JP3042972B2 - レーザー放射結像装置とともに用いるためのシームレスオフセットリトグラフ印刷部材 - Google Patents
レーザー放射結像装置とともに用いるためのシームレスオフセットリトグラフ印刷部材Info
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- B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、デジタル印刷装置及び
方法に関する。特に、レーザー放射結像装置と共に用い
るリトグラフ印刷部材に関する。
方法に関する。特に、レーザー放射結像装置と共に用い
るリトグラフ印刷部材に関する。
【０００２】
【従来の技術】本願に参照として組み込まれている米国
特許第５，３３９，７３７号明細書（以下、’７３７号
米国特許と称す）には、レーザー放射により作用する結
像装置と共に用いるための種々のリトグラフ版形状が開
示されている。これらは、印刷中に噴出溶液（インク溜
液）を利用する「湿式」版及びインクが直接塗布される
「乾式」版を含む。
特許第５，３３９，７３７号明細書（以下、’７３７号
米国特許と称す）には、レーザー放射により作用する結
像装置と共に用いるための種々のリトグラフ版形状が開
示されている。これらは、印刷中に噴出溶液（インク溜
液）を利用する「湿式」版及びインクが直接塗布される
「乾式」版を含む。
【０００３】開示されたすべての版構造物は、レーザー
ビームのアブレイション効率を増長する材料を組み込ん
でいる。これは、迅速に加熱せずあるいは放射線をあま
り吸収しないので、比較的長いインターバルで照射され
及び／または高出力パルスを受け入れるまで溶融剥離さ
れない（すなわち、ガス及び揮発性フラグメントに分解
しない）版基体を用いている従来の装置の欠点を回避す
る。開示された版材料はすべて固体であり、苛酷な商業
印刷に耐え且つ十分に有用なライフスパン（寿命）を可
能とする耐久性を有する、好ましくは高分子組成物であ
る。
ビームのアブレイション効率を増長する材料を組み込ん
でいる。これは、迅速に加熱せずあるいは放射線をあま
り吸収しないので、比較的長いインターバルで照射され
及び／または高出力パルスを受け入れるまで溶融剥離さ
れない（すなわち、ガス及び揮発性フラグメントに分解
しない）版基体を用いている従来の装置の欠点を回避す
る。開示された版材料はすべて固体であり、苛酷な商業
印刷に耐え且つ十分に有用なライフスパン（寿命）を可
能とする耐久性を有する、好ましくは高分子組成物であ
る。
【０００４】開示された一実施態様において、版構造物
は、第１の層と、該第１の層の下に積層される基体を含
み、該基体は赤外線の効率的な吸収により特徴づけられ
ており、さらに該第１の層と基体とは、インクまたはイ
ンク不粘着流体に対する異なる親和性を有する。レーザ
ー放射線は基体により吸収され、且つ第１の層と接触す
る基体表面をアブレイト（溶融剥離）させる。この作用
は、積層している第１の層との基体の係止を崩壊させ、
該基体の暴露されている部分は容易に除去される。該除
去の結果、インクまたはインク不粘着流体に対する親和
性が暴露されていない第１の層の親和性とは異なる像ス
ポットが提供される。
は、第１の層と、該第１の層の下に積層される基体を含
み、該基体は赤外線の効率的な吸収により特徴づけられ
ており、さらに該第１の層と基体とは、インクまたはイ
ンク不粘着流体に対する異なる親和性を有する。レーザ
ー放射線は基体により吸収され、且つ第１の層と接触す
る基体表面をアブレイト（溶融剥離）させる。この作用
は、積層している第１の層との基体の係止を崩壊させ、
該基体の暴露されている部分は容易に除去される。該除
去の結果、インクまたはインク不粘着流体に対する親和
性が暴露されていない第１の層の親和性とは異なる像ス
ポットが提供される。
【０００５】この実施態様の変更態様においては、基体
よりもむしろ第１の層が赤外線を吸収する。この場合に
は、基体は支持機能を発揮し、対照的な親和性を呈す
る。
よりもむしろ第１の層が赤外線を吸収する。この場合に
は、基体は支持機能を発揮し、対照的な親和性を呈す
る。
【０００６】これら２層版タイプの両者において、一つ
の層は２つの別々の機能、すなわち赤外線の吸収及びイ
ンクまたはインク不粘着流体との相互作用を発揮する。
第２の実施態様において、これらの機能は２つの別々の
層により形成される。第１の最上部の層は、インクある
いはインク不粘着流体に対する親和性（又は斥力）によ
り選択される。該第１の層の下に敷かれるのは、赤外線
を吸収する第２の層である。強固で、耐久性がある基体
が該第２の層の下に積層され、該基体は前記第１の層の
インクあるいはインク不粘着流体に対する親和性（又は
斥力）とは反対の親和性（又は斥力）により特徴づけら
れる。版をレーザーパルスに対して暴露させることで、
該レーザーパルスを吸収する第２の層をアブレイトし、
同時に最上部の層を弱体化する。第２の層のアブレイシ
ョンの結果として、弱体化された表面層は、もはや下に
敷いている層に係止されず、容易に除去される。中断さ
れた最上部の層（及び吸収的な第２の層の破壊により残
っているすべての破片）は、結像後の浄化工程にて除去
される。こうして、再度、暴露されていない第１の層の
親和性とは異なる親和性であって、インクまたはインク
不粘着流体に対する親和性を有する像スポットを創り出
す。
の層は２つの別々の機能、すなわち赤外線の吸収及びイ
ンクまたはインク不粘着流体との相互作用を発揮する。
第２の実施態様において、これらの機能は２つの別々の
層により形成される。第１の最上部の層は、インクある
いはインク不粘着流体に対する親和性（又は斥力）によ
り選択される。該第１の層の下に敷かれるのは、赤外線
を吸収する第２の層である。強固で、耐久性がある基体
が該第２の層の下に積層され、該基体は前記第１の層の
インクあるいはインク不粘着流体に対する親和性（又は
斥力）とは反対の親和性（又は斥力）により特徴づけら
れる。版をレーザーパルスに対して暴露させることで、
該レーザーパルスを吸収する第２の層をアブレイトし、
同時に最上部の層を弱体化する。第２の層のアブレイシ
ョンの結果として、弱体化された表面層は、もはや下に
敷いている層に係止されず、容易に除去される。中断さ
れた最上部の層（及び吸収的な第２の層の破壊により残
っているすべての破片）は、結像後の浄化工程にて除去
される。こうして、再度、暴露されていない第１の層の
親和性とは異なる親和性であって、インクまたはインク
不粘着流体に対する親和性を有する像スポットを創り出
す。
【０００７】本願に参照として取り入れられている米国
特許第５，３５３，７０５号明細書（以下、’７０５号
米国特許と称す）には、ある状況において改良された性
能を提供する前述の構造とは別の構造も開示されてい
る。該’７０５号米国特許は、複数の積層する層のアブ
レイションにより発生する熱に応答して揮発する「第２
の」アブレイション層を導入する。典型的な構造におい
て、放射線吸収層は、インク及び／または噴出溶液との
相互作用により選択される表面層の下に積層する。第２
のアブレイション層は、吸収層の真下に配設され、また
卓越した機械特性を有する基体に係止されてもよい。幾
つかの例において、第２のアブレイション層及び基体の
間に追加の層を導入し、これらの間の接着を確実にする
ことが好ましい。
特許第５，３５３，７０５号明細書（以下、’７０５号
米国特許と称す）には、ある状況において改良された性
能を提供する前述の構造とは別の構造も開示されてい
る。該’７０５号米国特許は、複数の積層する層のアブ
レイションにより発生する熱に応答して揮発する「第２
の」アブレイション層を導入する。典型的な構造におい
て、放射線吸収層は、インク及び／または噴出溶液との
相互作用により選択される表面層の下に積層する。第２
のアブレイション層は、吸収層の真下に配設され、また
卓越した機械特性を有する基体に係止されてもよい。幾
つかの例において、第２のアブレイション層及び基体の
間に追加の層を導入し、これらの間の接着を確実にする
ことが好ましい。
【０００８】現在、使用中のほとんどの版構造物は、像
様の光暴露後、標準の光化学的な現像により、結像され
る。多色性のＣＴＸ材料により具体化された、このアプ
ローチの最近のバリエーションは、基体、光硬化性材料
及び慣用の塩化銀グレインを含有する表面層に基づく構
造物を利用する。感光性樹脂が感応しない放射線に対す
る第１の層の像様の暴露（例えば、結像レーザーによ
り）は、化学的な現像後、像パターンを帯び且つまだ暴
露されていない感光性樹脂の上に積層するマスクを結果
的に生じる。次いで、該構造物は、感光性樹脂が感応す
る放射線にさらされる。マスクの暴露された部分は、感
光性樹脂への化学線の通過を防止し、一方放射線は暴露
されていない領域を自由に通過する。結果的に、最初の
マスク暴露に関してネガティブである感光性樹脂の像様
の暴露を生じ、感光性樹脂を基体に対して係止させる。
次いで、該マスク及び暴露されていない感光性樹脂は、
除去される。例えば、What's New(s) in Graphic Commu
nications, Sept.-Oct. 1993, p.4.を参照せよ。
様の光暴露後、標準の光化学的な現像により、結像され
る。多色性のＣＴＸ材料により具体化された、このアプ
ローチの最近のバリエーションは、基体、光硬化性材料
及び慣用の塩化銀グレインを含有する表面層に基づく構
造物を利用する。感光性樹脂が感応しない放射線に対す
る第１の層の像様の暴露（例えば、結像レーザーによ
り）は、化学的な現像後、像パターンを帯び且つまだ暴
露されていない感光性樹脂の上に積層するマスクを結果
的に生じる。次いで、該構造物は、感光性樹脂が感応す
る放射線にさらされる。マスクの暴露された部分は、感
光性樹脂への化学線の通過を防止し、一方放射線は暴露
されていない領域を自由に通過する。結果的に、最初の
マスク暴露に関してネガティブである感光性樹脂の像様
の暴露を生じ、感光性樹脂を基体に対して係止させる。
次いで、該マスク及び暴露されていない感光性樹脂は、
除去される。例えば、What's New(s) in Graphic Commu
nications, Sept.-Oct. 1993, p.4.を参照せよ。
【０００９】この結像に対するアプローチの変形は、米
国特許第５，１０２，７５６号明細書（以下、’７５６
号米国特許と称す）に開示されている。該明細書によれ
ば、ベース層、光硬化性材料の層、及び光及び電子に応
答して移動する粒子を含有する感光性記録材料の表面層
を含む版が論じられている。該表面は、粒子移動を引き
起こす条件下で、別の不透明層に大きく転写される光の
像様パターンに暴露される。該構造物は、次いで、光硬
化性材料を硬化させる放射線に暴露される。かような放
射線は、あらかじめ像様の暴露により転写されている表
面層の領域のみに浸透し、結果的に、ベース層への光硬
化性材料層の像様の係止を生じさせる。次いで、記録層
に沿って残っている光硬化性材料は除去される。
国特許第５，１０２，７５６号明細書（以下、’７５６
号米国特許と称す）に開示されている。該明細書によれ
ば、ベース層、光硬化性材料の層、及び光及び電子に応
答して移動する粒子を含有する感光性記録材料の表面層
を含む版が論じられている。該表面は、粒子移動を引き
起こす条件下で、別の不透明層に大きく転写される光の
像様パターンに暴露される。該構造物は、次いで、光硬
化性材料を硬化させる放射線に暴露される。かような放
射線は、あらかじめ像様の暴露により転写されている表
面層の領域のみに浸透し、結果的に、ベース層への光硬
化性材料層の像様の係止を生じさせる。次いで、記録層
に沿って残っている光硬化性材料は除去される。
