JPH11510145A - 置換されたアミノウラシル類 - Google Patents

置換されたアミノウラシル類

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JPH11510145A JP9507163A JP50716397A JPH11510145A JP H11510145 A JPH11510145 A JP H11510145A JP 9507163 A JP9507163 A JP 9507163A JP 50716397 A JP50716397 A JP 50716397A JP H11510145 A JPH11510145 A JP H11510145A
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Abstract

(57)【要約】 本発明はQ、R1、R2、R3、R4、R5、R6及びR7が本明細書に記載の意味を有する一般式(I)の新規な置換されたアミノウラシル類、その除草剤としての使用及び新規な中間体生成物に関する。

Description

【発明の詳細な説明】 置換されたアミノウラシル類 本発明は新規な置換されたアミノウラシル類、その製造方法、その除草剤とし ての使用及び新規な中間体に関する。 ある種の置換されたウラシル類が除草特性を有することは公知である[ヨーロ ッパ特許第408382号/米国特許第5084084号/同第5127935 号/同第5154755号、ヨーロッパ特許第563384号、同第64874 9号、WO 91/00278、米国特許第497998(不明)号、同第51 69430号参照]。しかしながら、これらの化合物は従来大きな重要性も獲得 していない。 従って、本発明は一般式(I) 式中、QはO、S、SOまたはSO2を表し、 R1は水素、シアノまたはハロゲンを表し、 R2はシアノまたはチオカルバモイルを表し、 R3は水素を表すか、或いはそれぞれ随時置換されていてもよいアルキル、 アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール 、アリールアルキル、複素環または複素環式アルキルを表し、 R4は水素、ハロゲンを表すか、或いはそれぞれ随時置換されていてもよい アルキルまたはアルコキシを表し、 R5は随時置換されていてもよいアルキルを表し、 R6は水素を表すか、或いはそれぞれ随時置換されていてもよいアルキル、 アルケニルまたはアルキニルを表し、そして R7は水素を表すか、或いはそれぞれ随時置換されていてもよいアルキル、 アルケニルまたはアルキニルを表す、 の新規な置換されたアミノウラシル類を提供する。 一般式(I)の新規な置換されたアミノウラシル類は、 (a)一般式(II) 式中、Q、R1、R2、R3、R4及びR5は各々上記のものである、 の置換されたウラシルを適当ならば反応補助剤の存在下及び適当ならば希釈剤の 存在下で親電子アミノ化剤と反応させるか、 (b)一般式(Ia) 式中、Q、R1、R3、R4、R5、R6及びR7は各々上記のものである、 のアミノウラシル類を適当ならば反応補助剤の存在下及び適当ならば希釈剤の存 在下で硫化水素と反応させるか、 (c)一般式(Ib) 式中、Q、R1、R2、R3、R4及びR5は各々上記のものである、 のアミノウラシル類を適当ならば反応補助剤の存在下及び適当ならば希釈剤の存 在下で式(IIIa)及び/または式(IIIb) X−R7(IIIa) X−R8(IIIb) 式中、R7及びR8は各々上記のものであり、そして Xはハロゲンまたは基−O−SO2−O−R7または−O−SO2−O−R8を 表す、 のアルキル化剤と反応させるか、或いは (d)一般式(IV) 式中、R1、R2、R4、R5、R6及びR7は上記のものであり、そして Xはハロゲンを表す、 のアミノウラシル類を適当ならば反応補助剤の存在下及び適当ならば希釈剤の存 在下で一般式(V) M−Q−R3 (V) 式中、Q及びR3は上記のものであり、そして Mは水素または金属等価物を表す、 の求核性化合物と反応させる場合に得られる。 一般式(I)の新規な置換されたアミノウラシル類は強い除草作用を有する。 定義において、飽和もしくは不飽和の炭化水素鎖例えばアルキル、アルケニル またはアルキニルは各々の場合に分裂鎖または分枝鎖状である。 本発明は好ましくは QがO、S、SOまたはSO2を表し、 R1が水素、シアノ、フッ素または塩素を表し、 R2がシアノまたはチオカルバモイルを表し、 R3が水素を表すか、各々随時シアノ、カルボキシ、フッ素、塩素、臭素、或 いはC1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−アルキル−カルボニル、C1〜C4−アル コキシカルボニルまたはN−(C1〜C4−アルキル)−N−フェニル−アミノカ ルボニル(各々随時フッ素及び/または塩素で置換されていてもよい)で置換さ れていてもよく、各々炭素原子10個までを有するアルキル、アルケニルまたは アルキニルを表すか、 R3が更に各々随時シアノ、カルボキシ、フッ素、塩素、臭素、C1〜C4−ア ルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−アルキル−カルボニル、C1〜C4− アルコキシ−カルボニルで置換されていてもよく、シクロアルキル部分に炭素原 子3〜8個及び随時アルキル部分に炭素原子4個までを有するシクロアルキルま たはシクロアルキルアルキルを表すか、 R3が更に各々随時シアノ、カルボキシ、ニトロ、カルバモイル、チオカルバ モイル、フッ素、塩素、臭素、或いはC1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキ シ、C1〜C4−アルキルチオ、C1〜C4−アルキルスルフィニル、C1〜C4−ア ルキルスルホニル、C1〜C4−アルキル−カルボニルまたはC1〜C4−アルコキ シ−カルボニル(各々随時フッ素及び/または塩素で置換されていてもよい)、 フェニル、フェノキシまたはフェニルチオ(各々随時フッ素、塩素、臭素、シア ノ、メチル、メトキシ、トリフルオロメチル及び/またはトリフルオロメトキシ で置換されていてもよい)で置換されていてもよく、アリール部分に炭素原子6 〜10個及び随時アルキル部分に炭素原子4個までを有するアリールまたはアリ ールアルキルを表すか、或いは R3が更に各々随時シアノ、カルボキシ、カルバモイル、チオカルバモイル、 フッ素、塩素、臭素、或いはC1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1 〜C4−アルキルチオ、C1〜C4−アルキルスルフィニル、C1〜C4−アルキル スルホニル、C1〜C4−アルキル−カルボニルまたはC1〜C4−アルコキシ−カ ルボニル(各々随時フッ素及び/または塩素で置換されていてもよい)、フェニ ル、フェノキシまたはフェニルチオ(各々随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、メ チル、メトキシ、トリフルオロメチル及び/またはトリフルオロメトキシで置換 されていてもよい)で置換されていてもよいフリル、テトラヒドロフリル、チエ ニル、テトラヒドロチエニル、オキセタニル、チエタニル、オキサゾリル、イソ キサゾリル、チアゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、ピラゾリル、ピ リジニル、ピリミジニル、トリアジニル、インドリル、キノリニルまたはキノキ サリニルを表し、 R4が水素、フッ素、塩素、臭素を表すか、或いは各々の場合に炭素原子1〜 4個を有し、それぞれ随時フッ素及び/または塩素で置換されていてもよいアル キルまたはアルコキシを表し、 R5が炭素原子1〜4個を有し、随時フッ素及び/または塩素で置換されてい てもよいアルキルを表し、 R6が水素を表すか、或いは各々の場合に炭素原子6個までを有し、それぞれ 随時フッ素、塩素またはC1〜C4−アルコキシで置換されていてもよいアルキル 、アルケニルまたはアルキニルを表し、そして R7が水素を表すか、或いは各々の場合に炭素原子6個までを有し、それぞれ 随時フッ素、塩素またはC1〜C4−アルコキシで置換されていてもよいアルキル 、アルケニルまたはアルキニルを表す式(I)の化合 物を与える。 