JPH1177663A - ワークの結晶方位調整方法 - Google Patents

ワークの結晶方位調整方法

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JPH1177663A
JPH1177663A JP24864097A JP24864097A JPH1177663A JP H1177663 A JPH1177663 A JP H1177663A JP 24864097 A JP24864097 A JP 24864097A JP 24864097 A JP24864097 A JP 24864097A JP H1177663 A JPH1177663 A JP H1177663A
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】ワイヤソーのワーク支持機構に、ワークの回転
方向及び水平方向の結晶方位を予め調整して装着でき、
ワイヤソーの構成を簡単にでき、加工能率を向上できる
ワークの結晶方位調整方法を提供する。 【解決手段】方位測定装置76により、ワーク22の回
転方向及び水平方向の結晶方位を測定し、回転方向の結
晶方位の測定値に応じてワーク22を軸線の周りで回転
させて、回転方向の結晶方位を調整する。ワーク22の
外面にワーク切断のための基準位置マークM1,M2を
付け、ワークの中心軸線と平行に補助プレートBを接着
する。ワーク取付板53を支持ベース40に装着して、
その上にワーク22を支持し、同支持ベースに設けた方
位調整機構44により、ワークの中心軸線22aを水平
面内で変移させて、水平方向の結晶方位を調整する。そ
の後、同支持ベースをワーク支持機構21に装着してワ
ークを支持する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、ワイヤを用い
て、半導体材料、磁性材料、セラミック等の結晶構造を
有するワークを切断するに先立ち、ワークの結晶方位を
調整する方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、ワイヤソーにおいては、複数の
加工用ローラが所定間隔おきに配設され、それらのロー
ラの外周には複数の環状溝が所定ピッチで形成されてい
る。また、各加工用ローラ間において、環状溝には1本
のワイヤが順に巻回されている。さらに、加工用ローラ
間のワイヤに対応してワーク支持機構が配設され、この
ワーク支持機構の下部にワークが着脱可能に取り付けら
れている。そして、ワイヤが走行されながら、そのワイ
ヤ上に遊離砥粒を含むスラリが供給され、この状態でワ
ーク支持機構により、ワイヤに対しワークが押し付け接
触されて、ワークに切断等の加工が施されるようになっ
ている。なお、他の構成は全く同様で、ワイヤとワーク
の位置が上下逆になっている装置もある。
【0003】この種のワイヤソーにおいては、ワークの
結晶方位を予め測定し、その測定結果に応じて、結晶方
位がワイヤの走行方向と所定の位置関係をもって対応す
るように、ワークの向きを調整する必要があった。この
ため、従来のワイヤソーにおいては、ワーク支持機構に
ワークの回転方向及び水平方向の結晶方位の向きを調整
するための方位調整機構が設けられていた。なお、この
明細書においては、結晶方位の向きの調整を、単に結晶
方位の調整ということにする。そして、ワーク支持機構
にワークを装着した後、この方位調整機構により、ワー
クをその中心軸線の周りで回転させて、回転方向の結晶
方位を調整するとともに、ワークの中心軸線を水平面内
で変移させて、水平方向の結晶方位を調整していた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、この方法に
おいては、ワークの回転方向及び水平方向の結晶方位を
調整するための方位調整機構を、ワイヤソーのワーク支
持機構に設ける必要がある。このため、ワイヤソーの構
成が複雑になるという問題があった。
【0005】また、この従来構成においては、ワイヤソ
ーのワーク支持機構にワークを装着した後、回転方向及
び水平方向の結晶方位を調整する必要があるため、調整
時間を含めた加工時間全体が長くなって、加工能率が低
下するという問題もあった。
【0006】しかも、従来のワイヤソーにおいては、ワ
ーク支持機構に方位調整機構が一カ所しかないため、異
なる結晶方位のワークを複数個設置し、同時に結晶方位
を合わせながら切断することは不可能であった。つま
り、一つのワーク支持具に一つのワークを装着し、これ
をワーク支持機構に装着して、方位調整した後に切断す