【００１０】前述のタイプの版のいずれもが、直接的に
オン−プレス結像するためにリトグラフプレスの版胴に
固着され、その後、印刷が始まるであろう。この形状
は、機械的な把持機構を要求し、不可避的に、版のトッ
プマージン及びボトムマージンの間のスペースを占領す
る角のある「空白」セグメントを生じる。該空白は、壁
紙等の装飾的な製品の製造のために必要とされるような
材料のウェブあるいはストリップの連続的な切れていな
い像の結像を邪魔する。さらに、このセグメントの存在
は、印刷されるべき基体のマージンを有する版像の正確
な見当合わせを確実とするために、正確な整合及び制御
組立体を前提とする。
オン−プレス結像するためにリトグラフプレスの版胴に
固着され、その後、印刷が始まるであろう。この形状
は、機械的な把持機構を要求し、不可避的に、版のトッ
プマージン及びボトムマージンの間のスペースを占領す
る角のある「空白」セグメントを生じる。該空白は、壁
紙等の装飾的な製品の製造のために必要とされるような
材料のウェブあるいはストリップの連続的な切れていな
い像の結像を邪魔する。さらに、このセグメントの存在
は、印刷されるべき基体のマージンを有する版像の正確
な見当合わせを確実とするために、正確な整合及び制御
組立体を前提とする。
【００１１】リトグラフ版に結像する伝統的な方法で
は、正確な取り付け方法の必要性が生じている。これら
は、平坦なシート上で最も容易に作動し、その後、像が
フォトグラフィック的に塗布されるコーター及び他の塗
布装置を利用するグラフィックアート製造設備に組み立
てられるべき傾向にある。レセプター上へのフォトグラ
フィックイメージの組み付けは、連続して化学的に現像
するに際し、一般に平坦なレセプター表面を要求する。
は、正確な取り付け方法の必要性が生じている。これら
は、平坦なシート上で最も容易に作動し、その後、像が
フォトグラフィック的に塗布されるコーター及び他の塗
布装置を利用するグラフィックアート製造設備に組み立
てられるべき傾向にある。レセプター上へのフォトグラ
フィックイメージの組み付けは、連続して化学的に現像
するに際し、一般に平坦なレセプター表面を要求する。
【００１２】ひとたび、結像したリトグラフ版の上の印
刷が擦り切れたりあるいは不明瞭になったりすると、該
版はもはや使用することはできず、廃棄される。この慣
習は、特に版が有害な材料を含有している場合に、環境
上及び経済上好ましくない結果をもたらす。版は一般に
全体的に復元しなければならず、異なる版組成物を分離
し回収することは困難であるので、リサイクルには費用
がかかる。
刷が擦り切れたりあるいは不明瞭になったりすると、該
版はもはや使用することはできず、廃棄される。この慣
習は、特に版が有害な材料を含有している場合に、環境
上及び経済上好ましくない結果をもたらす。版は一般に
全体的に復元しなければならず、異なる版組成物を分離
し回収することは困難であるので、リサイクルには費用
がかかる。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、連続
的なリトグラフ印刷を可能とすることにある。
的なリトグラフ印刷を可能とすることにある。
【００１４】また、別の目的は、無意味なセグメントを
もたないリトグラフ印刷部材の製造方法及び該部材を用
いる印刷方法を提供することにある。
もたないリトグラフ印刷部材の製造方法及び該部材を用
いる印刷方法を提供することにある。
【００１５】さらに別の目的は、精巧な設備を要しない
リトグラフ印刷部材の製造方法を提供することにある。
リトグラフ印刷部材の製造方法を提供することにある。
【００１６】またさらに別の目的は、連続印刷に適する
乾式リトグラフ印刷部材を提供することにある。
乾式リトグラフ印刷部材を提供することにある。
【００１７】他の目的は、機械的な把持装置を必要とし
ないリトグラフ印刷部材を提供することにある。
ないリトグラフ印刷部材を提供することにある。
【００１８】さらに別の目的は、リサイクル可能なリト
グラフ印刷部材を提供することにある。
グラフ印刷部材を提供することにある。
【００１９】
【課題を解決するための手段】本発明は、使用後リサイ
クル可能な完全にシームレスでスリーブ形状の乾式及び
湿式リトグラフ印刷部材の直接的な製造を可能とする。
第１の実施態様において、印刷部材は強固で耐久性のあ
る中空版胴すなわちスリーブを備える。該スリーブは、
オフセット印刷プレスすなわち製版機の版マンドレルす
なわち版胴ジャケットに取り付けられる。スリーブを取
り囲むのは、効果的でアブレイション的な赤外線の吸収
により特徴付けられる高分子材料の層であることが好ま
しい。換言すれば、電磁スペクトルの赤外領域に出力ピ
ークを有するレーザー放射に暴露される際に、この層は
完全にアブレイションすなわち揮発するであろう。
クル可能な完全にシームレスでスリーブ形状の乾式及び
湿式リトグラフ印刷部材の直接的な製造を可能とする。
第１の実施態様において、印刷部材は強固で耐久性のあ
る中空版胴すなわちスリーブを備える。該スリーブは、
オフセット印刷プレスすなわち製版機の版マンドレルす
なわち版胴ジャケットに取り付けられる。スリーブを取
り囲むのは、効果的でアブレイション的な赤外線の吸収
により特徴付けられる高分子材料の層であることが好ま
しい。換言すれば、電磁スペクトルの赤外領域に出力ピ
ークを有するレーザー放射に暴露される際に、この層は
完全にアブレイションすなわち揮発するであろう。
【００２０】赤外線感応層を取り囲むのは、インクある
いはインク不粘着流体に対する親和性がスリーブにより
現出される親和性とは反対の親和性である表面コーティ
ングである。下に積層されている赤外線感応層のアブレ
イションによる最上部層の選択的な除去（必要であれ
ば、その後浄化する）は、インクあるいはインク不粘着
流体に対する異なる親和性を有し、且つ印刷されるべき
像に対応するスポットパターンを生じる。「異なる親和
性」とは、良好な流体受容性（インクの場合には親油
性）及び流体不粘着性（インクの場合には撥油性）を意
味する。「コーティング」とは、液体あるいは未硬化材
料の形態で塗布されて続いて固化状態になる層、あるい
は版胴全体に材料の管状シートが冷却固化された層、あ
るいはスプレー、真空蒸着、粉末を被覆させて熱融着さ
せる等の他の塗布処理により形成された層を意味する。
いはインク不粘着流体に対する親和性がスリーブにより
現出される親和性とは反対の親和性である表面コーティ
ングである。下に積層されている赤外線感応層のアブレ
イションによる最上部層の選択的な除去（必要であれ
ば、その後浄化する）は、インクあるいはインク不粘着
流体に対する異なる親和性を有し、且つ印刷されるべき
像に対応するスポットパターンを生じる。「異なる親和
性」とは、良好な流体受容性（インクの場合には親油
性）及び流体不粘着性（インクの場合には撥油性）を意
味する。「コーティング」とは、液体あるいは未硬化材
料の形態で塗布されて続いて固化状態になる層、あるい
は版胴全体に材料の管状シートが冷却固化された層、あ
るいはスプレー、真空蒸着、粉末を被覆させて熱融着さ
せる等の他の塗布処理により形成された層を意味する。
【００２１】第２の実施態様において、中空版胴は、結
像工程において何らの役割も果たさない。代わりに、イ
ンクあるいはインク不粘着流体に対する選択された親和
性を有する追加の層が、版胴表面及び赤外線感応層の間
に含まれる。この層は、例えば第２のアブレイション材
料であってもよい。該表面層は反対の親和性を現出す
る。
像工程において何らの役割も果たさない。代わりに、イ
ンクあるいはインク不粘着流体に対する選択された親和
性を有する追加の層が、版胴表面及び赤外線感応層の間
に含まれる。この層は、例えば第２のアブレイション材
料であってもよい。該表面層は反対の親和性を現出す
る。
【００２２】第３の実施態様において、慣用の浸水に暴
露された（FLOOD-EXPOSED）感光性樹脂に関する耐久性
が、中空版胴を感光性樹脂で被覆し、感光性樹脂を該感
光性樹脂に関して化学作用がある放射線に対して不透過
性であって、結像レーザーにより選択的にアブレイトさ
れるマスクコーティングで被覆することにより、レーザ
ー結像と共に利用される。続いて、結像された構造物は
化学線に暴露されて、マスクで覆われている暴露されて
いない感光性樹脂は通常の化学手段により除去される。
この実施態様の好ましいバージョンでは、版胴は噴出溶
液を受け入れ、硬化した感光性樹脂はインクを受け入れ
る。
露された（FLOOD-EXPOSED）感光性樹脂に関する耐久性
が、中空版胴を感光性樹脂で被覆し、感光性樹脂を該感
光性樹脂に関して化学作用がある放射線に対して不透過
性であって、結像レーザーにより選択的にアブレイトさ
れるマスクコーティングで被覆することにより、レーザ
ー結像と共に利用される。続いて、結像された構造物は
化学線に暴露されて、マスクで覆われている暴露されて
いない感光性樹脂は通常の化学手段により除去される。
この実施態様の好ましいバージョンでは、版胴は噴出溶
液を受け入れ、硬化した感光性樹脂はインクを受け入れ
る。
【００２３】第４の実施態様において、レーザーアブレ
イショントランスファー（ＬＡＴ）材料は、版胴を取り
囲み、該材料自身は離脱層により囲まれる。（離脱層を
貫通する）ＬＡＴ層のレーザー放射に対する暴露は、Ｌ
ＡＴ層を版胴に接着させ、接着された層は、版胴により
現出される親和性とは反対の親和性であって、噴出溶液
及び／またはインクに対する親和性を現出する。離脱層
は、レーザー放射を受け入れていないＬＡＴ層の部分を
除去するが版胴に接着している暴露された部分を残す像
様のレーザー暴露に続いて、剥がされる。
イショントランスファー（ＬＡＴ）材料は、版胴を取り
囲み、該材料自身は離脱層により囲まれる。（離脱層を
貫通する）ＬＡＴ層のレーザー放射に対する暴露は、Ｌ
ＡＴ層を版胴に接着させ、接着された層は、版胴により
現出される親和性とは反対の親和性であって、噴出溶液
及び／またはインクに対する親和性を現出する。離脱層
は、レーザー放射を受け入れていないＬＡＴ層の部分を
除去するが版胴に接着している暴露された部分を残す像
様のレーザー暴露に続いて、剥がされる。
【００２４】ここに記載されている材料を用いることに
より、前述の実施態様のすべてではないが、ほとんどの
印刷層は化学的に剥がすことができ、中空版胴を再度被
覆して使用することができる。この目的のために、マン
ドレルすなわち版胴ジャケットの解離により、版胴自身
を利便にプレスから除去することができる。
より、前述の実施態様のすべてではないが、ほとんどの
印刷層は化学的に剥がすことができ、中空版胴を再度被
覆して使用することができる。この目的のために、マン
ドレルすなわち版胴ジャケットの解離により、版胴自身
を利便にプレスから除去することができる。
【００２５】
【実施例】まず、図１を参照すれば、本発明の印刷部材
の構造が参照番号１０で示されている。印刷部材１０
は、後述するように、印刷基体に転写するためのリトグ
ラフ像を支持する複数の同心の層１２を含む。印刷部材
１０は、図１に点線で示す回転マンドレルすなわち版胴
ジャケット１４に固着されており、オフセット印刷プレ
スすなわち外部支持構造をもたないフリースタンディン
グの結像装置と結合している。
の構造が参照番号１０で示されている。印刷部材１０
は、後述するように、印刷基体に転写するためのリトグ
ラフ像を支持する複数の同心の層１２を含む。印刷部材
１０は、図１に点線で示す回転マンドレルすなわち版胴
ジャケット１４に固着されており、オフセット印刷プレ
スすなわち外部支持構造をもたないフリースタンディン
グの結像装置と結合している。
【００２６】印刷部材１０を回転要素１４に固定するた
