JP2003075626A - カラーフィルタ基板の洗浄方法 - Google Patents
カラーフィルタ基板の洗浄方法Info
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- JP2003075626A JP2003075626A JP2001271537A JP2001271537A JP2003075626A JP 2003075626 A JP2003075626 A JP 2003075626A JP 2001271537 A JP2001271537 A JP 2001271537A JP 2001271537 A JP2001271537 A JP 2001271537A JP 2003075626 A JP2003075626 A JP 2003075626A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】傷を与えることなく、付着ゴミだけでなく、残
渣も除去できるカラーフィルタ用基板の洗浄方法を提供
する。 【解決手段】カラーフィルタ用基板を無機もしくは有機
のアルカリを含む洗浄液で洗浄する工程（第一工程）及
び該第一工程のあとで該カラーフィルタ用基板を純水で
リンスする工程（第二工程）とを含むカラーフィルタ用
基板の洗浄方法において、該第一工程において、該洗浄
液を５０℃以下に保ち、かつ該洗浄液に８００ｋＨｚ以
上の周波数を有する超音波を照射すること、及び／又
は、該第二工程において、該純水を５０℃以下に保ち、
かつ該純水に８００ｋＨｚ以上の周波数を有する超音波
を照射するカラーフィルタ用基板の洗浄方法。
渣も除去できるカラーフィルタ用基板の洗浄方法を提供
する。 【解決手段】カラーフィルタ用基板を無機もしくは有機
のアルカリを含む洗浄液で洗浄する工程（第一工程）及
び該第一工程のあとで該カラーフィルタ用基板を純水で
リンスする工程（第二工程）とを含むカラーフィルタ用
基板の洗浄方法において、該第一工程において、該洗浄
液を５０℃以下に保ち、かつ該洗浄液に８００ｋＨｚ以
上の周波数を有する超音波を照射すること、及び／又
は、該第二工程において、該純水を５０℃以下に保ち、
かつ該純水に８００ｋＨｚ以上の周波数を有する超音波
を照射するカラーフィルタ用基板の洗浄方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラー液晶表示装
置やカラー固体撮像素子に使用されるカラーフィルタ基
板の洗浄方法に関する。
置やカラー固体撮像素子に使用されるカラーフィルタ基
板の洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】カラー液晶表示装置用やカラー固体撮像
素子用のカラーフィルタ基板の製造は、支持基板の上
に、フォトリソグラフィー法によりブラックマトリック
スを形成し、該ブラックマトリックス上にＲｅｄ、Ｇｒ
ｅｅｎ、Ｂｌｕｅの着色層（画素）をフォトリソグラフ
ィー法により形成する方法が一般的である。
素子用のカラーフィルタ基板の製造は、支持基板の上
に、フォトリソグラフィー法によりブラックマトリック
スを形成し、該ブラックマトリックス上にＲｅｄ、Ｇｒ
ｅｅｎ、Ｂｌｕｅの着色層（画素）をフォトリソグラフ
ィー法により形成する方法が一般的である。
【０００３】該カラーフィルタ基板の製造においては、
カラーフィルタ基板上の異物がカラーフィルタの欠陥と
なるため、該基板の清浄度を高く保つことが重要であ
る。カラーフィルタ基板上の異物としては、外界から付
着するゴミ（付着ゴミ）の他に、カラーフィルタの加工
工程を経るなかで残存するゴミ、いわゆる残渣と呼ばれ
るものが存在する。該残渣は、次の工程で部分的に脱離
したり、溶媒へ溶解してパネル液晶中に残存したりする
と、カラー液晶表示装置やカラー固体撮像素子の表示不
良に繋がる可能性がある。
カラーフィルタ基板上の異物がカラーフィルタの欠陥と
なるため、該基板の清浄度を高く保つことが重要であ
