JPH11513702A - ヒドロホルミル化法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 従って、溶媒および触媒系の存在下で一酸化炭素および水素と反応させることにより少なくとも４個の炭素原子を有するエチレン性不飽和化合物をヒドロホルミル化する方法であって、該触媒系が、ａ）VIII 族金属陽イオン源；ｂ）陰イオン源；およびｃ）ホスフィン配位子源を合わせることにより得られ、該溶媒が、２個以上のシアノ基が結合したＣ₁〜Ｃ₁₀アルカンまたはアルケンである方法を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】 ヒドロホルミル化法 本発明は、触媒および溶媒の存在下で一酸化炭素および水素と反応させることに よるエチレン性不飽和化合物のヒドロホルミル化法に関する。 オキソ−アルデヒドおよび／またはオキソ−アルコール（以降、オキソ物質と 言う。）を形成するためのエチレン性不飽和化合物のヒドロホルミル化は、工業 的にかなり重要である。その方法は、数十年間、工業的に運転されており、反応 条件、触媒系および装置を最適化するための多くの開発努力が長年にわたって行 われている。触媒系の分離および再使用に関してはかなり進歩しているが、いく つかの側面では、方法のさらなる改善がなおも必要であると感じられる。 国際出願 WO 95/05354には、触媒系の金属成分の大部分が、反応混合物および 強い極性基含有非プロトン性溶媒を含む単相液体反応媒体を冷却すると回収され る方法を開示している。すなわち、触媒系の金属成分の大部分が存在する一つの 相およびオキソ物質の大部分を含むさらに少なくとも一つの相を含む多 相液体反応媒体が形成される。 WO 95/05354 における好ましい溶媒は、スルホランである。スルホランは、室 温付近への冷却が多相液体反応媒体の形成に十分である場合は、高級（Ｃ₁₁₊） オキソ−アルコールの製造に特に適する。残念なことに、低級オキソ物質を製造 する場合は、相分離を引き起こすために、より激しい冷却またはより多くの溶媒 が必要である。このことは、その方法の経済性に悪影響を及ぼすと理解される。 さらに、生成物相に残っている痕跡量のスルホランは、硫黄化合物の含量に関す る規定の規準を満たすオキソ物質を提供するために、別の工程で除去する必要が ある。従って、同様の方法で行い、上記したプロセスで製造されるオキソ物質の 範囲に適するように随意に選択できるスルホランの代替物を見いだすのが望まし い。しかし、それは、該代替物が（ｉ）全ての運転条件において流体であり、（ ii）触媒的に不活性または促進性であり、(iii)反応および分離条件下で触媒を 溶解することができ、（iv）反応条件で単一相を提供し、分離条件で低級オキソ 物質（例えば、Ｃ₇〜Ｃ₁₁の範囲）および／または高級オキソ物質（例えば、Ｃ_{1 1} 〜Ｃ₁₈の範囲）の相分離が可能であり、そして（ｖ）熱および化学的に安定で なくてはならないので、容易な仕事ではない。 驚くべきことに、本発明者らは、過剰に冷却したり、多量に使用することなく 、相分離を可能とし、これらの条件を満たす化合物群を見いだした。従って、溶 媒および触媒系の存在下で一酸化炭素および水素と反応させることにより少なく とも４個の炭素原子を有するエチレン性不飽和化合物をヒドロホルミル化する方 法であって、該触媒系が、 ａ）VIII族金属陽イオン源； ｂ）陰イオン源；および ｃ）ホスフィン配位子源 を合わせることにより得られ、該溶媒が、２個以上のシアノ基が結合したＣ₁〜 Ｃ₁₀アルカンまたはアルケンである方法を提供する。 好ましくは、溶媒が、２個以上のシアノ基が結合したＣ₁〜Ｃ₆アルカンまたは アルケンである。