JPH11515140A - 導電性金属回路を製造するためのレーザー書き込み方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 コヒーレントな放射源を用いた、導電性金属回路を提供する方法について述ベられている。回路パターンは、過冷却材料層を有するレーザーアドレス可能要素上に直接書き込まれる。次に光線の当たった領域に導電性金属トナーが塗布され、炉内で焼成されて導電性金属回路が提供される。

Description

【発明の詳細な説明】 導電性金属回路を製造するためのレーザー書き込み方法 発明の分野 本発明は、プリント回線基盤の加工において導電性金属回路を形成するための 方法、特に過冷却材料層を有する要素と共に、レーザーまたは発光ダイオードな どのコヒーレントな放射線を使用する方法に関する。 技術背景 導電性金属のメッキを使用するプリント回線基盤の加工は、技術分野で周知で ある。導電性金属をメッキする方法としては、蒸着、電着、無電解メッキ、およ びスパッタリングが挙げられる。金属の均一な層が基材上にメッキされると、次 に不要な金属を金属化された表面から腐蝕除去するサブトラクティブイメージン グによって、回路が形成される。サブトラクティブイメージング法では、最初に 導電性金属が基材表面全体にメッキされ、次にフォトレジストが金属表面に塗ら れて乾燥され、画像のイメージングと現像がそれに続く。露出金属はエッチング 液を使用して腐蝕除去され、残りのフォトレジストが金属性の画像から除去され る。この方法には非常に時間がかかり、材料も無駄になる。さらに工程で使用さ れる現像液そして／またはエッチング液の廃棄は、環境上の懸念を引き起こす。 代案として金属は、陽画像としてメッキできる。陽画像形成の最も一般的な方 法は、金属性導電性インクを用いたスクリーン印刷である。典型的な金属性イン クは、結合剤中に拡散する導電性金属および溶剤を含む。陽画像は、金属性イン クの基材上へのスクリーン印刷と、それに続く溶剤除去によって形成される。可 能な場合、次に画像形成した基材を高温に曝して残留結合剤を揮発させる。残留 結合剤が除去されないと、結合剤が金属画像の導電率に干渉することもある。陽 画像法の加工ステップは、サブトラクティブ法よりも少ないが、スクリーン印刷 法は解像度に限界がある。さらにスクリーン印刷法でも溶剤除去は必要であり、 環境上の懸念になる。 レーザーを用いて基材上に導電性金属をメッキすることで、工程の生産性を改 善する試みが多くなされている。例えば米国特許番号第5,378,508号では、基材 上に金属塩組成物を塗布し、次にコヒーレントな放射源を使用して組成物をイメ ージングすることで、基材上に導電性金属メッキを提供する方法が開示されてい る。放射線は、アミンまたはアミド化合物の存在下で金属塩を還元して、金属性 画像を形成する。次に画像形成した基材は、洗浄乾燥されて非画像形成領域が除 去されるので、洗浄溶剤を廃棄することが必要になる。また陰イオンによる汚染 の可能性のために、有用な金属塩の選択も限定される。 米国特許番号第4,710,253号は、導電性粉末と共に熱活性化接着剤を用いて製 造される回路基板について述べている。導電性粉末が接着剤表面に塗布され、コ ヒーレント光源を用いて画像が形成される。光線の当たった領域では接着剤が粘 着性になり、導電性粉末が粘着性接着剤に接着する。過剰な金属性粉末は、払い 落とされる。次に画像形成した基材を焼成して接着剤を除去し、金属を基材に融 合させる。接着剤はイメージング処理後に粘着性を失うため、イメージング処理 の間、金属性粉末は必然的に接着剤と接触していなくてはならない。イメージン グ処理の間、金属性粉末が接着剤と接触しなくてはならないことから、金属性粉 末によるレーザ光線の干渉のために画像がゆがむ場合もある。さらに金属性粉末 は、接着剤の表面全体に塗布しなくてはならないので、材料が過度に無駄になる 。 