る。カラーフィルタ基板上の異物としては、外界から付
着するゴミ（付着ゴミ）の他に、カラーフィルタの加工
工程を経るなかで残存するゴミ、いわゆる残渣と呼ばれ
るものが存在する。該残渣は、次の工程で部分的に脱離
したり、溶媒へ溶解してパネル液晶中に残存したりする
と、カラー液晶表示装置やカラー固体撮像素子の表示不
良に繋がる可能性がある。
【０００４】従来、カラーフィルタ基板上の異物を除去
するために、カラーフィルタ基板を無機もしくは有機の
アルカリを含む洗浄液で洗浄し、そのあとで該カラーフ
ィルタ基板を純水でリンスすることが行われていた。
するために、カラーフィルタ基板を無機もしくは有機の
アルカリを含む洗浄液で洗浄し、そのあとで該カラーフ
ィルタ基板を純水でリンスすることが行われていた。
【０００５】該洗浄液で洗浄する方法としては、洗浄液
シャワーでカラーフィルタ基板を洗浄する方法、ブラシ
を用いて洗浄液でカラーフィルタ基板を洗浄する方法、
２０〜５０ｋＨｚの周波数の超音波を照射した洗浄液に
カラーフィルタ基板を浸漬して洗浄する方法などがあっ
た。次いで、純水でリンスする方法としては、純水シャ
ワーや高圧で純水を噴射する方法があった。
シャワーでカラーフィルタ基板を洗浄する方法、ブラシ
を用いて洗浄液でカラーフィルタ基板を洗浄する方法、
２０〜５０ｋＨｚの周波数の超音波を照射した洗浄液に
カラーフィルタ基板を浸漬して洗浄する方法などがあっ
た。次いで、純水でリンスする方法としては、純水シャ
ワーや高圧で純水を噴射する方法があった。
【０００６】該付着ゴミは、従来の洗浄方法で除去が可
能であるが、該残渣は、有機物を介して基板に接着して
いることから従来の洗浄方法では除去が困難であった。
そこで、該残渣をさらに過酷な条件による洗浄で除去す
ると、カラーフィルタ基板へ傷を与えるという問題があ
った。
能であるが、該残渣は、有機物を介して基板に接着して
いることから従来の洗浄方法では除去が困難であった。
そこで、該残渣をさらに過酷な条件による洗浄で除去す
ると、カラーフィルタ基板へ傷を与えるという問題があ
った。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、傷を与える
ことなく、付着ゴミだけでなく、残渣も除去できるカラ
ーフィルタ基板の洗浄方法を提供することを目的とす
る。
ことなく、付着ゴミだけでなく、残渣も除去できるカラ
ーフィルタ基板の洗浄方法を提供することを目的とす
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
した結果、特定の波長の超音波を特定の温度範囲の洗浄
液及び／又はリンス液に照射することにより、上記目的
を達成できることを見出し、本発明に至った。
した結果、特定の波長の超音波を特定の温度範囲の洗浄
液及び／又はリンス液に照射することにより、上記目的
を達成できることを見出し、本発明に至った。
【０００９】すなわち、本発明は、〔１〕カラーフィル
タ基板を無機もしくは有機のアルカリを含む洗浄液で洗
浄する工程（第一工程）及び該第一工程のあとで該カラ
ーフィルタ基板を純水でリンスする工程（第二工程）と
を含むカラーフィルタ基板の洗浄方法において、該第一
工程において、該洗浄液を５０℃以下に保ち、かつ該洗
浄液に８００ｋＨｚ以上の周波数を有する超音波を照射
すること、及び／又は、該第二工程において、該純水を
５０℃以下に保ち、かつ該純水に８００ｋＨｚ以上の周
波数を有する超音波を照射するカラーフィルタ基板の洗
浄方法に係るものである。
タ基板を無機もしくは有機のアルカリを含む洗浄液で洗
浄する工程（第一工程）及び該第一工程のあとで該カラ
ーフィルタ基板を純水でリンスする工程（第二工程）と
を含むカラーフィルタ基板の洗浄方法において、該第一
工程において、該洗浄液を５０℃以下に保ち、かつ該洗
浄液に８００ｋＨｚ以上の周波数を有する超音波を照射
すること、及び／又は、該第二工程において、該純水を
５０℃以下に保ち、かつ該純水に８００ｋＨｚ以上の周
