JPH08229524A - 液晶用カセット洗浄装置 - Google Patents
液晶用カセット洗浄装置Info
- Publication number
- JPH08229524A JPH08229524A JP7039888A JP3988895A JPH08229524A JP H08229524 A JPH08229524 A JP H08229524A JP 7039888 A JP7039888 A JP 7039888A JP 3988895 A JP3988895 A JP 3988895A JP H08229524 A JPH08229524 A JP H08229524A
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- cassette
- cassettes
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 コンパクトで、十分な洗浄力を確保でき、し
かも、安全な液晶用カセット洗浄装置を提供する。 【構成】 温純水中に汚染された液晶用カセットａを浸
漬させることによって付着している不純物をふやけさせ
て剥離し易くする洗浄前ディップ槽２と、高圧純水を噴
射して液晶用カセットを高圧洗浄する高圧洗浄槽３と、
高圧洗浄後の液晶用カセットを超音波振動を起こしてい
る純水中に浸漬して超音波洗浄する超音波洗浄槽４と、
超音波洗浄後の液晶用カセットを回転させて遠心力の作
用によって水切り乾燥すると同時に、回転される液晶用
カセットに熱風をブロー２３して熱風乾燥もするスピン
乾燥槽５とから構成され、温純水中に浸漬して付着して
いる不純物をふやけさせた後の液晶用カセットを高圧洗
浄および超音波洗浄することにより、不純物を完全に除
去させる。
かも、安全な液晶用カセット洗浄装置を提供する。 【構成】 温純水中に汚染された液晶用カセットａを浸
漬させることによって付着している不純物をふやけさせ
て剥離し易くする洗浄前ディップ槽２と、高圧純水を噴
射して液晶用カセットを高圧洗浄する高圧洗浄槽３と、
高圧洗浄後の液晶用カセットを超音波振動を起こしてい
る純水中に浸漬して超音波洗浄する超音波洗浄槽４と、
超音波洗浄後の液晶用カセットを回転させて遠心力の作
用によって水切り乾燥すると同時に、回転される液晶用
カセットに熱風をブロー２３して熱風乾燥もするスピン
乾燥槽５とから構成され、温純水中に浸漬して付着して
いる不純物をふやけさせた後の液晶用カセットを高圧洗
浄および超音波洗浄することにより、不純物を完全に除
去させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶に用いられるガラ
ス基板を収容する液晶用カセットを洗浄する液晶用カセ
ット洗浄装置に関するものである。
ス基板を収容する液晶用カセットを洗浄する液晶用カセ
ット洗浄装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、液晶に用いられるガラス基板の
処理工程においては、枠体状に形成された周知の液晶用
カセットに多数のガラス基板を一定間隔に並列して収容
し、この液晶用カセットによって搬送されたガラス基板
に対して所要の処理が一括して施される。
処理工程においては、枠体状に形成された周知の液晶用
カセットに多数のガラス基板を一定間隔に並列して収容
し、この液晶用カセットによって搬送されたガラス基板
に対して所要の処理が一括して施される。
【０００３】ところで、上記液晶用カセットはガラス基
板の処理工程を経るごとにレジストなどの不純物が付着
して汚染されるため、定期的に洗浄して不純物を除去す
る必要がある。
板の処理工程を経るごとにレジストなどの不純物が付着
して汚染されるため、定期的に洗浄して不純物を除去す
る必要がある。
【０００４】従来、汚染された液晶用カセットを洗浄す
る装置としては、夫々異なる種類の有機溶液が満たされ
た多数の洗浄槽を一連に並設し、液晶用カセットを各洗
浄槽に順送りして数種の有機溶液中に順次浸漬すること
によって液晶用カセットから不純物を遊離するようにし
た液晶用カセット洗浄装置がある。
る装置としては、夫々異なる種類の有機溶液が満たされ
た多数の洗浄槽を一連に並設し、液晶用カセットを各洗