本発明は殊に QがO、S、SOまたはSO2を表し、 R1が水素、フッ素または塩素を表し、 R2がシアノまたはチオカルバモイルを表し、 R3が水素を表すか、それぞれ随時シアノ、カルボキシ、フッ素、塩素、メト キシ、エトキシ、n−もしくはi−プロポキシ、アセチル、プロピオニル、メト キシカルボニル、エトキシカルボニル、n−もしくはi−プロポキシカルボニル で置換されていてもよいメチル、エチル、n−もしくはi−プロピル、n−、i −、s−もしくはt−ブチル、n−、i−、s−もしくはt−ペンチル、プロペ ニル、ブテニル、ペンテニル、プロピニル、ブチニルまたはペンチニルを表すか 、それぞれ随時シアノ、カルボキシ、フッ素、塩素、臭素、メチル、エチル、n −もしくはi−プロピル、メトキシ、エトキシ、n−もしくはi−プロポキシ、 アセチルまたはプロピオニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n− もしくはi−プロポキシカルボニルで置換されていてもよいシクロプロピル、シ クロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロプロピルメチル、シクロ ブチルメチル、シクロペンチルメチルまたはシクロヘキシルメチルを表すか、そ れぞれ随時シアノ、カルボキシ、ニトロ、カルバモイル、チオカルバモイル、フ ッ素、塩素、臭素、メチル、エチル、n−もしくはi−プロピル、n−、i−、 s−もしくはt−ブチル、トリフルオロメチル、メトキシ、エトキシ、n−もし くはi−プロポキシ、メチルチオ、エチルチオ、メチルスルフィニル、エチルス ルフィニル、メチルスルホニル、エチルスルホニル、アセチル、プロピオニル、 メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−もしくはi−プロポキシカルボ ニルで置換されていてもよいフェニル、ベンジルまたはフェニルエチルを表すか 、或いはそれぞれ随時シアノ、カルボキシ、カルバモイル、チオカルバモイル、 フッ素、塩素、臭素、メチル、エチル、n−もしくはi−プロピル、メトキシ、 エトキシ、n−もしくはi−プロポキシ、メチルチオ、エチルチオ、メチルスル フィニル、エチルスルフィニル、メチルスルホニル、エチルスルホニル、アセチ ル、プロピオニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−もしくはi −プロポキシカルボニル、フェニル、フェノキシまたはフェニルチオで置換され ていてもよいフリル、テトラヒドロフリル、チエニル、テトラヒドロチエニル、 オキセタニル、チエタニル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チアゾリル、オキ サジアゾリル、チアジアゾリル、ピラゾリル、ピリジニル、ピリミジニル、トリ アジニル、インドリル、キノリニルまたはキノキサリニルを表し、 R4が水素、フッ素、塩素、臭素またはメチルを表し、 R5がメチル、エチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、トリフルオロメ チル、トリクロロメチル、クロロジフルオロメチル、フルオロジクロロメチル、 クロロエチル、フルオロエチル、ジクロロエチル、ジフルオロエチル、クロロフ ルオロエチル、クロロジフルオロエチル、フルオロジクロロエチル、トリフルオ ロエチル、テトラフルオロエチル、クロロトリフルオロエチルまたはペンタフル オロエチルを表し、 R6が水素を表すか、或いはそれぞれ随時フッ素、塩素、メトキシまたはエト キシで置換されていてもよいメチル、エチル、n−もしくはi−プロピル、n− 、i−、s−もしくはt−ブチル、プロペニル、ブテ ニル、プロピニルまたはブチニルを表し、そして R7が水素を表すか、或いはそれぞれ随時フッ素、塩素、メトキシまたはエト キシで置換されていてもよいメチル、エチル、n−もしくはi−プロピル、n− 、i−、s−もしくはt−ブチル、プロペニル、ブテニル、プロピニルまたはブ チニルを表す式(I)の化合物を与える。 上記の一般的または好適な基の定義は式(I)の最終生成物及びまた対応して 各々の場合に製造に必要とされる出発物質または中間体の両方に有効である。こ れらの基の定義は相互に自由に、即ち与えられる好適な範囲間の組合せを含めて 組み合わせることができる。 本発明による式(I)の化合物の例を下のグループに示す。グループ1 3は例えば下記に示される意味を有する: 水素、メチル、エチル、n−もしくはi−プロピル、n−、i−、s−もしく はt−ブチル、n−、i−、s−もしくはt−ペンチル、ジフルオロメチル、ト リフルオロメチル、クロロジフルオロメチル、フルオロジクロロメチル、フルオ ロエチル、クロロエチル、クロロフルオロエチル、ジフルオロエチル、ジクロロ エチル、トリフルオロエチル、トリクロロエチル、クロロジフルオロエチル、テ トラフルオロエチル、クロ ロトリフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、フルオロプロピル、クロロプロ ピル、ジフルオロプロピル、ジクロロプロピル、トリフルオロプロピル、トリク ロロプロピル、シアノメチル、シアノエチル、シアノプロピル、シアノブチル、 カルボキシメチル、カルボキシエチル、カルボキシプロピル、カルボキシブチル 、メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、メトキシエチル、エト キシエチル、プロポキシエチル、メトキシプロピル、エトキシプロピル、プロポ キシプロピル、メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル、プロポ キシカルボニルメチル、メトキシカルボニルエチル、エトキシカルボニルエチル 、プロポキシカルボニルエチル、メトキシカルボニルプロピル、エトキシカルボ ニルプロピル、プロポキシカルボニルプロピル、1−プロペン−3−イル(アリ ル)、3−メチル−プロペン−3−イル、2−ブテン−4−イル(クロトニル) 、1−プロピン−3−イル(プロパルギル)、3−メチル−1−プロピン−3− イル、2−ブチン−4−イル、シクロプロピル、シアノシクロプロピル、カルボ キシシクロプロピル、ジフルオロシクロプロピル、ジクロロシクロプロピル、メ チルシクロプロピル、メトキシカルボニルシクロプロピル、エトキシカルボニル