例えば、適する溶媒としては、ジシアノメタン（マロノニトリ ル）、１，２−ジシアノエタン（スクシノニトリル）、１，４−ジシアノブタン （アジポニトリル）、１，４−ジシアノ−２−ブテン（ジヒドロムコニトリル） 、１，５−ジシアノペンタン（ピメロニトリル）、 １，６−ジシアノヘキサン（スベロニトリル）、１，６−ジシアノシクロヘキサ ンおよび１，２，４−トリシアノブタンなど、ならびにスルホランを含む、また は含まないそれらの混合物が挙げられる。 高級オキソ物質を製造する場合は、アジポニトリルなどの炭素原子範囲がより 高い溶媒を使用するのが好ましい。炭素原子範囲が低いマロノニトリルなどの溶 媒は、低級オキソ物質を製造する場合に好ましい。 本発明のヒドロホルミル化方法は、十分な活性の溶解した触媒系を使用して均 一な反応媒体中で行うことができ、それにもかかわらず、その触媒は、かなりの 損失や分解を生じることなく容易に回収でき、所望ならば再使用できる。 従って、本発明は、前記した触媒系の存在下、単相液体反応媒体において一酸 化炭素および水素と反応させることにより少なくとも４個の炭素原子を有するエ チレン性不飽和化合物をヒドロホルミル化し、次いで、好ましくは単相液体反応 媒体を冷却することにより、触媒系の VIII 族金属陽イオンの大部分が存在が存 在する一つの相およびヒドロホルミル化した物質の大部分を含むさらに少なくと も一つの相を含む多相液体反応媒体 の形成を行う方法において、溶媒として、２個以上のシアノ基が結合したＣ₁〜 Ｃ₁₀アルカンまたはアルケンを使用する方法に関する。 こうして、確実に触媒系の金属成分の大部分、すなわちその70％より多くが、 不活性溶媒を含む液体相に存在し、一方、オキソ物質の 80％より多くは別の相 であるオキソ物質相に存在し、その相から公知技術によって容易に回収すること ができる。 上記した溶媒のいずれかを使用し、十分選択されたオキソ物質と組み合わせる と、反応混合物の温度を室温付近に低下させた場合、多相液体媒体が容易に形成 できる。所望ならば、反応媒体は、より低い温度に冷却できるが、大規模運転の 場合、これは、低温冷却に必要な他の設備を鑑みると、特に有利であるとは考え られない。 溶媒の混合物も使用でき、例えば、上記した溶媒の一つとスルホランまたはプ ロトン性溶媒（アルコールなど）との混合物が挙げられる。後者の態様では、ア ルコールは、オキソ物質相に分離する。典型的には、アルコールは、ヒドロホル ミル化反応で得られるオキソ−アルコールと同一または類似したものが選択され る。操作の容易さのためには、好ましくは、２個以上 のシアノ基が結合したＣ₁〜Ｃ₁₀アルカンまたはアルケンである単一溶媒を使用 する。 本発明方法で使用できる溶媒の量は、かなり変化し得る。例えば、溶媒の量は 、３〜５０体積％である。好ましくは、多相液体反応媒体は、単相液体反応媒体 を０〜５０℃の範囲内、より好ましくは２５〜４５℃の範囲内の温度に冷却する ことにより形成される。しかし、多相液体反応媒体の形成に必要な冷却程度およ び溶媒の最適な量を各ケースで確立することは、当業者に自明の範囲内である。 特定の圧力要件または大気条件は使用しない。後に示す実験結果は、好ましく使 用できる溶媒の量も示す。 出発物質として使用されるエチレン性不飽和化合物は、好ましくは、１分子に つき４〜２４個の炭素原子を有するオレフィンまたはその混合物である。１分子 につき２または３個のみの炭素原子を有するエチレン性不飽和化合物では、触媒 系の金属成分が一つの相に存在し、オキソ物質の大部分が別の相に存在する多相 液体反応媒体の形成を、容易に行うことができない。 エチレン性不飽和化合物は、１分子につき１個以上の二重結合を含むことがで きる。