JPH11511154A - ブチロラクトンの製法 - Google Patents

ブチロラクトンの製法

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JPH11511154A JP9508902A JP50890297A JPH11511154A JP H11511154 A JPH11511154 A JP H11511154A JP 9508902 A JP9508902 A JP 9508902A JP 50890297 A JP50890297 A JP 50890297A JP H11511154 A JPH11511154 A JP H11511154A
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リュール トーマス
ヘンケルマン ヨッヘム
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リュッター ハインツ
シェーファー マーティン
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Abstract

(57)【要約】 一般式I[式中、置換基R1及びR2は水素、アルキル基、ヒドロキシアルキル基、場合により不活性な置換基を有するアリール基及びトリアルキルシリル基である]のブチロラクトンの製法において、一般式II[式中、置換基は前記の意味を有する]のアルキンを遷移金属触媒の存在下に一酸化炭素CO及び水素と、又は一酸化炭素及び水と高められた圧力及び高められた温度の下に還元条件下に反応させることを特徴とする、ブチロラクトンの製法。

Description

【発明の詳細な説明】 ブチロラクトンの製法 本発明は、アセチレンを一酸化炭素及び水素ガス又はその場で生じる水素と遷 移金属触媒の存在下に反応させ、相応する2−(5H)フラノンの段階を経てブ チロラクトンを製造する方法並びに別の水素化工程でブチロラクトンに変化させ ることもできるこのフラノンの改善製法に関する。 γ−ブチロラクトンは化学工業において重要な生成物である。これはピロリド ン及びその誘導体を製造するための中間体並びに溶剤として使用される。 ブチロラクトンは工業的には種々異なる多段階方法で製造される。例えば、1 ,4−ブタンジオールの脱水素環化は高い収率でブチロラクトンをもたらす。他 には、無水マレイン酸を部分的にブチロラクトンに水素化することができる。γ −ブチロラクトンを製造するための両方の出発化合物は、基礎化学物質から多段 階工程でのみ入手することができる(Weissermel,Arpe,Industrielle Organisc he Chemie,2.Auflage 1978,Verlag Chemie,P 97)。 ロジウム触媒の存在下でのアルキン及びCOの反応が、薬剤製造のための中間 体として使用される不飽和2(5H)−フラノンの製造のために記載されている ( Joh et al.,Inorg.Chim.Acta,220(1994)45; Organometallics 10(1991)2493 ; 特開昭(JP−A)第63−68580号公報)。 さて、アルキン及びCOのような簡単な基礎化学物質から1工程又は最高で2 工程でブチロラクトンをもたらす方法を提供する課題があった。さらに、精密化 学で中間体として重要な3−位もしくは4−位で置換されたブチロラクトンを提 供する課題があった。 最後に、第2の工程で水素化によりブチロラクトンをそれから製造することが できる2(5H)−フラノンの製法を工業的製造が可能な程度に改善する課題が あった。 これらの課題は本発明により、一般式I: [式中、置換基R1及びR2は水素、有利に1〜8個の炭素原子を有するアルキル 基、ヒドロキシアルキル基又は場合により不活性な置換基を有するアリール基及 びトリアルキルシリル基である]のブチロラクトンを、一般式II: R1−C≡C−R2 II [式中、置換基は前記の意味を有する]のアルキンを一酸化炭素及び水素ガス又 はその場で生じる水素と、遷移金属触媒の存在下に高められた圧力及び高められ た温度の下に反応させることにより製造する方法で解決された。 