波数を有する超音波を照射するカラーフィルタ基板の洗
浄方法に係るものである。
【００１０】
【発明の実施の形態】次に、本発明を詳細に説明する。
本発明におけるカラーフィルタ基板とは、カラーフィル
タ用の支持基板、該支持基板の上にブラックマトリック
スを形成した基板、該支持基板の上にブラックマトリッ
クスと少なくとも１種の着色層（画素）を形成した基
板、該支持基板の上にブラックマトリックスとＲｅｄ、
Ｇｒｅｅｎ、Ｂｌｕｅの着色層を形成した基板（一般に
カラーフィルタと呼ばれる。）などを含めていう。本発
明におけるカラーフィルタ基板として、具体的には支持
基板の上に少なくともブラックマトリックス層又は着色
層を有するカラーフィルタ基板が挙げられる。該支持基
板として、ガラス基板やプラスチック基板のような透明
基板、シリコンウェハー基板などの表面が平坦な基板が
挙げられる。該ブラックマトリックスとして、Ｃｒ又は
樹脂からなるものが挙げられる。
本発明におけるカラーフィルタ基板とは、カラーフィル
タ用の支持基板、該支持基板の上にブラックマトリック
スを形成した基板、該支持基板の上にブラックマトリッ
クスと少なくとも１種の着色層（画素）を形成した基
板、該支持基板の上にブラックマトリックスとＲｅｄ、
Ｇｒｅｅｎ、Ｂｌｕｅの着色層を形成した基板（一般に
カラーフィルタと呼ばれる。）などを含めていう。本発
明におけるカラーフィルタ基板として、具体的には支持
基板の上に少なくともブラックマトリックス層又は着色
層を有するカラーフィルタ基板が挙げられる。該支持基
板として、ガラス基板やプラスチック基板のような透明
基板、シリコンウェハー基板などの表面が平坦な基板が
挙げられる。該ブラックマトリックスとして、Ｃｒ又は
樹脂からなるものが挙げられる。
【００１１】本発明のカラーフィルタ基板の洗浄方法に
おける第一工程は、カラーフィルタ基板を無機もしくは
有機のアルカリを含む洗浄液で洗浄する工程である。本
発明における洗浄液としては、無機もしくは有機のアル
カリと、水とを主たる構成成分とする洗浄液が挙げられ
る。
おける第一工程は、カラーフィルタ基板を無機もしくは
有機のアルカリを含む洗浄液で洗浄する工程である。本
発明における洗浄液としては、無機もしくは有機のアル
カリと、水とを主たる構成成分とする洗浄液が挙げられ
る。
【００１２】無機のアルカリと水からなる洗浄液は、無
機のアルカリの濃度が好ましくは０．０１〜２５重量
％、更に好ましくは、０．０１〜１５重量％として用い
られる。本発明で用いられる無機のアルカリとしては、
水酸化カリウムが挙げられる。また、有機のアルカリと
水からなる洗浄液は、有機のアルカリの濃度が好ましく
は０．０１〜２５重量％、更に好ましくは、０．０１〜
１５重量％として用いられる。本発明で用いられる有機
のアルカリとしては、第４級アンモニウムヒドロキシド
などが挙げられる。該第４級アンモニウムヒドロキシド
の具体例としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキ
シド（以下、ＴＭＡＨと記すことがある。）が挙げられ
る。該洗浄液で用いられる水は、純水が好ましく、超純
水が更に好ましい。
機のアルカリの濃度が好ましくは０．０１〜２５重量
％、更に好ましくは、０．０１〜１５重量％として用い
られる。本発明で用いられる無機のアルカリとしては、
水酸化カリウムが挙げられる。また、有機のアルカリと
水からなる洗浄液は、有機のアルカリの濃度が好ましく
は０．０１〜２５重量％、更に好ましくは、０．０１〜
１５重量％として用いられる。本発明で用いられる有機
のアルカリとしては、第４級アンモニウムヒドロキシド
などが挙げられる。該第４級アンモニウムヒドロキシド
の具体例としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキ
シド（以下、ＴＭＡＨと記すことがある。）が挙げられ
る。該洗浄液で用いられる水は、純水が好ましく、超純
水が更に好ましい。