好ましいのは、６〜１４個の炭素原子 を有する内部オレフィンまたはそれらの混合物である。そのようなオレフィン混 合物は、エチレンのオリゴマー化、続く二重結合の異性化および不均化反応工程 の生成物として市販され、容易に入手できる。典型的な例は、直鎖内部Ｃ₆〜Ｃ₈ オレフィンの混合物、直鎖内部Ｃ₁₁〜Ｃ₁₂オレフィンの混合物および直鎖内部Ｃ₁₃ 〜Ｃ₁₄オレフィンの混合物である。しかし、６〜１４個の炭素原子を有するα^- オレフィンも、例えばＰｔをベースとする触媒系の存在下で使用できる。 一酸化炭素および水素は、等モルまたは非等モル比、例えば５：１〜１：５の 範囲内、典型的には３：１〜１：３の範囲内の比で供給することができる。好ま しくは、２：１〜１：２の範囲の比で供給する。 本明細書では、VIII 族金属は、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｏｓ 、ＩｒおよびＰｔなどの記号によって識別する。好ましいのは、白金族の金属、 すなわち、Ｎｉ、ＰｄおよびＰｔである。これらのうち、パラジウムが最も好ま しい。適切な金属源の例は、金属および硝酸、硫酸、スルホン酸または１２個ま での炭素原子を有するカルボン酸の塩；例えば一酸化炭素またはアセチルアセト ナトとの金属複合体；あるいはイオ ン交換体または炭素などの固体物質と結合した金属などの化合物である。酢酸パ ラジウム（II）および白金（II）アセチルアセトナトは、好ましい金属源の例で ある。 成分（ｂ）としては、陰イオンを発生する化合物が使用できる。該化合物は、 酸またはその塩、例えば、VIII 族金属の塩にも関与する、上記した酸のいずれ かを含むことができる。陰イオンは、好ましくは、強酸、すなわち、１８℃の水 溶液で測定したｐＫａ値が３未満、好ましくは２未満である酸から誘導する。こ れらの酸から誘導される陰イオンは、VIII 族金属と配位しないか、弱く配位す る。酸が強いほど、陰イオンのVIII 族金属陽イオンによる配位は小さく、ヒド ロホルミル化物質の直鎖性は高い。 適切な陰イオンの典型的な例は、リン酸、硫酸、スルホン酸およびハロゲン化 カルボン酸（トリフルオロ酢酸など）の陰イオンである。また、ＢＦ₃、Ｂ（Ｃ₆ Ｆ₅）₃、ＡｌＣｌ₃、ＳｎＦ₂、Ｓｎ（ＣＦ₃ＳＯ₃）₂、ＳｎＣｌ₂またはＧｅＣｌ₂ などのルイス酸とスルホン酸（例えば、ＣＦ₃ＳＯ₃ＨまたはＣＨ₃ＳＯ₃Ｈ）ま たはハロゲン化水素酸（ＨＦまたはＨＣｌなど）のプロトン酸との組み合わせ、 あるいは、ルイス酸とアルコー ルとの組み合わせによって生じる陰イオンなどの複合陰イオンも適する。そのよ うな複合陰イオンの例は、ＢＦ₄ ^-、ＳｎＣｌ₃ ^-、[ＳｎＣ₂・ＣＦ₃ＳＯ₃]^-および ＰＦ₆ ^-である。好ましい陰イオン源は、トリフルオロメタンスルホン酸である。 ホスフィン配位子は、好ましくは、式： Ｒ¹Ｒ²Ｐ−Ｒ−ＰＲ³Ｒ⁴ （Ｉ） ［式中、Ｒは架橋中に１〜４個の原子を含む二価の有機架橋基を表し、Ｒ¹およ びＲ²は一緒になって、二価の置換または未置換の環式基を表し、それによって ２個の遊離原子価が一方のＰ原子に結合し、Ｒ³およびＲ⁴は独立して、置換また は未置換のヒドロカルビル基を表すか、一緒になって二価の置換または未置換の 環式基を表し、それによって２個の遊離原子価が他方のＰ原子に結合する。］の 二座配位子である。 Ｒによって表される有機架橋基では、典型的には、全ての架橋基が炭素原子で ある。好ましくは、架橋基が架橋中に２個の炭素原子を含み、例えば、エチレン 基である。 Ｒ¹がＲ²と一緒になって表す二価の（置換した）環式基は、一般に、少なくと も５個の環上原子を含み、好ましくは６〜９個の環上原子を含む。より好ましく は、環式基が８個の環上原 子を含む。