めに、いくつかの適当な手段を用いることができる。該
要素１４は、半径方向の厚さを貫通して延びる空気毛細
管（エアキャプラリー）の列を含有することが好まし
い。圧縮源から要素１４の内部に導入された空気は、要
素１４の表面から半径方向外方に向けられて、要素１４
全体を容易に通過するために印刷部材１０の内径を拡大
する。印刷部材１０が完全に組み込まれると、空気流が
止められ、印刷部材１０は要素１４全体上に密着するま
で弛緩する。印刷部材１０がオン−プレス結像される場
合には、印刷中、印刷部材１０及び要素１４の間の相対
運動を防止するに十分なほど、係合は堅固でなければな
らない。
めに、いくつかの適当な手段を用いることができる。該
要素１４は、半径方向の厚さを貫通して延びる空気毛細
管（エアキャプラリー）の列を含有することが好まし
い。圧縮源から要素１４の内部に導入された空気は、要
素１４の表面から半径方向外方に向けられて、要素１４
全体を容易に通過するために印刷部材１０の内径を拡大
する。印刷部材１０が完全に組み込まれると、空気流が
止められ、印刷部材１０は要素１４全体上に密着するま
で弛緩する。印刷部材１０がオン−プレス結像される場
合には、印刷中、印刷部材１０及び要素１４の間の相対
運動を防止するに十分なほど、係合は堅固でなければな
らない。
【００２７】回転を伴う要素１４とプレスすなわち結像
装置の他の要素との一体化は、多数の方法で可能であ
る。一つの装置において、要素１４の両端部は面取りさ
れて、ベアリングあるいは回転伝達モータを係合する収
縮可能なクランプと一致する。このアプローチは、要素
１４をプレスすなわち結像装置本体から完全に除去する
ことができる。あるいは、ヒンジあるいはジョイントに
より、要素１４の一方の側をモータあるいはべアリング
組立体と永久的に結合させ、他方の側を完全に離脱可能
とすることで、側方端部を自由にし且つ印刷部材の除去
用あるいは組み込み用の周囲の機械類から離して傾斜さ
せることもできる。さらに別の方法として、要素１４の
一端を収容し、暴露しアクセス可能とするプレス（すな
わち結像装置）の部分の完全なあるいは部分的な離脱を
与えることもできる。
装置の他の要素との一体化は、多数の方法で可能であ
る。一つの装置において、要素１４の両端部は面取りさ
れて、ベアリングあるいは回転伝達モータを係合する収
縮可能なクランプと一致する。このアプローチは、要素
１４をプレスすなわち結像装置本体から完全に除去する
ことができる。あるいは、ヒンジあるいはジョイントに
より、要素１４の一方の側をモータあるいはべアリング
組立体と永久的に結合させ、他方の側を完全に離脱可能
とすることで、側方端部を自由にし且つ印刷部材の除去
用あるいは組み込み用の周囲の機械類から離して傾斜さ
せることもできる。さらに別の方法として、要素１４の
一端を収容し、暴露しアクセス可能とするプレス（すな
わち結像装置）の部分の完全なあるいは部分的な離脱を
与えることもできる。
【００２８】結像及び／又は印刷が終了した後、印刷部
材１０は要素１４から除去されて、次の印刷工程のため
に準備された状態で自己結像されているブランクと置換
される。除去された印刷部材は、後述するようにリサイ
クルされてもよい。
材１０は要素１４から除去されて、次の印刷工程のため
に準備された状態で自己結像されているブランクと置換
される。除去された印刷部材は、後述するようにリサイ
クルされてもよい。
【００２９】さて、図２を参照すれば、印刷部材の第１
の実施態様をさらに詳細に示す。該実施態様は、版胴２
０を含み、該版胴上には、効果的でアブレイション的な
赤外線吸収により特徴付けられる第１の高分子層２２が
被覆されている。層２２を取り囲むのは、層２０により
現出される親和性とは反対の親和性であって、インクあ
るいはインク不粘着流体に対する親和性を現出する表面
層２４である。
の実施態様をさらに詳細に示す。該実施態様は、版胴２
０を含み、該版胴上には、効果的でアブレイション的な
赤外線吸収により特徴付けられる第１の高分子層２２が
被覆されている。層２２を取り囲むのは、層２０により
現出される親和性とは反対の親和性であって、インクあ
るいはインク不粘着流体に対する親和性を現出する表面
層２４である。
【００３０】この実施態様において、版胴２０は、重い
高分子材料あるい金属シートとすることもできる。版胴
２０は、結像及び印刷中に、必要な寸法安定性を与える
ために十分な薄さである。これに関しては、市販のポリ
エステル製品の使用を可能とする米国特許第５，１８
８，０３２号（本願に参照として全体が組み込まれてい
る）に記載されているような薄膜積層構造を利用するこ
とが望ましい。
高分子材料あるい金属シートとすることもできる。版胴
２０は、結像及び印刷中に、必要な寸法安定性を与える
ために十分な薄さである。これに関しては、市販のポリ
エステル製品の使用を可能とする米国特許第５，１８
８，０３２号（本願に参照として全体が組み込まれてい
る）に記載されているような薄膜積層構造を利用するこ
とが望ましい。
【００３１】層２２は、赤外領域において本来的に吸収
する高分子系、あるいは赤外線吸収組成物（１以上の染
料及び／又は顔料等）が分散され又は溶解されている高
分子コーティングからなる。適当な組成は、’７３７号
米国特許に記載されている。層２２は、スプレイ装置に
より、あるいは層２２の材料を溶液又は溶融状態で含有
するタンク内にてディップコーティング（浸漬被覆）す
ることにより、版胴２０に塗布されることが好ましい。
いずれの場合にも、粘度及び固体レベル（溶液の場合）
は、引き出し中、層２２の安定性を維持する（流下ある
いは滴下を防ぐ）ために十分なほど迅速に乾燥あるいは
冷蔵しながら、版胴を商業的に現実的な速度で引き出す
ことができるように選択される。層２２の最終的にデポ
ジットされた重さは、好ましくは少なくとも４g/m2、最
も好ましくは１０〜１５g/m2であり、これらは’７３７
号米国特許に記載されている低出力の赤外線レーザーを
用いるアブレイションを確実にする。
する高分子系、あるいは赤外線吸収組成物（１以上の染
料及び／又は顔料等）が分散され又は溶解されている高
分子コーティングからなる。適当な組成は、’７３７号
米国特許に記載されている。層２２は、スプレイ装置に
より、あるいは層２２の材料を溶液又は溶融状態で含有
するタンク内にてディップコーティング（浸漬被覆）す
ることにより、版胴２０に塗布されることが好ましい。
いずれの場合にも、粘度及び固体レベル（溶液の場合）
は、引き出し中、層２２の安定性を維持する（流下ある
いは滴下を防ぐ）ために十分なほど迅速に乾燥あるいは
冷蔵しながら、版胴を商業的に現実的な速度で引き出す
ことができるように選択される。層２２の最終的にデポ
ジットされた重さは、好ましくは少なくとも４g/m2、最
も好ましくは１０〜１５g/m2であり、これらは’７３７
号米国特許に記載されている低出力の赤外線レーザーを
用いるアブレイションを確実にする。
【００３２】この実施態様の乾式版バージョンにおい
て、層２４は１以上のシリコンポリマーに基づいている
ことが好ましい。湿式バージョンにおいて、層２４はポ
リビニルアルコールに基づいていることが好ましい。両
方のポリマー（高分子）系の適当な構造式は、前述の’
７３７号米国特許に詳細に記載されている。再度、シリ
コンの場合には１〜３g/m2（最も好ましくは２g/m2）及
びポリビニルアルコールの場合には１〜２g/m2のデポジ
ットされた質量にディップコーティングにより凝固した
あるいは固化した層２２に、ポリマーが塗布される。湿
式版あるいは乾式版のいずれかのバージョンにおいて、
版胴２０は、ナイロン、アクリル酸誘導体又はポリカー
ボネート等の親油性高分子あるいはニッケル等の親油性
金属とすることもできる。
て、層２４は１以上のシリコンポリマーに基づいている
ことが好ましい。湿式バージョンにおいて、層２４はポ
リビニルアルコールに基づいていることが好ましい。両
方のポリマー（高分子）系の適当な構造式は、前述の’
７３７号米国特許に詳細に記載されている。再度、シリ
コンの場合には１〜３g/m2（最も好ましくは２g/m2）及
びポリビニルアルコールの場合には１〜２g/m2のデポジ
ットされた質量にディップコーティングにより凝固した
あるいは固化した層２２に、ポリマーが塗布される。湿
式版あるいは乾式版のいずれかのバージョンにおいて、
版胴２０は、ナイロン、アクリル酸誘導体又はポリカー
ボネート等の親油性高分子あるいはニッケル等の親油性
金属とすることもできる。
【００３３】図３に示されている第２の実施態様におい
て、版胴２０は、印刷工程に関係しない。代わりに、第
１の実施態様での版胴２０により成される印刷機能に対
応する追加の層２６が、上述の態様において版胴２０の
上に被覆される。この材料は、噴出溶液及び／又はイン
クに対する所望の親和性を呈する高分子とすることもで
きるが、好ましくは’７０５号米国特許に記載された第
２のアブレイション材料とする。該特許にて論述されて
いるように、制限された熱的安定性、特に結像放射線に
対する透過性を現出する（あるいは少なくとも、散乱、
反射及び減衰を最小として、かような放射線を透過可能
な）高分子材料は、このような状況に最適である。かよ
うな高分子としては、ＰＭＭＡ、ポリカーボネート、ポ
リエステル、ポリウレタン、ポリスチレン、スチレン／
アクリロニトリルポリマー、セルロースエーテル及びエ
ステル、ポリアセタール、及びこれらの化合物（例え
ば、コポリマーあるいはターポリマー）等を挙げること
ができるが、これらに限定されるものではない。
て、版胴２０は、印刷工程に関係しない。代わりに、第
１の実施態様での版胴２０により成される印刷機能に対
応する追加の層２６が、上述の態様において版胴２０の
上に被覆される。この材料は、噴出溶液及び／又はイン
クに対する所望の親和性を呈する高分子とすることもで
きるが、好ましくは’７０５号米国特許に記載された第
２のアブレイション材料とする。該特許にて論述されて
いるように、制限された熱的安定性、特に結像放射線に
対する透過性を現出する（あるいは少なくとも、散乱、
反射及び減衰を最小として、かような放射線を透過可能
な）高分子材料は、このような状況に最適である。かよ
うな高分子としては、ＰＭＭＡ、ポリカーボネート、ポ
リエステル、ポリウレタン、ポリスチレン、スチレン／
アクリロニトリルポリマー、セルロースエーテル及びエ
ステル、ポリアセタール、及びこれらの化合物（例え
ば、コポリマーあるいはターポリマー）等を挙げること
ができるが、これらに限定されるものではない。
【００３４】この実施態様の特に好ましい乾式版バージ
ョンにおいて、層２６は、’７０５米国特許実施例３〜
７に記載された、デポジット質量１〜１０g/m2、最も好
ましくは４g/m2のアクリル酸誘導体材料の一つとするこ
とができる。この材料は、良好な親油性を現出し、上述
したような吸収層及びシリコン最上部コーティングと共
に用いることもできる。
ョンにおいて、層２６は、’７０５米国特許実施例３〜
７に記載された、デポジット質量１〜１０g/m2、最も好
ましくは４g/m2のアクリル酸誘導体材料の一つとするこ
とができる。この材料は、良好な親油性を現出し、上述
したような吸収層及びシリコン最上部コーティングと共
に用いることもできる。
【００３５】この実施態様において、版胴２０の組成は
印刷には関係しないので、組み込み及び除去に際して、
摩擦係合及び版胴の直径を拡大させて回転要素１４全体
上にフィットさせるために用いられる手段に対する応答
性の両者に関して、回転要素１４との互換性を正確に選
択することができる。例えば、空気圧の内部源に暴露さ
れている際に内径が拡大する Charlotte, NC 所在のSto
