JPH1187814A - レーザ共振器の寿命延長方法 - Google Patents
レーザ共振器の寿命延長方法Info
- Publication number
- JPH1187814A JPH1187814A JP23924897A JP23924897A JPH1187814A JP H1187814 A JPH1187814 A JP H1187814A JP 23924897 A JP23924897 A JP 23924897A JP 23924897 A JP23924897 A JP 23924897A JP H1187814 A JPH1187814 A JP H1187814A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser resonator
- resonator
- life
- supporting
- holder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Abandoned
Links
Landscapes
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 レーザ共振器の寿命を延ばし、長期信頼性を
確保することのできるレーザ共振器の寿命延長方法を提
供する。 【解決手段】 レーザ共振器１の使用前に、ミラーホル
ダー２０、３０、４０および５０、さらにＢＢＯ結晶６
を支持するためのホルダー６０に付着している油分等の
汚染物質を、各種溶剤を用いた脱脂、洗浄操作により実
質上除去する。
確保することのできるレーザ共振器の寿命延長方法を提
供する。 【解決手段】 レーザ共振器１の使用前に、ミラーホル
ダー２０、３０、４０および５０、さらにＢＢＯ結晶６
を支持するためのホルダー６０に付着している油分等の
汚染物質を、各種溶剤を用いた脱脂、洗浄操作により実
質上除去する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ共振器の寿
命延長方法に関するものであり、さらに詳しくは、レー
ザ共振器の寿命を延ばし、長期信頼性を確保することの
できるレーザ共振器の寿命延長方法に関するものであ
る。
命延長方法に関するものであり、さらに詳しくは、レー
ザ共振器の寿命を延ばし、長期信頼性を確保することの
できるレーザ共振器の寿命延長方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来のレーザ共振器または外部共振器を
用い、非線形変換を行って、例えば波長５３２ｎｍのレ
ーザ光を変換して波長２６６ｎｍの紫外光（ＵＶ光）を
発生させた場合、ＵＶ光を５０ｍＷで最大でも４００時
間程度しか出し続けることができず、改善が求められて
いる。
用い、非線形変換を行って、例えば波長５３２ｎｍのレ
ーザ光を変換して波長２６６ｎｍの紫外光（ＵＶ光）を
発生させた場合、ＵＶ光を５０ｍＷで最大でも４００時
間程度しか出し続けることができず、改善が求められて
いる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】したがって本発明の目
的は、レーザ共振器の寿命を延ばし、長期信頼性を確保
することのできるレーザ共振器の寿命延長方法を提供す
ることである。
的は、レーザ共振器の寿命を延ばし、長期信頼性を確保
することのできるレーザ共振器の寿命延長方法を提供す
ることである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、レーザ共
振器の寿命を延ばし、長期信頼性を確保するために鋭意
研究を重ねた結果、レーザ共振器もしくは外部共振器の
構成部品の機械加工時に用いられる油分等が、そのねじ
穴などに残留し易く、その結果、時間の経過とともに、
ねじ穴等に残留していた油分が滲みだし、毛細管現象に
より、これが共振器内のミラー表面や非線形結晶の表面
を覆い、前記構成部品を汚染し、著しくレーザ共振器の
寿命を縮めていたことを見いだし、本発明を完成するこ
とができた。
振器の寿命を延ばし、長期信頼性を確保するために鋭意
研究を重ねた結果、レーザ共振器もしくは外部共振器の
構成部品の機械加工時に用いられる油分等が、そのねじ
穴などに残留し易く、その結果、時間の経過とともに、
ねじ穴等に残留していた油分が滲みだし、毛細管現象に
より、これが共振器内のミラー表面や非線形結晶の表面
を覆い、前記構成部品を汚染し、著しくレーザ共振器の
寿命を縮めていたことを見いだし、本発明を完成するこ
とができた。
【０００５】すなわち本発明は、レーザ共振器の使用前
に、構成部品に付着している油分等の汚染物質を、実質
上除去することを特徴とするレーザ共振器の寿命延長方
法を提供するものである。
に、構成部品に付着している油分等の汚染物質を、実質
上除去することを特徴とするレーザ共振器の寿命延長方
法を提供するものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