るというように、短物ワークでも、長物ワークでも一つ
ずつしか切断加工することができなかった。従って、ワ
イヤソーの加工能率が悪く、生産性の低いものであっ
た。
【0007】また、ワーク支持機構に方位調整機構を複
数個設けて、異なる結晶方位の複数のワークを取り付け
てそれぞれを方位調整して、同時加工を可能にすること
も考えられる。しかしながら、ワーク支持機構の構成が
非常に複雑になり、さらにそれぞれに二方向の方位調整
を行ってからの切断開始となるため、作業性が悪いと共
に、調整時間が長くなり、その結果生産性もあまりよく
ならない。
【0008】一方、ワーク支持機構に方位調整機構を設
けずに、ワーク支持機構へ装着する前のワーク支持具
に、結晶方位の二方向の調整機構を設けたものもある
が、この場合もワーク支持具の構造が複雑になり、複数
の調整機構を設けるとなると、さらに複雑になってしま
うという問題があった。
【0009】この発明は、このような従来の技術に存在
する問題点に着目してなされたものである。その目的と
するところは、ワーク支持機構にワークを装着するのに
先立って、そのワークの回転方向及び水平方向の結晶方
位を予め調整しておくことができ、ワイヤソーの構成を
簡単にすることができるとともに、加工能率を向上させ
ることができるワークの結晶方位調整方法を提供するこ
とにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、請求項1に記載の発明では、ワイヤソーのワーク
支持機構へのワークの装着に先立って、結晶構造を有す
るワークの回転方向及び水平方向の結晶方位を測定し、
その回転方向の結晶方位の測定値に応じてワークを中心
軸線の周りで回転させて、回転方向の結晶方位を調整
し、この状態でワークの外面にワーク切断のための補助
プレートを接着するための回転方向の基準位置を示すマ
ークを付け、そのマークに基づいて、ワークの外周面に
ワークの中心軸線と平行に前記補助プレートを接着し、
その補助プレートを支持ベースに設けられた方位調整機
構に装着してワークを支持ベースに支持し、この状態で
方位調整機構により水平方向の結晶方位の測定値に応じ
て支持ベースに対し、ワークの中心軸線を水平面内で変
移させて、水平方向の結晶方位を調整し、調整後の一つ
または二つ以上の支持ベースを前記ワーク支持機構に所
定の角度で装着するようにしたものである。
【0011】請求項2に記載の発明では、請求項1に記
載のワークの結晶方位調整方法において、前記回転方向
の基準位置を示すマークはワークの端面及びワークの外
周面に付けるようにしたものである。
【0012】請求項3に記載の発明では、請求項1また
は請求項2に記載のワークの結晶方位調整方法におい
て、前記ワークの結晶方位の測定はX線方位測定装置に
より行うようにしたものである。
【0013】請求項4に記載の発明では、請求項1〜請
求項3のうち何れか一項に記載のワークの結晶方位調整
方法において、結晶方位測定位置にワークを出し入れす
るためのワーク移送手段を備え、このワーク移送手段の
動きを利用してワークにマークを付けるようにしたもの
である。
【0014】請求項5に記載の発明では、請求項1〜請
求項4のうち何れか一項に記載のワークの結晶方位調整
方法において、マークは、ワーク取付板の幅方向に対応
する間隔の2本の平行ラインである。
【0015】請求項6に記載の発明では、請求項1に記
載のワークの結晶方位調整方法において、補助プレート
接着後の1または2以上のワークを一つの支持プレート
上でそれぞれ水平方向の結晶方位を調整するようにした
ものである。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施形態を図
面に基づいて説明する。まず、ワイヤソーの構成につい
て説明すると、図1及び図2に示すように、装置基台1
1上にはコラム12が立設されている。コラム12の一
側には切断機構13がブラケット14を介して装設され
ている。この切断機構13は所定間隔をおいて平行に延
びる複数の加工用ローラ15,16,17を備え、それ
らの外周には環状溝15a,16a,17aが所定ピッ
チで形成されている。なお、図面においては理解を容易
にするために、環状溝15a,16a,17aの数を実
際よりも少なく描いてある。
【0017】前記加工用ローラ15,16,17の各環
状溝15a,16a,17aには、1本の線材よりなる
ワイヤ18が連続的に巻回されている。ブラケット14
にはワイヤ走行用モータ19が配設され、このモータ1
9により図示しない伝達機構を介して加工用ローラ1
5,16,17が回転される。そして、これらの加工用