rk Graphics から販売されている nickel flexographic
printing sleeves （ニッケルフレキソ印刷スリーブ）
が本発明に良好に適している。
印刷には関係しないので、組み込み及び除去に際して、
摩擦係合及び版胴の直径を拡大させて回転要素１４全体
上にフィットさせるために用いられる手段に対する応答
性の両者に関して、回転要素１４との互換性を正確に選
択することができる。例えば、空気圧の内部源に暴露さ
れている際に内径が拡大する Charlotte, NC 所在のSto
rk Graphics から販売されている nickel flexographic
printing sleeves （ニッケルフレキソ印刷スリーブ）
が本発明に良好に適している。
【００３６】図４に示されている第３の実施態様におい
て、版胴２０は親水性である。例えば、ニッケルスリー
ブをクロムで被覆する（例えば本願に参照として全体の
開示が取り込まれている米国特許第４，５９６，７６０
号明細書（以下、’７６０号米国特許と称す）に記載さ
れているように）ことにより、あるいは表面が粒状化処
理され且つ陽極処理されたアルミニウム版胴材料を利用
する（例えば本願に参照として全体の開示が取り込まれ
ている米国特許第３，１８１，４６１号及び第４，９０
２，９７６号明細書（以下、それぞれ’４６１号及び’
９７６号米国特許と称す）に記載されているように）こ
とにより、親水性版胴表面を得ることができる。
て、版胴２０は親水性である。例えば、ニッケルスリー
ブをクロムで被覆する（例えば本願に参照として全体の
開示が取り込まれている米国特許第４，５９６，７６０
号明細書（以下、’７６０号米国特許と称す）に記載さ
れているように）ことにより、あるいは表面が粒状化処
理され且つ陽極処理されたアルミニウム版胴材料を利用
する（例えば本願に参照として全体の開示が取り込まれ
ている米国特許第３，１８１，４６１号及び第４，９０
２，９７６号明細書（以下、それぞれ’４６１号及び’
９７６号米国特許と称す）に記載されているように）こ
とにより、親水性版胴表面を得ることができる。
【００３７】版胴２０は、通常、親油性であり疎水性で
ある標準リトグラフ光硬化性材料の層３０により被覆さ
れる。ここで「光硬化性」とは、現像溶剤に対する可溶
性を変化させる化学線に対する暴露によって変化を受け
る材料を意味する。よって、層３０の暴露された部分は
硬化し、現像液の作用に耐性を示すので、版胴２０から
現像によっては除去されない。適する材料は、当技術分
野で公知であり、かような材料の包括的なリストは、前
述の’７６０号、’４６１号及び’９７６号米国特許並
びに本願に参照として全体の開示が取り込まれている米
国特許第５，１０２，７５６号明細書（以下、’７５６
号米国特許と称す）に記載されている。最も典型的に
は、感光性樹脂を硬化させるために用いられる化学線
は、電磁気スペクトルの可視あるいは紫外領域内にあ
る。
ある標準リトグラフ光硬化性材料の層３０により被覆さ
れる。ここで「光硬化性」とは、現像溶剤に対する可溶
性を変化させる化学線に対する暴露によって変化を受け
る材料を意味する。よって、層３０の暴露された部分は
硬化し、現像液の作用に耐性を示すので、版胴２０から
現像によっては除去されない。適する材料は、当技術分
野で公知であり、かような材料の包括的なリストは、前
述の’７６０号、’４６１号及び’９７６号米国特許並
びに本願に参照として全体の開示が取り込まれている米
国特許第５，１０２，７５６号明細書（以下、’７５６
号米国特許と称す）に記載されている。最も典型的に
は、感光性樹脂を硬化させるために用いられる化学線
は、電磁気スペクトルの可視あるいは紫外領域内にあ
る。
【００３８】光硬化性層３０を取り囲むのは、マスキン
グ層３２であり、該層３２は結像レーザーからの赤外線
に応答して吸収しアブレートするが、層３０を暴露する
ために用いられる化学線に対しては不透過性である。か
ような材料の適当な例としては、’７５６号米国特許に
記載されたマスキング層、並びに’７３７号及び’７０
５号米国特許に記載されたカーボン充填層（該層はブラ
ックであるので、可視光線の通過を阻止する）を挙げる
ことができる。なお、層３２としては、赤外線吸収染料
あるいは顔料に加えて、’７０５号米国特許に記載され
ているような可視あるいは紫外線域にて吸収する染料
（周囲の化学線の通過を効果的に阻止するために十分な
濃度での）を挙げることができる。
グ層３２であり、該層３２は結像レーザーからの赤外線
に応答して吸収しアブレートするが、層３０を暴露する
ために用いられる化学線に対しては不透過性である。か
ような材料の適当な例としては、’７５６号米国特許に
記載されたマスキング層、並びに’７３７号及び’７０
５号米国特許に記載されたカーボン充填層（該層はブラ
ックであるので、可視光線の通過を阻止する）を挙げる
ことができる。なお、層３２としては、赤外線吸収染料
あるいは顔料に加えて、’７０５号米国特許に記載され
ているような可視あるいは紫外線域にて吸収する染料
（周囲の化学線の通過を効果的に阻止するために十分な
濃度での）を挙げることができる。
【００３９】マスキング層３２のレーザー結像は、層３
０の選択された部分を暴く。次いで、構造物全体の化学
線に対する暴露は、感光性樹脂をマスキング層３２をア
ブレートするために用いられる像様パターンにて版胴２
０に係止する。層３０の暴露されていない部分に加え
て、かような層は、構造物全体を写真の定着液にさらす
ことにより除去される。
０の選択された部分を暴く。次いで、構造物全体の化学
線に対する暴露は、感光性樹脂をマスキング層３２をア
ブレートするために用いられる像様パターンにて版胴２
０に係止する。層３０の暴露されていない部分に加え
て、かような層は、構造物全体を写真の定着液にさらす
ことにより除去される。
【００４０】図５に示される第４の実施態様において、
金属版胴は親水性である。版胴２０を取り巻くのは熱可
融性材料の層４０であり、該層４０はレーザー放射線に
暴露されると、版胴２０に堅く接着し、親油性及び疎水
性を現出する。この目的に適するのは、本願に参照とし
て全体の開示が取り込まれている米国特許第５，１７
１，６５０号、第５，１５６，９３８号、第３，９４
５，３１８号及び第３，９６２，５１３号明細書に記載
されているＬＡＴ材料である。実際に、これらに現れて
いるＬＡＴ材料のいずれでも、十分な親油性、十分な疎
水性及び粒状化され陽極処理された金属表面あるいは平
坦な金属表面に対する暴露後の十分な接着を現出する限
り、利用することができる。
金属版胴は親水性である。版胴２０を取り巻くのは熱可
融性材料の層４０であり、該層４０はレーザー放射線に
暴露されると、版胴２０に堅く接着し、親油性及び疎水
性を現出する。この目的に適するのは、本願に参照とし
て全体の開示が取り込まれている米国特許第５，１７
１，６５０号、第５，１５６，９３８号、第３，９４
５，３１８号及び第３，９６２，５１３号明細書に記載
されているＬＡＴ材料である。実際に、これらに現れて
いるＬＡＴ材料のいずれでも、十分な親油性、十分な疎
水性及び粒状化され陽極処理された金属表面あるいは平
坦な金属表面に対する暴露後の十分な接着を現出する限
り、利用することができる。
【００４１】層４０を取り囲むのは、離脱層４２であ
る。この層は、版胴２０の表面に接着するよりも強く層
４０の暴露されていない部分に接着する。しかしなが
ら、層４２は層４０の暴露された部分に対しては、レー
ザー放射により溶融された層４２が版胴２０の表面に接
着するよりも弱く接着する。像様の暴露の後、離脱層４
２の剥離は、層４０の暴露されていない部分の除去をも
結果的に生じさせるが、版胴２０に接着した層４０の暴
露された部分は残る。したがって層４２は、層４０を溶
融させるために用いられるレーザー放射線に対して透過
性でなければならず、都合よく剥離することを容易にす
るために十分な構造的一体性を備えていなければならな
い。
る。この層は、版胴２０の表面に接着するよりも強く層
４０の暴露されていない部分に接着する。しかしなが
ら、層４２は層４０の暴露された部分に対しては、レー
ザー放射により溶融された層４２が版胴２０の表面に接
着するよりも弱く接着する。像様の暴露の後、離脱層４
２の剥離は、層４０の暴露されていない部分の除去をも
結果的に生じさせるが、版胴２０に接着した層４０の暴
露された部分は残る。したがって層４２は、層４０を溶
融させるために用いられるレーザー放射線に対して透過
性でなければならず、都合よく剥離することを容易にす
るために十分な構造的一体性を備えていなければならな
い。
【００４２】層４２の好ましい材料としては、光開始剤
（フォトイニシエータ）を含むアクリル酸誘導体組成
物、メタクリル酸誘導体組成物、あるいはアクリル／メ
タクリル化合物を挙げることができる。層４０及び４２
は、例えばディップコーティングにより塗布されてもよ
い。層４２は、１００％固体組成物として、０．００１
〜０．００５インチの厚さまでデポジットされ、紫外線
の暴露により、元の位置で凝固する。
（フォトイニシエータ）を含むアクリル酸誘導体組成
物、メタクリル酸誘導体組成物、あるいはアクリル／メ
タクリル化合物を挙げることができる。層４０及び４２
は、例えばディップコーティングにより塗布されてもよ
い。層４２は、１００％固体組成物として、０．００１
〜０．００５インチの厚さまでデポジットされ、紫外線
の暴露により、元の位置で凝固する。
【００４３】なお、アクリル酸誘導体及び／又はメタク
リル酸誘導体の代わりに、セルロース組成物をベースと
する溶剤（適切には、可塑剤を含有する）を用いること
ができ、また同じ最終的な厚さまで塗布することができ
る。しかしながら、該溶剤はセルロース層の最初のバル
クに依存するので、溶剤を外した後、０．００１〜０．
００５インチの最終的な厚さを達成するためには、かな
り厚い層を塗布しなければならない。適するセルロース
組成物としては、セルロースエステル（例えば、酢酸酪
酸セルロース（セルロースアセテートブチレート））及
びエチルセルロースを挙げることができる。
リル酸誘導体の代わりに、セルロース組成物をベースと
する溶剤（適切には、可塑剤を含有する）を用いること
ができ、また同じ最終的な厚さまで塗布することができ
る。しかしながら、該溶剤はセルロース層の最初のバル
クに依存するので、溶剤を外した後、０．００１〜０．
００５インチの最終的な厚さを達成するためには、かな
り厚い層を塗布しなければならない。適するセルロース
組成物としては、セルロースエステル（例えば、酢酸酪
酸セルロース（セルロースアセテートブチレート））及
びエチルセルロースを挙げることができる。
【００４４】印刷部材の処理後、コーティングを化学的
な手段により版胴から剥離することができる。これは、
層２２、２４及び２６を剥離可能な溶剤に対して不浸透
性の版胴２０用の材料を用いる第２の実施態様により最
も容易に達成される。例えば、ニッケル版胴２０を用い
れば、積層しているアクリル酸誘導体層、ニトロセルロ
ース層及びシリコン層は、印刷部材１０を希アンモニア
（例えば５％）に浸すことにより一般に剥離される。
な手段により版胴から剥離することができる。これは、
層２２、２４及び２６を剥離可能な溶剤に対して不浸透
性の版胴２０用の材料を用いる第２の実施態様により最
も容易に達成される。例えば、ニッケル版胴２０を用い
れば、積層しているアクリル酸誘導体層、ニトロセルロ
ース層及びシリコン層は、印刷部材１０を希アンモニア
（例えば５％）に浸すことにより一般に剥離される。
【００４５】したがって、乾式リトグラフ結像部材を製
造し、使用し、且つリサイクルするための高度に多用途
のシステムが開発されたといえる。ここで用いられた語
