JPH1180908A - 表面性状に優れた磁性合金ならびにそれを用いた磁心 - Google Patents
表面性状に優れた磁性合金ならびにそれを用いた磁心Info
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Abstract
いた占積率が高く磁気特性ばらつきの小さい磁心を実現
する。 【解決手段】 一般式:Fe100-x-y-z-cAxNbyMozX'c(原
子%)で表され、式中AはCu,Auから選ばれた少なくとも1
種の元素、X'はSiおよびBから選ばれる少なくとも1種の
元素を示し、x,y,zおよびcはそれぞれ0.3≦x≦3、0.1≦
y<1、1≦z≦10、4≦c≦30を満足する数で表される範囲
の組成の合金とする。
Description
ョークコイル、可飽和リアクトル、電磁気シールド、セ
ンサー等の磁性部品に用いられるナノ結晶合金とナノ結
晶合金磁心に関するもので、製造する際ノズルの詰まり
などが少なく量産時の磁気特性や形状も安定しており、
しかも安価に製造できる表面性状に優れた磁性合金およ
びそれを用い熱処理したナノ結晶合金からなる占積率が
高く特性ばらつきが小さい高性能な磁心に関する。
ため、コモンモードチョークコイル、高周波トランス、
パルストランス等の磁心に使用されている。代表的組成
系は特公平4-4393や特開平1-242755に記載のFe-Cu-(Nb,
Ti,Zr,Hf,Mo,W,Ta)-Si-B系合金やFe-Cu-(Nb,Ti,Zr,Hf,M
o,W,Ta)-B系合金等が知られている。
から急冷し非晶質合金とした後、これを熱処理により微
結晶化することにより製造される。液相から急冷する方
法としては単ロール法、双ロール法、遠心急冷法、回転
液中紡糸法、アトマイズ法やキャビテーション法等が知
られている。また、気相から急冷する方法としては、ス
パッタ法、蒸着法、イオンプレーティング法等が知られ
ている。
た非晶質合金を微結晶化したもので結晶粒径は軟磁気特
性が良好な合金では50nm以下であり、非晶質合金にみら
れるような熱的不安定性がほとんどなく、Fe系アモルフ
ァス合金と同程度の高い飽和磁束密度と低磁歪で優れた
軟磁気特性を示すことが知られている。更にナノ結晶合
金は経時変化が小さく、温度特性にも優れていることが
知られている。
は、一旦アモルファス合金を作製後、これを熱処理し微
結晶化させることにより製造される。ナノ結晶軟磁性合
金の出発材料であるアモルファス状態の合金薄帯、ワイ
ヤーや粉末は液相から急冷して製造するが、製造するた
めにはほとんどの場合ノズルを使用する。代表的な材料
系としては大気中で製造が可能で軟磁気特性が優れてい
るFe-Cu-Nb-Si-B系が知られている。
て純度の高いNbよりも安価なフェロニオブ(Fe-Nb合金)
を使用しても原料価格がかなり高いという問題がある。
更に、これに加えて、薄帯の場合を例に説明すると、20
mm以上の広幅の合金薄帯を大量に製造する場合には、ノ
ズル先端部に付着物が発生し薄帯にすじができたり、最
悪の場合はノズルが詰まり製造できなくなる問題がかな
りの頻度で発生する。このような、形状的欠陥は磁心に
用いた場合に占積率低下や特性ばらつきの原因となり好
ましくない。
りが低下するため大幅なコスト上昇につながる問題点が
ある。このノズルに付着物が発生したりノズルが詰る問
題はワイヤーや粉末形態の合金を大量に作製する場合に
も起こり量産する場合に問題となる。特にこのような問
題は原料に前述のフェロニオブ等を使用した場合に顕著
に発生する。
めに本発明者らは鋭意検討の結果、Nbの一部をMoで置換
した特定の組成の合金すなわち、 一般式:Fe100-x-y-z-cAxNbyMozX'c(原子%) で表され、式中AはCu,Auから選ばれた少なくとも1種の
元素、X'はSiおよびBから選ばれる少なくとも1種の元素
を示し、x,y,zおよびcはそれぞれ0.3≦x≦3、0.1≦y<
1、1≦z≦10、4≦c≦30を満足する数で表される範囲の
組成である場合にノズル先端部の付着物が形成し、ノズ
ルの詰まりが少なくなるために、形状的欠陥が少なく製
造が容易な実用的な磁気特性を有する磁性合金を実現で
きることを見出し本発明に想到した。
素であり、熱処理後形成する結晶粒を微細化する効果お
よび透磁率を向上させる効果がある。A量xが0.3原子%未
満および3原子%を越えると熱処理を行った磁心において
透磁率の著しい減少が起こり好ましくない。特に好まし
いxの範囲は0.4≦x≦1.5であり、この範囲で特に軟磁気