ローラ15,16,17の回転によって、ワイヤ18が
所定の走行速度で走行される。このワイヤ18の走行
は、一定量前進及び一定量後退を繰り返し、全体として
歩進的に前進するように行われる。
【0018】前記切断機構13の上方に位置するよう
に、ブラケット14上にはスラリ供給機構20が配設さ
れ、このスラリ供給機構20から加工用ローラ15,1
6,17間のワイヤ18上に、遊離砥粒を含む水性また
は油性のスラリが供給される。スラリ供給機構20の上
方において、コラム12にはワーク支持機構21が上下
動可能に支持され、その下部には硬脆材料よりなる複数
の結晶構造を有するワーク22が着脱自在にセットされ
る。コラム12上にはワーク昇降用モータ23が配設さ
れ、このモータ23により図示しないボールスクリュー
等を介してワーク支持機構21が上下動される。
【0019】そして、このワイヤソーの運転時には、ワ
イヤ18が切断機構13の加工用ローラ15,16,1
7間で走行されながら、ワーク支持機構21が切断機構
13に向かって下降される。このとき、スラリ供給機構
20からワイヤ18上へ遊離砥粒を含むスラリが供給さ
れるとともに、そのワイヤ18に対し各ワーク22が押
し付け接触され、ラッピング作用によって各ワーク22
がウエーハ状に同時にスライス加工される。
【0020】前記装置基台11上にはリール機構24が
装設され、ワイヤ18を繰り出すための繰出しリール2
5と、ワイヤ18を巻き取るための巻取りリール26と
を備えている。装置基台11には回転方向及び回転速度
を変更可能なサーボモータよりなる一対のリール回転用
モータ27,28が配設され、それらのモータ軸にはリ
ール25,26が連結されている。なお、ワイヤ18の
一方のリール26への巻き取り完了後は、そのリール2
6がワイヤ繰り出し側に、他方のリール25がワイヤ巻
き取り側に変わるものである。
【0021】前記装置基台11上にはリール機構24に
隣接してトラバース機構29が装設され、繰出しリール
25からのワイヤ18の繰出し及び巻取りリール26へ
のワイヤ18の巻取りを、上下にトラバースしながらワ
イヤ18を案内する。そして、前記リール機構24の両
リール25,26の回転により、繰出しリール25から
切断機構13へワイヤ18が繰り出されるとともに、加
工後のワイヤ18が巻取りリール26に巻き取られる。
【0022】前記リール機構24と切断機構13との間
には、張力保持機構30及びガイド機構31が配設され
ている。そして、切断機構13の加工用ローラ15,1
6,17間に巻回されたワイヤ18の両端が、ガイド機
構31の各ガイドローラ32を介して張力保持機構30
に掛装されている。この状態で、張力保持機構30によ
り、加工用ローラ15,16,17間のワイヤ18に所
定の張力が付与されるようになっている。
【0023】次に、前記ワーク支持機構21へのワーク
22の装着に先立って、そのワーク22の結晶方位を調
整する方法について説明する。さて、この結晶方位調整
方法においては、図3に示すように、第1工程P1で、
X線方位測定装置76により、ワーク22の回転方向及
び水平方向の結晶方位を測定する。第2工程P2では、
回転方向の結晶方位の測定値に応じて、方位調整装置7
7によりワーク22を軸線の周りで回転させ、回転方向
の結晶方位を調整する。
【0024】第3工程P3では、ワーク22の回転方向
の結晶方位を調整した状態で、マーキング装置78によ
り、ワーク22の外面にワーク切断のための補助プレー
トBを接着するための回転方向の基準位置を示すマーク
M1,M2を付ける。この場合、マークM2はワーク2
2の外周面に補助プレートBの幅に対応した間隔の2本
の平行なラインをワーク22の軸線と平行に付ける。ま
た、マークM1はワーク22の端面にマークM2と連続
する2本の短いラインを付ける。前記補助プレートB
は、例えば互いに同一幅で形成されたワーク取付板5
3、ガラス板54、カーボン板55等で構成されてい
る。
【0025】第4工程P4では、マークM1,M2を基
準にして、ワーク22の外周面にカーボン板55及びガ
ラス板54を介して、ワーク取付板53をワーク22の
軸線と平行に接着する。第5工程P5では、補助プレー
トBを支持ベース40に設けられた方位調整機構44に
装着して、ワーク22を支持ベース40に支持する。
【0026】第6工程P6では、方位調整機構44によ
り、前記水平方向の結晶方位の測定値に応じて支持ベー
ス40に対し、ワーク22の軸線を水平面内で変移させ
て、水平方向の結晶方位を調整する。第7工程P7で
は、支持ベース40をワイヤソーのワーク支持機構21