をさらに説明する。図２は、本発明を適用可能な外部共
振器の一例を説明するための図である。図２に示した外
部共振器１は、波長５３２ｎｍのレーザ光を非線形変換
し、波長２６６ｎｍのＵＶ光を発生させる装置である。
をさらに説明する。図２は、本発明を適用可能な外部共
振器の一例を説明するための図である。図２に示した外
部共振器１は、波長５３２ｎｍのレーザ光を非線形変換
し、波長２６６ｎｍのＵＶ光を発生させる装置である。
【０００７】外部共振器１には、ミラー２、３、４およ
び５が設けられ、これらを支持するためのミラーホルダ
ー２０、３０、４０および５０がそれぞれ設けられてい
る。また、非線形結晶であるＢＢＯ（硼酸バリウム）結
晶６およびこれを支持するためのホルダー６０も設けら
れている。
び５が設けられ、これらを支持するためのミラーホルダ
ー２０、３０、４０および５０がそれぞれ設けられてい
る。また、非線形結晶であるＢＢＯ（硼酸バリウム）結
晶６およびこれを支持するためのホルダー６０も設けら
れている。
【０００８】例えばミラー３、４および５は、波長５３
２ｎｍのレーザ光に対して９９．９％以上の反射率を有
し、またミラー２も波長５３２ｎｍのレーザ光に対して
９９％以上の反射率を有する。また、ＢＢＯ結晶の表面
にはＡＲ（Anti-Reflection ）コーティングが施され、
残留反射率は０．０３％以下である。このように外部共
振器１は、極めて光学的損失の少ない装置である。
２ｎｍのレーザ光に対して９９．９％以上の反射率を有
し、またミラー２も波長５３２ｎｍのレーザ光に対して
９９％以上の反射率を有する。また、ＢＢＯ結晶の表面
にはＡＲ（Anti-Reflection ）コーティングが施され、
残留反射率は０．０３％以下である。このように外部共
振器１は、極めて光学的損失の少ない装置である。
【０００９】従来の共振器のように、前記ミラー、非線
形結晶およびこれらを支持するホルダー類、並びに他の
構成部品を機械加工時のまま共振器に装備し、使用した
場合、とたんにこれら構成部品のねじ穴等に残留した油
分等の汚染物質が滲みだしてその表面を覆ってしまい、
ミラーは反射率が低下し、また非線形結晶は表面反射の
増加が起こり、光学的損失が著しく増大してしまってい
た。結果として、例えば波長５３２ｎｍのレーザ光を変
換して波長２６６ｎｍのＵＶ光を発生させた場合、ＵＶ
光を５０ｍＷで最大でも４００時間程度しか出し続ける
ことができなかった。
形結晶およびこれらを支持するホルダー類、並びに他の
構成部品を機械加工時のまま共振器に装備し、使用した
場合、とたんにこれら構成部品のねじ穴等に残留した油
分等の汚染物質が滲みだしてその表面を覆ってしまい、
ミラーは反射率が低下し、また非線形結晶は表面反射の
増加が起こり、光学的損失が著しく増大してしまってい
た。結果として、例えば波長５３２ｎｍのレーザ光を変
換して波長２６６ｎｍのＵＶ光を発生させた場合、ＵＶ
光を５０ｍＷで最大でも４００時間程度しか出し続ける
ことができなかった。
【００１０】そこで本発明においては、レーザ共振器の
使用前に、構成部品に付着している油分等の汚染物質
を、実質上除去することを特徴としている。本発明によ
れば、例えば図２に示したような外部共振器１の場合、
ミラーホルダー２０、３０、４０および５０、さらにＢ
ＢＯ結晶６を支持するためのホルダー６０に付着してい
る油分等の汚染物質が、実質上除去される。
使用前に、構成部品に付着している油分等の汚染物質
を、実質上除去することを特徴としている。本発明によ
れば、例えば図２に示したような外部共振器１の場合、
ミラーホルダー２０、３０、４０および５０、さらにＢ
ＢＯ結晶６を支持するためのホルダー６０に付着してい
る油分等の汚染物質が、実質上除去される。
【００１１】汚染物質の除去は、これが実質上除去され
ればその手法をとくに制限するものではない。なお、本
発明において“実質上除去する”とは、汚染物質が完全
に存在しなくなるまで除去することを意味するのではな
く、本発明の効果に悪影響を及ぼさない程度の汚染物質
の残存量になるまでこれを除去することを意味する。
ればその手法をとくに制限するものではない。なお、本
発明において“実質上除去する”とは、汚染物質が完全
に存在しなくなるまで除去することを意味するのではな
く、本発明の効果に悪影響を及ぼさない程度の汚染物質
の残存量になるまでこれを除去することを意味する。
【００１２】汚染物質の実質上の除去は、例えば各種溶
剤を用いた脱脂・洗浄操作により達成することができ
る。この溶剤としては、例えばベンゼン、キシレン、ト
ルエン等の芳香族系溶剤、トリクロロエチレン、テトラ
クロロエチレン、トリクロロエタン等の塩素系溶剤、リ
モネン、ピネン、ジテルペン等のテルペン類、Ｎ−メチ
ルピロリドン等が挙げられる。またオルソケイ酸ソーダ
や苛性ソーダに界面活性剤やビルダーを配合した水系の
洗浄剤も使用できる。さらに、特開平６−３３６５９９
号公報に開示された１−メンチルアセテート、ジヒドロ
ターピニルアセテート、１−メントン、ｐ−メンタン、
ジヒドロターピネオールから選ばれる少なくとも１種の