特性にも優れたものが実現できる。
し、熱処理しナノ結晶合金とした後に形成する結晶粒を
微細化する効果を有する元素である。本発明においては
Nb元素の含有量yとMo元素の含有量zが特に重要である。
囲にある場合にアモルファス合金を製造する際のノズル
詰まりが少なく、量産時の磁気特性が安定しており製造
性に優れる。yが0.1原子%未満では透磁率のばらつきが
大きく、yが1原子%以上になるとノズル先端部の付着物
が形成しやすく、合金の形状的欠陥が多発したり、ノズ
ルが詰まりやすくなる等の問題が発生し製造性が著しく
低下するため好ましくない。
と、製造性の低下や軟磁気特性の劣下があり好ましくな
い。ノズル先端部の付着物は主に金属酸化物であるがNb
量が少なくMoを添加した場合は付着物が少なくなり、軟
磁気特性の劣下も最小限に抑えられる。また、この合金
は高価なNbの含有量が少なく、原料費を安くできるとい
うメリットもある。原料に用いるMoはフェロモリブデン
(Fe-Mo合金)を用いてもほぼ同様の効果が得られる。
る。X'量cが4原子%未満では熱処理後の合金の結晶粒が
微細化されにくく軟磁気特性が劣下し好ましくない。X'
量cが30原子%を越えると、飽和磁束密度の著しい低下が
起こり好ましくない。
N,O,S,Al,Ti,Zr等を含む合金も本発明に含まれる。
In,白金属元素,Mg,Ca,Srから選ばれた少なくとも1種の
元素で置換しても良く、この場合は更に耐食性を改善し
たり磁気特性を調整できる。X'の一部をGe,Ga,CおよびP
から選ばれた少なくとも1種の元素で置換しても良い。
この場合、磁歪や軟磁気特性を調整することができる。
置換量が50%を越えるとMo添加の効果が小さくなり、合
金が製造しにくくなるため好ましくない。
も1種の元素で置換しても良く、飽和磁束密度を向上あ
るいは耐食性を改善することができる。磁界中熱処理し
た場合の誘導磁気異方性が生じやすくなり、磁化曲線の
制御が容易となるが、置換量が50原子%を越えた場合は
軟磁気特性が著しく劣下するため好ましくない。
帯形状の合金の場合に本発明の効果が顕著になり、ノズ
ルに付着物が発生することによる、薄帯表面の欠陥が本
発明組成外のNbの多い組成の場合よりも減少し、ノズル
が詰まる問題も著しく低減される。特に幅20mm以上長さ
500m以上薄帯を製造する場合に本発明の効果がより顕著
になる。
る場合にも本発明の磁性合金の効果が顕著になり、ノズ
ル先端部の付着物が減りノズルが詰まりにくくなるため
製造性が改善される。
合金磁心用のアモルファス合金を多量に製造する場合に
その効果は特に顕著となる。
とも一部あるいは全部に平均粒径50nm以下の結晶粒が形
成している前記組成の磁性合金から構成されていること
を特徴とする磁心である。
磁心を前記磁性合金から構成することにより、占積率が
高く特性ばらつきが小さい高性能なナノ結晶磁心を実現
することができる。前記磁性合金は大気中製造も容易で
あり歩留りも良く、原料費も低下するために安価に製造
できるという特徴も有している。このため、高性能なノ
イズフィルタ用コモンモードチョーク、小型薄型のISDN
用パルストランスやカレントトランス等多くの磁性部品
を従来よりも安価に実現できる。
主にbccFe相であり、Si,B,Ge等を固溶している場合もあ
る。また、規則格子を含むあるいは完全に規則化してい
る場合もある。前記結晶相以外の残部は主にアモルファ
ス相であるが、実質的に結晶相だけからなる合金も本発
明に含まれる。また、bcc相以外にfcc構造のCuやAuを主
成分とする結晶粒が存在する場合もある。
しいが、用途によっては一部にFe2Bなどの化合物相を含
んでも良い。軟磁気特性の点では組織の50%以上が結晶
粒である方がより好ましい。
成の溶湯を単ロール法等の超急冷法により急冷し、一旦
アモルファス合金を作製後これを磁心の形状に加工し、
結晶化温度以上に昇温して熱処理を行い平均粒径50nm以
下の微結晶を形成することにより作製する。
まないのが望ましいが一部に結晶相を含んでも良い。熱
処理は通常はアルゴンガス、窒素ガス等の不活性ガス中
で行なうが大気中等酸素を含む雰囲気で行っても良い。
また、必要に応じて熱処理期間の少なくとも一部の期間
合金が飽和する強さの磁界を印加して磁界中熱処理を行
い誘導磁気異方性を付与しても良い。
帯の長手方向(巻磁心の場合は磁心の磁路方向)に磁界を
印加する場合は8A/m以上、薄帯の幅方向(巻磁心の場合
は磁心の高さ方向)に印加する場合は80kA/m以上の磁界
を印加する場合が多い。