シクロプロピル、シクロブチル、シアノシクロブチル、カルボキシシクロブチル 、ジフルオロシクロブチル、トリフルオロシクロブチル、テトラフルオロシクロ ブチル、クロロトリフルオロシクロブチル、メチルシクロブチル、シクロペンチ ル、シアノシクロペンチル、カルボキシシクロペンチル、フルオロシクロペンチ ル、クロロシクロペンチル、ジフルオロシクロペンチル、ジクロロシクロペンチ ル、メチルシクロペンチル、メトキシカルボニルシクロペンチル、エトキシカル ボニルシクロペンチル、シクロ ヘキシル、シアノシクロヘキシル、カルボキシシクロヘキシル、フルオロシクロ ヘキシル、クロロシクロヘキシル、ジフルオロシクロヘキシル、ジクロロシクロ ヘキシル、メチルシクロヘキシル、トリフルオロメチルシクロヘキシル、メトキ シカルボニルシクロヘキシル、エトキシカルボニルシクロヘキシル、シクロプロ ピルメチル、ジフルオロシクロプロピルメチル、ジクロロシクロプロピルメチル 、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチル、シアノ シクロヘキシルメチル、カルボキシシクロヘキシルメチル、フルオロシクロヘキ シルメチル、クロロシクロヘキシルメチル、メチルシクロヘキシルメチル、トリ フルオロメチルシクロヘキシルメチル、フェニル、シアノフェニル、カルボキシ フェニル、ニトロフェニル、フルオロフェニル、クロロフェニル、ブロモフェニ ル、メチルフェニル、トリフルオロメチルフェニル、メトキシフェニル、ジフル オロメトキシフェニル、トリフルオロメトキシフェニル、メトキシカルボニルフ ェニル、エトキシカルボニルフェニル、ベンジル、シアノベンジル、カルボキシ ベンジル、フルオロベンジル、クロロベンジル、メチルベンジル、トリフルオロ メチルベンジル、メトキシベンジル、ジフルオロメトキシベンジル、トリフルオ ロメトキシベンジル、メトキシカルボニルベンジル、エトキシカルボニルベンジ ル、フェニルエチル、フリル、テトラヒドロフリル、チエニル、テトラヒドロチ エニル、オキセタニル、オキサゾリル、イソキサゾリル。グループ2 3は例えば上のグループ1に与えられる意味を有する。グループ3 3は例えば上のグループ1に与えられる意味を有する。グループ4 3は例えば上のグループ1に与えられる意味を有する。グループ5 3は例えば上のグループ1に与えられる意味を有する。グループ6 3は例えば上のグループ1に与えられる意味を有する。グループ7 3は例えば上のグループ1に与えられる意味を有する。グループ8 3は例えば上のグループ1に与えられる意味を有する。グループ9 3は例えば上のグループ1に与えられる意味を有する。グループ10 3は例えば上のグループ1に与えられる意味を有する。グループ11 3は例えば上のグループ1に与えられる意味を有する。グループ12 3は例えば上のグループ1に与えられる意味を有する。グループ13 3は例えば上のグループ1に与えられる意味を有する。グループ14 3は例えば上のグループ1に与えられる意味を有する。グループ15 3は例えば上のグループ1に与えられる意味を有する。グループ16 3は例えば上のグループ1に与えられる意味を有する。グループ17 3は例えば上のグループ1に与えられる意味を有する。グループ18 3は例えば上のグループ1に与えられる意味を有する。グループ19 3は例えば上のグループ1に与えられる意味を有する。グループ20 3は例えば上のグループ1に与えられる意味を有する。 例えば、出発物質として1−(2−クロロ−4−シアノ−5−シアノメトキシ −フェニル)−3,6−ジヒドロ−2,6−ジオキソ−ジフルオロメチル−1( 2H)−ピリミジン及び親電子アミノ化剤として1−アミノオキシ−2,4−ジ ニトロ−ベンゼンを用い、本発明による工程(a)における反応の経路は次式に より表し得る: 例えば、出発物質として1−(シアノ−5−ジフルオロメトキシ−フェニル) −3,6−ジヒドロ−2,6−ジオキソ−3−アミノ−4−クロロジフルオロメ チル−1(2H)−ピリミジンを用い、本発明による工程(b)における反応の 経路は次式により表し得る: 例えば、出発物質として1−(4−シアノ−5−エチルチオ−2−フルオロ− フェニル)−3,6−ジヒドロ−2,6−ジオキソ−3−アミノ−5−メチル− 4−トリフルオロメチル−1(2H)−ピリミジン及び臭化メチルを用い、本発 明による工程(c)における反応の経路は次式により表し得る: 例えば、出発物質として1−(4−シアノ−2,5−ジフルオロ−フェニル) −3,6−ジヒドロ−2,6−ジオキソ−5−クロロ−4−トリフルオロメチル −1(2H)−ピリミジン及びナトリウムメチラートを用い、工程(d)におけ る反応の経路は次式により表し得る: 式(II)は式(I)の化合物を製造するために本発明による工程(a)にお いて出発物質として用いられる置換されたウラシルの一般的定義を与える。式( II)において、Q、R1、R2、R3、R4及びR5は各々好ましくは、または殊 にQ、R1、R2、R3、R4及びR5に対して好適または殊に好適なものとして本 発明により製造される式(I)の化合物の記載に関連して既に上に示された意味 を有する。 式(II)の出発物質は公知であり、そして/または公知の方法により製造し 得る(ヨーロッパ特許第408382号、製造実施例参照)。 本発明による工程(a)は親電子アミノ化剤を用いて行う。適当なアミノ化剤 は通常の親電子アミノ化剤である。例には1−アミノオキシ−2,4−ジニトロ −ベンゼン(2,4−ジニトロ−フェニル−ヒドロキシルアミン)及びヒドロキ シルアミン−O−スルホン酸が含まれる。 式(Ia)は式(I)の化合物を製造するために本発明による工程(b)にお いて出発物質として用いられるアミノウラシル類の一般的定義を与える。式(I a)において、Q、R1、R3、R4、R5、R6及びR7は各々好ましくは、または 殊にQ、R1、R3、R4、R5、R6及びR7に対して好適または殊に好適なものと して本発明により製造される式(I)の化合物の記載に関連して既に上に示され た意味を有する。 式(Ia)の出発物質は本発明による新規な化合物であり;これらのものは本 発明による工程(a)または(c)により製造し得る。 式(Ib)は式(I)の化合物を製造するために本発明による工程(c)にお いて出発物質として用いられるアミノウラシル類の一般的定義を与える。式(I b)において、Q、R1、R2、R3、R4及びR5は各々好ましくは、または殊に Q、R1、R2、R3、R4及びR5に対して好適または殊に好適なものとして本発 明により製造される式(I)の化合物の記載に関連して既に上に示された意味を 有する。 式(Ib)の出発物質は本発明による新規な化合物であり;これらのものは本 発明による工程(a)または(b)により製造し得る。 式(IIIa)及び(IIIb)は式(I)の化合物を製造するために本発明 による工程(c)において更に出発物質として用いられるアルキル化剤の一般的 定義を与える。式(IIIa)及び(IIIb)において、R7及びR8は各々好 ましくは、または殊にR7及びR8に対して好適または殊に好適なものとして本発 明により製造される式(I)の化合物の記載に関連して既に上に示された意味を 有し;Xは好ましくはフッ素、塩素、臭素またはヨウ素、殊に塩素、臭素または ヨウ素を表す。 式(IV)は式(I)の化合物を製造するために本発明による工程(d)にお いて出発物質として用いられるアミノウラシル類の一般的定義を与える。