彙及び表現は、本発明の特徴を説明するために用いられ
ているに過ぎず、本発明の特徴を図示され及び記載され
た装置に制限するものではない。本発明の請求の範囲を
逸脱しない限りにおいて、種々の変形が成されてもよい
ことは言うまでもない。
造し、使用し、且つリサイクルするための高度に多用途
のシステムが開発されたといえる。ここで用いられた語
彙及び表現は、本発明の特徴を説明するために用いられ
ているに過ぎず、本発明の特徴を図示され及び記載され
た装置に制限するものではない。本発明の請求の範囲を
逸脱しない限りにおいて、種々の変形が成されてもよい
ことは言うまでもない。
【図１】図１は、点線で示されるプレスマンドレルすな
わち版胴ジャケットを備える本発明の印刷部材の第１の
実施態様の等尺図である。
わち版胴ジャケットを備える本発明の印刷部材の第１の
実施態様の等尺図である。
【図２】図２は、図１に示された実施態様の一部端面図
である。
である。
【図３】図３は、本発明の印刷部材の第２の実施態様の
一部端面図である。
一部端面図である。
【図４】図４は、本発明の印刷部材の第３の実施態様の
一部端面図である。
一部端面図である。
【図５】図５は、本発明の印刷部材の第４の実施態様の
一部端面図である。
一部端面図である。
１０：印刷部材 １４：回転要素 ２０：版胴 ２２：第１の高分
子層 ２４：表面層 ３０：光硬化性材
料層 ３２：マスキング層 ４０：熱可融性材
料層 ４２：離脱層
子層 ２４：表面層 ３０：光硬化性材
料層 ３２：マスキング層 ４０：熱可融性材
料層 ４２：離脱層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 トーマス・イー・ルイス アメリカ合衆国ニューハンプシャー州 03826，イースト・ハンプステッド，ピ ルグリム・サークル 27 (56)参考文献 特開 昭50−158405（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−126295（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−13392（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−197192（ＪＰ，Ａ) 特開 昭50−113307（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−83893（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−113895（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−50760（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−9799（ＪＰ，Ａ) 特公 昭42−21879（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B41N 1/14 B41C 1/055 501 G03F 7/00 504
Claims (40)
- 【請求項１】リトグラフ印刷部材の製作方法であって、 （ａ）親油性を有する中空版胴を準備する工程と （ｂ）上記中空版胴の上に、結像放射線をアブレイショ
ン的に吸収する第１の高分子層を被覆する工程と、 （ｃ）上記第１の高分子層を固体形態とする工程と、 （ｄ）上記第１の高分子層の上に、親水性を有し、且つ
結像放射線をアブレイション的に吸収しない第２の高分
子層を被覆する工程と、 （ｅ）上記第２の高分子層を固体形態とする工程と、 を備えることを特徴とするリトグラフ印刷部材の製作方
法。 - 【請求項２】請求項１のリトグラフ印刷部材の製作方法
であって、 前記第２の高分子層がポリビニルアルコール化学種であ
ることを特徴とするリトグラフ印刷部材の製作方法。 - 【請求項３】請求項１のリトグラフ印刷部材の製作方法
であって、 前記第１の高分子層及び前記第２の高分子層は、溶剤中
に浸漬することにより除去可能である高分子からなるこ
とを特徴とするリトグラフ印刷部材の製作方法。 - 【請求項４】請求項３のリトグラフ印刷部材の製作方法
であって、 前記溶剤はアンモニアであることを特徴とするリトグラ
フ印刷部材の製作方法。 - 【請求項５】リトグラフ印刷部材の製作方法であって、 （ａ）中空版胴を準備する工程と、 （ｂ）上記中空版胴の上に、親油性を有する第１の高分
子層を被覆する工程と、 （ｃ）上記第１の高分子層を固体形態とする工程と、 （ｄ）上記第１の高分子層の上に、結像放射線をアブレ
イション的に吸収することを特徴とする第２の高分子層
を被覆する工程と、 （ｅ）上記第２の高分子層を固体形態とする工程と、 （ｆ）上記第２の高分子層の上に、親水性を有する第３
の高分子層を被覆する工程と、 （ｇ）上記第３の高分子層を固体形態とする工程と、 を備えることを特徴とするリトグラフ印刷部材の製作方
法。 - 【請求項６】請求項５のリトグラフ印刷部材の製作方法
であって、 前記中空版胴がニッケルであることを特徴とするリトグ
ラフ印刷部材製作方法。 - 【請求項７】請求項５のリトグラフ印刷部材の製作方法
であって、 前記第３の高分子層がポリビニルアルコール化学種であ
ることを特徴とするリトグラフ印刷部材製作方法。 - 【請求項８】リサイクル可能なリトグラフ印刷部材の製
作方法であって、 （ａ）中空版胴を準備する工程と、 （ｂ）上記中空版胴の上に、インク及びインク不粘着流
体からなる群より選択された少なくとも１つの印刷液体
に対する親和性を有するアクリル酸誘導体からなる第１
の高分子層を被覆する工程と、 （ｃ）上記第１の高分子層を固体形態とする工程と、 （ｄ）上記第１の高分子層の上に、溶剤に浸漬すること
により除去可能で且つ結像放射線をアブレイション的に
吸収することを特徴とする第２の高分子層を被覆する工
程と、 （ｅ）上記第２の高分子層を固体形態とする工程と、 （ｆ）上記第２の高分子層の上に、上記第１の高分子層
の親和性とは異なる少なくとも１つの印刷液体に対する
親和性を有する第３の高分子層を被覆する工程と、 （ｇ）上記第３の高分子層を固体形態とする工程と、 を備えることを特徴とするリサイクル可能なリトグラフ
印刷部材の製作方法。 - 【請求項９】請求項８のリサイクル可能なリトグラフ印
刷部材の製作方法であって、 前記溶剤がアンモニアであることを特徴とするリサイク
ル可能なリトグラフ印刷部材の製作方法。 - 【請求項１０】請求項８のリサイクル可能なリトグラフ
印刷部材の製作方法であって、 前記中空版胴はニッケルであることを特徴とするリサイ
クル可能なリトグラフ印刷部材の製作方法。 - 【請求項１１】請求項８のリサイクル可能なリトグラフ
印刷部材の製作方法であって、 前記第３の高分子層がシリコン化学種であることを特徴
とするリサイクル可能なリトグラフ印刷部材の製作方
法。 - 【請求項１２】請求項８のリサイクル可能なリトグラフ
印刷部材の製作方法であって、 前記第３の高分子層がポリビニルアルコール化学種であ
ることを特徴とするリサイクル可能なリトグラフ印刷部
材の製作方法。 - 【請求項１３】リサイクル可能なシームレスオフセット
印刷部材の使用方法であって、 （ａ）（ｉ）インク及びインク不粘着流体からなる群よ
り選ばれた少なくとも１つの印刷液体に対する選択され
た親和性を有する中空版胴と、（ｉｉ）上記中空版胴の
上に被覆されており、溶剤に浸漬することにより除去可
能で且つ結像放射線をアブレイション的に吸収する第１
の高分子層と、（ｉｉｉ）上記第１の高分子層の上に被
覆され、上記中空版胴とは異なる少なくとも１つの印刷
液体に対する親和性を有し、且つ結像放射線をアブレイ
ション的に吸収しない第２の高分子層と、を備えるシー
ムレスオフセット印刷部材を準備する工程と、 （ｂ）像を表すパターンにて上記第１の高分子層及び上
記第２の高分子層を除去することにより上記シームレス
オフセット印刷部材に結像する工程と、 （ｃ）上記結像されたシームレスオフセット印刷部材で
印刷する工程と、 （ｄ）印刷後、上記シームレスオフセット印刷部材を溶
剤中に浸漬することにより、上記第１の高分子層及び上
記第２の高分子層を除去する工程と、 を備えることを特徴とするリサイクル可能なシームレス
印刷部材の使用方法。 - 【請求項１４】リサイクル可能なシームレスオフセット
印刷部材の使用方法であって、 （ａ）（ｉ）中空版胴と、（ｉｉ）上記中空版胴の上に
被覆されており、溶剤に浸漬することにより除去可能
で、インク及びインク不粘着流体からなる群より選ばれ
た少なくとも１つの印刷液体に対する親和性を有する第
１の高分子層と、（ｉｉｉ）上記第１の高分子層の上に
被覆され、溶剤に浸漬することにより除去可能で且つ欠
像放射線をアブレイション的に吸収する第２の高分子層
と、（ｉｖ）上記第２の高分子層の上に被覆されてお
り、上記第１の高分子層とは異なる少なくとも１つの印
刷液体に対する親和性を有する第３の高分子層と、を備
えるシームレスオフセット印刷部材を準備する工程と、 （ｂ）像を表すパターンにて上記第１の高分子層及び上
記第２の高分子層を除去することにより上記シームレス
オフセット印刷部材に結像する工程と、 （ｃ）上記結像されたシームレスオフセット印刷部材で
印刷する工程と、 （ｄ）印刷後、上記シームレスオフセット印刷部材を溶
剤中に浸漬することにより、上記第１の高分子層、上記
第２の高分子層及び上記第３の高分子層を除去する工程
と、 を備えることを特徴とするリサイクル可能なシームレス
印刷部材の使用方法。 - 【請求項１５】リサイクル可能なシームレスオフセット
印刷部材の結像方法であって、 （ａ）（ｉ）インク及びインク不粘着流体からなる群よ
り選ばれた少なくとも１つの印刷液体に対する選択され
た親和性を有する中空版胴と、（ｉｉ）上記中空版胴の
上に被覆されており、溶剤に浸漬することにより除去可
能で且つ結像放射線をアブレイション的に吸収する第１
の高分子層と、（ｉｉｉ）上記第１の高分子層の上に被
覆され、上記中空版胴とは異なる少なくとも１つの印刷
液体に対する親和性を有し、且つ結像放射線をアブレイ
ション的に吸収しない第２の高分子層と、を備えるシー
ムレスオフセット印刷部材を準備する工程と、 （ｂ）オフセット印刷プレスに結合しているマンドレル
上に、上記シームレスオフセット印刷部材を載置する工
程と、 （ｃ）像を表すパターンにて、上記第１の高分子層及び
上記第２の高分子層を除去することにより、上記シーム
レスオフセット印刷部材に結像する工程と、 （ｄ）上記結像されたシームレスオフセット印刷部材に
インクを運搬する工程と、 （ｅ）上記像を表すパターンに従って、インクを上記シ
ームレスオフセット印刷部材から印刷基体に転移させる
工程と、 （ｆ）上記マンドレルの少なくとも一端にて、上記オフ
セット印刷プレスから解離させる工程と、 （ｇ）上記シームレスオフセット印刷部材を上記マンド
レルから取り除く工程と、 （ｈ）上記シームレスオフセット印刷部材を溶剤中に浸
漬することにより、上記第１の高分子層及び上記第２の
高分子層を除去する工程と、 を備えることを特徴とするリサイクル可能なシームレス
オフセット印刷部材の結像方法。 - 【請求項１６】請求項１５のリサイクル可能なシームレ
ス印刷部材の結像方法であって、 前記工程（ａ）〜（ｇ）が、前記工程（ｈ）に続いて繰
り返されることを特徴とするリサイクル可能なシームレ
ス印刷部材の結像方法。 - 【請求項１７】リサイクル可能なシームレスオフセット
印刷部材の結像方法であって、 （ａ）（ｉ）中空版胴と、（ｉｉ）上記中空版胴の上に
被覆されており、インク及びインク不粘着流体からなる
群より選ばれた少なくとも１つの印刷液体に対する親和
性を有し且つ溶剤に浸漬することにより除去可能な第１