置換基がある場合は、通常、１〜４個の炭素原子を有するアルキル基 である。原則として、全ての環土原子は炭素原子であるが、環上に１または２個 のヘテロ原子（酸素または窒素など）を含む二価の環式基は、除外されるもので はない。適する二価の環式基の例は、１，４−シクロヘキシレン、１，４−シク ロヘプチレン、１，３−シクロヘプチレン、１，２−シクロオクチレン、１，３ −シクロオクチレン、１，４−シクロオクチレン、１，５−シクロオクチレン、 ２−メチル−１，５−シクロオクチレン、２，６−ジメチル−１，４−シクロオ クチレンおよび２，６−ジメチル−１，５−シクロオクチレン基である。 好ましい二価の環式基は、１，４−シクロオクチレン、１，５−シクロオクチ レンおよびそれらのメチル（ジ）置換誘導体から選択される。 異なる二価の環式基を含む配位子の混合物も同様に使用でき、例えば、１，４ −シクロオクチレン基を有する配位子と１，５−シクロオクチレン基を有する配 位子との混合物が挙げられる。 式（Ｉ）のリガンドにおいて、Ｒ³およびＲ⁴は独立して、種々の非環式または 環式基を表し、所望により、１〜４個の炭素原 子を有するアルコキシ基、ハロゲン原子または（Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル）アミノ基な どの置換基を有する。 例としては、エチル、イソプロピル、ｓｅｃ−ブチルおよびｔ−ブチル基など のアルキル基；シクロペンチルおよびシクロヘキシル基などのシクロアルキル基 ；フェニルおよびトリル基などのアリール基；ならびにヘキサメチレン基などの 二価基が挙げられる。しかし、好ましくは、Ｒ³はＲ⁴と一緒になって、二価の環 式基、特にＲ¹がＲ²と一緒になって表す基と同じ基であり、その場合、二価の環 式基の２個の遊離原子価は、もちろん、Ｍ¹の代わりにＭ²に結合する。すなわち 、式（Ｉ）の好ましい二座配位子は、１，２−ビス（１，４−シクロオクチレン ホスフィノ）エタン、１，２−ビス（１，５−シクロオクチレンホスフィノ）エ タンおよびそれらの混合物、ならびにシクロオクチレンホスフィノ基の一つまた は各々に２個のメチル基が結合した相同体である。 二座配位子の製造に対しては、公知技術、例えば GB-A-1,127,965に開示され た方法が参照される。 触媒系の使用量は決定的ではなく、広い範囲で変えることができる。通常は、 エチレン性不飽和化合物１モルにつき 10^-8 〜10^-1、好ましくは10^-7〜10^-2モル原子の範囲のVIII族金属を使用する。触媒系 に関与する物質の量は、VIII 族金属１モル原子につき、0.5〜6、好ましくは 1 〜2モルの二座配位子を使用し、0.5〜15、好ましくは1〜8モルの陰イオン源また は複合イオン源（すなわち、成分ｂ）を使用するように選択するのが都合が良い 。 ヒドロホルミル化は、中程度の反応条件で適切に行うことができる。そのため 、温度は 50〜200℃の範囲がよく、好ましくは 70〜160℃の範囲である。反応圧 力は、1〜300 bar abs の範囲が適切であるが、5〜100 bar abs の範囲が好まし い。それより低い、または高い圧力を選択してもよいが、特に有利であるとは考 えられない。さらに、圧力がより高いと、特別の装置設備が必要である。 本発明の方法は、特に上記した、パラジウムをベースとする触媒系を使用する ことにより、内部オレフィンから高い割合でアルコールを製造するために使用す るのに大いに適する。 さらに、その方法は、特に上記した、VIII 族金属としての白金をベースとす る触媒系を使用することにより、高い直鎖性を有するアルデヒドの製造に非常に 有用である。 本発明を以下に記載する実施例によって説明するが、下記実施例は本発明を限 定するものではない。