式(I V)において、R1、R2、R4、R5、R6及びR7は各々好ましくは、または殊に R1、R2、R4、R5、R6及びR7に対して好適または殊に好適なものとして本発 明により製造される式(I)の化合物の記載に関連して既に上に示された意味を 有し;Xは好ましくはフッ素、塩素または臭素、殊にフッ素または塩素を表す。 式(IV)の出発物質は公知であり、そして/または公知の方法により製造し 得る(ヨーロッパ特許第648749号参照)。 式(V)は式(I)の化合物を製造するために本発明による工程(d)におい て更に出発物質として用いられる求核化合物の一般的定義を与える。式(V)に おいて、Q及びR3は各々好ましくは、または殊にQ及びR3に対して好適または 殊に好適なものとして本発明により製造される式(I)の化合物の記載に関連し て既に上に示された意味を有し;Mは好ましくはリチウム、ナトリウム、カリウ ムを表す。 式(V)の出発物質は合成で公知の化学薬品である。 式(I)の化合物を製造するための本発明による工程(a)、(b)、(c) 及び(d)は好ましくは適当な反応補助剤の存在下で行う。適当な反応補助剤は 通常の無機または有機塩基或いは酸受容体である。これらのものにはアルカリ金 属またはアルカリ土金属酢酸塩、アミド、炭酸塩、炭酸水素塩、水素化物、水酸 化物またはアルコラート例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリウムまたは酢酸カルシ ウム、リチウムアミド、ナトリウムアミド、カリウムアミドまたはカルシウムア ミド、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムまたは炭酸カルシウム、炭酸水素ナトリウ ム、炭酸水素カリウムまたは炭酸水素カルシウム、水素化リチウム、水素化ナト リウム、水素化カリウムまたは水素化カルシウム、水酸化リチウム、水酸化ナト リウム、水酸化カリウムまたは水酸化カルシウム、ナトリウムメチラートまたは カリウムメチラート、ナトリウムエチラートまたはカリウムエチラート、ナトリ ウムn−もしくはi−プロピラートまたはカリウムn−もしくはi−プロピラー ト、ナトリウムn−、i−、s−もしくはt−ブチラートまたはカリウムn−、 i−、s−もしくはt−ブチ ラート;更にまた塩基性有機窒素化合物例えばトリメチルアミン、トリエチルア ミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、エチル−ジイソプロピルアミン 、N,N−ジメチル−シクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、エチル −ジシクロヘキシルアミン、N,N−ジメチル−アニリン、N,N−ジメチル− ベンジルアミン、ピリジン、2−メチル−、3−メチル−、4−メチル−、2, 4−ジメチル−、2,6−ジメチル−、3,4−ジメチル−及び3,5−ジメチ ルピリジン、5−エチル−2−メチル−ピリジン、4−ジメチルアミノ−ピリジ ン、N−メチル−ピペリジン、1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]−オクタ ン(DABCO)、1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]−ノン−5−エン( DBN)または1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]−ウンデス−7−エン( DBU)が含まれる。 式(I)の化合物を製造するための本発明による工程(a)、(b)、(c) 及び(d)は好ましくは希釈剤の存在下で行う。適当な希釈剤は一般的に通常の 有機溶媒である。これらのものには好ましくは脂肪族、脂環式及び芳香族の、随 時ハロゲン化されていてもよい炭化水素例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、 石油エーテル、リグロイン、ベンジン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロ ベンゼン、ジクロロベンゼン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ジクロ ロメタン(塩化メチレン)、トリクロロメタン(クロロホルム)または四塩化炭 素、ジアルキルエーテル例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メ チルt−ブチルエーテル(MTBE)、エチルt−ブチルエーテル、メチルt− ペンチルエーテル(TAME)、エチルt−ペンチルエーテル、テトラヒドロフ ラン(THF)、1,4−ジオキサン、エチレングリコー ルジメチルエーテルまたはエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレング リコールジメチルエーテルまたはジエチレングリコールジエチルエーテル;ジア ルキルケトン例えばアセトン、ブタノン(メチルエチルケトン)、メチルi−プ ロピルケトンまたはメチルi−ブチルケトン;ニトリル例えばアセトニトリル、 プロピオニトリルまたはベンゾニトリル;アミド例えばN,N−ジメチル−ホル ムアミド(DMF)、N,N−ジメチル−アセトアミド、N−メチル−ホルムア ニリド、N−メチル−ピロリドン或いはヘキサメチルリン酸トリアミド;エステ ル例えば酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−もしくはi−プロピル、酢酸n−、 i−もしくはs−ブチル;スルホキシド例えばジメチルスルホキシド;アルカノ ール例えばメタノール、エタノール、n−もしくはi−プロパノール、n−、i −、s−もしくはt−ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテルもし くはエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチル エーテルもしくはジエチレングリコールモノエチルエーテル;その水との混合物 または純水が含まれる。 本発明による工程(a)、(b)、(c)及び(d)を行う場合、反応温度は 比較的広い範囲内で変え得る。一般に−20乃至150℃間、好ましくは0乃至 120℃間の温度を用いる。 本発明による工程(a)、(b)、(c)及び(d)は一般に大気圧下で行う 。しかしながらまた、本発明による工程を一般に0.1乃至10バール間の昇圧 または減圧下で行うこともできる。 本発明による工程(a)、(b)、(c)及び(d)を行う際に、出発物質は 一般にほぼ等モル量で用いる。しかしながらまた、成分の1つを比較的大過剰に 用いることができる。反応は一般に適当な希釈剤中に て反応補助剤の存在下で行い、そして反応混合物を一般に必要とされる温度で数 時間撹拌する。処理は常法により行う(製造実施例参照)。 本発明による活性化合物は落葉剤、乾燥剤、広葉樹の破壊剤及び、特に殺雑草 剤として使用することができる。雑草とは、最も広い意味において、植物を望ま ない場所に生長するすべての植物を意味する。本発明による物質は、本質的に使 用量に依存して完全除草剤または選択的除草剤として作用する。 