に所定の角度で装着して、ワーク22をワーク支持機構
21に支持する。
【0027】そこで、前記各装置について詳述すると、
図4(a)に示すように、X線方位測定装置76の側部
には基台79が配設され、その上面には一対のレール8
0を介して移動板81が移動可能に支持されている。移
動板81上には支持台82が配設され、その上面には方
位調整装置77を介してワーク22が支持されている。
基台79上には移動用モータ83が配設され、このモー
タ83によりボールねじ84を介して移動板81が移動
される。このモータ83、ボールねじ84及び移動板8
1によりワーク移送手段が構成される。これにより、支
持台82上のワーク22が、X線方位測定装置76の測
定位置と、これより外方へ出た搬出入位置とに移動配置
される。
【0028】前記X線方位測定装置76は、ワーク22
が測定位置に移動配置された状態で、そのワーク22の
端面に対向配置される回転照射ヘッド85及び測定器8
6を備えている。そして、照射ヘッドを所定角度ずつ回
転させて、回転照射ヘッド85からワーク22の端面の
複数箇所にX線を照射し、その反射光を受光してワーク
22上から生じるX線の波長や強度等に基づいて、測定
器86によりワーク22の回転方向及び水平方向の結晶
方位が測定される。
【0029】前記方位調整装置77は、ワーク22を支
持する複数本の回転支持ローラ87と、それらのローラ
87を回転させる回転用モータ88とを備えている。そ
して、ワーク22の結晶方位が測定された後、ワーク2
2を測定位置から搬出入位置へ移動させる途中、或いは
所定位置において、回転用モータ88により回転支持ロ
ーラ87が回転され、回転方向の結晶方位の測定値に応
じてワーク22が軸線の周りで接触回転されて、ワーク
22の回転方向の結晶方位が調整される。
【0030】前記マーキング装置78は、前記基台79
の後方に首振り機構97を介してマーキングヘッド90
を備えている。このマーキングヘッド90はX線方位測
定装置76より外方へ移動配置されたワーク22に対し
て対向配置されている。マーキングヘッド90は二つの
マーカー89を備えており、両マーカー89間は間隔調
整自在であり、接着すべきワーク取付板53の幅寸法に
調整されている。そして、図4(b)に示すように、ワ
ーク22の回転方向の結晶方位が調整された後、ワーク
22の移送方向の動きと、首振り機構97の駆動による
マーキングヘッド90の首振り運動とにより、ワーク2
2の端面及び外周面における2本のラインなるマークM
1,M2が連続して付けられる。すなわち、ワークの長
さとワーク位置のデータに基づいて、モータ83の回転
と同期してマーキングヘッド90の首振り運動が行われ
るようになっている。
【0031】搬出入位置に移動配置されたワーク22と
対向するように、基台79上にはコンベア91が装設さ
れている。そして、台車92により基台79の側方位置
に搬送されるワーク22が、このコンベア91上を経て
支持台82上に搬入されるとともに、マーク付けを終了
したワーク22が、このコンベア91上を経て台車92
上に搬出される。そして、次工程のワーク取付板53の
接着機構へ搬送される。
【0032】次に、前記ワーク22に対する補助プレー
トBの取付構成、補助プレートBに対する支持ベース4
0の取付構成、方位調整機構44の構成、及びワイヤソ
ーのワーク支持機構21に対する支持ベース40の取付
構成について図3,図5,図6に基づいて詳細に説明す
る。なお、前記補助プレートBを構成するワーク取付板
53、カーボン板55及びガラス板54は、予め一体に
接着固定された状態にある。
【0033】ワーク22の上方から搬入されるワーク取
付板53に対し、ワーク22をそのマークM1,M2が
ワーク取付板53の幅方向両端縁と合致するように、回
転方向を位置決めし、Vブロック上に載置する。そし
て、その状態でワーク22上に補助プレートBをカーボ
ン板55の下面に接着剤を介して接合する。次に固定治
具93の両サドル94が互いに接近する方向に移動さ
れ、その上下2箇所に設けられた平行チャック片95,
96により、ワーク22の外径とワーク取付板53の幅
方向の両側面を把持し、互いに平行状態に矯正される。
こうして、補助プレートBを接着したワーク22は、次
に支持ベース40に装着される。支持ベース40は本実
施形態ではワーク22の2個取りの構成となっている。
【0034】支持ベース40の両側にはワーク支持機構
21への取付基準となる断面ほぼ逆台形状の係合片41
及び図示しない搬送台車等に載せるための突片74が突
設されている。また、前記各支持ベース40には一対の
