JPH11505292A

JPH11505292A - セラミックの薄層を溶着させる熱溶着法および関連装置

Info

Publication number: JPH11505292A
Application number: JP8528058A
Authority: JP
Inventors: キューン，ハインリッヒ; エシャー，クラウス; ランデス，クラウス; ハスルベック，ペーター; ガシュラー，オトフリート; ミュラー，マルクス; ムントヴィラー，ペーター
Original assignee: Hoechst AG
Current assignee: Hoechst AG
Priority date: 1995-03-17
Filing date: 1996-03-15
Publication date: 1999-05-18
Also published as: GR3031268T3; ES2135884T3; DK0815280T3; ATE181967T1; EP0815280B1; DE59602394D1; WO1996029443A1; KR19980703106A; EP0815280A1

Abstract

(57)【要約】本発明は、プラズマ中で溶融したスプレー粉末によって、ベースにプラズマ溶射層を被覆する方法において、プラズマ溶射装置のチャンネル内のニュートロン領域、アノード領域またはこれらの中間に、粉末供給ダクトを経てスプレー粉末を導入し、少なくとも１つのアークが時間内の少なくとも一部分の間は少なくとも２０mmの長さを有し、かつベースが所謂連続ストリップまたは少なくとも０.００５ｍ²の大面積のフォーマットである方法に関する。また本発明は複数のプラズマ溶射装置および少なくとも１つの防音ブースを含むベースを被覆する設備において、各プラズマ溶射装置は、長さが少なくとも２０mmのアークを生じ、かつスプレー粉末を加熱するために少なくとも１個のニュートロードおよび少なくとも１個のアノードを有し、スプレー粉末はアノード領域または／およびニュートロード領域または／およびこれらの中間に導入され、かつ設備はベースを微細荒削りする装置を含み、これが機械的、物理的または吹付微細荒削りする装置である設備に関する。

Description

【発明の詳細な説明】セラミックの薄層を溶着させる熱溶着法および関連装置本発明は、プラズマ中で溶融したスプレー粉末によってベースをプラズマ溶射層で被覆する方法、複数のプラズマ溶射装置および少なくとも１個の防音ブースを含む設備、ならびに該被覆ベースの使用に関する。セラミック層を溶着させるためには、非定常状態の短アークを有するプラズマ溶射装置を用いるプラズマ溶射法が公知である。操作において、該装置は、たとえば約２０００Ｈｚで発振して、カソードから約１０から４０mm程度の大きさの距離にルートを生成することができる。このようにして生成した高温ガスジェットを、一種の機械的締結物としてベースに粉状物質の付加物を適用させるのに使用する。このプロセスは、ほとんど、単品製造および量産のいずれにおいても、場合により束の形状をとることもある単品を被覆するのに用いられる。ベースは、たとえばロボットのような可動装置によって循環的に対称であるかさもなければ５０μｍを上回る層であることができることはＤＥ−Ａ−4,315,813 およびＤＥ−Ａ−4,210,900 により公知である。さらに、ＤＥ−Ａ−4,210,900 によって、薄いベースや小重量のベースの場合には、とくに、ベースの形状や微細構造を変えないように、圧縮空気または液体二酸化炭素を用いる冷却によって、熱の作用を相殺しなければならないことも公知である。ＤＥ−Ｃ２−4,105,407、ＤＥ−Ｃ１−4,105,408 およびＤＥ−Ｕ−9,215,133 は、複数のカソード、複数のニュートロードおよび環状アノードを含むことができるプラズマ溶射装置を教示している。ＥＰ−Ａ−0,596,830 はスプレー粉末をカソードまたはアノードの前に置かれたホルダーを経て軸方向にガスジェット中に導入するプラズマ溶射装置を記述し、この場合には、スプレー粉末はとくにアノード後方のガスジェット中に導入された。ＤＥ−Ａ−4,344,692 はベースを荒削りする方法を教示している。ＷＯ94／05507 はプラズマ溶射によって層の厚さが約２０μｍ未満の酸化物層によって薄膜を被覆する熱的方法を開示している。この層は金属またはプラスチックより成る薄いベースもしくは親水性にするためのオフセット版面用の紙含有物質に適用される酸化物質より成る層である。しかし、この方法を薄膜の被覆に実施することは難しい。非定常の短アークで作動するＷＯ94／05507 の実施例１に示すプラズマ溶射装置を用いるためには、この方法において高温プラズマガスジェットを発生させるためにかなりの電気的エネルギーが使用され、同時にこのエネルギーのかなりの部分は熱としてベースに移行する。この方法において、水素および／または窒素のような熱伝導率のとりわけ大きいプラズマガスの一般的な補助的使用がこの移行を助ける。したがって、ベースの平面度の変化をできるだけ少なくするかまたは機械的強度を保持させるためにかなりの出費を要する冷却によってこの熱を除去しなければならない。いくつかの一般的プラズマ溶射装置の場合は、適切な熱除去はほとんど不可能である。とくに、とりわけ薄い層をつくる場合には、非定常プラズマ溶射装置に関連する種々のエネルギー入力、したがって物質のさまざまな適用が重要である。この方法の別の欠点は、とくに薄層の製造に要求されるセラミック粉末を強烈に溶融させる場合に、たとえば直径約１２mmの比較的小面積が点状のプラズマジェット適用物で覆われるという事実に見出すことができる。ある面積を被覆する場合に、これは必然的に極めて多くのプラズマ溶射装置または複雑な機械装置の使用をもたらし、それによりこの方法は振動や高温応力のために危険を生じる。この方法の別の欠点は騒音の発生が極めて大きいという事実に見出すこともできる。したがって、たとえば最新技術による複数のプラズマ溶射装置を作動させる場合には、装置の数によって約１２０ないし最高１４０ｄＢ（Ａ）に高まる騒音レベルがＤＩＮ45630 およびＤＩＮ45635 によって測定される。被覆装置は、可能としても、好ましくはストリップ状のベースを連続的に供給・排出させるための開口部が便宜上なければならぬので、この場合には防音を適切に行うことができない。この場合には、作動中に短時間の保守のためであっても装置に近づくことは許されないので、装置に近づくために操作を中断することが必然的に必要になる。ＤＥ−Ｂ−2,348,717 は、版面のファウンテン液ガイドとして被覆物を使用するためのプラズマ溶射法による二次元フィルムの別の熱被覆法を開示している。該フィルムは、比較的粗い表面構造をもたらす難溶性または不溶性のカーボネート、シリケートまたは石炭より成る粉状物質の層である。ＷＯ94／05507 にすでに記載された欠点のほかに、この方法には、微細な表面構造を使用できるように該層の表面を加工しなければならないという別の欠点がある。本発明の目的は、金属もしくは有機物質または、たとえばプラスチック／金属複合体のような複合材料の極めて多様なベースに被覆しうる手段によって、比較的大面積のベースに層を連続的に均一な熱適用するための量産に適する効率的な被覆法を提示することにある。また本発明の目的は、要望があれば薄い層および厚い層を適用でき、また必要に応じてプラズマ溶射層からベースを引き離すかまたは侵食させることができる手段による熱被覆法を提示することにある。さらに本発明の目的は、前記被覆法に適する設備を提示することにある。本発明によれば、この目的はプラズマ中で溶融させたスプレー粉末によってベースをプラズマ溶射層で被覆する方法において、スプレー粉末を、粉末供給ダクトを経て、プラズマ溶射装置のチャンネル内のニュートロード領域、アノード領域、またはこれらの中間に導入させ、少なくとも１個のアークは、時間内の少なくとも一部分の間少なくとも２０mmの長さを有し、かつベースは所謂連続ストリップまたは少なくとも0.005 ｍ²の大面積のフォーマットである方法によって達成される。本発明によれば、この目的は、複数のプラズマ溶射装置および少なくとも１個の防音ブースを含むベースを被覆する設備において、各プラズマ溶射装置は、長さが少なくとも２０mmのアークを発生し、かつスプレー粉末を加熱するために、少なくとも１個のニュートロードおよび少なくとも１個のアノードを含み、スプレー粉末はアノードの領域または／およびニュートロードの領域または／およびこれらの中間に導入され、かつ該設備は機械的、物理的または吹付け微細荒削り用装置であるベースを微細荒削りする装置を含む設備によっても達成される。本発明によって用いられるプラズマ溶射装置は、少なくとも２０mmの長さのアークを発生させ、またスプレー粉末を加熱するために２個以上のカソード、少なくとも１個のニュートロード、および少なくとも１個のアノードを取付けることができ、スプレー粉末はアノード領域または／およびニュートロード領域、または／および両者の中間に供給することができる。好ましくは該装置は少なくとも３個のカソードまたは／および３個のアノードを有する。該装置は、また環状構造の少なくとも１個のカソードを備えることもできる。カソードはプラズマ装置の縦軸の中心に置くか、またはリング、オーバル形リングまたは多角形状に好ましくは縦軸に対して対称的に置くことができ、またとくに多カソードのプラズマ溶射装置の場合にはカソードはたとえばセグメントのような１個以上の要素より成ることができる。アノードも１個以上の要素より成ることができ、多カソードプラズマ溶射装置の場合にはこれが好ましい。アノードまたはアノードの要素をリング、オーバル形リング状、さもなければ変形リングまたは多角形状に置くこともできる。１個以上のニュートロードをカソードとアノードとの間に置くことができ、とりわけ、アークを長くするためにはとくに少なくとも３個のニュートロードを設置する。２０mmよりも短かいアークを短アークと呼ぶ。３mmよりも長いアークが好ましい。プラズマ溶射装置は、円形、多角形、またはほぼ円形ないし多角形構造のニュートロードまたは／およびアノードの内径によって形成されるチャンネル断面を有することができる。ニュートロードの内径によって形成されるチャンネルは直径が少なくとも５mm、好ましくは１０ないし１５mmである。このチャンネルはジェットの方向に、円錐形またはほぼ円錐形に広げることができる。粉末の供給はアノードにおいて、アノードの間で、アノードの前または部分的な量としてはアノードの後方で行うことができる。粉末供給ダクトは、プラズマ溶射装置の縦軸と横軸とによって形成される平面上で縦軸に垂直に対して＋７０ °ないし−３０°の角度で配設することができ、＋７０°だけ振れた角度がカソードの方向を指す。