本発明による活性化合物は、例えば、次の植物に関連して使用することができ る:次の属の双子葉雑草 :カラシ属(Sinapis)、マメグンバイナズナ属(Lepidium)、 ヤエムグラ属(Galium)、ハコベ属(Stellaria)、シカギク属(Matricaria)、カミ ツレモドキ属(Anthemis)、ガリンソガ属(Galinsoga)、アカザ属(Chenopodium)、 イラクサ属(Urtica)、キオン属(Senecio)、ヒユ属(Amaranthus)、スベリヒユ属( Portulaca)、オナモミ属(Xanthium)、ヒルガオ属(Convolvulus)、サツマイモ属( Ipomoea)、タデ属(Polygonum)、セスバニア属(Sesbania)、オナモミ属(Ambrosia )、アザミ属(Cirsium)、ヒレアザミ属 (Carduus)、ノゲシ属(Sonchus)、ナス属 (Solanum)、イヌガラシ属(Rorippa)、キカシグサ属(Rotala)、アゼナ属(Lindern ia)、ラミウム属(Lamium)、クワガタソウ属(Veronica)、イチビ属(Abutilon)、 エメクス属(Emex)、チヨウセンアサガオ属(Datura)、スミレ属(Viola)、チシマ オドリコ属(Galeopsis)、ケシ属(Papaver)、センタウレア属(Centaurea)、ツメ クサ属(Trifolium)、キツネノボタン属(Ranunculus)及びタンポポ属(Taraxacum) 。次の属の双子葉栽培植物 :ワタ属(Gossypium)、ダイズ属(Glycine)、フダンソウ 属(Beta)、ニンジン属(Daucus)、インゲンマメ属(Phaseolus)、エンドウ属(Pisu m)、ナス属(Solanum)、アマ属(Linum)、サツマイモ属(Ipomoea)、ソラマメ属(Vi cia)、タバコ属(Nicotiana)、トマト属(Lycopersicon)、ラツカセイ属(Arachis) 、アブラナ属(Brassica)、アキノノゲシ属(Lactuca)、キユウリ属(Cucumis)及び ウリ属(Cucurbita)。次の属の単子葉雑草 :ヒエ属(Echinochloa)、エノコログサ属(Setaria)、キビ属 (Panicum)、メヒシバ属(Digitaria)、アワガリエ属(Phleum)、スズメノカタビラ 属(Poa)、ウシノケグサ属(Festuca)、オヒシバ属(Eleusine)、ブラキアリア属(B rachiaria)、ドクムギ属(Lolium)、スズメノチヤヒキ属(Bromus)、カラスムギ属 (Avena)、カヤツリグサ属(Cyperus)、モロコシ属(Sorghum)、カモジグサ属(Agro pyron)、シノドン属(Cynodon)、ミズアオイ属(Monochoria)、テンツキ属(Fimbri stylis)、オモダカ属(Sagittaria)、ハリイ属(Eleocharis)、ホタルイ属(Scirpu s)、パスパルム属(Paspalum)、カモノハシ属(Ischaemum)、スフエノクレア属(Sp henoclea)、ダクチロクテニウム属(Dactyloctenium)、ヌカボ属(Agrostis)、ス ズメノテツポウ属(Alopecurus)及びアペラ属(Apera)。次の属の単子葉栽培植物 :イネ属(Oryza)、トウモロコシ属(Zea)、コムギ属(Tri ticum)、オオムギ属(Hordeum)、カラスムギ属(Avena)、ライムギ属(Secale)、モ ロコシ属(Sorghum)、キビ属(Panicum)、サトウキビ属(Saccharum)、アナナス属( Ananas)、クサスギカズラ属(Asparagus)およびネギ属(Allium)。 しかしながら、本発明による活性化合物の使用はこれらの属にまったく限定さ れず、同じ方法で他の植物に及ぶ。 式(I)の化合物は、濃度に依存して、例えば工業地域及び鉄道線路上、樹木 が存在するか或いは存在しない道路及び広場上の雑草の完全防除に適する。同等 に、化合物は多年生栽培植物、例えば造林、装飾樹木、果樹園、ブドウ園、かん きつ類の木立、クルミの果樹園、バナナの植林、コーヒーの植林、茶の植林、ゴ ムの木の植林、油ヤシの植林、カカオの植林、小果樹の植え付け及びホップの栽 培植物の中の雑草の防除に、そして1年生栽培植物中の雑草の選択的防除に使用 することができる。 本発明による式(I)の化合物は発芽前及び発芽後法の両方により単子葉及び 双子葉の栽培植物における単子葉及び双子葉の雑草の選択的防除に殊に適してい る。 本活性化合物は普通の調製物例えば、溶液、乳液、水和剤、懸濁剤、粉末、泡 沫剤、塗布剤、可溶性粉末、顆粒、懸濁乳化濃厚剤、活性化合物を含浸させた天 然及び合成物質、並びに重合物質中のごく細かいカプセルに変えることができる 。 これらの調製物は公知の方法において、例えば活性化合物を伸展剤、即ち液体 溶媒及び/または固体の担体と随時表面活性剤、即ち乳化剤及び/または分散剤 及び/または発泡剤と混合して製造される。 また伸展剤として水を用いる場合、例えば補助溶媒として有機溶媒を用いるこ ともできる。液体溶媒として、主に、芳香族炭化水素例えばキシレン、トルエン もしくはアルキルナフタレン、塩素化された芳香族もしくは塩素化された脂肪族 炭化水素例えばクロロベンゼン、クロロエチレンもしくは塩化メチレン、脂肪族 炭化水素例えばシクロヘキサン、ま たはパラフィン例えば鉱油留分、鉱油及び植物油、アルコール例えばブタノール もしくはグリコール並びにそのエーテル及びエステル、ケトン例えばアセトン、 メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンもしくはシクロヘキサノン、強い 有極性溶媒例えばジメチルホルムアミド及びジメチルスルホキシド並びに水が適 している。 固体の担体として、例えばアンモニウム塩及び粉砕した天然鉱物、例えばカオ リン、クレイ、タルク、チョーク、石英、アタパルジャイト、モントモリロナイ ト、またはケイソウ土並びに粉砕した合成鉱物例えば高度に分散性ケイ酸、アル ミナ及びシリケートが適している;粒剤に対する固体の担体として、粉砕し且つ 分別した天然岩、例えば方解石、大理石、軽石、海泡石及び白雲石並びに無機及 び有機のひきわり合成顆粒及び有機物質の顆粒例えばおがくず、やしがら、トウ モロコシ穂軸及びタバコの茎が適している;乳化剤及び/または発泡剤として非 イオン性及び陰イオン性乳化剤例えばポリオキシエチレン−脂肪酸エステル、ポ リオキシエチレン脂肪族アルコールエーテル例えばアルキルアリールポリグリコ ールエーテル、アルキルスルホネート、アルキルスルフェート、アリールスルホ ネート並びにアルブミン加水分解生成物が適している;分散剤として、例えばリ グニンスルファイト廃液及びメチルセルロースが適している。 粘着剤例えばカルボキシメチルセルロース並びに粉状、粒状またはラテックス 状の天然及び合成重合体例えばアラビアゴム、ポリビニルアルコール及びポリビ ニルアセテート並びに天然リン脂質例えばセファリン及びレシチン、及び合成リ ン脂質を組成物に用いることができる。更に添加剤は鉱油及び植物油であること ができる。 着色剤例えば無機顔料、例えば酸化鉄、酸化チタン及びプルシアンブルー並び に有機染料例えばアリザリン染料、アゾ染料及び金属フタロシアニン染料、及び 微量の栄養剤例えば鉄、マンガン、ホウ素、銅、コバルト、モリブテン及び亜鉛 の塩を用いることができる。 調製物は一般に活性化合物0.1乃至95重量%間、好ましくは0.5乃至90 重量%間を含有する。 