浄槽に順送りして数種の有機溶液中に順次浸漬すること
によって液晶用カセットから不純物を遊離するようにし
た液晶用カセット洗浄装置がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の液晶
用カセット洗浄装置は、夫々異なる種類の有機溶液が満
たされた多数の洗浄槽を一連に並設する必要があるた
め、装置全体が大型にならざるをえないとともに、数種
の有機溶液中に順次浸漬して液晶用カセットから不純物
を遊離するようになっているため、数種の有機溶液中へ
の浸漬を繰り返しているうちに有機溶液同士の混合によ
る洗浄力の劣化が生じる虞があり、しかも、周知の通り
有害な有機溶液を使用しているため、人体および環境に
悪影響を及ぼすなどの不具合を呈する。
用カセット洗浄装置は、夫々異なる種類の有機溶液が満
たされた多数の洗浄槽を一連に並設する必要があるた
め、装置全体が大型にならざるをえないとともに、数種
の有機溶液中に順次浸漬して液晶用カセットから不純物
を遊離するようになっているため、数種の有機溶液中へ
の浸漬を繰り返しているうちに有機溶液同士の混合によ
る洗浄力の劣化が生じる虞があり、しかも、周知の通り
有害な有機溶液を使用しているため、人体および環境に
悪影響を及ぼすなどの不具合を呈する。
【０００６】本発明は、このような問題点を解決するた
めになされたものであって、コンパクトで、十分な洗浄
力を確保でき、しかも、安全な液晶用カセット洗浄装置
を提供することを目的としている。
めになされたものであって、コンパクトで、十分な洗浄
力を確保でき、しかも、安全な液晶用カセット洗浄装置
を提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するため、温純水中に汚染された液晶用カセットを浸
漬させることによって付着している不純物をふやけさせ
て剥離し易くする洗浄前ディップ槽と、高圧純水を噴射
して液晶用カセットを高圧洗浄する高圧洗浄槽と、高圧
洗浄後の液晶用カセットを超音波振動を起こしている純
水中に浸漬して超音波洗浄する超音波洗浄槽と、超音波
洗浄後の液晶用カセットを回転させて遠心力の作用によ
って水切り乾燥すると同時に、回転される液晶用カセッ
トに熱風をブローして熱風乾燥もするスピン乾燥槽とか
ら構成したものである。
成するため、温純水中に汚染された液晶用カセットを浸
漬させることによって付着している不純物をふやけさせ
て剥離し易くする洗浄前ディップ槽と、高圧純水を噴射
して液晶用カセットを高圧洗浄する高圧洗浄槽と、高圧
洗浄後の液晶用カセットを超音波振動を起こしている純
水中に浸漬して超音波洗浄する超音波洗浄槽と、超音波
洗浄後の液晶用カセットを回転させて遠心力の作用によ
って水切り乾燥すると同時に、回転される液晶用カセッ
トに熱風をブローして熱風乾燥もするスピン乾燥槽とか
ら構成したものである。
【０００８】また、上記高圧洗浄槽の上方に液晶用カセ
ットを上下動するカセット上下機構を設置し、このカセ
ット上下機構により液晶用カセットを上下動させながら
高圧洗浄するようにしたものである。
ットを上下動するカセット上下機構を設置し、このカセ
ット上下機構により液晶用カセットを上下動させながら
高圧洗浄するようにしたものである。
【０００９】
【作用】本発明によれば、温純水中に浸漬して付着して
いる不純物をふやけさせた後の液晶用カセットを高圧洗
浄および超音波洗浄することにより、不純物を完全に除
去させて洗浄力の向上を図ることができる。
いる不純物をふやけさせた後の液晶用カセットを高圧洗
浄および超音波洗浄することにより、不純物を完全に除
去させて洗浄力の向上を図ることができる。
【００１０】また、カセット上下機構により液晶用カセ
ットを上下動させながら高圧洗浄することにより、液晶
用カセットを均等に洗浄させて不純物の除去能力を高め
ることができる。
ットを上下動させながら高圧洗浄することにより、液晶
用カセットを均等に洗浄させて不純物の除去能力を高め
ることができる。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説
明する。
明する。
【００１２】図１は本発明の液晶用カセット洗浄装置
（１）を示す概略構成図である。
（１）を示す概略構成図である。
【００１３】上記液晶用カセット洗浄装置（１）は、汚