【００１３】次に、本発明のカラーフィルタ基板の洗浄
方法における第一工程のあとの第二工程は、該カラーフ
ィルタ基板を純水でリンスする工程である。該第二工程
において、超純水を用いてリンスすることが好ましい。
方法における第一工程のあとの第二工程は、該カラーフ
ィルタ基板を純水でリンスする工程である。該第二工程
において、超純水を用いてリンスすることが好ましい。
【００１４】本発明のカラーフィルタ基板の洗浄方法
は、該第一工程において、該洗浄液を５０℃以下に保
ち、かつ該洗浄液に８００ｋＨｚ以上の周波数を有する
超音波を照射すること、及び／又は、該第二工程におい
て、該純水を５０℃以下に保ち、かつ該純水に８００ｋ
Ｈｚ以上の周波数を有する超音波を照射することを特徴
とする。
は、該第一工程において、該洗浄液を５０℃以下に保
ち、かつ該洗浄液に８００ｋＨｚ以上の周波数を有する
超音波を照射すること、及び／又は、該第二工程におい
て、該純水を５０℃以下に保ち、かつ該純水に８００ｋ
Ｈｚ以上の周波数を有する超音波を照射することを特徴
とする。
【００１５】該超音波の周波数としては、８００〜１２
００ｋＨｚ程度が好ましく、メガソニックと呼ばれる１
ＭＨｚ付近の周波数が更に好ましい。
００ｋＨｚ程度が好ましく、メガソニックと呼ばれる１
ＭＨｚ付近の周波数が更に好ましい。
【００１６】８００ｋＨｚより低い周波数帯の超音波を
用いた場合、１μｍ以下の微少な微粒子の除去性が低下
したり、キャビテーションによる基板へのダメージが生
じたりするので好ましくない。
用いた場合、１μｍ以下の微少な微粒子の除去性が低下
したり、キャビテーションによる基板へのダメージが生
じたりするので好ましくない。
【００１７】本発明の第一工程において、例えば、カラ
ーフィルタ基板を該洗浄液に浸漬してもよく、カラーフ
ィルタ基板に該洗浄液をシャワー状に振りかけてもよ
い。また、本発明の第二工程において、例えば、カラー
フィルタ基板を該リンス液に浸漬してもよく、カラーフ
ィルタ基板に該リンス液をシャワー状に振りかけてもよ
い。
ーフィルタ基板を該洗浄液に浸漬してもよく、カラーフ
ィルタ基板に該洗浄液をシャワー状に振りかけてもよ
い。また、本発明の第二工程において、例えば、カラー
フィルタ基板を該リンス液に浸漬してもよく、カラーフ
ィルタ基板に該リンス液をシャワー状に振りかけてもよ
い。
【００１８】本発明における洗浄液の温度は、５０℃以
下であることを特徴とし、２０℃〜４５℃の温度範囲で
あることが好ましい。５０℃を超えて洗浄を行なう場合
は、洗浄液中の薬液成分の蒸発が激しくなるので、好ま
しくない。また、２０℃未満で洗浄する場合は、洗浄の
効果が小さくなるので好ましくない。本発明の第二工程
を経たカラーフィルタ基板に対して、次にエアーナイフ
で液切りを行ない、最後にＩＲ（赤外線）等で加熱乾燥
を行なうことが一般的である。
下であることを特徴とし、２０℃〜４５℃の温度範囲で
あることが好ましい。５０℃を超えて洗浄を行なう場合
は、洗浄液中の薬液成分の蒸発が激しくなるので、好ま
しくない。また、２０℃未満で洗浄する場合は、洗浄の
効果が小さくなるので好ましくない。本発明の第二工程
を経たカラーフィルタ基板に対して、次にエアーナイフ
で液切りを行ない、最後にＩＲ（赤外線）等で加熱乾燥
を行なうことが一般的である。
【００１９】
【実施例】以下に、本発明の実施例及び比較例を挙げる
が、本発明は、これらの実施例により何ら限定されるも
のではない。 色拭き取りテスト：布にエタノールを３滴滴下し、その
部分で基板素ガラス部の周囲長さ２０ｃｍの範囲を１０
回拭き取り、着色具合を比較評価した。
が、本発明は、これらの実施例により何ら限定されるも
のではない。 色拭き取りテスト：布にエタノールを３滴滴下し、その
部分で基板素ガラス部の周囲長さ２０ｃｍの範囲を１０
回拭き取り、着色具合を比較評価した。
【００２０】実施例１
Ｃｒ膜付きガラス基板（コーニング（株）製＃１７３
７）の上に、フォトリソグラフィー法によりＣｒブラッ