方位調整機構44が装設され、これらの方位調整機構4
4の下部には2個のワーク22が各別に支持されるよう
になっている。
【0035】)そこで、この方位調整機構44について
詳述すると、図8〜図10に示すように、前記各支持ベ
ース40の下面には一対の接合板45が取り付けられて
いる。各接合板45を貫通するように、支持ベース40
には一対の回動軸46がベアリング47を介して回動可
能に支持されている。各回動軸46の下端にはワーク支
持体48が固定され、それらの下面には摺動案内するア
リ部48aが係合片41の長手方向とほぼ同方向に延長
形成されている。
【0036】前記回動軸46の外周には複数の皿ばね4
9が一対のばね受け50,51を介して取り付けられ、
ナット52により抜け止めされている。そして、この皿
ばね49により回動軸46が上方に付勢されて、ワーク
支持体48が接合体45に圧接されている。これによ
り、ワーク支持体48が所定の回動調整位置に保持され
るようになっている。
【0037】前記各ワーク支持体48の下面にはワーク
取付板53が、その上面のアリ溝53aをアリ部48a
に係合させることによって、アリ部48aに沿って移動
可能及び着脱可能に取り付けられる。
【0038】前記ワーク支持体48のアリ部48aと対
応するように、ワーク取付板53の外側には締付ねじ5
7が螺合されるとともに、その内側には移動ピン58及
びクランプ体59が移動可能に配設されている。そし
て、この締付ねじ57を螺進させることにより、移動ピ
ン58を介してクランプ体59がワーク支持体48のア
リ部48aに圧接されて、ワーク取付板53が支持ベー
ス40の下部のワーク支持体48に固定されるようにな
っている。
【0039】図8〜図10に示すように、前記各回動軸
46の上端には回動部材としての回動レバー60がねじ
61により固定され、それらの先端下面には係合ローラ
62が回転可能に支持されている。支持ベース40に螺
合したばね受け63と各回動レバー60との間にはばね
64が介装され、これらのばね64により各回動レバー
60が図9の矢印方向に回動付勢されている。
【0040】前記各回動レバー60と対応するように、
支持ベース40には一対の収容孔65が形成されてい
る。各収容孔65内には円筒状の移動体66が移動可能
に収容され、その外周面には係合溝66aが形成される
とともに、中心にはねじ孔66bが形成されている。支
持ベース40には一対の回り止めピン67が螺合され、
それらの先端が移動体66の係合溝66aに係合するこ
とにより、各移動体66の回転が規制されている。各移
動体66の外面には係合溝68が形成され、この係合溝
68内に各回動レバー60上の係合ローラ62が係合さ
れている。
【0041】前記各移動体66と対応するように、支持
ベース40の各収容孔65内には調整部材としての調整
軸69がベアリング70を介して回転可能に支持されて
いる。また、各調整軸69の外端には工具係合孔69a
が形成されるとともに、内端には移動体66のねじ孔6
6bに螺合するねじ部69bが形成されている。
【0042】そして、工具係合孔69aに図示しない工
具を係合させて、調整軸69を回動調整したときには、
ねじ部69b及びねじ孔66bを介して移動体66が移
動され、係合溝68及び係合ローラ62を介して回動レ
バー60が回動される。これにより、回動軸46を介し
てワーク支持体48が回動され、ワーク取付板53の下
面に取り付けられたワーク22の中心軸線22aが水平
面内で回動変移されて、水平方向の結晶方位が調整され
るようになっている。
【0043】そして、これらの方位調整機構44によ
り、支持ベース40に対し、各ワーク22の水平方向の
結晶方位の測定値に応じて各ワーク22の中心軸線22
aが水平面内で回動変移されて、各ワーク22の水平方
向の結晶方位が係合片41の長手方向である取付基準線
と平行となるように調整される。なお、前記支持ベース
40の上面には上カバー71が取り付けられ、各回動レ
バー60の上方が覆われている。支持ベース40の前面
には一対のフランジ板72が取り付けられ、各調整軸6
9の前端を露出させた状態で、各収容孔65の前部が覆
われている。支持ベース40の後面には後カバー73が
取り付けられ、各収容孔65の後部が覆われている。こ
の状態で支持ベース40がワイヤソーのワーク支持機構
21に取り付けられる。本実施形態においてワーク支持
機構21は支持ベース40の2個取り構造となってい
る。
【0044】図5及び図6に示すように、前記ワイヤソ
ーにおけるコラム12の側部には昇降台35が昇降可能
に支持され、その下面にはクランプベース36が配設さ