環状テルペンと、イソパラフィン系溶剤またはナフテン
系溶剤から選ばれる少なくとも１種の溶剤からなり、前
記環状テルペンと溶剤との重量混合比が８：２〜２：８
である洗浄組成物や、特開平８−１０９３９７号公報に
開示された２−メチル−２，４−ジフェニルペンタンを
含有してなる洗浄剤も本発明に使用することができる。
剤を用いた脱脂・洗浄操作により達成することができ
る。この溶剤としては、例えばベンゼン、キシレン、ト
ルエン等の芳香族系溶剤、トリクロロエチレン、テトラ
クロロエチレン、トリクロロエタン等の塩素系溶剤、リ
モネン、ピネン、ジテルペン等のテルペン類、Ｎ−メチ
ルピロリドン等が挙げられる。またオルソケイ酸ソーダ
や苛性ソーダに界面活性剤やビルダーを配合した水系の
洗浄剤も使用できる。さらに、特開平６−３３６５９９
号公報に開示された１−メンチルアセテート、ジヒドロ
ターピニルアセテート、１−メントン、ｐ−メンタン、
ジヒドロターピネオールから選ばれる少なくとも１種の
環状テルペンと、イソパラフィン系溶剤またはナフテン
系溶剤から選ばれる少なくとも１種の溶剤からなり、前
記環状テルペンと溶剤との重量混合比が８：２〜２：８
である洗浄組成物や、特開平８−１０９３９７号公報に
開示された２−メチル−２，４−ジフェニルペンタンを
含有してなる洗浄剤も本発明に使用することができる。
【００１３】脱脂・洗浄操作は、前記各種溶剤または洗
浄剤は、構成部品に対し、例えば浸漬法、超音波洗浄
法、振動法、スプレー法、蒸気洗浄法、手拭き法等を適
用することにより達成される。
浄剤は、構成部品に対し、例えば浸漬法、超音波洗浄
法、振動法、スプレー法、蒸気洗浄法、手拭き法等を適
用することにより達成される。
【００１４】図１は、図２に示した外部共振器１に対し
本発明の方法を適用した場合の、ＵＶ出力１００ｍＷに
おける長期信頼性を示す結果である。図１の試験結果
は、ミラーホルダー２０、３０、４０および５０、さら
にＢＢＯ結晶６を支持するためのホルダー６０に付着し
ている油分等の汚染物質が実質上除去された場合の結果
である。なお、汚染物質は、溶剤としてアセトン、エチ
ルアルコール、純水硝酸を用い、超音波洗浄を行って実
質上除去された。図１の結果によれば、１２００時間も
の長時間にわたり信頼性が確保されている。なお、本試
験では、１２００時間で打ち切ったが、外部共振器１の
推定寿命は、光学的損失から見積もると５０００時間に
も及ぶと考えられる。
本発明の方法を適用した場合の、ＵＶ出力１００ｍＷに
おける長期信頼性を示す結果である。図１の試験結果
は、ミラーホルダー２０、３０、４０および５０、さら
にＢＢＯ結晶６を支持するためのホルダー６０に付着し
ている油分等の汚染物質が実質上除去された場合の結果
である。なお、汚染物質は、溶剤としてアセトン、エチ
ルアルコール、純水硝酸を用い、超音波洗浄を行って実
質上除去された。図１の結果によれば、１２００時間も
の長時間にわたり信頼性が確保されている。なお、本試
験では、１２００時間で打ち切ったが、外部共振器１の
推定寿命は、光学的損失から見積もると５０００時間に
も及ぶと考えられる。
【００１５】なお、上記の説明では、波長５３２ｎｍの
レーザ光を非線形変換し、波長２６６ｎｍのＵＶ光を発
生させる外部共振器について説明したが、汚染物質が悪
影響を及ぼすと考えられる他のレーザ共振器にも本発明
が適用可能であることは言うまでもない。
レーザ光を非線形変換し、波長２６６ｎｍのＵＶ光を発
生させる外部共振器について説明したが、汚染物質が悪
影響を及ぼすと考えられる他のレーザ共振器にも本発明
が適用可能であることは言うまでもない。
【００１６】
【発明の効果】本発明によれば、レーザ共振器の寿命を
延ばし、長期信頼性を確保することのできるレーザ共振
器の寿命延長方法が提供される。
延ばし、長期信頼性を確保することのできるレーザ共振
器の寿命延長方法が提供される。
【図１】図２に示した外部共振器１に対し本発明の方法
を適用した場合の、ＵＶ出力１００ｍＷにおける長期信
頼性を説明するための図である。
を適用した場合の、ＵＶ出力１００ｍＷにおける長期信
頼性を説明するための図である。
【図２】本発明を適用可能な外部共振器の一例を説明す
るための図である。
るための図である。
１……外部共振器、２，３，４，５……ミラー、６……
ＢＢＯ結晶、２０，３０，４０，５０……ミラーホルダ
ー、６０……ＢＢＯ結晶６を支持するためのホルダー。
ＢＢＯ結晶、２０，３０，４０，５０……ミラーホルダ
ー、６０……ＢＢＯ結晶６を支持するためのホルダー。
Claims (2)
- 【請求項１】 レーザ共振器の使用前に、レーザ共振器
を構成する構成部品に付着している油分等の汚染物質
を、実質上除去することを特徴とするレーザ共振器の寿
命延長方法。 - 【請求項２】 前記構成部品はミラーを支持するホルダ
ーであり、前記油分は、ホルダーのねじ穴などに残留し
ている加工時の油分である請求項１記載のレーザ共振器