の高分子層と、（ｉｉｉ）上記第１の高分子層の上に被
覆されており、溶剤に浸漬することにより除去可能で且
つ結像放射線をアブレイション的に吸収する第２の高分
子層と、（ｉｖ）上記第２の高分子層の上に被覆されて
おり、上記第１の高分子層とは異なる少なくとも１つの
印刷液体に対する親和性を有する第３の高分子層と、を
備えるシームレスオフセット印刷部材を準備する工程
と、 （ｂ）オフセット印刷プレスに結合しているマンドレル
上に、上記シームレスオフセット印刷部材を載置する工
程と、 （ｃ）像を表すパターンにて、上記第１の高分子層及び
上記第２の高分子層を除去することにより、上記シーム
レスオフセット印刷部材に結像する工程と、 （ｄ）上記結像されたシームレスオフセット印刷部材に
インクを運搬する工程と、 （ｅ）上記像を表すパターンに従って、インクを上記シ
ームレスオフセット印刷部材から印刷基体に転移させる
工程と、 （ｆ）上記マンドレルの少なくとも一端にて上記オフセ
ット印刷プレスから解離させる工程と、 （ｇ）上記シームレスオフセット印刷部材を上記マンド
レルから取り除く工程と、 （ｈ）上記シームレスオフセット印刷部材を溶剤中に浸
漬することにより、上記第１の高分子層、上記第２の高
分子層及び上記第３の高分子層を除去する工程と、 を備えることを特徴とするリサイクル可能なシームレス
オフセット印刷部材の結像方法。 - 【請求項１８】請求項１７のリサイクル可能なシームレ
スオフセット印刷部材の結像方法であって、 前記工程（ａ）〜（ｇ）が、前記工程（ｈ）に続いて繰
り返されることを特徴とするリサイクル可能なシームレ
ス印刷部材の結像方法。 - 【請求項１９】シームレスオフセット印刷部材の結像方
法であって、 （ａ）（ｉ）インク及びインク不粘着流体からなる群よ
り選ばれた少なくとも１つの印刷液体に対する選択され
た親和性を有する中空版胴と、（ｉｉ）上記中空版胴の
上に被覆されており、上記中空版胴とは異なる少なくと
も１つの液体に対する親和性を有し、且つ化学線に対し
て感応的な光硬化性材料の層と、（ｉｉｉ）上記光硬化
性材料の上に被覆されており、赤外線を効果的にアブレ
イション的に吸収し、赤外線に対して実質的な不透明度
を有する表面層と、を備えるシームレスオフセット印刷
部材を準備する工程と、 （ｂ）像を表すパターンにて、上記表面層を除去する工
程と、 （ｃ）化学線に上記シームレスオフセット印刷部材を暴
露させる工程と、 （ｄ）化学線を受け入れなかった光硬化性材料の部分及
び除去されずに残っている上記表面層を取り除く工程
と、 を備えることを特徴とするシームレスオフセット印刷部
材の結像方法。 - 【請求項２０】請求項１９のシームレスオフセット印刷
部材の結像方法であって、さらに、 （ａ）前記シームレスオフセット印刷部材をオフセット
印刷プレスの上に載置する工程と、 （ｂ）像を表すパターンにて前記光硬化性材料の層及び
前記表面層を除去することにより、上記シームレスオフ
セット印刷部材に結像する工程と、 （ｃ）結像されたシームレスオフセット印刷部材にイン
クを運搬する工程と、 （ｄ）上記像を表すパターンに従って、インクを上記シ
ームレスオフセット印刷部材から印刷基体に転移させる
工程と、 を備えることを特徴とするシームレスオフセット印刷部
材の結像方法。 - 【請求項２１】シームレス印刷部材の結像方法であっ
て、 （ａ）（ｉ）インク及びインク不粘着流体からなる群よ
り選ばれた少なくとも１つの印刷液体に対する選択され
た親和性を有する中空版胴と、（ｉｉ）上記中空版胴の
上に被覆されており、溶融時に、上記中空版胴とは異な
る少なくとも１つの液体に対する親和性を現出する熱可
融性材料の層と、（ｉｉｉ）上記熱可融性材料の層の上
に被覆されており、上記熱可融性材料の層の溶融してい
ない部分が上記中空版胴に接着するよりも強く上記熱可
融性材料の層の溶融していない部分に接着するが、上記
熱可融性材料の溶融した部分が上記中空版胴に接着する
よりは弱く上記熱可融性材料の溶融した部分に接着する
離脱層と、を備えるシームレス印刷部材を準備する工程
と、 （ｂ）化学線に暴露させることにより、像を表すパター
ンにて上記熱可融性材料の層を溶融させる工程と、 （ｃ）上記離脱層のうち上記熱可融性材料の溶融してい
ない部分を剥離する工程と、 を備えることを特徴とするシームレス印刷部材の結像方
法。 - 【請求項２２】請求項２１のシームレス印刷部材の結像
方法であって、さらに、 （ａ）前記シームレス印刷部材をオフセット印刷プレス
の上に載置する工程と、 （ｂ）像を表すパターンにて前記熱可融性材料の層及び
離脱層を除去することにより、前記シームレス印刷部材
に結像する工程と、 （ｃ）結像されたシームレス印刷部材にインクを運搬す
る工程と、 （ｄ）前記像を表すパターンに従って、インクを上記シ
ームレス印刷部材から印刷基体に転移する工程と、 を備えることを特徴とするシームレス印刷部材の結像方
法。 - 【請求項２３】オフセット印刷部材であって、 （ａ）親油性を有する中空版胴と、 （ｂ）上記中空版胴の上に被覆されており、結像放射線
をアブレイション的に吸収する第１の高分子層と、 （ｃ）上記第１の高分子層の上に被覆されており、親水
性を有し且つ結像放射線をアブレイション的に吸収しな
い第２の高分子層と、 を備えることを特徴とするオフセット印刷部材。 - 【請求項２４】請求項２３のオフセット印刷部材であっ
て、 前記中空版胴がポリエステルであることを特徴とするオ
フセット印刷部材。 - 【請求項２５】リサイクル可能なオフセット印刷部材で
あって、 （ａ）ポリエステルからなる中空版胴と、 （ｂ）上記中空版胴の上に被覆されており、結像放射線
をアブレイション的に吸収する第１の高分子層と、 （ｃ）上記第１の高分子層の上に被覆されており、上記
中空版胴とは異なる親和性を有し、結像放射線をアブレ
イション的には吸収せず、且つ溶剤に浸漬することによ
り除去可能な第２の高分子層と、 を備えることを特徴とするリサイクル可能なオフセット
印刷部材。 - 【請求項２６】請求項２５のリサイクル可能なオフセッ
ト印刷部材であって、 前記第２の高分子層がシリコンコーティングであること
を特徴とするリサイクル可能なオフセット印刷部材。 - 【請求項２７】オフセット印刷部材であって、 （ａ）中空版胴と、 （ｂ）上記中空版胴の上に被覆されており、親油性を有
する第１の高分子層と、 （ｃ）上記第１の高分子層の上に被覆されており、結像
放射線をアブレイション的に吸収する第２の高分子層
と、 （ｄ）上記第２の高分子層の上に被覆されており、親水
性を有する第３の高分子層と、 を備えることを特徴とするオフセット印刷部材。 - 【請求項２８】請求項２７のオフセット印刷部材であっ
て、 前記中空版胴がニッケルであることを特徴とするオフセ
ット印刷部材。 - 【請求項２９】請求項２７のオフセット印刷部材であっ
て、 前記第１の高分子層がアクリル酸誘導体であることを特
徴とするオフセット印刷部材。 - 【請求項３０】請求項２７のオフセット印刷部材であっ
て、 前記第３の高分子層がポリビニルアルコール化学種であ
ることを特徴とするオフセット印刷部材。 - 【請求項３１】リサイクル可能なオフセット印刷部材で
あって、 （ａ）中空版胴と、 （ｂ）上記中空版胴の上に被覆されており、アクリル酸
誘導体からなる第１の高分子層と、 （ｃ）上記第１の高分子層の上に被覆されており、結像
放射線をアブレイション的に吸収する第２の高分子層
と、 （ｄ）上記第２の高分子層の上に被覆されており、溶剤
に浸漬することにより除去可能で、上記第１の高分子層
とは異なる親和性を有する第３の高分子層と、 を備えることを特徴とするリサイクル可能なオフセット
印刷部材。 - 【請求項３２】請求項３１のリサイクル可能なオフセッ
ト印刷部材であって、 前記第３の高分子層がシリコン化学種であることを特徴
とするリサイクル可能なオフセット印刷部材。 - 【請求項３３】請求項３１のリサイクル可能なオフセッ
ト印刷部材であって、 前記第３の高分子層がポリビニルアルコール化学種であ
ることを特徴とするリサイクル可能なオフセット印刷部
材。 - 【請求項３４】請求項３１のリサイクル可能なオフセッ
ト印刷部材であって、 前記溶剤がアンモニアであることを特徴とするリサイク
ル可能なオフセット印刷部材。 - 【請求項３５】オフセット印刷部材であって、 （ａ）インク及びインク不粘着流体からなる群より選ば
れる少なくとも１つの印刷液体に対する選択された親和
性を有する中空版胴と、 （ｂ）上記中空版胴の上に被覆されており、上記中空版
胴の親和性とは異なる親和性であって、少なくとも１つ
の液体に対する親和性を有し、且つ化学線に対して感応
的な光硬化性材料の層と、 （ｃ）上記光硬化性材料の層の上に被覆されており、赤
外線を効果的にアブレイション的に吸収し、化学線に対
して実質的な不透明度を有する表面層と、 を備えることを特徴とするオフセット印刷部材。 - 【請求項３６】請求項３５のオフセット印刷部材であっ
て、 前記表面層が、赤外線を吸収する材料と、可視光線を吸
収する材料と、を含有することを特徴とするオフセット
印刷部材。 - 【請求項３７】請求項３５のオフセット印刷部材であっ
て、 前記表面層が、赤外線を吸収する材料と、紫外線を吸収
する材料と、を含有することを特徴とするオフセット印
刷部材。 - 【請求項３８】オフセット印刷部材であって、 （ａ）インク及びインク不粘着流体からなる群より選ば
れた少なくとも１つの印刷液体に対する選択された親和
性を有する中空版胴と、 （ｂ）上記中空版胴の上に被覆されており、溶融時に、
上記中空版胴の親和性とは異なる親和性であって少なく
とも１つの液体に対する親和性を現出する熱可融性材料
の層と、 （ｃ）上記熱可融性材料の層の上に被覆されており、上
記熱可融性材料の層の溶融していない部分が上記中空版
胴に接着するよりも強く上記熱可融性材料の溶融してい
ない部分に接着するが、上記熱可融性材料の溶融した部
分が上記中空版胴に接着するよりは弱く上記熱可融性材
料の溶融した部分に接着しており、上記熱可融性材料の
うち溶融していない部分と接着する部分が剥離する離脱
層と、 を備えることを特徴とするオフセット印刷部材。 - 【請求項３９】請求項３８のオフセット印刷部材であっ
て、 前記熱可融性材料の層が、ＬＡＴ材料からなる層である
ことを特徴とするオフセット印刷部材。 - 【請求項４０】請求項３８のオフセット印刷部材であっ
て、 前記離脱層が、アクリル酸誘導体組成物、メタクリル酸
誘導体組成物、アクリル／メタクリル酸誘導体組成物及
びセルロース組成物よりなる群から選択されることを特
徴とするオフセット印刷部材。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/186,143 US5440987A (en) | 1994-01-21 | 1994-01-21 | Laser imaged seamless lithographic printing members and method of making |
| US186143 | 1994-01-21 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07309001A JPH07309001A (ja) | 1995-11-28 |
| JP3042972B2 true JP3042972B2 (ja) | 2000-05-22 |
Family
ID=22683818
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7007527A Expired - Lifetime JP3042972B2 (ja) | 1994-01-21 | 1995-01-20 | レーザー放射結像装置とともに用いるためのシームレスオフセットリトグラフ印刷部材 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US5440987A (ja) |