クマトリックスを形成した。次いで、メガソニック超音
波を照射した２３℃の３．５重量％のＴＭＡＨ水溶液中
に、得られた基板を、３分間浸漬した。その後、該基板
を超純水で３分間リンスした後、１２０℃で３分間乾燥
した。その後、Ｃｒブラックマトリックス上にＲｅｄ、
Ｇｒｅｅｎ、Ｂｌｕｅの着色層をフォトリソグラフィー
法により形成した。その後、色拭き取りテストを行っ
た。その結果、着色は見られなかった。また得られたカ
ラーフィルタ基板に傷は認められなかった。
７）の上に、フォトリソグラフィー法によりＣｒブラッ
クマトリックスを形成した。次いで、メガソニック超音
波を照射した２３℃の３．５重量％のＴＭＡＨ水溶液中
に、得られた基板を、３分間浸漬した。その後、該基板
を超純水で３分間リンスした後、１２０℃で３分間乾燥
した。その後、Ｃｒブラックマトリックス上にＲｅｄ、
Ｇｒｅｅｎ、Ｂｌｕｅの着色層をフォトリソグラフィー
法により形成した。その後、色拭き取りテストを行っ
た。その結果、着色は見られなかった。また得られたカ
ラーフィルタ基板に傷は認められなかった。
【００２１】実施例２
３．５％ＴＭＡＨ水溶液を５％水酸化カリウム水溶液に
代えた以外は実施例１と同様な操作をして、色拭き取り
テストを行った。その結果、着色は見られなかった。ま
た得られたカラーフィルタ基板に傷は認められなかっ
た。
代えた以外は実施例１と同様な操作をして、色拭き取り
テストを行った。その結果、着色は見られなかった。ま
た得られたカラーフィルタ基板に傷は認められなかっ
た。
【００２２】比較例１
メガソニック超音波照射を行なわないこと以外は、実施
例１と同様な操作をして、色拭き取りテストを行った。
その結果、着色が見られた。
例１と同様な操作をして、色拭き取りテストを行った。
その結果、着色が見られた。
【００２３】比較例２
メガソニック超音波照射を行なわないこと以外は、実施
例２と同様な操作をして、色拭き取りテストを行った。
その結果、着色が見られた。
例２と同様な操作をして、色拭き取りテストを行った。
その結果、着色が見られた。
【００２４】
【発明の効果】本発明のカラーフィルタ基板の洗浄方法
によると、傷を与えることなく、カラーフィルタ基板か
ら付着ゴミだけでなく、残渣も除去できるので、欠陥の
少ないカラー液晶表示装置やカラー固体撮像素子を製造
することができる。
によると、傷を与えることなく、カラーフィルタ基板か
ら付着ゴミだけでなく、残渣も除去できるので、欠陥の
少ないカラー液晶表示装置やカラー固体撮像素子を製造
することができる。
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 2H048 BA11 BA45 BA47 BA48 BA60
2H091 FA02 FA35 FC24 GA01 LA30
3B201 AA01 AA47 BB02 BB82 BB83
BB92 BB93 CC01 CC12
Claims (4)
- 【請求項１】カラーフィルタ基板を無機もしくは有機の
アルカリを含む洗浄液で洗浄する工程（第一工程）及び
該第一工程のあとで該カラーフィルタ基板を純水でリン
スする工程（第二工程）とを含むカラーフィルタ基板の
洗浄方法において、該第一工程において、該洗浄液を５
０℃以下に保ち、かつ該洗浄液に８００ｋＨｚ以上の周
波数を有する超音波を照射すること、及び／又は、該第
二工程において、該純水を５０℃以下に保ち、かつ該純
水に８００ｋＨｚ以上の周波数を有する超音波を照射す
ることを特徴とするカラーフィルタ基板の洗浄方法。 - 【請求項２】カラーフィルタ基板が支持基板の上に少な
くともブラックマトリックス層又は着色層を有するカラ
ーフィルタ基板であることを特徴とする請求項１記載の
カラーフィルタ基板の洗浄方法。 - 【請求項３】ブラックマトリックスがＣｒ又は樹脂から
なることを特徴とする請求項２記載のカラーフィルタ基
板の洗浄方法。 - 【請求項４】超音波が８００〜１２００ｋＨｚの周波数