また本発明による活性化合物は、そのまま或いはその調製物の形態において、 公知の除草剤との混合物として雑草を防除するために用いることができ、ここに 調製済調製物または槽混合が可能である。 混合物に適する共成分には公知の除草剤例えばアニリド例えばジフルフェニカ ン及びプロパニル;アリールカルボン酸例えばジクロロピコリン酸、ジカンバ及 びピコロラム;アリールオキシアルカン酸例えば2,4−D、2,4−DB、2 ,4−DP、フルロキシピル、MCPA、MCPP及びトリクロピル;アリール オキシ−フェノキシ−アルカン酸エステル例えばジクロホップ−メチル、フェノ キサプロップ−エチル、フルアジホップ−ブチル、ハロキシホップ−メチル及び キザロホップ−エチル;アジノン例えばクロリダゾン及びノルフルラゾン;カル バメート例えばクロルプロファム、デスメジファム、フェンメジファム及びプロ ファム、クロロアセトアニリド例えばアラクロル、アセトクロル、ブタクロル、 メタザクロル、メトラクロル、プレチラクロル及びプロパクロル;ジニトロアニ リン例えばオリザリン、ペンジメタリン及びトリフルラリン;ジフェニルエステ ル例えばアシフルオルフェン、ビフェノックス、フルオログリコフェン、ホメサ フェン、ハロサフェン、ラクトフェン及びオキシフルオルフェン;ウレア例えば クロルトルロン、ジウロン、 フルオメツロン、イソプロツロン、リヌロン及びメタベンズチアズロン;ヒドロ キシルアミン例えばアロキシジム、クレトジム、シクロキシジム、セトキシジム 及びトラルコキシジム;イミダゾリノン例えばイマゼタピル、イマザメタベンズ 、イマザピル及びイマザキン;ニトリル例えばブロモキシニル、ジクロベニル及 びイオキシニル;オキシアセトアミド例えばメフェナセット;スルホニルウレア 例えばアミドスルフロン、ベンスルフロン−メチル、クロリムロン−エチル、ク ロルスルフロン、シノスルフロン、メトスルフロン−メチル、ニコスルフロン、 プリミスルフロン、ピラゾスルフロン−エチル、チフェンスルフロン−メチル、 トリアスルフロン及びトリベヌロン−メチル;チオカルバメート例えばブチレー ト、シクロエート、ジーアレート、EPTC、エスプロカルブ、モリネート、プ ロスルホカルブ、チオベンカルブ及びトリ−アレート;トリアジン例えばアトラ ジン、シアナジン、シマジン、シメトリン、ターブトリン及びターブチラジン; トリアジノン例えばヘキサジノン、メタミトロン及びメトリブジン;他のもの例 えばアミノトリアゾール、ベンフレセート、ベンタゾン、シンメチリン、クロマ ゾン、クロピラリド、ジフェンゾクアット、ジチオピル、エトフメセート、フル オロクロリドン、グルホシネート、グリホセート、イソキサベン、ピリデート、 キンクロラック、キンメラック、スルホセート及びトリジファンがある。 また他の公知の活性化合物、例えば殺菌・殺カビ剤(fungicides)、殺虫剤( insecticides)、殺ダニ剤(acaricides)、殺線虫剤(nematicides)、小鳥忌 避剤、植物栄養剤及び土壌構造改良剤との混合物が可能である。 本活性化合物はそのままで、或いはその配合物の形態またはその配合 物から更に希釈して調製した使用形態、例えば調製済液剤、懸濁剤、乳剤、粉剤 、塗布剤及び粒剤の形態で使用することができる。これらのものは普通の方法で 、例えば液剤散布(watering)、スプレー、アトマイジング(atomising)また は粒剤散布(scattering)によって施用される。 本発明による活性化合物は植物の発芽の前または後のいずれでも施用すること ができる。またこれらのものは種子をまく前に土壌中に混入することができる。 用いる活性化合物の量は実質的な範囲内で変えることができる。この量は本質 的に所望の効果の特質に依存する。一般に、施用量は土壌表面1ヘクタール当り 活性化合物1g乃至10kg間、好ましくは5g乃至5kg/ha間である。 本発明による活性化合物の製造及び使用は次の実施例から知り得る。製造実施例: 実施例1 [工程(a)] 1−(4−シアノ−2−フルオロ−5−メトキシ−フェニル)−3,6−ジヒ ドロ−2,6−ジオキソ−4−トリフルオロメチル−1(2H) −ピリミジン2.0g(6ミリモル)、炭酸水素ナトリウム0.5g(6ミリモ ル)及びジメチルホルムアミド10mlの混合物を20℃で1時間撹拌した。次 に1−アミノオキシ−2,4−ジニトロ−ベンゼン0.6g(3ミリモル)を加 え、そして反応混合物を20℃で24時間撹拌した。更に1−アミノオキシ−2 ,4−ジニトロ−ベンゼン0.3g(1.5ミリモル)の添加後、混合物を3日 間撹拌し;次に更に1−アミノオキシ−2,4−ジニトロ−ベンゼン0.3g( 1.5ミリモル)を加え、そして撹拌を更に3日間続けた。次に酢酸エチル50 ml及び飽和塩化ナトリウム水溶液を混合物に加えた。混合物を震盪し、有機相 を分別し、そして水相を酢酸エチルで3回再抽出した。一緒にした有機溶液を水 で2回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、シリカゲル5cmを通して濾過し、そ して酢酸エチル300mlで洗浄した。濾液を水流ポンプの真空を用いて濃縮し 、残渣を酢酸エチルで滴定し、そして結晶性生成物を濾過により単離した。 融点241℃の1−(4−シアノ−2−フルオロ−5−メトキシ−フェニル) −3,6−ジヒドロ−2,6−ジオキソ−3−アミノ−4−トリフルオロメチル −1(2H)−ピリミジン1.1g(理論値の53%)が得られた。 実施例1と同様に、そして本発明による製造方法の一般的記載に従って、例え ばまた下の表1に示す式(I)の化合物を製造することができた。 式(II)の出発物質: 実施例(II−1) 1−(4−シアノ−2,5−ジフルオロ−フェニル)−3,6−ジヒドロ−2 ,6−ジオキソ−4−トリフルオロメチル−1(2H)−ピリミジン3.8g( 12ミリモル)、ナトリウムメチラート1.5g(2 1ミリモル)及びN−メチル−ピロリドン50mlの混合物を130℃で36時 間撹拌した。混合物を冷却し、酢酸エチルでその容量の約3倍に希釈し、水で洗 浄し、そして生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー[シクロヘキサン/ 酢酸エチル1/1(v/v)]により単離した。 融点114℃の1−(4−シアノ−2−フルオロ−5−メトキシ−フェニル) −3,6−ジヒドロ−2,6−ジオキソ−4−トリフルオロメチル−1(2H) −ピリミジン1.6g(理論値の41%)が得られた。使用例: 実施例A 発芽前試験 溶 媒: アセトン5重量部 乳化剤: アルキルアリ−ルポリグリコールエーテル 1重量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合物1重量部を上記量の 溶媒と混合し、上記量の乳化剤を加え、そしてこの濃厚物を水で希釈して所望の 濃度にした。 試験植物の種子を通常の土壌中にまいた。24時間後、この土壌に活性化合物 の調製物を液剤散布した。単位面積当りの水の量を一定に保持することが有利で ある。調製物中の活性化合物の濃度は重要ではなく、単位面積当り施用した活性 化合物の量のみが決めてとなる。 3週間後、植物に対する損傷の程度を、未処理対照植物の発育と比較して、% 損傷として評価した。 