米国特許番号第4,636,403号は、フォトマスク表面を金属有機層でコーティン グし、次に欠陥領域で層をレーザ光線に暴露して、金属有機層を欠陥領域に接着 する、フォトマスクの金属パターン欠陥修復方法について述べている。非露出金 属有機層は、溶剤によって除去される。 米国特許番号第4,578,144号は、ポリマー加工材に電位をかける必要なしに、 レーザーを用いて表面に局所的に金属をメッキする方法について述べている。加 工材は電気メッキ溶液内に入れられて、レーザーが溶液を透過してポリマー表面 に向けられ、光線の当たった領域にメッキが生じる。 米国特許番号第4,526,807号は、コヒーレントな放射源を使用する導電性金属 線形成方法について述べている。被還元性金属または半金属化合物を被酸化性有 機 マトリックス中に含む溶液が、基材上に溶剤塗布される。次にレーザ光線を使用 して、画像パターンが被覆層上に直接書き込まれる。金属または半金属化合物は 、光線の当たった領域で導電性金属に還元される。 米国特許番号第3,451,813号は、被還元性金属または半金属化合物を含有する 感光性層を、高照度フラッシュランプを使用して暴露する方法について述べてい る。感光性層はパターン状に基材上に塗布され、次に暴露されて導電性金属パタ ーンを形成する。この方法ではエッチング剤または湿式処理薬品の使用は必要な いものの、解像度は、パターン状感光性層を基材上へ塗布するために使用する方 法によって制限される。 米国特許番号第3,941,596号は、放射線への暴露時に粘着性または液状になる 感光性または感熱性層を使用する、イメージング処理について述べている。画像 は、層露出領域に乾式または液体トナーを塗布することで形成される。これらの 材料によって画像を形成するための従来の方法は、サーマルプリントヘッドの使 用である。しかし米国特許出願番号第08/319934号では、赤外線レーザーによっ てアドレス可能な感光性層を有する記録媒体について述べられている。米国特許 番号第5,286,604号でも、レーザーによりアドレス可能な光熱粘着性組成物が開 示されている。これらの各システムでは、材料は記録媒体として使用される。プ リント回線基盤上に導電性金属性画像を提供する手段としての、これらの使用は 開示されていない。 今までの所、プリント回線基盤製造方法には、長すぎる加工時間、有用な入手 可能材料の制限、解像度の限界、または材料の無駄のいずれかの問題がある。し たがって、回路基板上に導電性金属性画像を提供するための、より生産性が高く 効率の良い方法に対する必要性がある。特に、オートメーションと高解像度を可 能にするために、レーザーアドレス可能システムと両立し得る方法に対する必要 性がある。 発明の要約 本発明は、コヒーレントな放射源を使用して、基材上に導電性金属性画像を形 成する方法を提供する。コヒーレントな放射源の使用は、プリント回線基盤加工 の自動工程を設計する上で柔軟性を提供する。i) a) コヒーレントな放射源への 暴露と続く室温への冷却時に、過冷却液体に転換できる固形結合剤と、b) コヒ ーレントな放射源からの放射線を熱に転換できる放射線吸収染料と、c) 要すれ ばフッ化界面活性剤とを含む非金属性層を、少なくとも1つの表面に有する基材 を含むレーザーアドレス可能要素を提供するステップと、ii) レーザーアドレス 可能要素をコヒーレントな放射源に暴露して、画像パターンを形成するステップ と、iii) 導電性金属を含む金属性トナーを画像パターンに塗布するステップと 、iv) レーザーアドレス可能要素を加熱して、相当量の非金属性材料を除去し、 導電性金属を融合するステップが、記載順に実施される。 発明の詳細な説明 コヒーレントな放射源を使用する、基材上に導電性金属性画像を形成するため の方法が提供される。レーザーアドレス可能要素は、好ましくは赤外線源である コヒーレントな放射源を使用して、画像パターンに直接暴露される。