水５８ｇを混合溶解させＢ
液を調製した。同時にＡ液、Ｂ液を純水３００ｇ中に供
給し反応させた。生成したスラリーを濾過後、ケーキを
純水に分散し、リスラリーさせて噴霧乾燥させた。この
粉体を１５０℃で乾燥後、更に４００℃で焼成した。こ
の触媒を、触媒Ｓとした。 触媒Ｔ 焼成後の触媒Ｓ３０ｇを５．１％塩化マグネシウム水溶
液４０ｇに浸し１５０℃で乾燥後、更に４００℃で焼成
した。この触媒を、触媒Ｔとした。組成を表１に示し
た。 触媒Ｖ 塩化銅１４．４ｇ、３６％ＨＣｌ溶液１６６ｇ、水３１
７ｇを混合溶解しＡ液を調製した。水酸化アルミニウム
１１０ｇ、ＮａＯＨ７３．２ｇ、水１３６ｇを混合溶解
させＢ液を調製した。同時にＡ液、Ｂ液を純水３００ｇ
中に供給し反応させた。生成したスラリーを濾過後、ケ
ーキを純水に分散し、リスラリーさせて噴霧乾燥させ
た。この粉体を１５０℃で乾燥後、更に４００℃で焼成
した。この触媒を、触媒Ｖとした。 触媒Ｗ 焼成後の触媒Ｖ３０ｇを２．３５％塩化マグネシウム水
溶液４０ｇに浸し１５０℃で乾燥後、更に４００℃で焼
成した。この触媒を、触媒Ｗとした。組成を表１に示し
た。
説明する。 触媒の製造方法 触媒Ｂ 塩化銅２．８ｇ、塩化マグネシウム４．２ｇを水３０ｇ
に混合溶解し、その溶液にガンマーアルミナ（フジミイ
ンコーポレッド Ｓ−１１）３０ｇを浸漬し、風乾後、
１５０℃で３時間乾燥後、４００℃で５時間焼成した。
この触媒を、触媒Ｂとした。触媒Ｂを打錠、破砕後、篩
いで篩い分けて２０〜４２メッシュを取り出し使用し
た。調製後の触媒の組成は表１に示した。この触媒は一
般に工業用に使用されている代表的な触媒である。 触媒Ｃ 塩化銅１４．４ｇ、３６％ＨＣｌ溶液９１ｇ、水３１７
ｇを混合溶解しＡ液を調製した。水酸化アルミニウム６
２ｇ、ＮａＯＨ４１．５ｇ、水７７ｇを混合溶解させＢ
液を調製した。同時にＡ液、Ｂ液を純水３００ｇ中に供
給し反応させた。生成したスラリーを濾過後、ケーキを
純水に分散し、リスラリーさせて噴霧乾燥させた。この
粉体を１５０℃で乾燥後、更に４００℃で焼成した。こ
の触媒を、触媒Ｃとした。 触媒Ｉ 焼成後の触媒Ｃ３０ｇを３．９％塩化マグネシウム水溶
液４０ｇに浸し１５０℃で乾燥後、更に４００℃で焼成
した。この触媒を、触媒Ｉとした。組成を表１に示し
た。 触媒Ｊ 焼成後の触媒Ｃ３０ｇを２．７７％塩化カルシウム水溶
液４０ｇに浸し１５０℃で乾燥後、更に４００℃で焼成
した。この触媒を、触媒Ｊとした。組成を表１に示し
た。 触媒Ｋ 焼成後の触媒Ｃ３０ｇを１．８１％塩化ストロンチウム
水溶液４０ｇに浸し１５０℃で乾燥後、更に４００℃で
焼成した。この触媒を、触媒Ｋとした。組成を表１に示
した。 触媒Ｌ 焼成後の触媒Ｃ３０ｇを１．５２％塩化バリウム水溶液
４０ｇに浸し１５０℃で乾燥後、更に４００℃で焼成し
た。この触媒を、触媒Ｌとした。組成を表１に示した。 触媒Ｓ 塩化銅１４．４ｇ、３６％ＨＣｌ溶液６４ｇ、水３１７
ｇを混合溶解しＡ液を調製した。水酸化アルミニウム４
６ｇ、ＮａＯＨ３０．１ｇ、水５８ｇを混合溶解させＢ
液を調製した。同時にＡ液、Ｂ液を純水３００ｇ中に供
給し反応させた。生成したスラリーを濾過後、ケーキを
純水に分散し、リスラリーさせて噴霧乾燥させた。この
粉体を１５０℃で乾燥後、更に４００℃で焼成した。こ
の触媒を、触媒Ｓとした。 触媒Ｔ 焼成後の触媒Ｓ３０ｇを５．１％塩化マグネシウム水溶
液４０ｇに浸し１５０℃で乾燥後、更に４００℃で焼成
した。この触媒を、触媒Ｔとした。組成を表１に示し
た。 触媒Ｖ 塩化銅１４．４ｇ、３６％ＨＣｌ溶液１６６ｇ、水３１
７ｇを混合溶解しＡ液を調製した。水酸化アルミニウム
１１０ｇ、ＮａＯＨ７３．２ｇ、水１３６ｇを混合溶解
させＢ液を調製した。同時にＡ液、Ｂ液を純水３００ｇ
中に供給し反応させた。生成したスラリーを濾過後、ケ
ーキを純水に分散し、リスラリーさせて噴霧乾燥させ
た。この粉体を１５０℃で乾燥後、更に４００℃で焼成
した。この触媒を、触媒Ｖとした。 触媒Ｗ 焼成後の触媒Ｖ３０ｇを２．３５％塩化マグネシウム水
溶液４０ｇに浸し１５０℃で乾燥後、更に４００℃で焼
成した。この触媒を、触媒Ｗとした。組成を表１に示し
た。
【００１５】実施例１〜６および比較例１ これらの触媒Ｂ〜Ｗのいずれかを、内径１１．５ｍｍ、
高さ４５０ｍｍのパイレックスガラス製反応管に、３ｇ
詰め、反応熱の除去をよくするために触媒をアルミナ、
カーボランダムおよび石英砂等で等量希釈した。尚、Ｇ
ＨＳＶは、触媒のみを基準とした。反応温度は、２２０
〜２８０℃、ＧＨＳＶ＝２２５０で行った。 エチレ
ン、塩化水素、酸素、のモル比は１．００：１．２５：
０．３８で反応管に供給した。反応結果を表２に示し
た。
高さ４５０ｍｍのパイレックスガラス製反応管に、３ｇ
詰め、反応熱の除去をよくするために触媒をアルミナ、
カーボランダムおよび石英砂等で等量希釈した。尚、Ｇ
ＨＳＶは、触媒のみを基準とした。反応温度は、２２０
〜２８０℃、ＧＨＳＶ＝２２５０で行った。 エチレ
ン、塩化水素、酸素、のモル比は１．００：１．２５：
０．３８で反応管に供給した。反応結果を表２に示し
た。
【００１６】実施例７〜９および比較例２ これらの触媒Ｂ〜Ｗを粉砕し、３８ミクロン（４００メ
ッシュ）〜１７５ミクロン（８０メッシュ）のものを反
応に使用した。内径２７．０ｍｍ、高さ３００ｍｍのガ
ラスフィルター付のパイレックスガラス製流動床反応管
に、触媒を２４ｇ詰め、反応温度２３０〜２５０℃、Ｇ
ＨＳＶ＝４５００で行った。エチレン、塩化水素、酸