の寿命延長方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23924897A JPH1187814A (ja) | 1997-09-04 | 1997-09-04 | レーザ共振器の寿命延長方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23924897A JPH1187814A (ja) | 1997-09-04 | 1997-09-04 | レーザ共振器の寿命延長方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1187814A true JPH1187814A (ja) | 1999-03-30 |
Family
ID=17041946
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23924897A Abandoned JPH1187814A (ja) | 1997-09-04 | 1997-09-04 | レーザ共振器の寿命延長方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1187814A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004107515A1 (ja) * | 2003-03-11 | 2004-12-09 | Sony Corporation | 発光装置の組立方法 |
| JP2005109412A (ja) * | 2003-10-02 | 2005-04-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | レーザモジュール |
| US7081953B2 (en) | 2001-07-27 | 2006-07-25 | Hitachi, Ltd. | Apparatus and method for inspecting pattern |
| US7101094B2 (en) | 2002-09-30 | 2006-09-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Laser apparatus having protection member at light-emission end of multimode optical fiber |
| US7110425B2 (en) | 2002-04-03 | 2006-09-19 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Laser module and production process thereof |
| US7369586B2 (en) | 2003-10-02 | 2008-05-06 | Fujifilm Corporation | Laser module |
-
1997
- 1997-09-04 JP JP23924897A patent/JPH1187814A/ja not_active Abandoned
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7911601B2 (en) | 2001-07-27 | 2011-03-22 | Hitachi, Ltd. | Apparatus and method for inspecting pattern |
| US8451439B2 (en) | 2001-07-27 | 2013-05-28 | Hitachi, Ltd. | Apparatus and method for inspecting pattern |
| US7081953B2 (en) | 2001-07-27 | 2006-07-25 | Hitachi, Ltd. | Apparatus and method for inspecting pattern |
| US8149395B2 (en) | 2001-07-27 | 2012-04-03 | Hitachi, Ltd. | Apparatus and method for inspecting pattern |
| US7446866B2 (en) | 2001-07-27 | 2008-11-04 | Hitachi, Ltd. | Apparatus and method for inspecting pattern |
| US7110425B2 (en) | 2002-04-03 | 2006-09-19 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Laser module and production process thereof |
| US7101094B2 (en) | 2002-09-30 | 2006-09-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Laser apparatus having protection member at light-emission end of multimode optical fiber |