その場で生じる水素はその際有利に、CO及び水により、水素ガス平衡: る。 この場合、1工程でブチロラクトンを製造することができること、すなわち中 間体として生じる2(5H)−フラノンを反応条件下にさらに反応させてブチロ ラクトンにすることができることは意外であった。 場合により、一般式III: [式中、置換基R1及びR2は水素、アルキル、ヒドロキシアルキル基、場合によ り不活性な置換基を有するアリール基又はトリアルキルシリル基である]の2− (5H)−フラノンの自体公知の製造も、一般式II: R1−C≡C−R2 II [式中、R1及びR2は前記の意味を有する]のアルキンを一酸化炭素及び一酸化 炭素及び水からその場で生ずる水素と、又は水素ガスと遷移金属触媒、アミン塩 基及びハロゲン化物の存在下に温度60〜140℃及び全圧20〜350バール で反応させることにより改 善することもできる。 Tkashi Joh et al.(Organometallics 1991,10,P2494 左欄)が最初の段落で 「水の代わりに水素源として水素ガスを使用すると、ヒドロキシメチル化された 生成物4及びスチルベン5が生じ、フラノンは得られなかった」と記載している にも関わらず、さらに意外にも反応を水素分圧50バール以上で実施すると、前 記の式Iのフラノンが、ハロゲン化物添加の必要性なしに得られることが判明し た。 このように明らかに高い空時収率で得られる2(5H)−フラノンを第2の工 程で別に水素化して、相応するブチロラクトンにすることができる。その際、水 素化は自体公知の方法で連続的に、又はバッチ法で自体公知の水素化触媒を用い て、例えば、炭素−二重結合の水素化のためにHouben-Weyl,Band4/2,中に挙げ られている触媒を用いて実施することができる。VIIIの金属、殊にRh、N i又はPd又はこれらの金属の混合物を活性成分として含有するような触媒が有 利である。 式IIアルキンは、同じ又は異なる置換基を有してよい。置換基R1及びR2が 相互に異なる場合には、反応生成物中でそれらはそれぞれ3−もしくは4−位で 導入されうる。この場合には、イソマー混合物も予期される。この理由から、式 I中で、置換基は選択的に3−もしくは4−位と記載されている。従って、式 は、3−位に置換基R1を有する化合物でも、4−位に有する化合物でもある。 アルキンIIはアルキル基を、有利に例えばプロピン、1−ブチン、2−ブチ ン、1−ヘキシン及び1−オクチンでC1〜C8−アルキル基を有してよい。さら に、ヒドロキシアルキル基を、有利にヒドロキシ−C1〜C4−アルキル基を、例 えば1−ブチン−3−オール、1,4−ブチンジオール及びプロパルギルアルコ ールで有してよい。アリール基−含有アルキンのうちで、フェニルアルキン、例 えばフェニルアセチレン及びジフェニルアセチレンが有利である。アリール基は 、反応条件下に安定な置換基、例えばハロゲン、殊に塩素、アルコキシ、殊にメ トキシ及びアルキル、殊にC1〜C4−アルキルを有してよい。さらに、トリアル キルシリル基を有するアルキン、例えばトリメチルシリルアセチレンがこれに該 当する。 置換基R1及びR2の少なくとも1つが水素であるアルキンが有利である。アセ チレンが殊に有利である。 ブチロラクトンへのアルキンの反応は、2つの技術的変法で実施することがで きる。一方の実施形は、水素ガスの存在を必要とし、かつ有利である(方法A) : 他方の実施形は、水の存在を必要とする(方法B): 種々の全ての式で、方法Aでは少なくとも2当量、方法Bでは少なくとも4当 量のCOをアルキン1当量あたり使用することが推奨される。COは過剰に使用 することもできるが、その際通常、アルキンに対して50倍以上のCO過剰は使 用すべきではない。それというのも、さらに上回る過剰は、顕著な技術的利点を もたらさないためである。 方法A及びBを組み合わせることもできる。 方法Aでは、アルキン1当量あたり2〜50当量の水素H2を使用するのが有 利である。特に有利な実施形では、水素をCOと一緒に合成ガスの形で使用する 。 