比較例ＡおよびＢならびに実施例１ これらの実験は、各々、スルホラン（比較例Ａ）、アセトニトリル（比較例Ｂ ）およびアジポニトリル（実施例１）を溶媒として使用することにより行った。 これらの実験は、 300ml の磁気攪拌オートクレーブ（Hastelloy 、商標）中、1 05℃および 50 bar abs（水素気体／一酸化炭素比：２：１ v/v）で行った。オ ートクレーブに、56 g の内部Ｃ₁₁〜Ｃ₁₂オレフィン（40 %のＣ₁₁、60％のＣ₁₂ 、SHELL 製）、49 g の２−エチルヘキサノール、0.8 gの水、1〜2 gのＣ₁₃パラ フィンおよび表に示した量の溶媒を充填した。触媒は、酢酸パラジウム（II）、 ジホスフィン（90％の異性体純度の１，２−ビス（１，５−シクロオクチレンホ スフィノ）エタン）、トリフルオロメタンスルホン酸および塩化亜鉛を 1:1.4: (1.9-2.6):1.5の モル比で混ぜることにより得た。反応器中のＰｄ濃度は、総含 量に対して0.04重量％であった。 反応の後、ＧＣを行った。典型的には、実際上完全な変換(99％より多い)にお いて、約 98％の総アルコール収率が確認され た。副生成物はパラフィンならびに、不完全変換では、アルデヒドおよびアセタ ール型の重末端である。直鎖性（ｎおよび分岐に対するｎの割合（％））もＧＣ によって測定した。動力学分析により、擬一次速度定数が得られた。 ４時間の反応時間中は水素や一酸化炭素をさらに添加することなく、その反応 時間を経過した後、単相反応混合物を室温に冷却した。スルホランおよびアジポ ニトリルを使用した場合は、２つの液層が形成された。パラジウムは、溶媒層に おいて目視検出された。 上記以外の詳細および分析結果は、この後の表にまとめる。 さらに別の比較例では、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ ド、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イ ミダゾリジノン、モノエチレングリコール、ジエチレングリコール、ジエチレン グリコールのモノメチルエーテル、トリエチレングリコール、１，２−プロピレ ングリコール、１，４−ブタンジオール、モノエタノールアミン、トリエタノー ルアミン、アニソールおよびトリブチルホスフィンオキシドならびにグリセロー ルを使用した。これらの溶媒は、WO 95/05354 の開示に従って使用できるが、ほ とんどの場合、25℃では、20％w の溶媒と 80％w のＣ₁₂〜Ｃ₁₃オキソ物質との 混合物に対して相分離が認められなかったので、過剰な冷却または多量の溶媒の いずれかが必要である。モノエチルグリコールおよびグリセロールを使用した場 合のみ、相分離が認められた。しかし、これらの場合、触媒性能は極めて低かっ た。これらの結果から、本発明でクレームした群の溶媒は、スルホランに対する 好ましい代替物を構成する。 ＊アセトニトリルの濃度を 20％w に増加させると、25℃での相分離はない。

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項 【提出日】１９９７年７月３０日 【補正内容】 相分離を引き起こすために、より激しい冷却またはより多くの溶媒が必要である 。このことは、その方法の経済性に悪影響を及ぼすと理解される。さらに、生成 物相に残っている痕跡量のスルホランは、硫黄化合物の含量に関する規定の規準 を満たすオキソ物質を提供するために、別の工程で除去する必要がある。従って 、同様の方法で行い、上記したプロセスで製造されるオキソ物質の範囲に適する ように随意に選択できるスルホランの代替物を見いだすのが望ましい。