該ダクトはアークのルートの中心を指すことができる。粉末はプラズマ溶射装置のもっとも強く熱応力を受ける部分、すなわちアノード領域またはニュートロード、またはニュートロードの中間のようなアークおよびプラズマ熱に直接さらされる部分に供給するのが好ましい。したがってスプレー物質を溶融するのに用いられるのはフリープラズマジェットに関連するエネルギー部分だけではない。微粒状粉末の場合にとくに生じることがあり、また約５００ないし２０００μｍの大きさの滴をもたらすことがあるアノード壁における粉末の部分溶融は、それによりまた適切な燃焼設計によって概ねまたは完全に避けられる。このようなプラズマ溶射装置を作動させるためには、アークを定常状態または準定常状態で操作することが重要な場合がある。非定常挙動は，電圧の高周波変動、したがってまた電力およびプラズマ熱の変動における定電流強度となって現われ、その結果、このようにして生成する溶射層は、未溶融粒子および不均一ミクロ構造が顕著に増大することによって明らかになる。このようなプラズマ溶射装置の操作法を用いると、約１μｍ程度の大きさの厚さのアルミナ層と１平方メートルのベースに被覆する場合に、連続操作には０. ６ｋＷｈ以下、好ましくは０.４ｋＷｈ以下、とりわけ好ましくは０.２ｋＷｈ以下の電気エネルギーが必要である。消費値はこの層１μｍ当り最大１０μｍの層厚さに該当する。この方法を用いると、連続操作でベースの大面積を被覆する場合に個々のプラズマ溶射装置の騒音を１１０ｄＢ（Ａ）以下、好ましくは９５ｄＢ（Ａ）以下、とくに好ましくは８５ｄＢ（Ａ）以下に保つことができる。被覆したベースは、ガスジェット中で冷却することができる。温度応力は、ベースの裏面が、連続被覆において、２００℃以下、好ましくは１８０℃以下、とくに好ましくは１６０℃以下の温度にさらされるような程度に下げることができる。たとえば電力がわずか約１２ないし２０ｋＷであるSulzer Metco AG 製の「Tr iplex」バーナーを用いて本発明による方法でプラズマ溶射装置を操作する場合には被覆するのに精々最高２５ｋＷが必要である。合計で約１６ｋＷの電力消費の場合に、プラズマ溶射層、ベースおよび処理ロールによって吸収される消費量の大きさの程度は２.５ｋＷ、バーナーの冷却水によって吸収される消費量の大きさは約８ｋＷおよびガス／空気によって吸収される消費量の大きさは約５.５ｋＷである。排出装置は約８０℃の温度で熱ガスおよび熱風を排出する。適切な条件を設計すると、ベースはその裏面で僅か約１６０℃の処理温度にさらされる。処理ロールのクーラント、好ましくは水は、たとえば２ｍ／ｓの速度で流れる。このようなプラズマ溶射装置の操作は８２ないし８５ｄＢ（Ａ）の大きさの程度の騒音を生じ、したがって４０個のこのようなプラズマ溶射装置は操作中に約１００ｄＢ（Ａ）の騒音を発する。これと、たとえば、Sulzer Metco AG 製Ｆ４型バーナーのような通常のプラズマ溶射装置を操作する場合を比べると、約４３ｋＷの電力が必要で、その中約２２ｋＷはプラズマ溶射装置の冷却水によって吸収され、約１４.５ｋＷはガス／空気によって吸収され、さらに約６.５ｋＷはプラズマ溶射層、ベースおよび処理ロールによって吸収される。排出装置は約１６０℃の温度で熱ガスを排出する。この場合に、ベースは、その裏面で、処理ロールの冷却なしに、少なくとも300 ℃の処理温度を受ける。このようなプラズマ溶射装置の操作は１２０ｄＢ（Ａ）程度の大きさの騒音を生じるので、４０個のこのようなプラズマ溶射装置は約１３５ｄＢ（Ａ）の騒音を操作中に発生する。プラズマ溶射装置のこのような操作法によって、スプレースポットの最大厚さの１／２よりも厚い部分の有効直径が２５mm以上、好ましくは３５mm以上、とくに好ましくは４５mm以上となるように単一ショットで発生するスプレースポットを形成させることができる。通常スプレースポットは、単一カソードバーナーを用いるプラズマ溶射装置に比べてプラズマ溶射装置において２個以上のカソードを使用する場合には大きくなる。Sulzer Metco AG 製「Triplex」バーナーによって、３個の部分的に重なった個々のスプレースポットよりなるスプレースポットを得ることができる。本発明によるベースを被覆する設備の１つの態様にもとづいて、次に本発明を説明する。図１は実施例によってベースを被覆する設備の断面を表わす。ベース１は移動するＸ方向に、ベースストック２から巻戻され、同時にスロット状入口３から防音ブース４に入る。移動するＸ方向を横切るＺ方向に２列のプラズマ溶射装置５があり、ベース１が通る処理ロール６の上方に配設されている。プラズマ溶射装置５により発生した熱は、循環冷却システム９の流動方向７に流れるクーラントによって一部除去される。プラズマ溶射装置５によって、第１列のプラズマ溶射装置５で始まる個々のストリップに適用されるプラズマ溶射層１０および第２列のプラズマ溶射装置５で始まる全面にわたるプラズマ溶射層１０がベースに適用される。１１はプラズマ被覆ベースを表わす。ベースは垂直方向に調節可能かまたは自由に動く別のロール１２によって案内され、引っ張られる。プラズマ被覆ベース１１は出口３′を通って防音ブース４から取り出される。図２は本発明による設備の断面を再現し、プラズマ溶射装置５はクーラント８が流れる処理ロール６の上方に配設されている。略図で示したプラズマ溶射装置５は、とくに断熱装置を有するハウジング２０、複数のカソード２１、複数のニュートロード２２およびアノード２３を含む。アノード２３の領域内に供給ダクト２４からスプレー粉末が供給される。複数のアーク２５によって発生し、絶えず合体してフリープラズマジェット２６になるプラズマジェット２６がチャンネル２７の領域内に形成される。初めから溶融または／およびプラズマジェットの中およびフリープラズマジェット２６の中で溶融してベース１の方向に送られるスプレー粉末はベース上にプラズマ溶射層１０を形成する。プラズマ溶射装置は電流、クーラント、プラズマガスおよび冷却ガスの接続部を備えている。排出装置２８は熱ガスを排出させる。処理ロール６はクーラント８で冷却する。図３は本発明によるベースを被覆する設備の種々の装置の考えられる構成を再現する。ベースストック２から引き出されたベース１は先ず微細荒削り用または／および接着向上剤適用用の少なくとも１つの装置で処理し、次いで、とくに吹付、吸引または／および液体クレンザーによる処理によるベース１の洗浄に続く乾燥用装置１内で、とくにダスト、吹付グリットまたは／および摩耗物質を除去する。処理したベース１は次に防音ブース４内に規則的に配設されたプラズマ溶射装置５で被覆される。プラズマ被覆ベース１１は、洗浄装置１１内で、遊離粒子、とくにダストや遊離プラズマ粒子を、好ましくは吹付または吸引によって除去する。有機物質を被覆する装置では、たとえば顔料、潤滑剤または溶剤と高分子結合剤または／および着色剤との混合物のような有機物質を、今後の使用のために、たとえば版面、触媒、摩耗保護または潤滑保護層として、適切であれば複数の連続装置において適用することができる。無機物質を被覆する装置では、希土類金属、希土類金属化合物、他の触媒物質やその前駆物質、無機潤滑剤、顔料等を、今後の使用のために、たとえば触媒または潤滑保護層として、適切であれば複数の連続装置において適用することができる。場合により複数の個々の装置を含む場合もあるフォーマット化およびコンディショニング用装置では、ベースは、もし適切であれば、プラズマ溶射層から除去し、プラズマ被覆ベースまたはベースを除いたプラズマ溶射層を、たとえばほとんどの場合、長方形から逸脱する特定形状の個々のフォーマトにもたらし、また適切であれば型押、打抜、切断または類似の加工法によってくぼみを有する個々のフォーマットにもたらし、これらの目的物は、試験装置や発送装置に移す前に、生成物を完成するために、たとえば接着または溶接によって他の要素に取り付けるか、または／およびたとえば曲げまたは圧縮によって成形、たとえば曲げ加工する。個々のプロセス工程または装置の順序はある程度変えることができ、ある状況下では、個々のプロセス工程または装置は省略するか、または逆に補足的なプロセス工程または装置を付加することができる。図４はプラズマ被覆されて、有機物質を被覆し、さらに処理して版面としたベース３０の拡大断面図を示す。１プライの小塊状物体３２およびその上に載っているほぼ球形の物体３３を有する極めて薄いプラズマ溶射層１０が微細荒削りベース３１の上に重なっている。有機物質より成る被覆３４が、たとえば版面として用いられ、被覆３４のくぼみ領域３５が水層３６によって被覆される被覆３４のパターンを備えている。図５は２つの微細荒削りベース３１ａおよびｂのトポグラフィーを再現し、該構造を粗度測定器を用いる走査断面図法により測定領域の多数の測定線上に直径０.５μｍの走査ニードルを用いて測定した。アルミニウムの試料ａは、比較的粗いブラストグリットを用いる通常のサンドブラスト法によって荒削りした表面を有する。このトポグラフィーは多くの凹みを示し、その凹みは表面に近い層内のベースの変形を伴い、またひずみを生じている。対照的に、試料ｂは極めて細かいブラストグリットでブラストしたもので、その表面には、比較的多数の微細クランプピークが現われている。この荒削り法を用いると、変形を少なくすることができ、したがってベースのひずみはほとんど完全になくなった。本発明の好適な態様に関する下記の説明は、図面と合わせればさらに詳細な説明に役立つ。ベースとしては、好ましくは金属箔、合金箔またはプラスチックフィルムを連続的にかつ一定速度でロールから端部を有することができる所謂連続ストリップとして巻き戻すかまたは二次元フォーマットとして搬送する。ベースは、たとえば幅が２０、４０、７０、１２０、２５０、４００、７５０、１２００または１８００mmの所謂連続ストリップ、または面積が少なくとも０.００５ｍ²、たとえば０.０１、０.０５、０.１５、０.４、０.８、１.２または３ｍ²の大面積のフォーマットである。ベースは通常３mm以下、ほとんどの場合２mm以下、好ましくは０.１ないし０.６mm、とくに好ましくは０.１２ないし０.３５mmの厚さを有し、その表面には粗い有機または／および無機残留物、とくに砂やごみがほとんどない。表面の好ましい状態では、絞りまたは圧延工程による天然または合成残留物はほとんど無く、またとくに好ましい状態では表面を補助的な脱脂工程にかける。ベース用に使用する物質は、金属もしくは合金、プラスチック、充填剤含有プラスチック、紙含有物質、複合材料等、物体、複合物体、とくに純度約９９.