数字は次を表す: 0%=効果なし(未処理対照と同様) 100%=全て撲滅 この試験において、例えば製造実施例1の化合物により125g/haの施用 割合で多数の雑草例えばスズメノテツポウ属(Alopecurus)(100%)、カラ スムギ属(Avena)(100%)、カヤツリグサ属(Cyperus)(100%)、エ ノコログサ属(Setaria)(100%)、イチビ属(Abutilon)、ヒユ属(Amara nthus)(100%)、ヤエムグラ属(Galium)(100%)、カラシ属(Sinap is)(100%)、オナモミ属(Xanthium)(100%)の実質的に完全な撲滅 が行われた。 その結果を次の表Aに示す。 実施例B 発芽後試験 溶 媒: アセトン5重量部 乳化剤: アルキルアリールポリグリコールエーテル 1重量部 活性化合物の適当な調製物を製造するために、活性化合物1重量部を上記量の 溶媒と混合し、上記量の乳化剤を加え、そしてこの濃厚物を水で希釈して所望の 濃度にした。 高さ5〜15cmの試験植物に、単位面積当り所望の活性化合物の特定の量が 施用されるように、活性化合物の調製物を噴霧した。 3週間後、植物に対する損傷の程度を未処理対照植物の発育と比較して%損傷 として評価した。 数字は次を表す: 0%=作用なし(未処理対照と同様) 100%=全て撲滅 この試験において、例えば製造実施例1の化合物により125g/haの施用 割合で多数の雑草例えばスズメノテツポウ属(Alopecurus)(100%)、カラ スムギ属(Avena)(100%)、カヤツリグサ属(Cyperus)(100%)、エ ノコログサ属(Setaria)(100%)、イチビ属(Abutilon)、ヒユ属(Amara nthus)(100%)、ヤエムグラ属(Galium)(100%)、カラシ属(Sinap is)(100%)及びオナモミ属(Xanthium)(100%)の実質的に完全な撲 滅が行われた。 その結果を次の表Bに示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AU,BB,BG,BR,BY, CA,CN,CZ,HU,JP,KR,KZ,LK,M X,NO,NZ,PL,RO,RU,SK,TR,UA ,US (72)発明者 シヤルナー,オツトー ドイツ連邦共和国デー−40789モンハイ ム・ノルデベーク22 (72)発明者 ドリンガー,マルクス ドイツ連邦共和国デー−51381レーフエル クーゼン・ブルシヤイダーシユトラーセ 154ベー (72)発明者 ザンテル,ハンス−ヨアヒム ドイツ連邦共和国デー−51371レーフエル クーゼン・グリユンシユトラーセ9アー

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.一般式(I) 式中、QはO、S、SOまたはSO2を表し、 R1は水素、シアノまたはハロゲンを表し、 R2はシアノまたはチオカルバモイルを表し、 R3は水素を表すか、或いはそれぞれ随時置換されていてもよいアルキル、 アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール 、アリールアルキル、複素環または複素環式アルキルを表し、 R4は水素、ハロゲンを表すか、或いはそれぞれ随時置換されていてもよい アルキルまたはアルコキシを表し、 R5は随時置換されていてもよいアルキルを表し、 R6は水素を表すか、或いはそれぞれ随時置換されていてもよいアルキル、 アルケニルまたはアルキニルを表し、そして R7は水素を表すか、或いはそれぞれ随時置換されていてもよいアルキル、 アルケニルまたはアルキニルを表す、 の置換されたアミノウラシル類。 2.QがO、S、SOまたはSO2を表し、 R1が水素、シアノ、フッ素または塩素を表し、 R2がシアノまたはチオカルバモイルを表し、 R3が水素を表すか、各々随時シアノ、カルボキシ、フッ素、塩素、臭素、或 いはC1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−アルキル−カルボニル、C1〜C4−アル コキシカルボニルまたはN−(C1〜C4−アルキル)−N−フェニル−アミノカ ルボニル(各々随時フッ素及び/または塩素で置換されていてもよい)で置換さ れていてもよく、各々炭素原子10個までを有するアルキル、アルケニルまたは アルキニルを表すか、 R3が更に各々随時シアノ、カルボキシ、フッ素、塩素、臭素、C1〜C4−ア ルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−アルキル−カルボニル、C1〜C4− アルコキシ−カルボニルで置換されていてもよく、シクロアルキル部分に炭素原 子3〜8個及び随時アルキル部分に炭素原子4個までを有するシクロアルキルま たはシクロアルキルアルキルを表すか、R3が更に各々随時シアノ、カルボキシ 、ニトロ、カルバモイル、チオカルバモイル、フッ素、塩素、臭素、或いはC1 〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1〜C4−アルキルチオ、C1〜C4 −アルキルスルフィニル、C1〜C4−アルキルスルホニル、C1〜C4−アルキル −カルボニルまたはC1〜C4−アルコキシ−カルボニル(各々随時フッ素及び/ または塩素で置換されていてもよい)、フェニル、フェノキシまたはフェニルチ オ(各々随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、メチル、メトキシ、トリフルオロメ チル及び/またはトリフルオロメトキシで置換されていてもよい)で置換されて いてもよく、アリール部分に炭素原子6〜10個及び随時アルキル部分に炭素原 子4個までを有するアリールまたはアリールアルキルを表すか、或いは R3が更に各々随時シアノ、カルボキシ、カルバモイル、チオカルバモイル、 フッ素、塩素、臭素、或いはC1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C1 〜C4−アルキルチオ、C1〜C4−アルキルスルフィニル、C1〜C4−アルキル スルホニル、C1〜C4−アルキル−カルボニルまたはC1〜C4−アルコキシ−カ ルボニル(各々随時フッ素及び/または塩素で置換されていてもよい)、フェニ ル、フェノキシまたはフェニルチオ(各々随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、メ チル、メトキシ、トリフルオロメチル及び/またはトリフルオロメトキシで置換 されていてもよい)で置換されていてもよいフリル、テトラヒドロフリル、チエ ニル、テトラヒドロチエニル、オキセタニル、チエタニル、オキサゾリル、イソ キサゾリル、チアゾリル、オキサジアゾリル、チアジアゾリル、ピラゾリル、ピ リジニル、ピリミジニル、トリアジニル、インドリル、キノリニルまたはキノキ サリニルを表し、 R4が水素、フッ素、塩素、臭素を表すか、或いは各々の場合に炭素原子1〜 4個を有し、それぞれ随時フッ素及び/または塩素で置換されていてもよいアル キルまたはアルコキシを表し、 R5が炭素原子1〜4個を有し、随時フッ素及び/または塩素で置換されてい てもよいアルキルを表し、 R6が水素を表すか、或いは各々の場合に炭素原子6個までを有し、それぞれ 随時フッ素、塩素またはC1〜C4−アルコキシで置換されていてもよいアルキル 、アルケニルまたはアルキニルを表し、そして R7が水素を表すか、或いは各々の場合に炭素原子6個までを有し、それぞれ 随時フッ素、塩素またはC1〜C4−アルコキシで置換されていてもよいアルキル 、アルケニルまたはアルキニルを表すことを特徴とす る、請求の範囲第1項記載の一般式(I)の置換されたアミノウラシル類。 