しかし、 それは、該代替物が（ｉ）全ての運転条件において流体であり、（ii）触媒的に 不活性または促進性であり、(iii)反応および分離条件下で触媒を溶解すること ができ、（iv）反応条件で単一相を提供し、分離条件で低級オキソ物質（例えば 、Ｃ₇〜Ｃ₁₁の範囲）および／または高級オキソ物質（例えば、Ｃ₁₁〜Ｃ₁₈の範 囲）の相分離が可能であり、そして（ｖ）熱および化学的に安定でなくてはなら ないので、容易な仕事ではない。 GB-A 2256641 には、ＰｄまたはＰｔ、配位の弱い、または配位していない陰 イオン、および二座のリン、ヒ素またはアンチモン配位子からなる触媒系の存在 下、少なくとも５個の炭素原子を有するαアルケンをヒドロホルミル化すること によりア ルデヒドを製造する方法において、二座配位子の限定された選択を特徴とする方 法が開示されている。所望により、その方法は、溶媒の存在下で行うことができ 、該溶媒は、ベンゾニトリルまたはアセトニトリルなどのニトリルであってもよ い。溶媒に帰因する特別の効果はない。 US-A 3,627,843 には、ホスフィンと錯体化したコバルト−カルボニルの存在 下、アルカン酸のＮ，Ｎ−ジアルキル−アミド、テトラアルキル−尿素およびア ルキルニトリル（アセトニトリルおよびアジポニトリルなど）から成る群から選 択される反応媒体中でプロペンをヒドロホルミル化することによって酪酸アルデ ヒドを製造する方法が開示されている。ジメチルホルムアミドが好ましい反応媒 体である。反応媒体に帰因する特別の効果は、分岐アルデヒドおよびアルコール を犠牲にして、ヒドロホルミル化反応の生成物ｎ−酪酸アルデヒドへの選択性を 促進することである。アセトニトリルもアジポニトリルも、この反応では試験さ れていなかった。 驚くべきことに、本発明者らは、過剰に冷却したり、多量に使用することなく 、相分離を可能とし、これらの条件を満たす化合物群を見いだした。従って、溶 媒および触媒系の存在下で 一酸化炭素および水素と反応させることにより少なくとも４個の炭素原子を有す るエチレン性不飽和化合物をヒドロホルミル化する方法であって、該触媒系が、 ａ）VIII族金属陽イオン源； ｂ）陰イオン源；および ｃ）ホスフィン配位子源 を合わせることにより得られ、該溶媒が、２個以上のシアノ基が結合したＣ₁〜 Ｃ₁₀アルカンまたはアルケンである方法を提供する。 ^*アセトニトリルの濃度を20％w に増加させると、25℃での相分離はない。 １８℃の水溶液で測定したｐＫａ値が３未満、好ましくは２未満である酸から誘 導される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。 ６．触媒系の成分（ｂ）が、リン酸、硫酸、スルホン酸、ハロゲン化カルボン酸 の陰イオンから誘導されるか、複合陰イオンである、請求項５に記載の方法。 ７．触媒系の成分（ｃ）が式： Ｒ¹Ｒ²Ｐ−Ｒ−ＰＲ³Ｒ⁴ （Ｉ） ［式中、Ｒは架橋中に１〜４個の原子を含む二価の有機架橋基を表し、Ｒ¹およ びＲ²は一緒になって、二価の置換または未置換の環式基を表し、それによって ２個の遊離原子価が一のＰ原子に結合し、Ｒ³およびＲ⁴は独立して、置換または 未置換のヒドロカルビル基を表すか、一緒になって二価の置換または未置換の環 式基を表し、それによって２個の遊離原子価が他方のＰ原子に結合する。］の二 座配位子をベースとする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。 ８．触媒系の成分（ｃ）が、１，２−ビス（１，４−シクロオクチレンホスフィ ノ）エタン、１，２−ビス（１，５−シクロ オクチレンホスフィノ）エタンおよびそれらの混合物をベースとする、請求項７ に記載の方法。