５％のアルミニウム、低純度のアルミニウムグレード、アルミニウム合金、積層アルミニウム箔、銅、銅合金、鋼鉄、ステンレス鋼もしくは精錬鋼、紙含有組成物、たとえばブリキ、トタン、銅もしくはニッケルメッキ板のような金属含有組成物または、たとえばプラスチックフィルムに接着させた金属箔もしくはプラスチックフィルム上に押出した金属フィルムのような金属／プラスチック組成物または紙組成物に積層させた金属箔であることができる。とくに、圧延アルミニウムおよび圧延アルミニウム合金のベースはさらに高温では軟アニーリングが起るので強度や硬度を損うことなしには最高約１８０℃の温度応力にしか通常耐えられない。ベースに用いられるプラスチックは熱可塑性ポリエステルならびにポリエチレンテレフタレートを含有するホモポリマーおよびコポリマーが好ましいが、これらと他のポリエステルまたはポリアミドとの混合物もとりわけ適当である。プラスチックはさらに最高５重量％の量の充填剤をも含有することができ、アージラシアスアース、二酸化チタンおよび／またはアルミナのような無機充填剤がとくに適当である。プラスチック中に少なくとも１.５重量％の充填剤があるのが好ましい。とくに、プラスチックは、また、たとえば樹脂のような補助的な接着促進剤および／または金属フィルムを有することもでき、それらはもしも適切であればプラズマ被覆の前に適用する。接着向上剤の適用は微細荒削り効果を伴うことが多いので、微細荒削り表面はこのようにして生成させることもできる。ベースは物理的および／または機械的乾燥プロセスによって生成させるのが好ましいが、化学的に得ることもできる微細荒削り表面を有している。この荒削りの面は、ＤＩＮ４７６１，１０１ページの「Aluminiumlegierungen［Aluminumal loys］、またはとくに好ましくは１４３ページの「Stein[Stone]」により表面うなトポグラフィーを有している。ＤＩＮ4768により、ピークから谷までの平均高さとして測定される粗度は、それぞれの場合に１０回の測定値の平均値を基準にして通常４μｍ未満、好ましくは０.２ないし２μｍ、とくには０.３ないし１ .２μｍである。微細荒削りベースは、またそれ自体すでに予備的に加工された形態で存在することもできる。荒削り工程は、たとえば圧延または／および型押のような機械的方法、物理的方法すなわち圧力ジェット、サンドブラストまたはブラッシングによって行った場合もある。とくに生産ラインに組み込むこともできるコロナ放電、コンデンサ放電やアーク放電のような物理的微細荒削り法を理解すべきである。しかし、本発明による微細荒削り法は有利なことに、たとえばＤＥ−Ａ−4,34 4,692 に記載されているように熱被覆工程前の補助的プロセス工程で行われる。サンドブラスト法は生産ラインにおける微細荒削りにとくに適している。このプロセス工程において、ベースは、耐摩耗性物体として可撓性ゴムカバーを備えている処理ロールとの押込み接触し機械的に荒削りするのが好ましく、このような場合には、ひずみによってベースを損傷せずに微細荒削り表面を生成する。脱錆、ペイント層の除去または表面固化のためのサンドブラスト法はすでに公知であるけれども、薄い箔またはフィルムがほとんどひずみなしにとりわけ均一な微細荒削り表面トポグラフィーを有することができるのは驚くべきことであった。本発明によれば、ジェット圧力が０.５から２バール、好ましくは０.６から１ .５バールの範囲にある複数のノズルを備えた圧力ジェット法を用いるのが有利である。圧力ジェット法はＤＩＮ８２００に記載されている。ベースからのノズルの距離は３０から２００mm、好ましくは５０から８０mmの範囲にある。鋭角のジェッティング剤が、ジェッティング剤としてとくに適当であり、とりわけ粒度が１０から１００μｍ、好ましくは２０から５０μｍの範囲にあるAl₂O₃のような無機ジェッティング剤が好ましい。この場合ジェッティング剤の量は、一定速度で添加してベース１ｍ²当り２００から１２００ｇに達する。さらに別のサンドブラスト法、すなわちＤＩＮ８２００に定められているような所謂遠心ブロアーを有するジェッティングと同様に本発明によって用いられ、格別の利点がある。１個以上の遠心ブロアーに一定速度でジェッティング剤を装入する。適当なジェッティング剤は鋭角の鉱物質ジェッティング剤、たとえば不均整または角ばったステンレス鋼粉末のような金属ジェッティング剤さもないと粒度範囲が１０から５００μｍの耐浸食性プラスチック粒子である。遠心ブロアーは、誘導管の変形や刃の変形において、幅が最大１０００mmの均一物質の大面積ジェットパターンを与えるように設計される。次にジェッティング剤の量はベース１ｍ²当り２００から３０００ｇ、好ましくは５００から１５００ｇである。両プロセス工程によるジェッティング剤はダスト粒子の除去によって絶えず処理される。生じる残留物は物質の循環中に、純粋な形でリサイクルすることができる。ベース上に存在するダストはこの循環に含まれる吸引等によって除去される。前記の微細荒削り法の組合せは本発明によっても可能である。したがって微細荒削り法は、たとえば圧延および／または型押工程／圧力ジェット、圧延および／または型押工程／遠心ブロアージェットまたは遠心ブロアージェット／圧力ジェットのように経済的および工業的に意義がある。プラズマ被覆の前にベースは少なくとも一方向に機械的に延伸させることができる。ベースを被覆する設備は、定尺に切断または／およびベースをフォーマットする少なくとも１つの装置を含むこともでき、さらに少なくとも１つの加熱または／および冷却装置を有することができる。薄いストリップ状のフィルムまたは箔より成るのが好ましい微細荒削りベースは次の工程として、少なくとも１個の多カソード長アークのプラズマ溶射装置を有する被覆部位に送ることができる。１００mm以上の幅が好ましい微細荒削りベースを、プラズマ溶射被覆のために入口から防音および遮光フードの中に入れ、出口から外界に出す。この入口および出口は連続的操作中の音の発生が防音ブース外の場所で８５ｄＢ（Ａ）未満になるように設計するのが好ましい。プラズマ溶射処理工程では、プラズマ溶射装置の熱ガス噴射下でＸ方向に１０から２００ｍ／分の範囲の速度で１個以上の処理ロール上をベースを移行させる。複数のプラズマ溶射装置の使用は量産の場合には必要であり、プラズマ溶射装置の数はベースの幅および被覆中のプラズマ溶射装置の移動または固定位置決めによって本質的に決まり、たとえば２，６，１２，２４，３６，４８および６４であることができる。したがって、とくに有利な使用では、たとえば幅１２００ mmのストリップに４０個の定常的に作動するプラズマ溶射装置によりストリップの幅全体に被覆することができる。鋼鉄、アルミニウムや他の金属合金でつくることができる処理ロールは、本発明により、ベースが必然的に受ける熱プロセスにより熱を吸収する物体を有している。たとえば最高５ｍ／ｓ、好ましくは０.２から３ｍ／ｓの流速で流動方向にロール本体を通過する水のような熱除去流体媒質は、とりわけ効果的に熱除去処理を助ける。加熱された流体媒質は、処理ロールを離れた後、循環冷却システムに戻って冷却するのが好都合である。さらにロールは、とくに処理ロール上でのベースの押し込み接触に役立つ。プラズマ溶射装置はＺ方向に平行に配設するのが有利である。Ｚ方向におけるプラズマ溶射装置間の距離はプラズマ溶射ジェットの管理可能な幅および形態によって予め決められ、プラズマ溶射装置から１回のショットで均一に適用される比較的厚い溶射層の場合には１０mm以上、好ましくは２０ないし５０mmになる。とくに有利の場合には、プラズマ溶射装置を複数の処理ロールの上に分布させ、それによってＺ方向のプラズマ溶射装置間の距離を処理ロール数倍だけ増す。処理ロール上に配設したプラズマ溶射装置を交互に埋め合せることができる。本発明によれば、プラズマ溶射装置はＺ方向に対して一定位置に配設するのがとくに好都合である。とくに、たとえばプラスチックフィルムのようなとりわけ薄くて温度に敏感なフィルムの場合または最高ストリップ速度の場合には、しかしながら操作中のプラズマ溶射装置の前後の移動が有利であることができる。Ｘ方向におけるベースの移行を中断させる場合には、プラズマ溶射装置を処理ロールから振り離すのが有利である。プラズマ溶射装置下端のガス出口とベース表面との距離は４０から２００mmが好ましく、５０から１００mmがとくに好ましい。熱処理、すなわちプラズマ溶射は、電気的に相互に隔離され、プラズマチャンネルの周りに好ましくは環状に配設される少なくとも２個のカソードを有する間接プラズマトロンを有する多カソード長アークのプラズマ溶射装置を用いて行う。プラズマチャンネルは相互に電気的に絶縁された複数のニュートロードおよび少なくとも１個の隣接アノードによって形成される。ほぼ管状のプラズマチャンネルは直径が約６から２０mm、好ましくは８から１５mm、長さが少なくとも２０ mm、好ましくは３０から８０mm、とくに好ましくは３２から７０mmである。この配置は環状ダクトを経て付加することができるプラズマ生成ガスまたはガス混合物を加熱するのにとくに容易に利用することができる。Ｈ₂、Ｎ₂等のような分子状ガスと比べて、同じエンタルピーでは温度が高いアルゴンやヘリウムのような好ましいガスのガス混合物が本発明によってとくに容易に用いることができ、そのヘリウム含量は５から５０容量％、好ましくは１０から４０容量％である。電力は直流の形で、約１０から３０ｋＷのレベルを加えるのが好ましい。総電流として測定した電流の強さは好ましくは２００から５００Ａになることができる。カソードの数に対応して、カソード側の電流分割器によって電流を２つ以上の部分電流に分けることができる。アノード環は、スプレー粉末がジェット軸に直角の軸に対して＋７０°から−３０°の角度でキャリヤーガスの助けをかりて直径が好ましくは０.５から３.５mm、とくには１から２.５mmの１個以上のオリフィスを経て好ましくはアノードに導入されるように設計することができる。ボアの数はカソードの数に一致するかまたは整数倍にするのが好都合である。次にスプレー粉末の量は１つ以上の粉末計量装置によって均一に予めセットされ、量の許容誤差は１±５１重量％以下である。粉末の総量は粉末分配器によって、好ましくは等量の少なくとも２部分量に分割できるのが有利である。必要な場合、とくに金属粉を用いる場合には、操作をブランケットガス雰囲気または真空中で行わなければならない。粉状セラミックスプレー粉末の化学的および形態学的組成はＤＩＮ３２５２９、第４版／１９９１に明記されている。ベースは酸化物、ケイ酸塩、チタン酸塩、ホウ化物、炭化物、窒化物、金属、金属合金または／および無機顔料、とくにアルミナ、スピネル、ホウ化チタン、アルミニウム、ニッケル、銅、ニッケル含有合金、もしくは銅含有合金に富む物質で被覆することができる。