染された液晶用カセット（ａ）を浸漬する洗浄前ディッ
プ槽（２）と、浸漬後の液晶用カセット（ａ）を高圧洗
浄する高圧洗浄槽（３）と、高圧洗浄後の液晶用カセッ
ト（ａ）を超音波洗浄する超音波洗浄槽（４）と、超音
波洗浄後の液晶用カセット（ａ）をスピン乾燥するスピ
ン乾燥槽（５）とにより構成されている。
染された液晶用カセット（ａ）を浸漬する洗浄前ディッ
プ槽（２）と、浸漬後の液晶用カセット（ａ）を高圧洗
浄する高圧洗浄槽（３）と、高圧洗浄後の液晶用カセッ
ト（ａ）を超音波洗浄する超音波洗浄槽（４）と、超音
波洗浄後の液晶用カセット（ａ）をスピン乾燥するスピ
ン乾燥槽（５）とにより構成されている。
【００１４】上記洗浄前ディップ槽（２）は、底部に給
水管（６）が接続される一方、上部外周に上端周縁を囲
繞して外樋（７）が配置してあり、この外樋（７）の底
部に排水管（８）が接続されている。したがって、この
洗浄前ディップ槽（２）においては、給水管（６）から
内部に約６０℃の温純水（９）が供給され、この温純水
（９）が内部をアップフローして上端周縁から外樋
（７）内に流れ込み、排水管（８）から流出されるよう
になっており、これにより内部には常に清浄な温純水
（９）が満たされている。
水管（６）が接続される一方、上部外周に上端周縁を囲
繞して外樋（７）が配置してあり、この外樋（７）の底
部に排水管（８）が接続されている。したがって、この
洗浄前ディップ槽（２）においては、給水管（６）から
内部に約６０℃の温純水（９）が供給され、この温純水
（９）が内部をアップフローして上端周縁から外樋
（７）内に流れ込み、排水管（８）から流出されるよう
になっており、これにより内部には常に清浄な温純水
（９）が満たされている。
【００１５】上記高圧洗浄槽（３）は、内部に高圧ポン
プ（図示せず）にて加圧された純水を噴射する複数のス
プレーノズル（10）が配置される一方、上方に液晶用カ
セット（ａ）を上下動させるカセット上下機構（11）が
配置され、かつ、底部に排水管（12）が接続されてい
る。スプレーノズル（10）は高圧ポンプにて約１４０Kg
/cm2に加圧された純水を約７０Kg/cm2で噴射し、この高
圧純水を液晶用カセット（ａ）に吹き付けるようになっ
ている。カセット上下機構（11）は液晶用カセット
（ａ）を上下動させて高圧純水の吹き付け位置をスライ
ドさせるようにしたのもので、液晶用カセット（ａ）を
チャックするチャック機構（13）が上下シリンダー（1
4）のピストンロッド（14ａ）に連結されており、上下
シリンダー（14）のピストンロッド（14ａ）を伸縮する
と、チャック機構（13）にチャックされている液晶用カ
セット（ａ）が上下動する。
プ（図示せず）にて加圧された純水を噴射する複数のス
プレーノズル（10）が配置される一方、上方に液晶用カ
セット（ａ）を上下動させるカセット上下機構（11）が
配置され、かつ、底部に排水管（12）が接続されてい
る。スプレーノズル（10）は高圧ポンプにて約１４０Kg
/cm2に加圧された純水を約７０Kg/cm2で噴射し、この高
圧純水を液晶用カセット（ａ）に吹き付けるようになっ
ている。カセット上下機構（11）は液晶用カセット
（ａ）を上下動させて高圧純水の吹き付け位置をスライ
ドさせるようにしたのもので、液晶用カセット（ａ）を
チャックするチャック機構（13）が上下シリンダー（1
4）のピストンロッド（14ａ）に連結されており、上下
シリンダー（14）のピストンロッド（14ａ）を伸縮する
と、チャック機構（13）にチャックされている液晶用カ
セット（ａ）が上下動する。
【００１６】上記超音波洗浄槽（４）は、底部に給水管
（25）が接続される一方、上部外周に上端周縁を囲繞し
て外樋（15）が配置してあり、この外樋（15）の底部に
排水管（16）が接続されている。したがって、この超音
波洗浄槽（４）においては、給水管（25）から内部に純
水（17）が供給され、この純水（17）が内部をアップフ
ローして上端周縁から外樋（15）内に流れ込み、排水管
（16）から流出されるようになっており、これにより内
部には常に清浄な純水（17）が満たされている。また、
超音波洗浄槽（４）には、底部に超音波発生源（18）が
配置される一方、上方のカセット持上げ位置の両側に純
水をシャワーするシャワーノズル（19）が配置されてい