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｃ 49/17 Ｃ０７Ｃ 49/17 Ａ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，Ｓ Ｚ，ＵＧ)，ＵＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ， ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，Ｇ Ｅ，ＨＵ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ， ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，Ｐ Ｌ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ (72)発明者 イーピン，アーノルダス・マリア オランダ国、エヌ・エル−1031・セー・エ ム・アムステルダム、バドハイスウエヒ・ ３

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．溶媒および触媒系の存在下で一酸化炭素および水素と反応させることにより 少なくとも４個の炭素原子を有するエチレン性不飽和化合物をヒドロホルミル化 する方法であって、該触媒系が、 ａ）VIII族陽イオン源； ｂ）陰イオン源；および ｃ）ホスフィン配位子源 を合わせることにより得られ、該溶媒が、２個以上のシアノ基が結合したＣ₁〜 Ｃ₁₀アルカンまたはアルケンであることを特徴とする方法。 ２．反応を単相液体媒体で行い、次いで、単相液体媒体を冷却することにより、 触媒系の金属成分の大部分が存在する一つの相およびヒドロホルミル化生成物の 大部分を含むさらに少なくとも一つの相を含む多相液体反応媒体の形成を行う、 請求項１に記載の方法。 ３．溶媒が、ジシアノメタン（マロノニトリル）、１，２−ジシアノエタン（ス クシノニトリル）、１，４−ジシアノブタン （アジポニトリル）、１，４−ジシアノ−２−ブテン（ジヒドロムコニトリル） 、１，５−ジシアノペンタン（ピメロニトリル）、１，６−ジシアノヘキサン（ スベロニトリル）および１，２，４−トリシアノブタンから選択される、請求項 １または２に記載の方法。 ４．触媒系の成分（ａ）がパラジウムまたは白金化合物をベースとする、請求項 １〜３のいずれか一項に記載の方法。 ５．触媒系の成分（ｂ）が、１８℃の水溶液で測定したｐＫａ値が３未満、好ま しくは２未満である酸から誘導される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方 法。 ６．触媒系の成分（ｂ）が、リン酸、硫酸、スルホン酸、ハロゲン化カルボン酸 の陰イオンから誘導されるか、複合陰イオンである、請求項５に記載の方法。 ７．触媒系の成分（ｂ）が式： Ｒ¹Ｒ²Ｐ−Ｒ−ＰＲ³Ｒ⁴ （Ｉ） ［式中、Ｒは架橋中に１〜４個の原子を含む二価の有機架橋基を表し、Ｒ¹およ びＲ²は一緒になって、二価の置換または未置換の環式基を表し、それによって ２個の遊離原子価が一のＰ原子に結合し、Ｒ³およびＲ⁴は独立して、置換または 未置換のヒ ドロカルビル基を表すか、一緒になって二価の置換または未置換の環式基を表し 、それによって２個の遊離原子価が他方のＰ原子に結合する。］の二座配位子を ベースとする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。 ８．触媒系の成分（ｂ）が、１，２−ビス（１，４−シクロオクチレンホスフィ ノ）エタン、１，２−ビス（１，５−シクロオクチレンホスフィノ）エタンおよ びそれらの混合物をベースとする、請求項７に記載の方法。