本発明によれば、Microtrac レーザ光回折法で測定して粒度が６０μｍ以下、好ましくは３２μ ｍ以下の粉末または粉末混合物を微細層をつくるのに使用する。セラミック粉末および粉末混合物はチタン酸塩、ケイ酸塩または／およびスピネルのような物質を含むこともでき、また溶融もしくは焼結状態にあるか、さらに適切ならばブロック状態の破壊粒子であるのが好ましい。粉末または粉末混合物の粒度分布が、 Microtrac レーザ光回折法により測定して主として３から１２μｍの粒子範囲にあるのが好ましい。この好ましい粒度分布において、３μｍ以下の粒度画分が１５容量％以下の量の細粒として存在することができ、１２μｍを上回る画分が１５容量％以下の量の特大粒として存在することができる。本発明の範囲内では、セラミックおよびたとえばポリビニルアルコールのような有機結合剤の凝集粒子から出発することもできる。この凝集は次の乾燥および／またはスクリーニングとともにジェッティング工程によって行うのが有利である。凝集サイズは好ましくは５から１００μｍ、とくには１０から６０μｍであり、対応する細粒および特大粒が存在することができる。凝集物中の粒子は、粒度がとくに１２μｍ以下、好ましくは６μｍ以下、とくに好ましくは約０.５から３μｍである。さらに、前記のような機械的混合物または凝集粒子、セラミックおよび、たとえば Al₂O₃−Al、Al₂O₃−MgO −アルミニウム合金の単一粒子を有するもの、または金属外被を有するセラミック凝集物を使用するのが有利であり、プラズマジェット中の金属部分を部分的または完全に酸化させることができる。ブロック状、凝集化または／および微粒化粉末の所望の組合せも同様に可能である。双峰粒度分布または多モードの粒度分布を有する粉末または粉末混合物を、薄くて強固に付着する層をつくるに用いるのが好ましい。薄層という用語は、平均厚さが０.１から２０μｍ、好ましくは０.２から８μ ｍ、とくに好ましくは０.４から５μｍの層と理解すべきである。他方、厚さが５０μｍ以上、８０μｍ以上、１２０μｍ以上、さらには３００μｍ以上の層を溶射する場合が、ある用途にとっては有利であることができる。厚い層には、必要な厚さを得るために、複数のプラズマ溶射装置の構成によって複数の単一層を重ね合わせることが必要である。厚い層は、後の工程で、たとえば脱着、溶解または侵食によってベースを除去すべき場合にとりわけ必要である。本発明による層は通常、並列して配設され、また場合によっては他の上にもあり、多孔質またはほとんど高密度の層をもたらす高比率のおおむね小塊状の物体を含有する。層およびとくにその表面はずっと小さくほぼ球形の物体の一部分を含有することができる。適用される個々の物体の総数中のずっと小さいほぼ球状の物体の比率は少なくとも５％、好ましくは少なくとも１０％、とくに好ましくは３０％、および極めてとくに好ましくは少なくとも５０％になる。層の厚さは被覆ベースと非被覆ベースとの重量差から重量分析的に求めるか、または好ましくは少なくとも３つの横断面および顕微鏡的評価によって求めることができる。その接着強度は、接着テープを被覆ベースに押付けた後被覆表面と直角に急激に引き剥すことによって求めることができる。この場合に、被覆物質が接着剤層に付着して残っていてはならない。接着強度を試験する別の方法ではベースを９０°折り曲げた結果として層が剥離してはならず、その折り曲げ径はベースの厚さによって決まり、０.３mmの厚さの場合には曲げ半径は１mm程度の大きさが好ましい。ベース上の層のトポグラフィーおよび厚さは、プラズマ溶射層を、ペイントや接着剤層を吸収するため、触媒として直接使用するため、触媒を適用するため、化学反応の触媒もしくは接触反応装置を調製するため、または印刷技術、とくにオフセット版面におけるファウンテン液ガイドをつくるために、機能層、たとえば摩耗層として用いることができるように設計することができる。本発明によって適用されるセラミックまたは金属−セラミック層は、機能層または多機能層として用いる場合に極めて重要な性質を有する。残留多孔性の結果として、該層は触媒を吸収し、直接触媒として作用し、または薄い摩耗保護層として役立ち、とくに薄いトップコート層と吸収するのに適当である。該層は親水性でありファウンテン液による腐食に抵抗性がありうる。該層は、また親水層として用いる場合およびオフセット版面として用いるために次に感光性樹脂を被覆する場合に顕著な効果を有する複数の機能を果す。微細荒削り、長アークのプラズマ溶射装置によるプラズマ溶射および使用スプレー粉末の相互作用によって、ベース上に本発明によってできた層は、版面として用いる場合には、ＤＩＮ４７６８によるピークから谷までの平均高さＲｚが４から１０μｍという大きさの程度の粗度を有し、該粗度は、大抵の場合に５μｍ以上または１０μｍ以上の小塊状で一部に割れ目のある物体、とくに好ましくは主に０.５ないし３μｍの大きさの多数の丸い小滴または丸い溶射小滴によって形成され、この物体は均一に分布した分散粒子として被覆に強固に付着して結合している。被覆ベースの二三の他の用途については、その表面は版面よりも粗い構造を有することができる。該表面は、その場合には３０μｍ未満、好ましくは２０μｍ未満のピークから谷までの高さＲｚを有する。このようにして形づくられた層は未付着のダスト粒子を吹き飛ばすが吸い込むことによって洗浄するのが好都合である。ベースに被覆する設備はプラズマ溶射層からベースを除去する装置を含むことができ、これはとくにベースの剥離、侵食または／および溶解に役立つ。本発明の範囲内では、セラミック層で覆われたベースを、打抜、切断等により製品寸法にフォーマットすることができる。このようにして得られたフォーマットは、たとえばベースまたはプラズマ溶射層の裏面に接着剤コーティングまたは両面接着剤を両面に適用することによって粘着可能なフィルム、とくに摩耗保護フィルムとして用いることもできる。さらに、潤滑剤との相互作用にとくに有利なこのような特性の表面を有する二次元フォーマットを使用することができる。本発明による別の用途は、抑制シリンダーにブロックプレートとして締結された被覆ベースがオフセット印刷プロセスにおいて長持ちする良好な給水をもたらす場合に生じる。別の処理工程では、層支持体として用いる場合に、被覆ベースをプラズマ溶射後の別の製造プロセスにおいてさらに少なくとも１回の被覆プロセスにかけることができる。ベースのこの被覆は、コーティングノズル、ブレードを用いるスピンコーティング、スプレー、ディッピング、ロールにより、またはフローコーティングによって行うのが有利である。適用する組成物は有機溶液、水溶液、感光性または／および放射線感受性混合物、もしくは記録材料を含むことができる。これら組成物は、さらに鉱物、無定形物質、ガラス、セラミック、他の硬質物質またはプラスチックのような充填剤を含む場合には好都合である場合もある。別の層を被覆することができるプラズマ被覆層を層支持体という。同様に被覆されて親水性を有するベースは感光性もしくは放射線感受性混合物または記録材料の層支持体、たとえばオフセット版面の層支持体として用いることができる。この用途における層支持体としては、被覆した無処理のベースを用いることができる。オフセット版面としての別の態様では、層支持体をたとえばポリビニルホスホン酸、シリケート、ホスフェート、ヘキサフルオロジルコネートまたは／および水解テトラエチルオルトシリケートを用いる乾式または湿式化学プロセスにより、補足的化学処理に付した場合がある。放射線感受性記録材料、溶剤および高分子結合剤または染料、着色剤等のような他の物質の混合物を処理または無処理の層支持体上に付着させる。記録材料に用いられる放射線感受性物質はとくにジアゾニウム塩、たとえば１ ,２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸誘導体、好ましくは縮合しうる芳香族ジアゾニウム塩のエステルまたは縮合物、たとえばジフェニルアミン −４−ジアゾニウム塩とアルデヒド、好ましくはフィルムアルデヒドとの縮合物である。とくに有利な場合にはジアゾ単位以外に、縮合させうる化合物から誘導される他の光不感受性単位、とくに芳香族フェノール類、カルボン酸、ホスホン酸類、チオール類、酸アミドまたは酸イミドをも含有する共縮合物が用いられる。これら縮合物はたとえばＤＥ−Ａ−2,024,244 およびＤＥ−Ａ−2,739,774 に記載されている。本発明による記録材料は、さらに、アルカリ水溶液中に可溶または分散可能な高分子水不溶性結合剤を含有する。感光層中のジアゾニウム化合物の含有量は概して５から８０重量％；高分子結合剤の含有量は２０から９０重量％で、いずれも層中の固形物の総重量に対する値である。高分子結合剤の例はポリビニルエステルコポリマー、ポリビニルアセタール、芳香族もしくは脂肪族ヒドロキシル単位、カルボン酸単位、スルホン酸単位、ホスホン酸単位、酸アミド単位またはイミド単位を含有するアクリル／メタクリル酸エステルポリマー、クレゾール／ホルムアルデヒドノボラックまたはヒドロキシスチレン、ヒドロキシフェニルもしくはジヒドロキシフェニルメタクリレートもしくはジヒドロキシフェニルメタクリルアミド、ヒドロキシベンジルもしくはジヒドロキシベンジルメタクリレートもしくはジヒドロキシベンジルメタクリルアミドのコポリマーである。記録材料は、混合物の成分と不可逆的には反応しない溶剤混合物中に溶解させる。溶剤は、予想される被覆法、層の厚さおよび乾燥条件に合致しなければならない。適当な溶剤はブタノンやメチルエチルケトンのようなケトン類、トリクロロエチレンや１,１,１−トリクロロエタンのような塩素化炭化水素、メタノール、エタノールやプロパノールのようなアルコール類、テトラヒドロフランのようなエーテル類やエチレングリコールモノアルキルエーテルやプロピレングリコールモノアルキルエーテルのようなグリコールモノエーテル類、およびブチルアセテートやプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートのようなエステル類である。特別の目的には、さらにアセトニトリル、ジオキサン、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシドまたは水のような溶剤を含有する混合物を用いることもできる。グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルおよびプロピレングリコールモノメチルエーテルがとくに好ましい。以後の処理工程中の耐薬晶性、接着、着色または色調変化のような性質を改善するために、さらに他の物質を混合物に加えることが多い。これらのものは、たとえばポリグリコール類、フッ素またはシリコーン添加剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、表示染料、染料、顔料および発色剤である。