る。超音波発生源（18）は超音波洗浄槽（４）内の純水
（17）中に２８ｋHZの超音波振動を起し、この超音波振
動により液晶用カセット（ａ）から不純物を剥離させ
る。
（25）が接続される一方、上部外周に上端周縁を囲繞し
て外樋（15）が配置してあり、この外樋（15）の底部に
排水管（16）が接続されている。したがって、この超音
波洗浄槽（４）においては、給水管（25）から内部に純
水（17）が供給され、この純水（17）が内部をアップフ
ローして上端周縁から外樋（15）内に流れ込み、排水管
（16）から流出されるようになっており、これにより内
部には常に清浄な純水（17）が満たされている。また、
超音波洗浄槽（４）には、底部に超音波発生源（18）が
配置される一方、上方のカセット持上げ位置の両側に純
水をシャワーするシャワーノズル（19）が配置されてい
る。超音波発生源（18）は超音波洗浄槽（４）内の純水
（17）中に２８ｋHZの超音波振動を起し、この超音波振
動により液晶用カセット（ａ）から不純物を剥離させ
る。
【００１７】上記スピン乾燥槽（５）は、内部に当該ス
ピン乾燥槽（５）の下方に配置されたモーター（20）の
回転軸（20ａ）にて支持されたターンテーブル（21）が
配置され、このターンテーブル（21）上に液晶用カセッ
ト（ａ）を収容する水切りバスケット（22）が配置され
ている。また、スピン乾燥槽（５）には、内部のターン
テーブル（21）の外周に熱風をブローする熱風ブロー
（23）が配設される一方、底部に排水管（24）が配設さ
れている。熱風ブロー（23）はヒーター（図示せず）に
て約８０℃前後に加熱された空気を熱風としてブロー
し、この熱風を水切りバスケット（22）内に収容されて
いる液晶用カセット（ａ）に吹き付けるようになってい
る。
ピン乾燥槽（５）の下方に配置されたモーター（20）の
回転軸（20ａ）にて支持されたターンテーブル（21）が
配置され、このターンテーブル（21）上に液晶用カセッ
ト（ａ）を収容する水切りバスケット（22）が配置され
ている。また、スピン乾燥槽（５）には、内部のターン
テーブル（21）の外周に熱風をブローする熱風ブロー
（23）が配設される一方、底部に排水管（24）が配設さ
れている。熱風ブロー（23）はヒーター（図示せず）に
て約８０℃前後に加熱された空気を熱風としてブロー
し、この熱風を水切りバスケット（22）内に収容されて
いる液晶用カセット（ａ）に吹き付けるようになってい
る。
【００１８】本発明の液晶用カセット洗浄装置（１）は
以上の構成からなり、次にその動作について順次に説明
する。なお、この液晶用カセット洗浄装置（１）には、
カセット搬送機構（図示せず）が付設されており、この
カセット搬送機構にて液晶用カセット（ａ）を洗浄前デ
ィップ槽（２）から高圧洗浄槽（３）、超音波洗浄槽
（４）を経てスピン乾燥槽（５）まで順次自動搬送する
ようになっている。
以上の構成からなり、次にその動作について順次に説明
する。なお、この液晶用カセット洗浄装置（１）には、
カセット搬送機構（図示せず）が付設されており、この
カセット搬送機構にて液晶用カセット（ａ）を洗浄前デ
ィップ槽（２）から高圧洗浄槽（３）、超音波洗浄槽
（４）を経てスピン乾燥槽（５）まで順次自動搬送する
ようになっている。
【００１９】まず、汚染された液晶用カセット（ａ）を
洗浄前ディップ槽（２）内に搬入し、洗浄前ディップ槽
（２）内の温純水（９）中に浸漬する。これにより、液
晶用カセット（ａ）に付着していた不純物が温純水にて
ふやけて剥離し易くなる。
洗浄前ディップ槽（２）内に搬入し、洗浄前ディップ槽
（２）内の温純水（９）中に浸漬する。これにより、液
晶用カセット（ａ）に付着していた不純物が温純水にて
ふやけて剥離し易くなる。
【００２０】次に、洗浄前ディップ槽（２）から液晶用
カセット（ａ）を取出し、これを高圧洗浄槽（３）の上
方に搬送してカセット上下機構（11）のチャック機構
（13）にチャックし、続いて、上下シリンダー（14）の
ピストンロッド（14ａ）を伸縮させてチャック機構（1
3）にチャックされている液晶用カセット（ａ）を高圧
洗浄槽（３）に対して上下動すると同時に、スプレーノ
ズル（10）から高圧純水を噴射して上下動する液晶用カ
セット（ａ）に吹き付ける。これにより、液晶用カセッ