素、のモル比は１．００：１．２５：０．３８で反応管
に供給した。反応結果を表３に示した。
ッシュ）〜１７５ミクロン（８０メッシュ）のものを反
応に使用した。内径２７．０ｍｍ、高さ３００ｍｍのガ
ラスフィルター付のパイレックスガラス製流動床反応管
に、触媒を２４ｇ詰め、反応温度２３０〜２５０℃、Ｇ
ＨＳＶ＝４５００で行った。エチレン、塩化水素、酸
素、のモル比は１．００：１．２５：０．３８で反応管
に供給した。反応結果を表３に示した。
【００１７】
【表１】 表１ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 触媒 Ａｌ Ｃｕ Ｃｌ その他 名 (wt%) (wt%) (wt%) 金属名 (wt%) ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ Ｂ 46.3 3.1 3.9 Ｍｇ 1.5 ─────────────────────────────────── Ｉ 36.7 10.0 7.8 Ｍｇ 1.0 Ｊ 36.7 10.0 7.8 Ｃａ 1.0 Ｋ 36.7 10.0 7.8 Ｓｒ 1.0 Ｌ 36.7 10.0 7.8 Ｂａ 1.0 Ｔ 35.4 13.0 10.0 Ｍｇ 1.3 Ｗ 39.0 6.0 4.3 Ｍｇ 0.6 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
【００１８】
【表２】 表２ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 例 触媒 反応 GHSV エチレン ＨＣｌ 1,2EDC CO+CO2 温度 転化率 転化率 選択率 選択率 （℃） (1/h) （％） （％） （％） （％） ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 比較例１ Ｂ 245 2250 62.8 99.9 97.7 1.67 ─────────────────────────────────── 実施例１ Ｉ 260 2250 63.5 99.8 98.8 0.96 ２ Ｊ 260 2250 63.4 99.9 99.0 0.98 ３ Ｋ 260 2250 63.1 99.9 98.8 0.98 ４ Ｌ 258 2250 64.2 99.9 98.6 1.03 ５ Ｔ 220 2250 63.0 99.9 99.0 0.72 ６ Ｗ 280 2250 64.1 99.9 98.5 1.17 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
【００１９】
【表３】 表３ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 例 触媒 反応 GHSV エチレン ＨＣｌ 1,2EDC CO+CO2 温度 転化率 転化率 選択率 選択率 （℃） (1/h) （％） （％） （％） （％） ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 比較例２ Ｂ 250 4500 48.2 76.8 97.8 0.56 ─────────────────────────────────── 実施例７ Ｉ 230 4500 48.9 75.8 98.8 0.22 ８ Ｔ 230 4500 50.1 79.0 99.2 0.21 ９ Ｗ 240 4500 47.0 74.6 98.7 0.33 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━
【００２０】表２は、固定床の反応結果である。オキシ
塩素化反応では、ＨＣｌ転化率が９５％以上にならない
とエチレンの燃焼は低く、触媒の添加物の効果の判別が
困難である。ＨＣｌの高転化率において、反応温度に関
わらず実施例においてエチレンの燃焼が低くなってい
る。表３は、流動床反応器の結果であるが、小さな流動
床反応器は充填触媒の壁の接触面積が大きく、壁の所か
ら反応ガスの吹き抜けが大きく高転化率での正しい比較
が出来ない。ＨＣｌ転化率７５から７９％の範囲におい
の比較を行った。その結果、反応温度に関わらず実施例
においてエチレンの燃焼が低くなっている。
塩素化反応では、ＨＣｌ転化率が９５％以上にならない
とエチレンの燃焼は低く、触媒の添加物の効果の判別が
困難である。ＨＣｌの高転化率において、反応温度に関
わらず実施例においてエチレンの燃焼が低くなってい
る。表３は、流動床反応器の結果であるが、小さな流動
床反応器は充填触媒の壁の接触面積が大きく、壁の所か
ら反応ガスの吹き抜けが大きく高転化率での正しい比較
が出来ない。ＨＣｌ転化率７５から７９％の範囲におい
の比較を行った。その結果、反応温度に関わらず実施例
においてエチレンの燃焼が低くなっている。
【００２１】
【発明の効果】本発明によれば、流動性が向上しエチレ
ンの燃焼を抑制する事が出来、従来の触媒に比べ産業上
優位な触媒となる。
ンの燃焼を抑制する事が出来、従来の触媒に比べ産業上
優位な触媒となる。
Claims (5)
- 【請求項１】 Ｃｕ−Ａｌ−Ｃｌ共沈触媒に、アルカリ
土類金属の少なくとも一種の金属元素を担持することを
特徴とするエチレンのオキシ塩素化用触媒の製造方法。 - 【請求項２】 触媒全重量中の金属銅の含有量が、３〜
２０重量部、アルカリ土類金属が、０．１〜１０重量部