鉱酸や有機酸のような酸性の化合物もジアゾ化合物の安定化のために存在させることができる。便宜上ラインに配置した７０から１４０℃の温度で通過時間が０.５から４分の連続熱風循環乾燥炉で乾燥後、好ましくは０.５から３ｇ／ｍ²の層質量を有する乾燥して強固に付着した被覆が層支持体上に形成されるような量でこれら適用組成物が堆積する。このプロセス後、版面をストリップ状物質から最終の大きさに切断することができる。この版面はフィルムオリジナルからバキュームコンタクト複写フレームに照射できるほどの平坦性を有している。印刷パターンをアルカリ水溶液で現像できるように耐アルカリ性がとくに良好である。好都合なことに版は保存することができる。層を硬化させるための補助的な熱処理も可能である。印刷機において、本発明によってつくった版面は良好なアイドリング挙動、良好な給水および１９８２ＦＯＧＲＡ−ＵＧＲＡオフセットテストウェッジに関し、ウェッジ段階４がオープンで、１０μｍの円状線か被覆状態で再現され、またオープン状態では８μｍでさえもこれが得られるほど、とくに細線やスクリーンドットの良好な再現を示す。この版面は、また非画像部分における良好な給水が特徴づけられ、とくに長時間稼動に安定である。約２００から２５０℃における印刷パターンの補足的熱処理は長時間稼動の安定性を３００から５００％高める。図２に示すような多カソード長アークのプラズマ溶射装置を用いるテストにおいて、多種多様の操作条件で、驚くべきことに、極めて薄い可撓性かつ耐侵食性被覆を、機械的処理をせずに、層厚さの小さな許容誤差内で極めて有利に調製できることを見出した。驚くべきことに、該テストにおいて、非定常の短アークを有するプラズマ溶射装置と比較した定常の長アークの実際的な性質が良好な溶融挙動に反影しただけでなく、定常のアークによって、多カソードのプラズマ溶射装置の個々のアノードルートかアノード領域における粉状セラミック物質の導入にとくに適していることも見出された。たとえば、とくにアークのルートの方に指向する１個以上のボアを経てアノード領域に粉末を導入することによって、とくに均一な大面積の十分に溶融した付着パターンでとりわけ大面積のベース上への付着に適する付着パターンが得られるように表面に粉末の堆積を並べることができる。被覆中に明確に表われる別の効果は、非定常で短アークのプラズマ溶射装置と比較して、粉末をとくに十分に溶融させながら、ガスジェットを発生させる電力を著しく低減させることによって得られた。フィルムベースへの低熱入力はこの効果と関連して、低い必要な冷却効果として確実におおむね顕著になり、その結果、とくに温度応力下でミクロ構造的変化を受けるフィルムベース、またはとくにプラスチックフィルムのような温度に敏感なフィルムベース、紙含有ベースのような複合材料、金属／プラスチック複合材料または、たとえば鋼鉄とスズのような高および低融合金属の複合体、または極めて異なる性質を有する成分との複合材料が好適に被覆される。さらにこのような操作の利点は騒音発生による妨害が、たとえば単一プラズマ溶射装置の場合にとくに８２ｄＢ（Ａ）へと低下し、その結果、複数の該プラズマ溶射装置を用いる場合に、遮音測定値を、ベースを絶えず開口部から防音ブースへ供給することが可能になる程度まで低下させることができる。低い騒音発生の結果として、防音ブース内の作業員には危険がなく、プラズマ溶射装置や残りの装置の操作を中断せずに短時間の保守処置を行うこともできる。実施例：実施例１圧延潤滑剤を除去した厚さが３００μｍ、幅が１２００mm、肉厚no．３０２０５、ＤＩＮ４７６８によりピークから谷までの平均高さＲａとして測定した粗度がそれぞれ１０回の測定値の平均値を基準にして０.２から０.４５μｍである艶消し圧延アルミニウム箔ストリップを最初の加工工程で、圧力ジェット法による微細荒削りのサンドブラストプロセスにかけた。使用したジェッティング剤は溶融され破壊された角がとがったアルミナ粉末で、Al₂O₃分が９９重量％、Microtr acレーザー光回折法により測定して粒度が１２から４０μｍで過大粒子および／または微細粒子含量が約５％であった。このジェッティング剤を機械的計量装置によって、アルミニウム箔ストリップ１ｍ²当り５５０ｇの量を均一に装入し、０.６バールの圧縮空気で加速した。ジェッティング剤は粒度３μｍ未満を除くスクリーニング工程後再使用可能であった。サンドブラストプロセスの結果として、Ｄポグラフィーが、「Stone」と定義しなければならない微粒状表面が形成された。表面の粗度は、ＤＩＮ４７６８によりピークから谷までの平均高さＲａとして測定し、それぞれ１０回の測定値の平均を基準にして０.８から１.２μｍであった。微細荒削り後、緩く付着しているダストを吸引により除去して表面を洗浄した。次のプロセス工程では、洗浄した箔ストリップをさらに、スプレー粉末を高温プラズマジェット中で加熱し、それを微細荒削り表面にスプレーすることによって、プラズマ溶射層で被覆した。このプロセス工程において、電気的に５０ｍ／分の定速で駆動する２個の処理ロールによって箔ストリップを高温ガスジェット下から移行させた。この処理ロールは約２ｍ／秒の速度で約１５℃の水の流れを搬送した。箔ストリップは、約０.３ｍの長さにわたり処理ロールに対して１０Ｎの力で箔ストリップが支えられるようにさらに３本のロールを通過した。４０個のプラズマ溶射装置からの高温ガスの出口は処理中心軸に平行に配設された。プラズマ溶射装置は、ガス出口から箔表面までの距離が７０mmで２本の処理ロールの上方に３０mmの間隔で均一に分布した。個々のプラズマ溶射装置それぞれの同一条件は後記する。単一高温ガスジェットはカソード端からアノード端までの距離として測定して長さが４０mm、直径が１０mmのチャンネル内で発生した。リング状に配設される直径３mmの３個のカソードおよびアノードリングから直流１６ｋＷの電力が加えられた。良好なルートを有し、内部ではほとんど燃焼せず、アークの長さが一定の３個のアークが発生した。定常ルートの証明は、ほとんど５７ボルトで一定の実際のアーク電圧の測定によって得られる。加熱すべきプラズマガスはアルゴン５８容量％およびヘリウム４２容量％の混合物より成った。カソード配列軸内の環状アノード環中へ３つのボアから９０°の角度で送入した粉末は「Microtrac」レーザー光回折法によりメジアン値として測定した粒度Ｄ₅₀が７μｍのものであった。アルミナ粉末はAl₂O₃分が９９.５％で、溶融され破壊されたブロック状で存在した（ＤＩＮ３２５２９／４−９１、図Ａ１に該当）。粉末の供給速度は６ｇ／分で、機械駆動計量装置により±５％の許容誤差で均一にプリセットされ、また５ｌのアルゴンキャリヤーガスにより加速されて粉末分配器で等サイズの３つ部分流に分割された。溶融粉末に移行した高温ガスジェットはベース上に、箔ストリップの裏面に貼付した温度測定ストリップにより測定して１６０℃未満の温度を生じた。アルミニウム箔ストリップの１６０ＭＰａ／mm²という引張強さは熱の作用によって悪影響を受けなかった。ガスジェットから生じた騒音発生はガスジェット当り８５ｄＢ（Ａ）であった。４０個のプラズマ溶射装置は、プラズマ溶射装置を囲む防音ブース内で測定して１０１ｄＢ（Ａ）の騒音発生を生じた。ＤＩＮ３２７６０による耳保護具を用いれば短時間の保守作業のために防音ブースに近づくことが可能であった。厚さ１００mmの鉱物質繊維層の壁を備えたハウジングを含む防音ブース外では、Nois e Accident Prevention RegulationによるＤＩＮ４５６３０およびＤＩＮ４５６３５の下で８０ｄＢ（Ａ）という騒音ヘベルが測定された。このテストで生成した層は「差動秤量」法により測定して２ｇ／ｍ²の重量を有した。この層は主として８０から７００μｍ²のベース面積のほぼ小塊状で一部割れている物体より成り、該物体はその面と相互に向けて置くか、一部またはむしろ主として他の上に置くとき主として０.３か１μｍの層の厚さのほぼ均一の被覆を与えた。二次元の物体上に一様なランダム分布した直径が０.５から２ μの強固に付着する丸い粒子があった。走査電子顕微鏡によって表面分析を行った。酸性硫酸銅溶液を適用して銅を析出させる方法によって層の緻密性を調べた。２から３分の作用時間後、ベースを侵す溶液の表われとして最初の銅色の変色が光学的な助けを借りずに表面に認められた。ＤＩＮ４７６８によりピークから谷までの高さＲｚを求めることによってさらに品質の特徴が得られた。それぞれ１０個所で測定して、平均したピークから谷までの高さＲｚは約５から６μｍであった。層の接着強さは層上に強く押し付けた後、表面に直角に急激に引剥がす接着テープを用いて測定した。接着剤の面上に剥離層はなかった。幅３０mmのストリップを１mm程度の大きさの半径で９０°折り曲げることにより、残留面から折り除くか広範囲に剥離させることによって層を除去ことができなかった。実施例１によりつくった箔ストリップを下記実施例２から５による補足的プロセス工程でさらに処理した。実施例２アルミナを被覆したアルミニウム物体をポリビニルホスホン酸を含有する浸漬浴を経て次の処理工程に移した。スクィーズローラーによってさらに過剰の液体部分を除いた。別の処理工程では、フローコーティングによってこのように前処理した箔にポジのジアゾ複写層を適用した。このジアゾ複写層は次の組成を有した：ＤＩＮ５３７８３およびＤＩＮ５３２４０によるヒドロキシル価が４２０（ヒドロキシル基含量７.５ミリモル／ｇに相当）、および平均分子量Ｍｗが１０，０００（ポリスチレンを標準物質としてゲル滲透クロマトグラフィーＧＰＣにより測定）のクレゾール／ホルムアルデヒドノボラック樹脂５重量％、１，２−ナフトキノン − ２−ジアジド−５−スルホニルクロリド３モルと２,３,４−トリヒドロキシベンゾフェノン１モルとのエステル化物１.２重量％、１，２−ナフトキノン−２− ジアジド−５−スルホニルクロリド０.１５重量％、Victoria Pure Blue（C.l. ４４０４５）０.１重量％、ブタノンとプロピレングリコールモノエチルエーテルの４０／６０混合物９３.５５重量％。適用した複写層を連続熱風循環乾燥器内で１２５℃で乾燥した。乾燥した複写層の重量は２.４ｇ／ｍ²であった。ストリップ状の物質を７５０×５５０mmの寸法に切断した。この板はオフセット版面として使用した。印刷パターンをつくるために、該板を真空接触複写フレーム中で減圧にしてポジのテストオリジナルと接触させ、ＵＧＲＡ−Ｋ４に対して１１０cmの距離で５ｋＷの金属ハライドドープト水銀灯に曝露した。現像は、０.４５モル／ｌのNa₂SO₃、１０.００ｇ／ｌの安息香酸および１.００ｇ／ｌのノニルフェノールエトキシレートのＨＬＢ値が１３の現像液浴中で０.