ト（ａ）は高圧純水にて一様に高圧洗浄され、付着して
いた不純物が洗い流される。
カセット（ａ）を取出し、これを高圧洗浄槽（３）の上
方に搬送してカセット上下機構（11）のチャック機構
（13）にチャックし、続いて、上下シリンダー（14）の
ピストンロッド（14ａ）を伸縮させてチャック機構（1
3）にチャックされている液晶用カセット（ａ）を高圧
洗浄槽（３）に対して上下動すると同時に、スプレーノ
ズル（10）から高圧純水を噴射して上下動する液晶用カ
セット（ａ）に吹き付ける。これにより、液晶用カセッ
ト（ａ）は高圧純水にて一様に高圧洗浄され、付着して
いた不純物が洗い流される。
【００２１】次に、高圧洗浄槽（３）から液晶用カセッ
ト（ａ）を超音波洗浄槽（４）に搬送し、これを超音波
洗浄槽（４）内の純水（17）中に浸漬する。すると、高
圧洗浄で取り去れなかった不純物が超音波振動により液
晶用カセット（ａ）からほとんど剥離されてしまう。こ
の時、剥離した不純物の大部分は外樋（15）にオーバー
フローするが、極く僅かながら不純物が純水（17）中或
いは表面に残存しており、これらが液晶用カセット
（ａ）の持上げ時に再付着することがあるが、液晶用カ
セット（ａ）の持上げ位置に設置されているシャワーノ
ズル（19）にて完全に洗い流される。
ト（ａ）を超音波洗浄槽（４）に搬送し、これを超音波
洗浄槽（４）内の純水（17）中に浸漬する。すると、高
圧洗浄で取り去れなかった不純物が超音波振動により液
晶用カセット（ａ）からほとんど剥離されてしまう。こ
の時、剥離した不純物の大部分は外樋（15）にオーバー
フローするが、極く僅かながら不純物が純水（17）中或
いは表面に残存しており、これらが液晶用カセット
（ａ）の持上げ時に再付着することがあるが、液晶用カ
セット（ａ）の持上げ位置に設置されているシャワーノ
ズル（19）にて完全に洗い流される。
【００２２】次に、超音波洗浄槽（４）から洗浄された
液晶用カセット（ａ）をスピン乾燥槽（５）に搬送し、
これをスピン乾燥槽（５）の水切りバスケット（22）内
に収容する。そして、モーター（20）を駆動してターン
テーブル（21）を回転すると同時に、熱風ブロー（23）
から熱風をブローさせ、液晶用カセット（ａ）に遠心力
を作用させることによって水切り乾燥させると同時に、
液晶用カセット（ａ）に熱風をブローさせて熱風乾燥さ
せる。これにより、液晶用カセット（ａ）の乾燥が短時
間で確実に行なわれる。
液晶用カセット（ａ）をスピン乾燥槽（５）に搬送し、
これをスピン乾燥槽（５）の水切りバスケット（22）内
に収容する。そして、モーター（20）を駆動してターン
テーブル（21）を回転すると同時に、熱風ブロー（23）
から熱風をブローさせ、液晶用カセット（ａ）に遠心力
を作用させることによって水切り乾燥させると同時に、
液晶用カセット（ａ）に熱風をブローさせて熱風乾燥さ
せる。これにより、液晶用カセット（ａ）の乾燥が短時
間で確実に行なわれる。
【００２３】この後、スピン乾燥槽（５）から乾燥され
た液晶用カセット（ａ）を取出して洗浄を完了する。
た液晶用カセット（ａ）を取出して洗浄を完了する。
【００２４】尚、カセット搬送機構のカセット取出し口
には除電装置（図示せず）が付設されており、嵌装され
た液晶用カセット（ａ）に発生した静電気でガラス基板
の回路故障や、カセットへの埃の再付着が発生するのを
防止している。
には除電装置（図示せず）が付設されており、嵌装され
た液晶用カセット（ａ）に発生した静電気でガラス基板
の回路故障や、カセットへの埃の再付着が発生するのを
防止している。
【００２５】
【発明の効果】本発明の液晶用カセット洗浄装置によれ
ば、温純水による浸漬により不純物をふやけさせてから
高圧洗浄および超音波洗浄により洗浄を行なうから、液
晶用カセットに対する洗浄力が向上し、液晶用カセット
の汚染は確実に洗浄できるとともに、有害な有機溶液の
使用を排除できるから、作業者の安全性の向上と環境破
壊の防止に効果を奏する。
ば、温純水による浸漬により不純物をふやけさせてから
高圧洗浄および超音波洗浄により洗浄を行なうから、液
晶用カセットに対する洗浄力が向上し、液晶用カセット
の汚染は確実に洗浄できるとともに、有害な有機溶液の
使用を排除できるから、作業者の安全性の向上と環境破
壊の防止に効果を奏する。
【００２６】また、高圧洗浄では液晶用カセットを上下