| EP (1) | EP0664211B1 (ja) |
| JP (1) | JP3042972B2 (ja) |
| AT (1) | ATE192076T1 (ja) |
| AU (1) | AU679294B2 (ja) |
| CA (1) | CA2140462C (ja) |
| DE (1) | DE69516428T2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AU674518B2 (en) * | 1992-07-20 | 1997-01-02 | Presstek, Inc. | Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus |
| US5816161A (en) * | 1994-07-22 | 1998-10-06 | Man Roland Druckmaschinen Ag | Erasable printing plate having a smooth pore free metallic surface |
| ZA967894B (en) * | 1995-09-22 | 1997-04-07 | Sun Chemical Corp | Compositions and solventless process for digital laser imagable lithographic printing plate production |
| US5855173A (en) * | 1995-10-20 | 1999-01-05 | Eastman Kodak Company | Zirconia alloy cylinders and sleeves for imaging and lithographic printing methods |
| US5813336A (en) * | 1995-12-22 | 1998-09-29 | Heidelberger Druckmaschinen Ag | Printing unit with axially removable printing sleeves |
| US5704291A (en) * | 1996-01-30 | 1998-01-06 | Presstek, Inc. | Lithographic printing members with deformable cushioning layers |
| EP0832739B1 (en) * | 1996-09-25 | 2001-06-20 | Agfa-Gevaert N.V. | Method for making a lithographic printing plate involving the use of a heat-sensitive imaging element |
| EP0839648A1 (en) * | 1996-10-29 | 1998-05-06 | Agfa-Gevaert N.V. | Method for making lithographic printing plates allowing for the use of lower laser writing power |
| US5924364A (en) * | 1997-01-17 | 1999-07-20 | Agfa-Gevaert N.V. | Laser-imagable recording material and printing plate produced therefrom for waterless offset printing |
| CN1085144C (zh) | 1997-01-27 | 2002-05-22 | Oce印刷系统有限公司 | 在使用结构化冰层的条件下对底材进行印刷的方法和装置 |
| US5868075A (en) * | 1997-02-26 | 1999-02-09 | Presstek, Inc. | Method and apparatus for imaging a seamless print medium |
| US5870955A (en) * | 1997-03-05 | 1999-02-16 | Presstek, Inc. | Lithographic printing system with reusable support surfaces and lithographic constructions for use therewith |
| US5934197A (en) * | 1997-06-03 | 1999-08-10 | Gerber Systems Corporation | Lithographic printing plate and method for manufacturing the same |
| GB9720595D0 (en) * | 1997-09-30 | 1997-11-26 | Horsell Graphic Ind Ltd | Planographic printing |
| DE19846509B4 (de) * | 1997-11-28 | 2007-01-25 | Man Roland Druckmaschinen Ag | Verfahren zum Herstellen einer Druckform |
| IL122953A (en) * | 1998-01-15 | 2000-11-21 | Scitex Corp Ltd | Printing member for use with a printing system and method of imaging the printing member |
| US5988066A (en) * | 1998-01-26 | 1999-11-23 | Aluminum Company Of America | Process of making lithographic sheet material for laser imaging |
| JP3255648B2 (ja) * | 1998-03-23 | 2002-02-12 | プレステク，インコーポレイテッド | 有機／無機混合層を有する構造体でのリソグラフ印刷用イメージング |
| US6251334B1 (en) | 1998-03-23 | 2001-06-26 | Presstek, Inc. | Composite constructions having mixed organic/inorganic layers |
| US6085656A (en) * | 1998-07-24 | 2000-07-11 | Presstak, Inc. | Method of lithographic imaging with reduced debris-generated performance degradation and related constructions |
| US6186068B1 (en) * | 1999-05-18 | 2001-02-13 | Creo Srl | Method for holding printing sleeves in an imaging device |
| DE60031707T2 (de) * | 1999-09-15 | 2007-09-06 | A.I.T. Israel - Advanced Imaging Technology Ltd. | Ein plattenloses drucksystem |
| US6374737B1 (en) | 2000-03-03 | 2002-04-23 | Alcoa Inc. | Printing plate material with electrocoated layer |
| US6405651B1 (en) * | 2000-03-03 | 2002-06-18 | Alcoa Inc. | Electrocoating process for making lithographic sheet material |
| US6723491B2 (en) * | 2000-07-05 | 2004-04-20 | Kba (Advanced Imaging Technology) (Israel) Limited | Utilizing UV to form and decompose a printing member |
| US6451505B1 (en) | 2000-08-04 | 2002-09-17 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Imageable element and method of preparation thereof |
| DE10049576B4 (de) * | 2000-10-06 | 2014-07-24 | Manroland Web Systems Gmbh | Einrichtung zur Herstellung von Druckformen |
| EP1266754A1 (en) * | 2001-06-14 | 2002-12-18 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Offset press and gapless printing plate |
| US20020189478A1 (en) * | 2001-06-14 | 2002-12-19 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Offset press |
| JP2003094599A (ja) * | 2001-07-17 | 2003-04-03 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | インプリンタ装置 |
| US7439995B2 (en) * | 2002-02-08 | 2008-10-21 | Kodak Polychrome Graphics, Gmbh | Method and apparatus for laser induced thermal transfer printing |
| US6894713B2 (en) | 2002-02-08 | 2005-05-17 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Method and apparatus for laser-induced thermal transfer printing |
| US7005232B2 (en) | 2003-06-16 | 2006-02-28 | Napp Systems, Inc. | Highly reflective substrates for the digital processing of photopolymer printing plates |
| NL1024430C2 (nl) * | 2003-10-02 | 2005-04-05 | Drent Graphic Machines | Werkwijze voor het vervaardigen van naadloze offsetdrukcilinderhuls, verwisselbare naadloze offsetdrukcilinderhuls, gebruik van en samenstel met een dergelijke offsetdrukcilinderhuls. |