囲気中で行なうことが望ましく、露点が−60゜C以下の不
活性ガス雰囲気中で熱処理を行なうと特に高い透磁率が
得られ、より好ましい結果が得られる。
上であり、通常450゜Cから650゜Cの範囲である。熱処理で
一定温度に保持する場合は、一定温度での保持時間は通
常は量産性の観点から24時間以下であり、好ましくは4
時間以下である。
1゜C/minから200゜C/min、より好ましくは1゜C/minから40゜
C/min、平均冷却速度は好ましくは1゜C/minから3000゜C/m
in、より好ましくは10゜C/minから1000゜C/minであり、こ
の範囲で特に高い透磁率が得られる。
や複数回の熱処理を行なうこともできる。更には合金に
直流、交流あるいはパルス電流を流して合金を発熱させ
熱処理することもできる。
処理し異方性を付与することにより磁気特性を改良する
ことも可能である。
O2、MgO、Al2O3等の粉末あるいは膜で合金薄帯表面を覆
ったり、化成処理により表面に絶縁層を形成したり、ア
ノード酸化処理により表面に酸化物層を形成し層間絶縁
を行っても良い。層間絶縁処理は特に高周波における渦
電流の影響を低減し、透磁率や磁心損失を改善する効果
がある。
樹脂と混練し、シート状にして電磁シールド材や電波吸
収体に使用することもできる。ワイヤー形状の場合は盗
難防止センサー、識別センサーなどの磁気センサーなど
に使用される。
を行ったり、磁心の周囲のコーティングを行なう場合
や、樹脂含浸後切断してギャップ付きのチョークコイル
用磁心としたり、インバータ用トランスやチョークコイ
ル用のカットコアを作製することもできる。
説明するが本発明はこれらに限定されるものではない。 (実施例1)原子%でCu0.6%,Nb0.6%,Mo2.1%,Si11.1%,B
8.9%残部実質的にFeからなる合金溶湯を大気中の単ロー
ル法により急冷し、幅25mm厚さ約18μmのアモルファス
合金薄帯を20kg製造した。NbとMoの原料としてはフェロ
ニオブ(Fe-Nb)とフェロモリブデン(Fe-Mo)を使用した。
10.8%,B9.2%残部実質的にFeからなる合金溶湯を大気中
の単ロール法により急冷し、ほぼ同寸法のアモルファス
合金薄帯を20kg製造した。
く、先端部と後端部の薄帯表面はほとんど同じ形態であ
った。これに対して後者の比較合金は後端部に縦筋が発
生しており、後端部の表面形態は著しく劣っていた。
心線平均面粗さRaを製造した薄帯先端から1mと後端から
1mの位置で比較した結果を表1に示す。製造後のノズル
先端部を比較すると、後者の本発明外の組成の合金の方
が付着物が多くこれが原因で薄帯表面に縦筋が発生し後
端部のRaが大きくなったものと考えられる。これに対し
て本発明合金のRaは後端部でもあまり大きくならず、量
産する場合製造性に優れている。
本発明合金は、ノズル先端部への付着物が少なく合金の
形状の良いものが製造できる。また、付着物が少ないた
めにノズル寿命も長くなり、製造コストを下げる効果も
有している。
5mmにスリットし、スリットした薄帯を外径19mm、内径1
5mmに巻回し、トロイダル磁心を作製した。
保った熱処理炉に挿入し、図1に示す熱処理パターンで
熱処理を行った。熱処理後の合金は結晶化しており、電
子顕微鏡観察の結果組織のほとんどが粒径18nm程度の微
細な結晶粒からなっていることが確認された。残部はア
モルファス相であり結晶相は70%程度と見積もられた。
zにおける比透磁率μ1k、100kHz0.2Tにおける磁心損失P
cvおよび占積率Pを測定した。測定した結果を表1に示
す。先端部での特性差はほとんどないが、本発明合金
は、このように製造量が多くなっても後端部の磁気特性
の劣下が小さい。また、後端部の薄帯を用いて作製した
磁心の占積率Pもあまり低くならず、優れていることが
分かる。
gを大気中の単ロール法により急冷し、幅50mm厚さ14μm
のアモルファス合金薄帯を得た。このアモルファス合金
薄帯の先端部および後端部の自由面側の面粗さを測定し
た。次に、この合金薄帯を外径100mm、内径80mmに巻き
巻磁心を作製し、結晶化温度以上で熱処理後磁心の占積
率Pを測定した。熱処理後の合金は平均粒径50nm以下の
結晶粒が形成していた。
9(原子%)の合金溶湯を単ロール法により急冷し、幅20mm
厚さ12μmのアモルファス合金薄帯を18kg作製した。図2
にFe78.7-zCu0.6Nb0.7MozSi11B9(原子%)合金の薄帯後端
部自由面側の表面粗さRaと後端部の薄帯で作製した磁心
の占積率Pを示す。