である請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 アルカリ土類金属が、マグネシウム、カ
ルシウム、ストロンチウム、バリウムより成る群から選
ばれた少なくとも一種の金属元素である請求項１または
２記載の方法。 - 【請求項４】 請求項１、２または３に記載の方法によ
って製造されたエチレンのオキシ塩素化用触媒。 - 【請求項５】 エチレンおよび塩化水素と、酸素または
酸素含有ガスとを請求項４に記載の触媒の存在下に、１
５０℃〜３５０℃の温度で流動床または固定床で反応さ
せることを特徴とする１，２−ジクロルエタンの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9253668A JPH1190232A (ja) | 1997-09-18 | 1997-09-18 | オキシ塩素化用触媒の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9253668A JPH1190232A (ja) | 1997-09-18 | 1997-09-18 | オキシ塩素化用触媒の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1190232A true JPH1190232A (ja) | 1999-04-06 |
Family
ID=17254520
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9253668A Withdrawn JPH1190232A (ja) | 1997-09-18 | 1997-09-18 | オキシ塩素化用触媒の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1190232A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007144247A (ja) * | 2005-11-24 | 2007-06-14 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | オキシクロリネーション用触媒の製造方法 |
| JP2007144246A (ja) * | 2005-11-24 | 2007-06-14 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | オキシクロリネーション用触媒およびその製造方法 |
| JP2009125699A (ja) * | 2007-11-27 | 2009-06-11 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | オキシクロリネーション用触媒の製造方法 |
| US7595276B2 (en) | 2007-07-30 | 2009-09-29 | Jgc Catalysts And Chemicals Ltd. | Catalytic composition for oxychlorination |
| JP2011083751A (ja) * | 2009-10-19 | 2011-04-28 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | オキシクロリネーション用触媒の製造方法 |
-
1997
- 1997-09-18 JP JP9253668A patent/JPH1190232A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007144247A (ja) * | 2005-11-24 | 2007-06-14 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | オキシクロリネーション用触媒の製造方法 |
| JP2007144246A (ja) * | 2005-11-24 | 2007-06-14 | Catalysts & Chem Ind Co Ltd | オキシクロリネーション用触媒およびその製造方法 |
| US8431512B2 (en) | 2005-11-24 | 2013-04-30 | Jgc Catalysts And Chemicals Ltd. | Oxychlorination catalyst and method for preparing the same |
| US7595276B2 (en) | 2007-07-30 | 2009-09-29 | Jgc Catalysts And Chemicals Ltd. | Catalytic composition for oxychlorination |
| JP2009125699A (ja) * | 2007-11-27 | 2009-06-11 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | オキシクロリネーション用触媒の製造方法 |
| JP2011083751A (ja) * | 2009-10-19 | 2011-04-28 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | オキシクロリネーション用触媒の製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20041013 |