れている。クランプベース36の両側にはクランプ板3
7,38が取り付けられ、一方のクランプ板37の下端
内縁には傾斜係合面37aが形成されている。一対のク
ランプ板37,38の互いに対向する位置において、各
クランプ板37,38の下端内面には各一対の支持突起
39が所定間隔おきに2箇所突設され、各一対の支持突
起39の対向面には傾斜支持面39aがほぼV字状をな
すようにそれぞれ形成されている。
【0045】前記両クランプ板37,38間において、
各一対の支持突起39間にはそれぞれ支持ベース40が
クランプ支持されるようになっている。つまり、ここで
は二つの支持ベース40を装着できるようになってい
る。各支持ベース40の両側の係合片41が各一対の支
持突起39の傾斜支持面39a上に係合支持される。そ
して、各係合片41の先端上縁には傾斜面41aが形成
されている。
【0046】前記クランプ板38には各支持ベース40
に対応して一対のクランプねじ42が螺合され、このク
ランプねじ42を螺進せることにより、その先端が一方
の係合片41の傾斜面41aに接合される。これに伴っ
て、支持ベース40が図6の左側方に移動され、他方の
係合片41の傾斜面41aがクランプ板37の傾斜係合
面37aにくさび係合される。これにより、一対の支持
ベース40が両クランプ板37,38間の支持突起39
上で所定位置に確実にクランプされる。これにより、支
持ベース40は取付基準線がワイヤ18の走行方向と直
交する方向と一致するように所定の角度位置に位置決め
される。
【0047】前記クランプ板37の外面には戻し用シリ
ンダ43が配設され、そのピストンロッド43aの先端
が他方の係合片41に対向配置されている。そして、前
記クランプねじ42を螺退させた状態で、この戻し用シ
リンダ43が突出動作されたとき、支持ベース40が図
6の右側方に移動されて、係合片41の傾斜面41aと
クランプ板37の傾斜係合面37aとの係合が解除され
る。これにより、支持ベース40を両クランプ板37,
38間の支持突起39上から取り外すことができる。ワ
ーク支持機構21に2個の支持ベース40が取り付けら
れた状態では、図5〜図7に示すように、ワーク22は
加工用ローラ15,16,17間のワイヤ18の走行方
向に所定間隔をおいて2列で、各列に2個ずつ位置をず
らして計4個方位調整された状態で配置される。
【0048】次に、ワーク22の結晶方位を調整して、
そのワーク22をワーク支持機構21に装着するまでの
動作について説明する。さて、ワーク支持機構21への
ワーク22の装着に先立って、図3及び図4(a),
(b)に示すように、X線方位測定装置76により、ワ
ーク22の回転方向及び水平方向の結晶方位が測定され
る。その後、方位調整装置77により、回転方向の結晶
方位の測定値に応じて、ワーク22が軸線の周りで回転
されて、回転方向の結晶方位が調整される。この状態
で、マーキング装置78により、ワーク22の端面及び
ワーク22の外周面に2本の平行なラインでなるマーク
M1,M2が付けられる。
【0049】その後、マークM1,M2に基づき、ワー
ク22の外周面に補助プレートB、すなわちカーボン板
55及びガラス板54を介してワーク取付板53が接着
固定される。さらに、ワーク取付板53を支持ベース4
0の下面に装着することにより、ワーク22が支持ベー
ス40に支持される。この場合、図10に示すように、
アリ溝53aとアリ部48aとの係合により、一対のワ
ーク取付板53を支持ベース40の下部の各ワーク支持
体48に支持して、締付ねじ57により所定位置に締付
け固定すれば、支持ベース40の下面に2個のワーク2
2が同一軸線上に配列支持される。
【0050】この状態で、各ワーク22と対応する方位
調整機構44において、調整軸69の工具係合孔69a
に図示しない工具を係合させて、調整軸69を回動調整
する。すると、ねじ部69b及びねじ孔66bを介して
移動体66が移動され、係合溝68及び係合ローラ62
を介して回動レバー60が回動される。これにより、回
動軸46を介してワーク支持体48が回動され、補助プ
レートBの下面に取り付けられたワーク22の中心軸線
22aが水平面内で回動変移されて、水平方向の結晶方
位が調整される。
【0051】その後、一対の支持ベース40が、ワイヤ
ソーのワーク支持機構21におけるクランプベース36
のクランプ板37,38間の支持突起39上に支持され
て、クランプねじ42が締付けられる。これにより、複
数のワーク22がワーク支持機構21の下部に、ワイヤ
18の走行方向へ所定間隔をおいて2列で、各列に2個
ずつ配置される。