８ｍ／分の処理速度でブラシを用いて深い浴の現像装置内で行った。このようにして求めた複写技術特性は次のようであった。１９８２ＦＯＧＲＡ−ＵＧＲＡオフセットテストウエッジにおいて、段階４にオープンステップウエッジ再現により到達した。カバー状態における円形線の再現は１０μｍで生じ、オープン状態では８μｍにおいてさえも生じた。このように得られた印刷パータンを次の印刷技術特性を有するオフセット印刷機の版面として用いた：イソプロパノール３０容量％および水７０容量％、またはイソプロパノール３０容量％、リン酸１容量％、および水６９容量％より成る２種類の通常のファウンテン液は腐食を認めなかった。通常の版面と比較すると、ファウンテン液に対する要件は増大しなかった。300,000 枚の印刷作業後印刷テストを終了したが品質の低下はなかった。実施例３アルミナを被覆し、ベース１ｍ²当りアルミナの層重量が８ｇであるアルミニウムベースを深い浴の中で実施例２と同様に処理した。次に板を７５０×５５０ mmの寸法に切断した。この板をオフセット印刷機における「空押し板」として使用した。摩耗はロールオーバーの１００万回転後に初めて検知することができた。実施例４実施例１によってつくった箔ストリップを、深い浴での含浸処理工程を行わずにフローコーティングによりネガのジアゾ複写層を生じさせた。このジアゾ複写層は次の組成を有した：分子量が70,000から80,000で、７１重量％のビニルブチラール、２重量％の酢酸ビニルおよび２７重量％のビニルアルコール単位を含有するポリビニルブチラールとプロペニルスルホニルイソシアナートとの反応生成物１.７０重量％、１モルの３−メトキシジフェニルアミン−４−ジアゾニウムサルファイトおよび１モルの４,４−ビスメトキシメチルジフェニルエーテルより成り、ジメチレンスルホネートとして沈澱したジアゾニウム塩重縮合物０.６０重量％、Victoria Pure Blue ＦＧＡ（C.l．Basic Blue ８１）０.０９重量％、８５％リン酸０.０７重量％、２−メトキシエタノール６０重量％、および酢酸ブチル２０重量％。適用した複写層は連続熱風循環乾燥機で１２５℃、１分で乾燥した。層重量は乾燥物として１ｇ／ｍ²であった。ストリップ状のベースを同様に７５０×５５０mmの寸法に切断した。この板をこれもオフセット版面として使用した。この板を実施例２で述べたように曝露して現像したが、ただし出発点はネガのテストオリジナルで、下記の組成を有する異なる現像液浴を使用した：ペラルゴン酸ナトリウム４重量％、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸ナトリウム１重量％、フェノキシエタノール１重量％、ケイ酸カリウム２重量％および水９３重量％。複写技術特性および印刷技術特性は実施例２と同程度であった。実施例５実施例１によって被覆したアルミニウム物体は、ベース１ｍ²当り層重量２０ｇのアルミナをもたらした。この層重量に達するために、粉末の供給速度を３０ｇ／分に上げ、ストリップの速度を１０ｍ／分に下げた。このようにアルミナを被覆したベースをアルミニウム紙ガイドロール上で容易に交換可能な摩耗ライニングとして使用した。紙ガイドロールは箔をロールの周囲に置いて、版胴と同様に締付装置によってロール本体の周りに堅く取り付けるように設計した。ロールを分解せずに摩耗ライニングを取り替えることができた。容易に洗浄できまた潤滑性を増すためにＰＴＦＥ含有樹脂を入れたプレートを被覆することもできる。比較例６実施例１に記載したように、厚さが３００μｍ、幅が５００mmのアルミニウム箔ストリップを、スイス国、WohlenのメーカーPlasmatechnik Ag／Sulzer Metco ＡＧの最新の技術による非定常燃焼挙動を示す５個の単一カソード短アークのプラズマ溶射装置からのガスジェットの下方の流体媒質の流れを搬送しない鋼製処理ロール上を５０ｍ／分の速度で移行させた。ガス出口と箔表面との距離は７０ mmであった。このプラズマ溶射装置は１００mmの範囲を被覆するように処理ロールの中心軸に平行で２０mmの距離に配列された。高温ガスジェットが４３ｋＷの電力によって直径７mmのチャンネル中で発生した。非定常アークの実際のアーク電圧は最大で７２Ｖ、最小で４０Ｖで、約2000Ｈｚの周波数で移行した。加熱すべきプラズマガスは、水素２３容量％およびアルゴン７７容量％の混合物より成った。アルミナ粉末は、直径１.８mmのチャンネルを経てアノードの前面５mmの距離から６ｇ／分の速度で噴射され、９９.５％のAl₂O₃分は「Coulter Counter 」法で測定して粒度が１５μｍ未満であった。該粉末は機械的粉末計量装置によって装入された。溶融粉末を有する高温ガスジェットはベース上に３００℃を上回る温度を生じさせた。処理ロールをたとえプラズマ溶射装置の直ぐ下流で圧縮空気で冷却したとはいえ、この温度はベース裏面に貼付した温度測定ストリップによって測定したものであった。しかし、この理由で、アルミニウム箔ストリップの引張強度は１６０ＭＰａ／mm²から１２０ＭＰａ／mm²に低下した。ガスジェットから生じた騒音発生はガスジェット当り１２０ｄＢ（Ａ）であった。したがって丁度５個のプラズマ溶射装置では騒音発生が１２７ｄＢ（Ａ）に達し、すなわち単一プラズマ溶射装置の約３倍である。この比較例によって生成した層は「差動秤量」法により測定して重量が３ｇ／ｍ²であった。層の緻密性を実施例１と同じ方法で測定して２分間の作用時間が得られた。再度１０個所で測定して平均したピークから谷の高さＲｚは７から８ .５μｍであった。接着強度は実施例１と同様であった。このようにして被覆したベースを、実施例２により、複写層で覆い、曝露し、現像して、版面を得た。得られた版面は、実施例２と比べると複写技術特性に関し低品質であった。円状線の再現は被覆状態では２０μｍで生じオープン状態では１５μｍで生じた。

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項【提出日】１９９７年１月３１日【補正内容】請求の範囲１．プラズマ溶射層を、該アークプラズマ中で溶融したスプレー粉末によってベースに被覆する方法において、粉末供給ダクトを経て、複数のカソードまたは少なくとも１個の環状カソードを有する長アークのプラズマ溶射装置のチャンネル内のニュートロード領域、アノード領域またはこれらの中間に該スプレー粉末を導入し、定常または準定常状態の燃焼挙動中の被覆の間に少なくとも１つのアークが少なくとも２０mmの長さを有し、かつ被覆すべき該ベースが所謂連続ストリップまたは少なくとも０.００５ｍ²の大面積フォーマットであることを含む方法。２．主に８０から７００μｍ²のベース面積のほぼ小塊状物体の層を該ベースに適用し、該層が直径が０.５から２μｍのほぼ球状の物体の一部分を含有する請求項１記載のベース被覆方法。３．プラズマ溶射層を、該アークプラズマ中で溶融したスプレー粉末によってベースに被覆する方法において、該被覆ベースのための少なくとも１つの出口および少なくとも１つの長アークのプラズマ溶射装置を有する防音ブースを使用し、大型フォーマットベースの被覆の連続操作中に該防音ブースから発する騒音が１１０ｄＢ（Ａ）を上回らないベース被覆方法。４．該防音ブースから発する該騒音が９５ｄＢ（Ａ）を上回らず、とくに好ましくは８５ｄＢ（Ａ）を上回らない請求項３記載のベース被覆方法。５．該ベースが少なくとも０.０１ｍ²、とくに好ましくは少なくとも０.０５ｍ²のサイズの大面積フォーマットである請求項１ないし４のいずれ１つの項記載のベース被覆方法。６．該ベースの幅が少なくとも２０mm、好ましくは少なくとも１２０mm、とくに好ましくは少なくとも２５０mmである請求項１ないし５のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。７．該ベースの厚さが最大３mm、好ましくは０.１から０.６mm、とくに好ましくは０.１２から０.３５mmである請求項１ないし６のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。８．該ベースが金属もしくは合金、プラスチック、充填剤含有プラスチック、紙含有物質、複合材料または複合構造物より成る請求項１ないし７のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。９．該ベースがアルミニウム、アルミニウム合金、積層アルミニウム箔またはプラスチックフィルム、とくにポリエステルフィルムより成る請求項１ないし８のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 10．該プラズマ被覆の前に、該ベースに接着促進剤を被覆する請求項１ないし９のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 11．該ベースに、たとえば圧延や型押し工程のような機械的方法、たとえばコロナ放電、コンデンサ放電、アーク放電もしくは圧力ジェット、サンドブラスト、ブラッシングによるような物理的方法、または化学的方法すなわち接着促進剤の適用によって微細荒削りを行う請求項１ないし１０のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 12．遠心ブロアージェットによって該ベースに微細荒削りを行う請求項１ないし１０のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 13．複数の荒削り法の組合せによって、該ベースに微細荒削りを行う請求項１１また１２記載のベース被覆方法。 14．プラズマ被覆するための該ベースが微細荒削り表面を有し、さらに１０個の個々の測定値の平均値としてのピークから谷までの平均高さＲａが４μｍ以下、好ましくは０.２から２μｍ、とくには０.３から１.２μｍである請求項１１ないし１３のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 15．該ベースが防音ブースを通過する請求項１ないし１４のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 16．該ベースをスロットから防音ブースに導入する請求項１ないし１５のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 17．該ベースを該防音ブース内部で複数のロール上を通過させる請求項１ないし１６のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 18．