を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記
載のカラーフィルタ基板の洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001271537A JP2003075626A (ja) | 2001-09-07 | 2001-09-07 | カラーフィルタ基板の洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001271537A JP2003075626A (ja) | 2001-09-07 | 2001-09-07 | カラーフィルタ基板の洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003075626A true JP2003075626A (ja) | 2003-03-12 |
Family
ID=19097031
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001271537A Pending JP2003075626A (ja) | 2001-09-07 | 2001-09-07 | カラーフィルタ基板の洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003075626A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103567202A (zh) * | 2012-08-06 | 2014-02-12 | 安瀚视特韩国有限公司 | 彩色滤色用玻璃片的制造方法、彩色滤色面板的制造方法以及显示器用玻璃基板 |
| KR101584995B1 (ko) * | 2009-07-29 | 2016-01-14 | 엘지디스플레이 주식회사 | 평판 표시 장치의 컬러 필터 어레이 형성 방법 및 이에 이용되는 소성 장비 |
| JP2016049534A (ja) * | 2014-08-29 | 2016-04-11 | ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 | ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 |
-
2001
- 2001-09-07 JP JP2001271537A patent/JP2003075626A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101584995B1 (ko) * | 2009-07-29 | 2016-01-14 | 엘지디스플레이 주식회사 | 평판 표시 장치의 컬러 필터 어레이 형성 방법 및 이에 이용되는 소성 장비 |
| CN103567202A (zh) * | 2012-08-06 | 2014-02-12 | 安瀚视特韩国有限公司 | 彩色滤色用玻璃片的制造方法、彩色滤色面板的制造方法以及显示器用玻璃基板 |
| JP2014052622A (ja) * | 2012-08-06 | 2014-03-20 | Avanstrate Korea Inc | カラーフィルタ用ガラスシートの製造方法、カラーフィルタパネルの製造方法、および、ディスプレイ用ガラス基板 |
| JP2016049534A (ja) * | 2014-08-29 | 2016-04-11 | ＡｖａｎＳｔｒａｔｅ株式会社 | ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 |
| KR101809791B1 (ko) * | 2014-08-29 | 2017-12-15 | 아반스트레이트 가부시키가이샤 | 유리 기판의 제조 방법 및 유리 기판의 제조 장치 |
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