画像パター ンは、プリント回路の望ましいパターンに対応する。暴露した領域が過冷却され 、導電性金属性トナーに対して受容性になる一方、非画像形成領域はトナーに対 して受容性にならない。導電性金属性トナーが暴露領域に塗布され、可視画像が 過冷却領域に作られる。トナーは、乾燥粉末または液体トナーでも良い。次に画 像形成した要素は加熱されて、相当量の非金属性材料が除去され、残りの金属が 融合して、基材上に導電性金属画像（すなわち回路パターン）が残る。 本発明で使用するのに好ましいレーザーアドレス可能要素は、ここに参考とし て含めた米国特許出願番号第08/319934号で述べられている。要素は、加熱に引 き続く室温への冷却時に過冷却液体に転換できる固形結合剤と、赤外線吸収染料 と、要すればフッ化界面活性剤とを含む非金属性過冷却材料が上に塗られた基材 を含む。 基材は、700℃を超え、好ましくは900℃を超える熱安定性を有するいかなる材 料でも良い。特に有用な材料としては、アルミナ、チタン酸バリウム、および炭 化ケイ素などのセラミックと、セラミックなま生地と、ガラスと、シリコーンウ エハが挙げられる。 「過冷却材料」とは、溶融に引き続く冷却後に、過冷却状態で存在できる材料 と定義される。好ましくは材料は、イメージング処理が行われる環境温度をおよ そ10℃超える（すなわち約19℃〜20℃の室温を10℃超える）溶融温度を有する。 また材料は、溶融温度に満たない温度に冷却された際、過冷却溶融体を形成しな くてはならない。過冷却溶融体は、導電性金属性トナーがそれに吸収または接着 する、一時的な液状の準安定性液体状態であると考えられる。過冷却溶融体が固 形状態に戻ると、トナーは材料に吸収または接着しなくなる。換言すれば認識可 能な画像領域は、材料表面に存在しなくなる。 好ましくは過冷却材料は、およそ40℃〜140℃の範囲内で溶融する。過冷却材 料を定義した化学的文献はないので、材料が本発明の実施において過冷却材料と して有用かどうかを定めるために、以下の試験をデザインした。 ガラス顕微鏡スライド上に粉末形態材料を少量のせて、サンプルをカバーガラ スで覆い、温度測定手段の付いた高温載物台を有する顕微鏡上で材料を加熱し、 粒子が溶融して融合する温度を観察して、過冷却材料の溶融点または溶融範囲を 求めた。 材料が本発明に適した過冷却材料であるかどうかを決める試験は、溶融点試験 と同一のサンプルを都合良く使用して達成された。冷水の循環によって冷却可能 な電気的に加熱される載物台を有するＬeitz高温載物台顕微鏡を、双方の測定に 使用した。サンプルの溶融点を超える温度に載物台を加熱した後、冷却して結晶 化または固化の生じる温度を記録した。加熱および冷却の双方の温度変化率は、 より正確な測定が必要な場合に通常指定されるのよりも、幾分高くて良い。この ように処理されて、例えば溶融点を少なくとも約60℃下回るような、溶融点より もはるかに低い温度で液体のままである材料が、本発明のための過冷却材料とし て効果的であることが分かった。溶融点、またはその近辺で結晶化または固化す る 材料は、本発明に従った粉末保持潜像の製造に使用すべきでない。いくつかの材 料は、明確な結晶状態でなくガラス状に固化し、その状態はカバーガラスにスパ チュラで適度の圧力をかけることで容易に判明する。ガラス状小滴がその形状を 保つのに対し、液体小滴は流動または急速に結晶化する。本発明に適した過冷却 材料を判定するためのより念入りな試験については、ここに参考として含めた米 国特許番号第3,360,367号に述べられている。 いくつかの過冷却材料が、発明の非金属性コーティング中で有用である。