方法Bでは、式IIのアルキンをCO及び水と反応させる。アルキン1当量あ たり水2〜50当量を使用するのが有利である。 式Iのブチロラクトンの本発明の製造を、遷移金属触媒の存在下に行う。原則 的には、水素ガス平衡を次の式に従って調整しうる全ての触媒を使用することが できる(water-gas shift catalysts; s.Parshall et al.,Homogeneous Cataly sis,Wiley,2.Auflage 1992,Kapitel 5.7): CO+H2O ⇔ CO2+H2 従って、概念「その場で生じる水素」とは、水素ガス平衡が生じ、かつそこか ら水素が提供されるという意味である。 均一系触媒も不均一系触媒も使用することができる。活性金属化合物としては 、ロジウム、イリジウム、ルテニウム、オスミウム、パラジウム、白金、鉄、ニ ッケル、銅及びコバルトの化合物並びに金属自体がこれに該当する。 不均一系触媒としては、不活性担体、例えば炭、酸化アルミニウム、二酸化珪 素及び二酸化ジルコニウム上の前記の金属もしくはその化合物を使用することが できる。このような触媒は、市場で入手することができるか、又は公知の方法で 、例えば不活性担体に金属化合物の溶液を含浸させ、かつか焼することにより製 造することができる。 例えば、Pd/炭及びPd/酸化アルミニウムを挙げることができる。 反応は、気相で実施することができるが、液相反応が有利である。 均一系触媒が有利である。活性金属は、ハロゲン化物、酢酸塩、硝酸塩、酸化 物、アセチルアセトネート及び有利には種々の価数のカルボニルの形で、使用す ることができ、その際、活性化合物が、反応混合物中で反応条件下に生じる。 ルテニウム及びニッケル化合物が本発明の方法で有利であるが、ロジウム化合 物が特に有利である。特開平(JP−A)第3−94238号公報では、中間体 として要求されるフラノンの製造のために、ルテニウム触媒が、ロジウム触媒よ りも良好な結果をもたらすとしているので、ロジウム化合物は意外である。 次に、本発明の触媒又は反応条件下に触媒活性な化合物がそれから生じる触媒 の前駆体に該当するいくつかの遷移金属化合物を例として挙げる: Rh6(CO)16、Rh4(CO)12、Rh23、RhCl3・3H2O、RhC l(PPh33(Phはフェニル)、(codRhCl)2(codは1,5− シクロオクタジエン、HRh(CO)(PPh33; RuCl3、Ru(acac)3(acacは、アセチルアセトネート)、Ru3 (CO)12、[CpRu(CO)22(Cpはシクロペンタジエニル); NiCl2、NiBr2、Ni(CO)4、Ni(cod)2、[Ni(NH36 ]Cl2; PtCl2、PtBr2、PtCl4、PtO2、[Pt(NH34]Cl2・H2 O; Pd(ac)2(acはアセチル)、PdCl2、PdBr2、K2[PdCl4 ]、K2[PdCl6]、Pd(PPh34; CuCl2、CuBr2、Cu(acac)2、Cu(ac)2、CuO、CU2 O、CuI。 使用される触媒の量は通常、アルキン1モル当たり0.01〜10ミリモルで ある。 添加量により、遷移金属触媒の活性をかなり高めることができる。この化合物 には、アミンが該当する。このために、1級、2級及び3級アルキルアミン及び シクロアルキルアミン、さらに窒素含有複素環、例えばメチルアミン、エチルア ミン、アニリン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリ オクチルアミン、ピリジン、キノリン、イソキノリン及びジメチルアミノピリジ ンがこれに該当する。さらに、アンモニウム塩、例えばトリエチルアンモニウム ヒドロクロリド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウ ムアセテート、テトラブチルアンモニウムニトレート及びテトラブチルアンモニ ウムヒドロキシドは、積極的な効果を示す。 触媒の活性及びそれによる空時収率は、ハロゲン化物の添加によりかなり高め ることができる。