【0052】従って、この状態でワイヤソーの運転を開
始すると、ワイヤ18がリール機構24の繰出しリール
25から繰り出され、切断機構13の加工用ローラ1
5,16,17間において歩進的に走行された後、巻取
りリール26に巻き取られる。そして、スラリ供給機構
20により、加工用ローラ15,16,17間のワイヤ
18上に遊離砥粒を含むスラリが供給されながら、ワー
ク支持機構21の下降により、ワイヤ18に対して複数
のワーク22が押し付け接触される。これにより、各ワ
ーク22が所定の厚さに同時に切断加工される。
【0053】前記の実施形態によって期待できる効果に
ついて、以下に記載する。 ・ この実施形態におけるワークの結晶方位調整方法で
は、ワーク支持機構21へのワーク22の装着に先立っ
て、X線方位測定装置76により、ワーク22の回転方
向及び水平方向の結晶方位を測定する。回転方向の結晶
方位の測定値に応じてワーク22を軸線の周りで回転さ
せて、回転方向の結晶方位を調整する。この状態で、ワ
ーク22の外面に補助プレートBの接着位置の基準とな
るマークM1,M2を付ける。このマークM1に基づい
て、ワーク22の外周面にカーボン板55を介してワー
ク取付板53をワーク22の中心軸線22aと平行に接
着する。ワーク取付板53を支持ベース40に装着して
ワーク22を支持ベース40に支持する。この状態で、
支持ベース40に設けられた方位調整機構44により、
ワーク22の中心軸線22aを水平面内で変移させて、
水平方向の結晶方位の測定値に応じて水平方向の結晶方
位を調整する。その後、支持ベース40をワーク支持機
構21に装着して、ワーク22をワーク支持機構21に
支持するようになっている。
【0054】このため、ワーク支持機構21にワーク2
2を装着するのに先立って、そのワーク22の回転方向
及び水平方向の結晶方位を予め調整しておくことができ
る。従って、ワイヤソーのワーク支持機構21に回転方
向及び水平方向の結晶方位を調整するための方位調整機
構を装備する必要がなく、ワイヤソーの構成を簡単にす
ることができる。また、支持ベース40上に予めワーク
22の回転方向及び水平方向の結晶方位が調整されて支
持されているため、ワーク支持機構21へのワーク22
の装着後に、直ちに加工を開始することができて、加工
能率を向上させることができる。
【0055】さらに、ワーク支持機構21へのワーク2
2の装着後に、結晶方位を調整する必要がないため、結
晶方位が異なった複数のワーク22をワーク支持機構2
1に支持することができて、それらのワーク22を同時
に能率よく加工することができる。しかも、結晶方位の
測定後に、その測定値に基づいてワーク22の外面にマ
ークM1,M2が付けられるため、カーボン板55及び
ワーク取付板53等の補助プレートBの接着工程が、回
転方向の結晶方位の調整工程から離れた位置にあって
も、ワーク22の外周面の所定位置に、補助プレートB
を正確に接着することができる。
【0056】・ この実施形態のワークの結晶方位調整
方法では、マークM1はワーク22の端面に付け、マー
クM2はワーク22の外周面に付けるようにしている。
このため、作業者がワーク22の端面側にいたり、或い
はワーク22の外周面側にいても、ワーク取付板53の
取付位置を容易に確認することができ、作業性を向上で
きる。
【0057】・ この実施形態のワークの結晶方位調整
方法では、ワーク22の結晶方位の測定はX線方位測定
装置76により行うようにしている。このため、X線方
位測定装置76により、ワーク22の回転方向及び水平
方向の結晶方位を容易かつ正確に測定することができ
る。
【0058】なお、この発明は、次のように変更して具
体化することも可能である。 ・ ワーク支持機構21におけるクランプベース36の
クランプ板37,38間に、支持ベース40をクランプ
する構成において、前記実施形態のクランプねじ42に
代えて、クランプ用シリンダを設けること。
【0059】・ クランプベース36に対する支持ベー
ス40の支持構成、及び支持ベース40の下部のワーク
支持体48に対するワーク取付板53の取付構成を、適
宜に変更すること。
【0060】・補助プレートBにガラス板54を用いな
いこと。補助プレートBにカーボン板55を用いず、カ
ーボン板55部分をガラスで形成することなど、補助プ
レートBの構成を適宜変更すること。
【0061】・ ワーク22の結晶方位を測定するX線
方位測定装置76、ワーク22の回転方向の結晶方位を
調整する方位調整装置77、ワーク22にマークM1,
M2を付けるマーキング装置78の構成を、適宜に変更
すること。