これ らの材料の代表的な例としては、フタル酸ジシクロヘキシル、フタル酸ジクロロ ヘキシル、フタル酸ジフェニル、リン酸トリフェニル、フマル酸ジメチル、ベン ゾトリアゾール、2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン、トリベンジルアミン、ベン ガル、バニリン、およびフタロフェノンが挙げられる。このタイプのさらに別の 有用な材料は、Ｍonsanto Ｃhemical Ｃompanyから市販されるオルトおよびパラ トルエンスルホンアミド混合物の「Ｓanticizer^TM9」である。これらの材料の混 合物も有用である。過冷却材料は、それ自体は過冷却しないが、再結合して過冷 却材料を形成する2つ以上の材料から構成されても良い。好ましくは過冷却材料 は、約600℃〜900℃、好ましくは約750°〜850℃の温度で、完全かつ効率的に揮 発する。融合した導電性金属の導電率に干渉しないように、揮発しない材料の量 は最小化される。揮発しない材料の許容レベルはトーニング後、構成物を焼成し て、融合した導電性金属の導電率を測定して求められる。構成物焼成後の過冷却 材料の残留量は、好ましくは7.5％未満、より好ましくは5.0％未満、そして最も 好ましくは1.0％未満である。 発明の組成物は、好ましくは少なくとも600％の過冷却材料を含む。吸収染料 が使用される場合、それらは層の少なくとも0.00025重量％固形分を占めなくて はならない。不活性結合剤、粒状コーティング助剤、およびケイ酸やシリコーン 誘導体などのその他の補助剤が存在しても良い。過冷却材料は、通常60〜99.5％ 固形分、より好ましくは75〜99.5％固形分存在する。吸収染料は、通常は乾燥層 重量の0.00025〜20％、より好ましくは0.0005〜1.5％存在する。 赤外線放射を熱に転換する赤外線吸収染料、または放射線を熱に転換するその 他の波長吸収染料は、技術分野で周知であり広く市販されている。メロシアニン 、シアニン、およびトリカルボシアニン染料は、最も容易に入手できる一般的種 類の赤外線吸収染料であり、ヘプタメチンシリーズ中の種類に含まれるもの、お よびオキサゾール、ベンゾオキサゾール、2-キノリン、4-キノリン、ベンゾチア ゾール、インドリネン、チアゾール、スクアリリウムなどが最も好ましい傾向が ある。これらのタイプの染料の例は、ＭeesおよびＪames著のＴhe Ｔheory of t he Ｐhotographic Ｐroess第三版1996年、Ｖenkataraman著のＣyanine Ｄyes第 二版1963年などの一般的文献にあり、また米国特許番号第5,041,550号、第4,784 ,933号、第3,194,805号、第4,619,892号、第5,013,622号、および第5,245,045号 などの特許文献に広範に見られる。本質的に、効率的に放射線を吸収して熱に転 換するあらゆる染料が、本発明の実施に使用できる。効率は、単に物理的問題で あり、十分なエネルギーが吸収されて熱に転換され、組成物の溶融過程を進行さ せることを示す。より高いエネルギーのイメージング源（例えばガスレーザー） を使用すれば、より低いエネルギー源（例えば発光ダイオード）を使用する場合 よりも、効率ははるかに低くても良い。 要すれば、過冷却材料にフルオロカーボン界面活性剤を含めて、画像形成した 過冷却領域と導電性金属性トナーとの接触効率を高めることもできる。フルオロ カーボン界面活性剤は、技術分野で周知の材料であり市販されている。これらの タイプの界面活性剤は、例えば米国特許番号第2,759,019号、第2,764,602号、第 3,589,906号および第3,884,699号、ベルギー特許番号第739,245号、およびフラ ンス特許番号第2,025,688号などの特許文献に広く報告されている。通常これら のフッ化界面活性剤化合物は、特定環境では非イオン性にもなるイオン性または イオン化性基を有する、少なくとも1つの高度にフッ化された鎖を含む。「高度 にフッ化された」基とは、本発明の実施によれば、炭素原子に付着する水素原子 のかなりの部分がフッ素原子で置換された基である。