動させて吹き付け位置をスライドさせるから、液晶用カ
セットの洗浄を均等に行なうことができ、これにより不
純物の除去能力が高められる。
動させて吹き付け位置をスライドさせるから、液晶用カ
セットの洗浄を均等に行なうことができ、これにより不
純物の除去能力が高められる。
【図１】本発明の液晶用カセット洗浄装置の一実施例を
示す概略構成図である。
示す概略構成図である。
１ 液晶用カセット洗浄装置 ２ 洗浄前ディップ槽 ３ 高圧洗浄槽 ４ 超音波洗浄槽 ５ スピン乾燥槽 10 スプレーノズル 11 カセット上下機構 13 チャック機構 14 上下シリンダー 18 超音波発生源 19 シャワーノズル 20 モーター 21 ターンテーブル 22 水切りバスケット 23 熱風ブロー
Claims (2)
- 【請求項１】 温純水中に汚染された液晶用カセットを
浸漬させることによって付着している不純物をふやけさ
せて剥離し易くする洗浄前ディップ槽と、高圧純水を噴
射して液晶用カセットを高圧洗浄する高圧洗浄槽と、高
圧洗浄後の液晶用カセットを超音波振動を起こしている
純水中に浸漬して超音波洗浄する超音波洗浄槽と、超音
波洗浄後の液晶用カセットを回転させて遠心力の作用に
よって水切り乾燥すると同時に、回転される液晶用カセ
ットに熱風をブローして熱風乾燥もするスピン乾燥槽と
から構成されたことを特徴とする液晶用カセット洗浄装
置。 - 【請求項２】 上記高圧洗浄槽の上方に液晶用カセット
を上下動するカセット上下機構を設置し、このカセット
上下機構により液晶用カセットを上下動させながら高圧
洗浄するようにしたことを特徴とする請求項１の液晶用
カセット洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7039888A JPH08229524A (ja) | 1995-02-28 | 1995-02-28 | 液晶用カセット洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7039888A JPH08229524A (ja) | 1995-02-28 | 1995-02-28 | 液晶用カセット洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08229524A true JPH08229524A (ja) | 1996-09-10 |
Family
ID=12565520
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7039888A Pending JPH08229524A (ja) | 1995-02-28 | 1995-02-28 | 液晶用カセット洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08229524A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103934236A (zh) * | 2014-04-28 | 2014-07-23 | 太仓远德环保科技有限公司 | 网带式超声波清洗机 |
| CN106040688A (zh) * | 2016-06-29 | 2016-10-26 | 昆山国显光电有限公司 | 卡匣清洗设备 |
| JP2017528598A (ja) * | 2014-08-28 | 2017-09-28 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | マスク、キャリア、及び堆積ツールの構成要素から堆積材料を取り除くための剥脱プロセス |
| CN111744918A (zh) * | 2020-07-06 | 2020-10-09 | 安徽建科节能建材有限公司 | 一种夹层玻璃的除尘装置及使用方法 |
| CN114515723A (zh) * | 2020-11-19 | 2022-05-20 | 应用材料公司 | 用于超声波清洁的转盘及其使用方法 |
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1995
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