3.QがO、S、SOまたはSO2を表し、 R1が水素、フッ素または塩素を表し、 R2がシアノまたはチオカルバモイルを表し、 R3が水素を表すか、それぞれ随時シアノ、カルボキシ、フッ素、塩素、メト キシ、エトキシ、n−もしくはi−プロポキシ、アセチル、プロピオニル、メト キシカルボニル、エトキシカルボニル、n−もしくはi−プロポキシカルボニル で置換されていてもよいメチル、エチル、n−もしくはi−プロピル、n−、i −、s−もしくはt−ブチル、n−、i−、s−もしくはt−ペンチル、プロペ ニル、ブテニル、ペンテニル、プロピニル、ブチニルまたはペンチニルを表すか 、それぞれ随時シアノ、カルボキシ、フッ素、塩素、臭素、メチル、エチル、n −もしくはi−プロピル、メトキシ、エトキシ、n−もしくはi−プロポキシ、 アセチルまたはプロピオニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n− もしくはi−プロポキシカルボニルで置換されていてもよいシクロプロピル、シ クロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロプロピルメチル、シクロ ブチルメチル、シクロペンチルメチルまたはシクロヘキシルメチルを表すか、そ れぞれ随時シアノ、カルボキシ、ニトロ、カルバモイル、チオカルバモイル、フ ッ素、塩素、臭素、メチル、エチル、n−もしくはi−プロピル、n−、i−、 s−もしくはt−ブチル、トリフルオロメチル、メトキシ、エトキシ、n−もし くはi−プロポキシ、メチルチオ、エチルチオ、メチルスルフィニル、エチルス ルフィニル、メチルスルホニル、エチルスルホニル、アセチル、プロピオニル、 メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−もしくはi−プロポキシカルボ ニルで置換されていてもよいフェニル、ベンジルまたはフェニルエチルを表すか 、或いはそれぞれ随時シアノ、カルボキシ、カルバモイル、チオカルバモイル、 フッ素、塩素、臭素、メチル、エチル、n−もしくはi−プロピル、メトキシ、 エトキシ、n−もしくはi−プロポキシ、メチルチオ、エチルチオ、メチルスル フィニル、エチルスルフィニル、メチルスルホニル、エチルスルホニル、アセチ ル、プロピオニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−もしくはi −プロポキシカルボニル、フェニル、フェノキシまたはフェニルチオで置換され ていてもよいフリル、テトラヒドロフリル、チエニル、テトラヒドロチエニル、 オキセタニル、チエタニル、オキサゾリル、イソキサゾリル、チアゾリル、オキ サジアゾリル、チアジアゾリル、ピラゾリル、ピリジニル、ピリミジニル、トリ アジニル、インドリル、キノリニルまたはキノキサリニルを表し、 R4が水素、フッ素、塩素、臭素またはメチルを表し、 R5がメチル、エチル、ジフルオロメチル、ジクロロメチル、トリフルオロメ チル、トリクロロメチル、クロロジフルオロメチル、フルオロジクロロメチル、 クロロエチル、フルオロエチル、ジクロロエチル、ジフルオロエチル、クロロフ ルオロエチル、クロロジフルオロエチル、フルオロジクロロエチル、トリフルオ ロエチル、テトラフルオロエチル、クロロトリフルオロエチルまたはペンタフル オロエチルを表し、 R6が水素を表すか、或いはそれぞれ随時フッ素、塩素、メトキシまたはエト キシで置換されていてもよいメチル、エチル、n−もしくはi−プロピル、n− 、i−、s−もしくはt−ブチル、プロペニル、ブテ ニル、プロピニルまたはブチニルを表し、そして R7が水素を表すか、或いはそれぞれ随時フッ素、塩素、メトキシまたはエト キシで置換されていてもよいメチル、エチル、n−もしくはi−プロピル、n− 、i−、s−もしくはt−ブチル、プロペニル、ブテニル、プロピニルまたはブ チニルを表すことを特徴とする、請求の範囲第1項記載の一般式(I)の置換さ れたアミノウラシル類。 4.一般式(I) 式中、Q、R1、R2、R3、R4、R5、R6及びR7は各々請求の範囲第1項 記載のものである、 の置換されたアミノウラシルを製造する際に、 (a)一般式(II) 式中、Q、R1、R2、R3、R4及びR5は各々上記のものである、 の置換されたウラシル類を適当ならば反応補助剤の存在下及び適当ならば希釈剤 の存在下で親電子アミノ化剤と反応させるか、 (b)一般式(Ia) 式中、Q、R1、R3、R4、R5、R6及びR7は各々上記のものである、 のアミノウラシル類を適当ならば反応捕助剤の存在下及び適当ならば希釈剤の存 在下で硫化水素と反応させるか、 (c)一般式(Ib) 式中、Q、R1、R2、R3、R4及びR5は各々上記のものである、 のアミノウラシル類を適当ならば反応補助剤の存在下及び適当ならば希釈剤の存 在下で式(IIIa)及び/または式(IIIb) X−R7(IIIa) X−R8(IIIb) 式中、R7及びR8は各々上記のものであり、そして Xはハロゲンまたは基−O−SO2−O−R7または−O−SO2−O−R8を 表す、 のアルキル化剤と皮応させるか、或いは (d)一般式(IV) 式中、R1、R2、R4、R5、R6及びR7は上記のものであり、そして Xはハロゲンを表す、 のアミノウラシル類を適当ならば反応補助剤の存在下及び適当ならば希釈剤の存 在下で一般式(V) M−Q−R3 (V) 式中、Q及びR3は上記のものであり、そして Mは水素または金属等価物を表す、 の求核性化合物と反応させることを特徴とする、一般式(I)の置換されたアミ ノウラシル類の製造方法。 5.一般式(Ia) 式中、QはO、S、SOまたはSO2を表し、 R1は水素、シアノまたはハロゲンを表し、 R3は水素を表すか、或いはそれぞれ随時置換されていてもよいアルキル、 アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール 、アリールアルキル、複素環または複素環式アルキルを表し、 R4は水素、ハロゲンを表すか、或いはそれぞれ随時置換されていてもよい アルキルまたはアルコキシを表し、 R5は随時置換されていてもよいアルキルを表し、 R6は水素を表すか、或いはそれぞれ随時置換されていてもよいアルキル、 アルケニルまたはアルキニルを表し、そして R7は水素を表すか、或いはそれぞれ随時置換されていてもよいアルキル、 アルケニルまたはアルキニルを表す、 のアミノウラシル類。 6.少なくとも1つの請求の範囲第1〜4項のいずれかに記載の一般式(I)の 置換されたアミノウラシル類を含むことを特徴とする、除草剤。 7.請求の範囲第1〜4項のいずれかに記載の一般式(I)の置換されたアミノ ウラシル類を望ましくない植物及び/またはその生育地上に作 用させることを特徴とする、望ましくない植物の防除方法。 8.望ましくない植物を防除するための請求の範囲第1〜4項のいずれかに記載 の一般式(I)の置換されたアミノウラシル類の使用。 9.請求の範囲第1〜4項のいずれかに記載の一般式(I)の置換されたアミノ ウラシル類を増量剤及び/または表面活性剤と混合することを特徴とする、除草 剤の製造方法。
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