個々には、アルカリ金属ハロゲン化物及びアルカリ土類金属ハ ロゲン化物、例えばNaCl、NaBr、NaJ、KCl、KBr、KJ、Ca Cl2、CaBr2及びCaJ2並びに有機カチオンを有するハロゲン化物、例え ばテトラメチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムブロミド、テ トラメチルアンモニウムヨージド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラ ブチルアンモニウムブロミド及びテトラブチルアンモニ ウムヨージドを使用することができる。有利なハロゲン化物はヨウ化物である。 オレフィン系不飽和有機化合物用の重合抑制剤、例えばヒドロキノンモノメチ ルエーテル、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール及びフェノチアジ ンも、添加物に該当する。 使用される添加物の量は広い範囲で変動可能であり、かつ触媒1モル当たり添 加物0.1〜10000モルであってよい。触媒1モルあたり0.5〜5モルを 使用するのが有利である。反応で1種以上の添加物を使用することができる。 反応温度は通常、0〜300℃、有利に20〜200℃、かつ殊に有利には5 0〜150℃である。圧力は通常20〜300バールである。方法Aは圧力17 0〜280バール、方法Bは圧力70〜280バールが有利である。反応時間は 、通常0.1〜24時間、有利には0.5〜5時間である。 最適な反応条件は、選択された触媒及び使用される触媒量により変動させるこ とができる。大量の相応する2(5H)−フラノンが所望の式Iのブチロラクト ンの代わりに生じる場合には、殊に温度上昇により達成しうる厳しい反応条件が 有利であると判明している。当業者であれば、好適な条件を予備試験を数回行っ て判定することができる。 一般に、通常フラノン及びブチロラクトンからなる 混合物が生じ、その際、穏やかな反応条件ではフラノンが優勢に、かつ強水素化 作用性触媒を用いての厳しい条件ではブチロラクトンが優勢に生じる。従って、 フラノン及びブチロラクトン生成の厳密な境界はない。例えばハロゲン化物を併 用する場合には、方法Aで既に約80〜100℃の穏やかな温度で、ブチロラク トンが高い空時収率で優勢に生ずる。 主にブチロラクトンを有する混合物のみを製造することが重要であり得る。こ の混合物は、直接水素化に供給することができるか、又はその個々の成分、ブチ ロラクトンとフラノンとに分離することもできる。フラノンは、反応に戻し導入 するか、又は別に水素化することができる。 反応は気相で、かつ有利には液相で実施することができる。液相では、反応条 件下に不活性な有機溶剤、例えばアルカノール、例えばメタノール、エタノール 及びイソプロパノール、エーテル、例えばジエチルエーテル、メチル−t−ブチ ルエーテル、テトラヒドロフラン及び1,4−ジオキサン、ケトン、例えばアセ トン、エステル、例えば酢酸メチルエステル及び酢酸エチルエステル、さらに芳 香族炭化水素、例えばベンゼン及びトルエン、脂肪族炭化水素、例えばペンタン 及びヘキサン並びに極性非プロトン性溶剤、例えばN−メチルピロリドンを添加 することができる。量は反応バッチに対して溶剤5〜95重量%であってよい。 本発明の方法は、気密反応器、例えば攪拌反応器、チューブ型反応器又はルー プ型反応器中で連続的に、又は断続的に実施することができる。 断続的な方法では、式IIのアルキン、触媒並びに場合により溶剤及び添加物 を予め反応器中に装入することができる。アセチレンを用いての反応の際には、 相応するアセチレン圧に調節する。方法Bではさらに、必要量の水を反応バッチ に添加することができる。さらに、COで反応圧を調節することができる。引き 続き方法Aでは、はじめから合成ガスを使用しない場合には、水素を所望の圧力 まで供給する。反応が終了した後に放圧し、その際、遊離のガスは次の反応に使 用することができる。反応取り出し物の後処理を公知の方法、有利には蒸留によ り行う。溶剤、触媒及び添加物もその後処理の後に同様に、さらなる反応で再使 用することができる。 