該ベースを流体媒質で冷却したロール上を通過させる請求項１ないし１７のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 19．該ベースを、少なくとも１つの規則的配列状態にあるプラズマ溶射装置の下で被覆する請求項１ないし１８のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 20．該ベースを該酸化物、ケイ酸塩、ホウ化物もしくは窒化物のような物質またはこれら物質の混合物で被覆する請求項１ないし１９のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 21．該ベースを酸化物、ケイ酸塩、チタン酸塩、ホウ化物、炭化物、窒化物、金属、金属合金または／および無機顔料、とくにアルミナ、スピネル、ホウ化チタン、アルミニウム、ニッケル、銅、ニッケル含有合金もしくは銅含有合金より本質的に成る物質で被覆される請求項１ないし２０のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 22．該被覆ベースをガスジェットで冷却する請求項１ないし２１のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 23．該プラズマ被覆の前に、該ベースを少なくとも一方向に機械的に延伸させる請求項１ないし２２のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 24．該被覆ベースをスロットを経て該防音ブースから取り出す請求項１ないし２３のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 25．該ベースを該プラズマ溶射層から概ねまたは完全に除去する請求項１ないし２４のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 26．該被覆ベースまたはベースを除去したプラズマ溶射層を定寸に切断する請求項１ないし２５のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 27．該被覆ベースまたはベースを除去したプラズマ溶射層を型押し、打抜き、切断または類似の加工方法により単一フォーマットにもたらし、他の要素に取り付けまたは／および付形する請求項１ないし２６のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 28．複数のプラズマ溶射装置および少なくとも１つの防音ブースを含むベース被覆設備において、該プラズマ溶射装置がそれぞれ少なくとも１個のニュートロードおよび少なくとも１個のアノードを含んで長さが少なくとも２０mmのアークを発生し、かつ該アノード領域または／および該ニュートロード領域または／およびこれらの中間に供給されるスプレー粉末を加熱し、該設備が該ベースを微細荒削りする装置を包含し、これが機械的、物理的または吹付け微細荒削りする装置である設備。 29．該ベースを誘導する複数のロールを含有する請求項２８記載のベース被覆設備。 30．少なくとも１個の流体媒質で冷却する請求項２８または２８記載のベース被覆設備。 31．該プラズマ溶射装置が規則的配列に配設される請求項２８ないし３０のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 32．該プラズマ溶射装置が、少なくとも１個のロールまたは該ロールを誘導するための種々な形状の少なくとも１個の誘導補助器具の上方に配設される請求項２８ないし３１のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 33．該防音ブースがベースを導入するための少なくとも１つの入口を有する請求項２８ないし３２のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 34．該防音ブースが該プラズマ被覆ベースまたはベースを除去したプラズマ溶射層を取り出すための少なくとも１つの出口を有する請求項２８ないし３３のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 35．接着促進剤を適用する装置を含有する請求項２８ないし３４のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 36．微細荒削する装置が、圧力ジェット、サンドブラストまたは遠心ブロアージェット装置である請求項２８ないし３５のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 37．該ベースを微細荒削りする装置において、複数の荒削り装置を相互に組合せる請求項２８ないし３６のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 38．該ベースを洗浄する装置を含む請求項２８ないし３７のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 39．該プラズマ被覆ベースに接着促進剤を被覆する装置を含む請求項２８ないし３８のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 40．該プラズマ被覆ベースまたはベースを除去したプラズマ溶射層を洗浄する装置を含む請求項２８ないし３９のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 41．該ベースまたは／および該プラズマ被覆ベースを定寸に切断または／およびフォーマット化する少なくとも１つの装置を有する請求項２８ないし４０のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 42．該プラズマ溶射装置上流の少なくとも１つの方向に、該ベースに機械的に応力を加える装置を含む請求項２８ないし４１のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 43．該ベースに機械的に応力を加える該装置が少なくとも１つの加熱または／および冷却装置を含有する請求項２８ないし４２のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 44．該プラズマ溶射層から該ベースを除去する装置、とくに該ベースを剥離、侵食または／および溶解する装置を含む請求項２８ないし４３のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 45．単一フォーマット化のための型押し、打抜き、切断または類似の加工装置、他の要素を取り付けるための取り付け装置または／および付形装置として、該被覆ベースまたはベースを除去したプラズマ溶射層をコンディショニングするための少なくとも１つの装置を含む請求項２８ないし４４のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 46．印刷技術において、版面、空押し板またはファウンテン液ガイドをつくるための請求項１ないし２７のいずれか１つの項記載のようにつくった被覆ベースまたはベースのないプラズマ溶射層の使用。 47．たとえばロールに締付けることができる摩耗板のような耐摩耗性層または物体をつくるための請求項１ないし２７のいずれか１つの項記載のようにつくった被覆ベースまたはベースのないプラズマ溶射層の使用。 48．ペイント、接着剤層もしくは有機物質または該物質の混合物、他の種類の混合物を吸収するための請求項１ないし２７のいずれか１つの項記載のようにつくった被覆ベースまたはベースのないプラズマ溶射層の使用。 49．触媒を適用するための請求項１ないし２７のいずれか１つの項記載のようにつくった被覆ベースまたはベースのないプラズマ溶射層の使用。 50．触媒として、または触媒もしくは／および化学反応の触媒作用をさせる設備をつくるための請求項１ないし２７のいずれか１つの項記載のようにつくった被覆ベースまたはベースのないプラズマ溶射層の使用。 51．裏に接着剤のついたフィルムをつくるための請求項１ないし２７のいずれか１つの項記載のようにつくった被覆ベースまたはベースのないプラズマ溶射層の使用。 52．ソーラーコレクター中のソーラアブソーバーをつくるための請求項１ないし２７のいずれか１つの項記載のようにつくった被覆ベースまたはベースのないプラズマ溶射層の使用。 53．炭素の物体を被覆するための請求項１ないし２７のいずれか１つの項記載のようにつくった被覆ベースまたはプラズマ溶射層の使用。 54．摩耗保護層または潤滑保護層としての請求項１ないし２７のいずれか１つの項記載のようにつくった被覆ベースまたはベースのないプラズマ溶射層の使用。 55．ベースおよびプラズマ溶射層を含み、該アークプラズマ中で溶融したスプレー粉末によってベースにプラズマ溶射層を被覆することによって得ることができる版面用板において、該プラズマ溶射層が、主に８０から７００μｍ²のベース面積のほぼ小塊状物体およびその上に載る直径が０.５から２μｍの主に球状の物体からつくられ、該スプレー粉末が、粉末供給ダクトを経て、複数のカソードまたは少なくとも１個の環状カソードを有する長アークのプラズマ溶射装置のチャンネル内のニュートロード領域、アノード領域またはこれら中間に導入され、定常また準定常状態の燃焼挙動中の被覆の間に、少なくとも１つのアークが少なくとも２０mmの長さを有し、かつ被覆すべき該ベースが、所謂連続ストリップまたは少なくとも０.００５ｍ²の大面積フォーマットである板。 56．版面、空押し板、紙ガイドロールまたはファウンテン液ガイド用板である請求項５５記載の板。 57．１９８２ＦＯＲＧＲＡ−ＵＧＲＡオフセットテットウエッジに関し、ほぼウェッジ段階４がオープンであるか、または／および１２もしくは８μｍの厚さの線が識別できる板面である請求項５５または５６記載の板。【手続補正書】【提出日】１９９７年１２月２２日【補正内容】（１）平成９年１０月９日付手続補正書により提出した明細書の翻訳文の浄書第２０頁第２１行の「ｐａｇ」を『ｐａｇｅ』に訂正する。（２）同第２２頁第２行の「騒音ヘベル」を『騒音レベル』に訂正する。（３）同第３頁第２行「・・・・欠点がある。」と同３行の「本発明の目的は・・・」との間に次の文章を挿入する。『ＥＰ−Ａ−０，４２３，３７０は、プラズマ作用方法および単一の円錐形カソードを有するプラズマトロンを教示する。当該方法は、プラズマジェットを冷却しないで、したがって、プラズマジェットのガス熱力学的パラメーターを与えないで事実上スプレー粉末に焦点を当てる。Ｓ．Ｖ．