好ましくは高度にフッ化さ れた基は、化合物の単一鎖内の炭素原子あたり、平均1.75個を超えるフッ素原子 を含む。より好ましくは、鎖上の（フッ素で置換されない）残りの水素は、塩素 で置換される。より好ましくは、（好ましくはないがシクロアルキルも含む）ア ルキル鎖内 において、鎖内の炭素原子あたり少なくとも2.0個のフッ素原子があり、最も好 ましくは、基は過フッ化アルキル鎖を含有する。過フッ化基は、パーフルオロメ チル、パーフルオロエチル、パーフルオロプロピル、パーフルオロブチルなどで も良く、好ましくは過フッ化鎖内に5個以上の炭素原子を有し、高度にフッ化さ れた基としてはＣ₅-Ｃ₂₀が好ましい。過冷却組成物中のフッ化界面活性剤の存在 量は、非金属性層固形分の重量で0.01〜6％、より好ましくは層固形分の重量で0 .05〜5％、そして最も好ましくは固形分の重量で0.1〜4％である。 また本発明の非金属性層は、接触する要素間のブロッキングを防止するために 組成物中に粒状材料を含んでも良い。ケイ酸、アクリレート（例えばポリメチル メタクリレートポリマーおよびコポリマービーズ）、ポリスチレン、酸化チタン 、ポリテトラフルオロエチレンなどの艷消剤を、この目的で使用することもでき る。艶消剤は組成物の表面を粗くして、コヒーレントな放射線を拡散する付加的 機能を提供できるので、レーザーに伴うフリンジその他の光学効果を低下できる 。これらの微粒子は、組成物層重量の0.01〜7.5％の量、好ましくは同層の固形 分重量の0.1〜5％の量で存在しても良い。 レーザーアドレス可能要素は、コヒーレントな放射源に暴露される。コヒーレ ントな光源は、レーザーまたはレーザーダイオードでも良い。レーザーダイオー ドは、コンパクトさと、ＣＡＤシステムなどの自動イメージング装置設計におけ る柔軟性のために、特に有用である。適切なコヒーレントな放射源としては、可 視光、紫外線、赤外線および近赤外線光放射源が挙げられる。好ましいコヒーレ ントな放射源は、染料レーザー、780〜870nm領域を放出するアルミニウムガリウ ム砒素化合物ダイオードレーザーなどの固体ダイオードレーザー、およびＮd:Ｙ ＡＧ、Ｎd:ＹＬＦ、またはＮd:ガラスなどのダイオードポンプ固体レーザーのよ うに、電磁スペクトル750〜1100nmの赤外線および近赤外線領域光を発生できる あらゆるレーザーを実質的に含む、赤外線または近赤外線放射源である。 画像形成した要素は、導電性トナーでトーニングされる。トナーは液体または 乾燥粉末でも良く、好ましくは乾燥粉末である。例えば、金、銀、銅、インジウ ム、鉛、スズ、ニッケル、アルミニウム、アンチモン、ヒ素、ビスマス、カドミ ウム、ガリウム、ゲルマニウム、ケイ素、パラジウムおよびそれらのあらゆる組 み合わせなど、トナー中には様々な導電性金属が使用できる。 導電性トナーは、吹き付け、散布、刷毛塗り、スキージー、ローラーなどの様 々な方法によって塗布できる。画像形成した要素の過冷却領域（暴露領域）に、 導電性トナーが吸収または接着した後、要素は炉中で加熱されて相当量の非金属 性材料が除去され、導電性金属が融合する。非金属性材料の好ましくは99.0％を 超える、より好ましくは99.5％を超える、そして最も好ましくは99.90％を超え る量が除去される。マッフル炉が典型的に使用されるが、相当量の非金属性材料 を除去し、導電性金属を融合するのに十分な温度にまで画像形成した要素を加熱 できる、あらゆる炉が使用できる。画像形成した要素は典型的に、約600℃〜900 ℃、好ましくは750℃〜850℃の温度に、約5〜45分間加熱される。温度と時間は 、使用する特定の導電性金属と非金属性材料、および炉内移動速度次第で変化す る。 これらおよびその他の本発明の側面は、以下の制限を意図しない実施例によっ て明らかにされる。 