有利な連続実施形では、反応の際にアセチレンを飽和槽中で溶剤中に溶かして よい。触媒、場合により水並びに添加物も同様に溶かす。この溶液を反応圧力ま で圧力をかけ、かつ反応器中にポンプ導入する。CO、さらにアセチレン及び場 合による水素をガスノズルを介して反応器中に供給する。反応取り出し物を放圧 し、液相を蒸留により後処理し、かつ触媒を反応循環に戻し導入する。気相も、 場合により精製工程の後に反応器に戻し導入することができる。 例 例1(方法A) ジオキサン135ml中にRh6(CO)1630mg(0.028ミリモル) 及びトリエチルアミン0.66g(6.6ミリモル)を予め装入した。アセチレ ン39.1ミリモルを注入すると、圧力は3.4バールになった。ついで、一酸 化炭素で圧力を100バールに、水素で200バールに上昇させた。バッチを1 20℃で5時間攪拌した。反応器の放圧及び蒸留による後処理の後に、ブチロラ クトンを82%の収率で単離した。 例2(方法A) 反応を例1と同様に実施したが、温度は80℃であった。ブチロラクトンの収 率は67%であった。 例3(方法A) ジオキサン65ml中にRh6(CO)1630mg(0.028ミリモル)、 トリエチルアミン0.66g(6.6ミリモル)、ヒドロキノンモノメチルエー テル40mg(0.32ミリモル)及びNaI12.5mg(0.08ミリモル )を予め装入した。アセチレン39.1ミリモルを注入すると、圧力は3.4バ ールになった。ついで、一酸化炭素で圧力を100バールに、水素で200バー ルに上昇させた。バッチを100℃で1.5時間攪拌した。反応器の放圧及び蒸 留による後処理の後に、ブチロラクトンを84%の収率 で単離した。 例4(方法B) ジオキサン65ml中にRh6(CO)1630mg(0.028ミリモル)、 トリエチルアミン0.66g(6.6ミリモル)、水4.48g、ヒドロキノン モノメチルエーテル40mg(0.32ミリモル)及びNaI12.5mg(0 .08ミリモル)を予め装入した。アセチレン39.5ミリモルを注入すると、 圧力は3.5バールになった。ついで、一酸化炭素で圧力を200バールに上昇 させた。バッチを150℃で1.5時間攪拌した。反応器の放圧及び蒸留による 後処理の後に、ブチロラクトンを71%の収率で単離した。 例5(方法B) ジオキサン65ml中にRh6(CO)1630mg(0.028ミリモル)、 トリエチルアミン0.66g(6.6ミリモル)、水4.48g(249ミリモ ル)、ヒドロキノンモノメチルエーテル40mg(0.36ミリモル)及びNa I12.5mg(0.08ミリモル)を予め装入した。アセチレン56.6ミリ モルを注入すると、圧力は5.9バールになった。ついで、一酸化炭素で圧力を 100バールに上昇させた。バッチを80℃で2時間攪拌した。反応器の放圧及 び蒸留による後処理の後に、2−(5H)−フラノンを84%の収率で単離した 。 例6(方法B) ジオキサン65ml中にRh6(CO)1630mg(0.028ミリモル)、 トリエチルアミン0.66g(6.6ミリモル)、水4.48g(249ミリモ ル)、2,4,6−トリメチルピリジン21mg(0.169ミリモル)及びN aI12.5mg(0.08ミリモル)を予め装入した。アセチレン57ミリモ ルを注入すると、圧力は6.0バールになった。ついで、一酸化炭素で圧力を1 00バールに上昇させた。バッチを80℃で2時間攪拌した。反応器の放圧及び 蒸留による後処理の後に、2−(5H)−フラノンを86%の収率で単離した。 例7(方法A) ジオキサン65ml中にRh6(CO)1630mg(0.028ミリモル)、 トリエチルアミン0.66g(6.6ミリモル)及びNaI12.5mg(0. 08ミリモル)を予め装入した。アセチレン57ミリモルを注入すると、圧力は 5.8バールになった。ついで、一酸化炭素で圧力を80バールに、水素で20 0バールに上昇させた。バッチを100℃で1時間攪拌した。反応器の放圧及び 蒸留による後処理の後に、2−(5H)−フラノンを67%の収率で単離した。 