| DE102004051262A1 (de) * | 2004-10-21 | 2006-04-27 | Man Roland Druckmaschinen Ag | Offsetdruckmaschine |
| US20070202442A1 (en) * | 2006-02-24 | 2007-08-30 | Eastman Kodak Company | Method and apparatus for merging a mask and a printing plate |
| DE102006047596A1 (de) * | 2006-10-09 | 2008-04-10 | Heidelberger Druckmaschinen Ag | Verfahren zur Behandlung einer wiederbebilderbaren Druckform |
| US9878531B2 (en) | 2013-12-19 | 2018-01-30 | Goss International Americas, Inc. | Reimageable and reusable printing sleeve for a variable cutoff printing press |
| CN113799512B (zh) * | 2020-06-12 | 2023-03-10 | 乐凯华光印刷科技有限公司 | 柔性感光印刷版的双层结构感光弹性体及其制备方法及包含其的柔性感光印刷版 |
Family Cites Families (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US637562A (en) * | 1895-02-07 | 1899-11-21 | Edward Hett | Lithographic transfer and printing press and printing-form. |
| US662861A (en) * | 1899-03-06 | 1900-11-27 | Edward Hett | Printing-press. |
| US3166013A (en) * | 1961-12-15 | 1965-01-19 | Graphic Controls Corp | Expansible cylinder for rotary printing press |
| US3250644A (en) * | 1963-03-27 | 1966-05-10 | Polychrome Corp | Method for removing images from presensitized lithographing plates |
| GB1146618A (en) * | 1965-10-11 | 1969-03-26 | Harry Frank Gipe | Method for preparing photo-lithographic plates |
| US4054094A (en) * | 1972-08-25 | 1977-10-18 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Laser production of lithographic printing plates |
| CA1049312A (en) * | 1974-01-17 | 1979-02-27 | John O.H. Peterson | Presensitized printing plate with in-situ, laser imageable mask |
| US3964389A (en) * | 1974-01-17 | 1976-06-22 | Scott Paper Company | Printing plate by laser transfer |
| US4020762A (en) * | 1974-01-17 | 1977-05-03 | Scott Paper Company | Laser imaging a lanographic printing plate |
| GB1489308A (en) * | 1974-03-18 | 1977-10-19 | Scott Paper Co | Laser imagable dry planographic printing plate blank |
| US3962513A (en) * | 1974-03-28 | 1976-06-08 | Scott Paper Company | Laser transfer medium for imaging printing plate |
| US3945318A (en) * | 1974-04-08 | 1976-03-23 | Logetronics, Inc. | Printing plate blank and image sheet by laser transfer |
| DE2607207C2 (de) * | 1976-02-23 | 1983-07-14 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen mit Laserstrahlen |
| US4116715A (en) * | 1977-07-18 | 1978-09-26 | Smiggen Frank J | Method for removing photopolymers from metal substrates |
| DE3170113D1 (en) * | 1980-07-14 | 1985-05-30 | Toray Industries | Dry planographic printing plate for direct printing |
| GB8410515D0 (en) * | 1984-04-25 | 1984-05-31 | Ici Plc | Laser-imageable assembly |
| DE3543704A1 (de) * | 1985-12-11 | 1987-06-19 | Md Papierfabrik Pasing Nicolau | Vorrichtung und verfahren zum bedrucken einer bahn |
| DE3628719A1 (de) * | 1986-08-23 | 1988-02-25 | Hoechst Ag | Vorsensibilisierte druckplatte und verfahren zur herstellung einer druckform fuer den wasserlosen flachdruck |
| DE3628720A1 (de) * | 1986-08-23 | 1988-02-25 | Hoechst Ag | Vorsensibilisierte druckplatte und verfahren zur herstellung einer druckform fuer den wasserlosen flachdruck |
| DE3636129A1 (de) * | 1986-10-23 | 1988-05-05 | Man Technologie Gmbh | Druckform fuer den flachdruck |
| DE3834270A1 (de) * | 1988-10-08 | 1990-04-12 | Roland Man Druckmasch | Verfahren zur herstellung von druckformen |
| US5072671A (en) * | 1988-11-09 | 1991-12-17 | Man Roland Druckmaschinen Ag | System and method to apply a printing image on a printing machine cylinder in accordance with electronically furnished image information |
| DE68916530T2 (de) * | 1989-02-24 | 1994-11-24 | Agfa Gevaert Nv | Verfahren zur Herstellung eines wärmeempfindlichen Registriermaterials. |
| US5156938A (en) * | 1989-03-30 | 1992-10-20 | Graphics Technology International, Inc. | Ablation-transfer imaging/recording |
| US5171650A (en) * | 1990-10-04 | 1992-12-15 | Graphics Technology International, Inc. | Ablation-transfer imaging/recording |
| JPH0358047A (ja) * | 1989-07-27 | 1991-03-13 | Canon Inc | 画像形成装置 |
| JPH0494937A (ja) * | 1990-08-13 | 1992-03-27 | Konica Corp | 熱転写による印刷版の形成方法 |
| US5260166A (en) * | 1992-03-04 | 1993-11-09 | Graphic Controls Corporation | Seamless, trilaminate, photopolymer cylindrical printing plate and method of manufacture |
| US5378580A (en) * | 1992-06-05 | 1995-01-03 | Agfa-Gevaert, N.V. | Heat mode recording material and method for producing driographic printing plates |
| EP0685333A2 (en) * | 1992-06-05 | 1995-12-06 | Agfa-Gevaert N.V. | A heat mode recording material and method for producing driographic printing plates |
| GB9214304D0 (en) * | 1992-07-06 | 1992-08-19 | Du Pont Uk | Improvements in or relating to image formation |
| US5339737B1 (en) * | 1992-07-20 | 1997-06-10 | Presstek Inc | Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus |
| EP0590205B1 (en) * | 1992-09-30 | 1995-12-13 | Agfa-Gevaert N.V. | A heat mode recording material for making images or driographic printing plates |
| US5429909A (en) * | 1994-08-01 | 1995-07-04 | Eastman Kodak Company | Overcoat layer for laser ablative imaging |
-
1994
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