実施例 以下の実施例は、赤外線レーザーダイオードを使用するセラミック基材上での 導電性金属形成方法を示す。以下の実施例で使用される赤外線染料ＩＲ-125は、 以下の構造を有し、ニューヨーク州ロチェスターのＥastman Ｋodak Ｃoより入 手できる。 実施例1 ＡＬ-203基材（コロラド州ゴールデンのＣoors Ｃeramics Ｃo.より入手でき る96％アルミナ）上に、以下のコーティング溶液を5ミル（0.13mm）の濡れ厚さ に塗布して、室温で25時間乾燥させた。 フタル酸ジクロロヘキシル（ウィスコンシン州ミルウ 21.0g オーキーのＡldrich Ｃhemical Ｃo.より入手できる） Ｅthocel^TMＮ200（ウィスコンシン州ミッドランドのＤow 3.0g Ｃhemical ＵＳＡより入手できるエチルセルロース） アセトン 77.0g Ｓyloid^TM244（メリーランド州バルチモアのＷ.Ｒ.Ｇrace & 2.0g Ｃo.,より入手できる） ＩＲ-125染料 0.2g レーザーアドレス可能要素は、最大波長820nmの100mＷレーザーダイオードに 暴露した。銀80％とパラジウム（ニュージャージー州サウスプレーンフィールド のＭetz Ｍetallurgical Ｃorporationより入手できる＃1120.2.8F金属性粉末） 20％を含有する導電性金属性乾燥粉末を、絵筆を用いて要素の画像形成した領域 上に刷毛塗りした。次に要素を850℃のマッフル炉内で10分間焼成した。結果的 に得られた導電性金属性線画像は、厚さが37ミクロンであった。 実施例2 ＡＬ-203基材（コロラド州ゴールデンのＣoors Ｃeramics Ｃo.より入手でき る96％アルミナ）上に、以下のコーティング溶液を5ミル（0.13mm）の濡れ厚さ に塗布して、室温で25時間乾燥させた。 フタル酸ジクロロヘキシル（メチルエチルケトン中 5.0g 20％溶液） メタノール 1mＬ ＭＥＫ-ＳＴ（メチルエチルケトン中の30％総固形分非晶 1.0g 質ケイ酸、日本国東京の日産化学工業より入手でき る） ＩＲ-125染料 0.1g レーザーアドレス可能要素は、最大波長820nmの100mＷレーザーダイオードに 暴露した。銀80％とパラジウム（ニュージャージー州サウスプレーンフィールド のＭetz Ｍetallurgical Ｃorporationより入手できる＃1120.2.8Ｆ金属性粉末 ）20％を含有する導電性金属性乾燥粉末を、絵筆を用いて要素の画像形成した領 域上に刷毛塗りした。次に要素を850℃のマッフル炉内で10分間焼成した。結果 的に得られた導電性金属性線画像は、厚さが30ミクロンであった。 実施例3 ＡＬ-203基材（コロラド州ゴールデンのＣoors Ｃeramics Ｃo.より入手でき る96％アルミナ）上に、以下のコーティング溶液を5ミル（0.13mm）の濡れ厚さ に塗布して、室温で25時間乾燥させた。 フタル酸ジクロロヘキシル（メチルエチルケトン中 5.0g 20％溶液） メタノール 1mＬ ＭＥＫ-ＳＴ（メチルエチルケトン中の30％総固形分非晶 1.0g 質ケイ酸） ＦＣ-431（ミネソタ州セントポール市の3Ｍより入手で 0.2g きるフッ化界面活性剤） ＩＲ-125染料 0.1g レーザーアドレス可能要素は、最大波長820nmの100mＷレーザーダイオードに 暴露した。銀80％とパラジウム（＃1120.2.8Ｆ金属性粉末）20％を含有する導電 性金属性乾燥粉末を、絵筆を用いて要素の画像形成した領域上に刷毛塗りした。 次に要素を850℃のマッフル炉内で10分間焼成した。結果的に得られた導電性金 属性線画像は、厚さが30ミクロンであった。 実施例4 ＡＬ-203基材（コロラド州ゴールデンのＣoors Ｃeramics Ｃo.より入手でき る96％アルミナ）上に、以下のコーティング溶液を5ミル（0.13mm）の濡れ厚さ に塗布して、室温で25時間乾燥させた。 