【0062】・ 支持ベース40上において、ワーク2
2の水平方向の結晶方位を調整する方位調整機構44の
構成を、適宜に変更すること。
【0063】
【発明の効果】この発明は、以上のように構成されてい
るため、次のような効果を奏する。本発明によれば、ワ
イヤソーのワーク支持機構にワークを装着するのに先立
って、そのワークの回転方向及び水平方向の結晶方位を
予め調整しておくことができ、ワイヤソーの構成を簡単
にすることができるとともに、加工能率を向上させるこ
とができる。また、ワーク支持機構に複数のワークを容
易に取り付けることができ、複数個同時加工が可能とな
り、生産性が向上する。
【0064】また、ワークの端面及び外周面に付けられ
たマークに基づいて、ワークの外周面に補助プレートを
正確に接着することができる。更に、X線方位測定装置
により、ワークの回転方向及び水平方向の結晶方位を容
易かつ正確に測定することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の一実施形態を示すワイヤソーの正
面図。
【図2】 そのワイヤソーの平面図。
【図3】 ワークの結晶方位の調整方法を順に示す説明
図。
【図4】 (a)はワークの結晶方位の方位測定装置の
関連構成を示す斜視図、(b)はマーキングヘッドの動
作を示す説明図。
【図5】 ワーク支持機構へのワークの取付状態を示す
部分拡大正面図。
【図6】 図5のワーク取付状態の要部破断側面図。
【図7】 図6の7−7線における断面図。
【図8】 図6の支持ベースをさらに拡大して示す要部
破断側面図。
【図9】 図8の支持ベースの要部破断平面図。
【図10】 図8の10−10線における断面図。
【符号の説明】
13…切断機構、15,16,17…加工用ローラ、1
8…ワイヤ、21…ワーク支持機構、22…ワーク、2
2a…中心軸線、40…支持ベース、44…方位調整機
構、53…ワーク取付板、55…カーボン板、76…X
線方位測定装置、77…方位調整装置、78…マーキン
グ装置、81…移動板(ワーク移送手段)、83…移動
用モータ(ワーク移送手段)、84…ボールねじ(ワー
ク移送手段)、M1,M2…マーク、P1〜P7…工
程、B…補助プレート。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ワイヤソーのワーク支持機構へのワーク
    の装着に先立って、結晶構造を有するワークの回転方向
    及び水平方向の結晶方位を測定し、その回転方向の結晶
    方位の測定値に応じてワークを中心軸線の周りで回転さ
    せて、回転方向の結晶方位を調整し、この状態でワーク
    の外面にワーク切断のための補助プレートを接着するた
    めの回転方向の基準位置を示すマークを付け、そのマー
    クに基づいて、ワークの外周面にワークの中心軸線と平
    行に前記補助プレートを接着し、その補助プレートを支
    持ベースに設けられた方位調整機構に装着してワークを
    支持ベースに支持し、この状態で方位調整機構により水
    平方向の結晶方位の測定値に応じて支持ベースに対し、
    ワークの中心軸線を水平面内で変移させて、水平方向の
    結晶方位を調整し、調整後の1または2以上の支持ベー
    スを前記ワーク支持機構に所定の角度で装着するように
    したワークの結晶方位調整方法。
  2. 【請求項2】 前記回転方向の基準位置を示すマークは
    ワークの端面及びワークの外周面に付けるようにした請
    求項1に記載のワークの結晶方位調整方法。
  3. 【請求項3】 前記ワークの結晶方位の測定はX線方位
    測定装置により行うようにした請求項1または請求項2
    に記載のワークの結晶方位調整方法。
  4. 【請求項4】 結晶方位測定位置にワークを出し入れす
    るためのワーク移送手段を備え、このワーク移送手段の
    動きを利用してワークにマークを付ける請求項1〜請求
    項3のうち何れか一項に記載のワークの結晶方位調整方
    法。
  5. 【請求項5】 マークは、補助プレートの幅方向に対応
    する間隔の2本の平行ラインである請求項1〜請求項4
    のうち何れか一項に記載のワークの結晶方位調整方法。
  6. 【請求項6】 補助プレート接着後の1または2以上の
    ワークを一つの支持プレート上でそれぞれ水平方向の結
    晶方位を調整するようにした請求項1に記載のワークの
    結晶方位調整方法。
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