例8(2−(5H)−フラノンの水素化) ガス攪拌基及びガスビュレットを備えた250ml攪拌フラスコ中に、本発明 の方法により製造され、か つ触媒を除去された2(5H)−フラノン5.0gをジオキサン100ml及び 水素化触媒0.5g(炭素上Pd5重量%)と一緒に予め装入した。 溶液に室温及び常圧で水素をガス導入した。30分後、水素吸収が終了した。 触媒及び溶剤の除去の後に、γ−ブチロラクトンを収率96%で単離した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),CN,JP,KR,U S (72)発明者 ヨッヘム ヘンケルマン ドイツ連邦共和国 D−68165 マンハイ ム バッサーマンシュトラーセ 25 (72)発明者 ズザンネ シュトゥッツ ドイツ連邦共和国 D−69469 ヴァイン ハイム アム メンヒガルテン 20 (72)発明者 トーマス プライス ドイツ連邦共和国 D−67065 ルートヴ ィッヒスハーフェン ヴァルタリシュトラ ーセ 5 (72)発明者 ハインツ リュッター ドイツ連邦共和国 D−67126 ホッホド ルフ−アッセンハイム アム ビルトシュ トック 15 (72)発明者 マーティン シェーファー ドイツ連邦共和国 D−67063 ルートヴ ィッヒスハーフェン ルイトポルトシュト ラーセ 65 (72)発明者 アルトゥール ヘーン ドイツ連邦共和国 D−67281 キルヒハ イム オーベラー ヴァルトヴェーク 17

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.一般式I [式中、置換基R1及びR2は水素、アルキル基、ヒドロキシアルキル基、場合に より不活性な置換基を有するアリール基及びトリアルキルシリル基である]のブ チロラクトンの製法において、一般式II: R1−C≡C−R2 II [式中、置換基は前記の意味を有する]のアルキンを一酸化炭素及び水素ガス又 はその場で生じる水素と、遷移金属触媒の存在下に高められた圧力及び高められ た温度の下に反応させることを特徴とする、一般式Iのブチロラクトンの製法。 2.その場で生じる水素がCO及び水による水素ガス平衡により生じる、請求 項1に記載の方法。 3.反応をアミン又はアンモニウム塩の存在下に実施する、請求項1に記載の 方法。 4.ロジウム化合物又はルテニウム化合物を触媒として使用する、請求項1に 記載の方法。 5.ロジウムカルボニル化合物を遷移金属触媒として使用する、請求項1に記 載の方法。 6.アセチレンを式IIのアルキンとして使用する 、請求項1に記載の方法。 7.式IIのアルキン1当量当たり少なくとも2当量のCO及び2当量の水素 H2を反応圧力170〜280バールで使用する、請求項1に記載の方法。 8.一般式IIのアルキン1当量当たり少なくとも4当量のCO及び2当量の 水を反応圧力70〜280バールで使用する、請求項1に記載の方法。 9.反応をハロゲン化物の存在下に実施する、請求項1に記載の方法。 10.反応をヨウ化物の存在下に実施する、請求項1に記載の方法。 11.反応を重合抑制剤の存在下に実施する、請求項1に記載の方法。 12.一般式III: [式中、置換基R1及びR2は水素、アルキル、ヒドロキシアルキル基、場合に より不活性な置換基を有するアリール基又はトリアルキルシリル基である]の2 −(5H)−フラノンの製法において、一般式II: R1−C≡C−R2 II [式中、R1及びR2は前記の意味を有する]のアルキンを一酸化炭素及び一酸化 炭素及び水素ガスと、遷移金属触媒及びアミン塩基の存在下に温度60〜140 ℃及び水素分圧50バール以上で反応させることを特徴とする、一般式IIIの 2−(5H)−フラノンの製法。 13.請求項12に記載の方法で、まず一般式III: [式中、R1及びR2は請求項12に記載の意味を有する]の2−(5H)−フラ ノンを製造し、かつこれを別の水素化反応で相応するブチロラクトンに水素化す る、請求項1に記載の方法。 14.アセチレンから出発して、ブチロラクトンを製造する、請求項13に記載 の方法。
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