フタル酸ジクロロヘキシル（メチルエチルケトン中 5.0g 20％溶液） メタノール 1mＬ ＭＥＫ-ＳＴ（メチルエチルケトン中の30％総固形分非晶 1.0g 質ケイ酸） シリコーンジアミン^* 0.3g ＩＲ-125染料 0.1g ^*シリコーンジアミンは、ＥＰ出願0 250 248の実施例2に述べるようにして調 製された。3-アミノプロピルジメチルテトラメチルアンモニウムシラノレートを 触媒に使用して、ビス(3-アミノプロピル)テトラメチルジシロキサンをオクタメ チルシクロテトラシロキサンと共に80℃で縮合して、分子量10,000のシリコーン ジアミンを生成した。 レーザーアドレス可能要素は、最大波長820nmの100mＷレーザーダイオードに 暴露した。銀80％とパラジウム（＃1120.2.8Ｆ金属性粉末）20％を含有する導電 性金属性乾燥粉末を、絵筆を用いて要素の画像形成した領域上に刷毛塗りした。 次に要素を850℃のマッフル炉内で10分間焼成した。結果的に得られた導電性金 属性線画像は、厚さが30ミクロンであった。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．i) a) コヒーレントな放射源への暴露と続く室温への冷却時に、過冷却 液体に転換できる固形結合剤と、 b) 前記コヒーレントな放射源からの放射線を熱に転換できる放射線 吸収染料と、 c) 要すればフッ化界面活性剤と を含む非金属性層を、少なくとも1つの表面に有する基材を含むレーザーアドレ ス可能要素を提供するステップと、 ii) 前記レーザーアドレス可能要素を前記コヒーレントな放射源に暴露 して、過冷却液体の画像パターンを形成するステップと、 iii) 導電性金属を含む金属性トナーを前記画像パターンに塗布するステ ップと、 iv) 前記レーザーアドレス可能要素を加熱して、相当量の前記非金属性 層を除去し、前記導電性金属を融合するステップと を含む連続工程から成る基材上に導電性金属性画像を提供する方法。 ２．前記金属性トナーが、導電性乾燥粉末である請求項1に記載の方法。 ３．前記金属性トナーが、液体トナーである請求項1に記載の方法。 ４．前記コヒーレントな放射源が、750〜1100nmの範囲の放射線を発生できる 請求項1に記載の方法。 ５．前記導電性金属が金、銀、銅、インジウム、鉛、スズ、ニッケル、アルミ ニウム、アンチモン、ヒ素、ビスマス、カドミウム、ガリウム、ゲルマニウム、 ケイ素、パラジウム、およびそれらのあらゆる組み合わせからなる群より選択さ れる請求項1に記載の方法。 ６．前記基材がセラミックである請求項1に記載の方法。 ７．i) a) 750〜1100nmの放射出力を有するコヒーレントな放射源への暴露 と続く室温への冷却時に、過冷却液体に転換できる固形結合剤と、 b) 前記コヒーレントな放射源からの放射線を熱に転換できる赤外線 吸収染料と、 c) 要すればフッ化界面活性剤と を含む非金属性層を、少なくとも1つの表面に有する基材を含むレーザーアドレ ス可能要素を提供するステップと、 ii) 前記レーザーアドレス可能要素を前記コヒーレントな赤外線源に暴 露して、過冷却液体の画像パターンを形成するステップと、 iii) 電性金属を含む乾燥金属性粉末を前記画像パターンに塗布するステ ップと、 iv) 前記レーザーアドレス可能要素を700℃〜900℃に加熱して、相当量 の前記非金属性層を除去し、前記導電性金属を融合するステップと を含む連続工程から成る基材上に導電性金属性画像を提供する方法。 ８．前記導電性金属が金、銀、銅、インジウム、鉛、スズ、ニッケル、アルミ ニウム、アンチモン、ヒ素、ビスマス、カドミウム、ガリウム、ゲルマニウム、 ケイ素、パラジウム、およびそれらのあらゆる組み合わせからなる群より選択さ れる請求項7に記載の方法。 ９．前記金属性トナーが、導電性乾燥粉末である請求項7に記載の方法。 10．前記基材が、セラミックである請求項7に記載の方法。