| US7238076B2 (en) | 2003-03-11 | 2007-07-03 | Sony Corporation | Method of assembling light-emitting apparatus |
| WO2004107515A1 (ja) * | 2003-03-11 | 2004-12-09 | Sony Corporation | 発光装置の組立方法 |
| US7301975B2 (en) | 2003-10-02 | 2007-11-27 | Fujifilm Corporation | Laser module |
| CN100446359C (zh) * | 2003-10-02 | 2008-12-24 | 富士胶片株式会社 | 激光器模块 |
| US7369586B2 (en) | 2003-10-02 | 2008-05-06 | Fujifilm Corporation | Laser module |
| JP2005109412A (ja) * | 2003-10-02 | 2005-04-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | レーザモジュール |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6585825B1 (en) | Stabilized alkaline compositions for cleaning microelectronic substrates | |
| EP2111445B1 (en) | Peroxide activated oxometalate based formulations for removal of etch residue | |
| KR20020000201A (ko) | 레이저와 기상을 이용한 엘씨디 세정 방법 | |
| US6209553B1 (en) | Method of and apparatus for washing photomask and washing solution for photomask | |
| JPH1187814A (ja) | レーザ共振器の寿命延長方法 | |
| CN105838507A (zh) | 光罩清洗剂及清洗方法 | |
| JP2001070787A (ja) | 光学部品およびレーザー並びに露光装置 | |
| CN102873048B (zh) | 一种激光薄膜的清洗方法 | |
| JP2002273358A (ja) | 光学素子の洗浄方法 | |
| JP2001168422A (ja) | レーザー装置 | |
| US20010007258A1 (en) | Washing method | |
| Zhang et al. | Optimized lift-off technique for deposition of high-quality Ti strip on LiNbO 3 crystal | |
| JPH0613684A (ja) | 結 晶 の 洗 浄 方 法 | |
| JPH05232689A (ja) | ペリクル接着方法、ペリクル及びマスク | |
| JP2003075626A (ja) | カラーフィルタ基板の洗浄方法 | |
| JPH1062965A (ja) | フォトマスクの洗浄装置及びフォトマスクの洗浄方法 | |
| JP3007490B2 (ja) | 電子部品又は精密部品類の洗浄方法 | |
| JPH11305002A (ja) | レンズ洗浄方法及び装置 | |
| JP3020360B2 (ja) | 電子部品又は精密部品類の洗浄方法及びその装置 | |
| JPH0679246A (ja) | 洗浄ユニットおよび洗浄装置 | |
| JP2001015623A (ja) | 半導体レーザ装置およびその製造方法 | |
| JPH10121095A (ja) | 鉛溶出防止剤 | |
| JP2003238208A (ja) | 光学素子材料の洗浄方法、及び該光学素子材料による光学素子の製造方法、光学素子、該光学素子を有する光学系、光学機器、露光装置、デバイス製造方法 | |
| SU1395397A1 (ru) | Способ защиты поверхности от загр знений | |
| JPS6121996B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040409 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060725 |
|
| A762 | Written abandonment of application |
Effective date: 20060925 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762 |