おいて面粗さおよび占積率が優れていることが分かる。
B9(原子%)の組成の合金溶湯を単ロール法により急冷
し、幅20mm厚さ12μmのアモルファス合金薄帯を18kg作
製した。図3にFe76.1-yCu0.6NbyMo2.8Si11.5B9(原子%)
合金の薄帯後端部自由面側の表面粗さRaと後端部の薄帯
で作製した磁心の占積率Pを示す。本発明範囲Nb量が0.1
以上1原子%未満の範囲において面粗さおよび占積率が優
れていることが分かる。
(原子%)の組成の合金溶湯を単ロール法により急冷し、
厚さ17μmの幅の異なるアモルファス合金薄帯を50kg作
製した。比較のためにFebal.Cu1Nb3.5Si15.5B7(原子%)
の組成のアモルファス合金も作製した。
と後端部の薄帯で作製した熱処理後の磁心の占積率Pを
示す。熱処理後の磁心材料は50nm以下の結晶粒が形成し
ているのが確認された。本発明合金の方が比較材よりも
20mm幅以上において特に後端部の面粗さRaおよび占積率
Pが優れていることが分かる。
まりなどが少なく量産時の磁気特性や形状も安定してお
り、しかも安価に製造できる表面性状に優れた磁性合金
およびそれを用い熱処理したナノ結晶合金からなる占積
率が高く特性ばらつきが小さい高性能な磁心を実現でき
るためその効果は著しいものがある。
る。
子%)合金の表面粗さと磁心の占積率を示した図である。
9(原子%)合金の表面粗さと磁心の占積率を示した図であ
る。
7(原子%)合金薄帯と比較例のFebal.Cu1Nb3.5Si15.5B
7(原子%)合金薄帯の表面粗さおよび磁心占積率の薄帯幅
依存性を示した図である。
Claims (7)
- 【請求項1】 一般式:Fe100-x-y-z-cAxNbyMozX'c(原
子%)で表され、式中AはCu,Auから選ばれた少なくとも1
種の元素、X'はSiおよびBから選ばれる少なくとも1種の
元素を示し、x,y,zおよびcはそれぞれ0.3≦x≦3、0.1≦
y<1、1≦z≦10、4≦c≦30を満足する数で表される範囲
の組成であることを特徴とする表面性状に優れた磁性合
金。 - 【請求項2】 Moの一部をTa,W,Cr,Mn,V,Sn,Zn,Ag,In,
白金属元素,Mg,Ca,Srから選ばれた少なくとも1種の元素
で置換したことを特徴とする請求項1に記載の表面性状
に優れた磁性合金。 - 【請求項3】 X'の一部をGe,Ga,CおよびPから選ばれた
少なくとも1種の元素で置換したことを特徴とする請求
項1又は請求項2に記載の表面性状に優れた磁性合金。 - 【請求項4】 Feの50%未満をCo,Niから選ばれた少なく
とも1種の元素で置換したことを特徴とする請求項1乃
至請求項3のいずれかに記載の表面性状に優れた磁性合
金。 - 【請求項5】 厚さ3μmから50μmの範囲にあり幅が20m
m以上の薄帯形状であることを特徴とする請求項1乃至
請求項4のいずれかに記載の表面性状に優れた磁性合
金。 - 【請求項6】 請求項1乃至請求項5のいずれかに記載
の磁性合金から構成されており、前記合金の少なくとも
一部あるいは全部に平均粒径50nm以下の結晶粒が形成し
ていることを特徴とする磁心。 - 【請求項7】 請求項1乃至請求項5のいずれかに記載
の磁性合金から構成されており、前記合金からなる薄帯
を巻回して得られる磁心であって、当該磁心は占積率が
83%以上であることを特徴とする磁心。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24090897A JP4437563B2 (ja) | 1997-09-05 | 1997-09-05 | 表面性状に優れた磁性合金ならびにそれを用いた磁心 |
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Publication Number | Publication Date |
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JPH1180908A true JPH1180908A (ja) | 1999-03-26 |
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ID=17066471
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
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