Ｐｅｔｒｏｖ著、ガス−空気プラズマ中で被覆を溶着させる技術および装置（Technology and equipment for depositing coatings in gas-airplasm a）、ＷｅｌｄｉｎｇＩｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ，７，１９９３年，Ｎｏ．１０，７８８頁〜７９２頁に、ガス−空気プラズマから層を溶着させる方法および単一カソードを備えたプラズマトロンが記載されている。ＧＢ９７８，９３４は、冷却されているロッド電極を備え、そして、操作中、恐らく、短アークのみを有するプラズマスプレーガン、ならびに加工品の表面の被覆方法を保護する。ＥＰ−Ａ−０，２４９，２３８は、アークプラズマスプレーガンおよび精密に制御できるプラズマの発生方法を教示する。冷却されたロッド型中空カソードが可動性であり異なる長さの位置で使用ができる。ＷＯ８９／１０４２２は分散材料の空気−プラズマスプレーにより施用される官能層を備えた層材料および層加工品、ならびに製造法を教示し、ここで支持体が官能層により冷却され得る。（４）同第３頁第１０行〜第１６行の「本発明によれば、・・・・達成される。」という文章を下記のとおり補正する。『本発明によれば、この目的はアークプラズマ中で溶融させたスプレー粉末によってベースをプラズマ溶射層で被覆する方法によって達成され、当該方法はスプレー粉末をニュートロード／ニュートロードの領域、アノード／アノードの領域またはこれらの中間における粉末供給ダクトを経て、長アークプラズマ溶射装置のチャンネル中に導入することを含み、複数のカソードもしくは少なくとも１個の環状カソード、定常もしくは準定常状態の燃焼挙動における被覆中少なくとも２０ｍｍの長さの少なくとも１個のアーク、および被覆しようとするベースがいわゆる連続ストリップまたは少なくとも０．００５ｍ²の大面積のフォーマットである。』

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＣ２３Ｃ 4/02 Ｃ２３Ｃ 4/02 4/10 4/10 Ｈ０５Ｈ 1/42 Ｈ０５Ｈ 1/42 (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＪＰ，ＫＲ，ＵＳ (72)発明者ランデス，クラウスドイツ連邦共和国デー−81479 ミュニク, メルショアシュトラーセ 23 (72)発明者ハスルベック，ペータードイツ連邦共和国デー−82256 フュアステンフェルトブルック，アイゼンホファーシュトラーセ５ (72)発明者ガシュラー，オトフリートドイツ連邦共和国デー−65205 ヴィースバーデン，ケールシュトラーセ 21 (72)発明者ミュラー，マルクススイス国ツェーハー−5606 ディンティコン，ヒンターマッテンシュトラーセ 410 (72)発明者ムントヴィラー，ペータースイス国ツェーハー−5610 ヴォーレン, アルメンヴェーク７

Claims

【特許請求の範囲】１．プラズマ溶射層を、該プラズマ中で溶融したスプレー粉末によってベースに被覆する方法において、粉末供給ダクトを経て、プラズマ溶射装置のチャンネル内のニュートロード領域、アノード領域またはこれらの中間に該スプレー粉末を導入し、少なくとも１個のアークが該時間内の少なくとも一部分の間少なくとも２０mmの長さを有し、かつ該ベースが所謂連続ストリップまたは少なくとも０ .００５ｍ²の大面積のフォーマットであることを含む方法。２．主に小さくてほぼ球形の物体の一部分を含有するほぼ小塊状の物体の層を該ベースに適用する請求項１記載のベース被覆方法。３．該適用される個々の形状物の総数中の主に小さくてほぼ球形の物体の比率が少なくとも５％、好ましくは少なくとも１０％、とくに好ましくは３０％、極めてとくに好ましくは少なくとも５０％である請求項２記載のベース被覆方法。４．該被覆ベースのために少なくとも１つの出口を有する防音ブースを使用し大型フォーマットベースの該被覆の連続操作中に該防音ブースから発する該騒音が１１０ｄＢ（Ａ）を上回らないベース被覆方法。５．該防音ブースから発する該騒音が９５ｄＢ（Ａ）を上回らず、とくに好ましくは８５ｄＢ（Ａ）を上回らない請求項４記載のベース被覆方法。６．該ベースが好ましくは所謂連続ストリップまたは大きさが少なくとも０. ０１ｍ²、とくに好ましくは少なくとも０.０５ｍ²の大面積フォーマットである請求項１ないし５のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。７．該ベースの幅が少なくとも２０mm、好ましくは少なくとも１２０mm、とくに好ましくは少なくとも２５０mmである請求項１ないし６のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。８．該ベースの厚さが最大３mm、好ましくは０.１から０.６mm、とくに好ましくは０.１２から０.３５mmである請求項１ないし７のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。９．該ベースが金属もしくは合金、プラスチック、充填剤含有プラスチック、紙含有物質、複合材料または複合構造物より成る請求項１ないし８のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 10．該ベースがアルミニウム、アルミニウム合金、積層アルミニウム箔またはプラスチックフィルム、とくにポリエステルフィルムより成る請求項９記載のベース被覆方法。 11．該プラズマ被覆前に、該ベースに接着促進剤を被覆する請求項１ないし10 のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 12．該ベースに、たとえば圧延や型押しのような機械的方法、たとえばコロナ放電、コンデンサ放電もしくはアーク放電もしくは圧力ジェット、サンドブラスト、ブラッシングによるような物理的方法または化学的方法すなわち接着促進剤の適用によって微細荒削りを行う請求項１ないし１１のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 13．遠心ブロアージェットによって該ベースに微細荒削りを行う請求項１２記載のベース被覆方法。 14．複数の荒削り法の組合せによって該ベースに微細荒削りを行う請求項１２また１３記載のベース被覆方法。 15．プラズマ被覆するための該ベースが微細荒削り表面を有し、１０個の個々の測定値の平均値としてのピークから谷までの平均高さＲａが４μｍ以下、好ましくは０.２から２μｍ、とくには０.３から１.２μｍである請求項１ないし１４のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 16．該ベースが防音ブースを通過する請求項１ないし１５のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 17．該ベースをスロットから防音ブースに入れる請求項１ないし１６のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 18．該ベースを該防音ブースの内部で複数のロール上を通過させる請求項１ないし１７のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 19．該ベースを流体媒質で冷却したロール上を通過させる請求項１ないし１８のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 20．該ベースを少なくとも１つの規則的配列状態にあるプラズマ溶射装置の下で被覆する請求項１ないし１９のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 21．該プラズマ溶射装置の定常または準定常状態の燃焼挙動の間にベースを被覆する請求項１ないし２０のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 22．該プラズマ溶射装置の非定常状態の燃焼挙動の間に該ベースを被覆する請求項１ないし２１のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 23．該ベースを該酸化物、ケイ酸塩、ホウ化物もしくは窒化物のような物質またはこれら物質の混合物で被覆する請求項１ないし２２のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 24．該ベースを酸化物、ケイ酸塩、チタン酸塩、ホウ化物、炭化物、窒化物、金属、金属合金または／および無機顔料、とくにアルミナ、スピネル、ホウ化チタン、アルミニウム、ニッケル、銅、ニッケル含有合金または銅含有合金に富む物質で被覆する請求項１ないし２３のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 25．該被覆ベースをガスジェットで冷却する請求項１ないし２４のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 26．該プラズマ被覆の前に、該ベースを少なくとも一方向に機械的に延伸させる請求項１ないし２５のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 27．該被覆ベースをスロットを経て該防音ブースから取り出す請求項１ないし２６のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 28．該ベースを該プラズマ溶射層から概ねまたは完全に除去する請求項１ないし２７のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 29．該被覆ベースまたはベースを除去したプラズマ溶射層を定寸に切断する請求項１ないし２８のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 30．該被覆ベースまたはベースを除去したプラズマ溶射層を型押し、打抜き、切断または類似の加工方法により単一フォーマットにもたらし、他の要素に取り付けまたは／および付形する請求項１ないし２９のいずれか１つの項記載のベース被覆方法。 31．複数のプラズマ溶射装置および少なくとも１つの防音ブースを含むベース被覆設備において、該プラズマ溶射装置がそれぞれ少なくとも１個のニュートロードおよび少なくとも１個のアノードを含んで長さが少なくとも２０mmのアークを発生し、かつ該アノード領域または／および該ニュートロード領域または／およびこれらの中間に供給されるスプレー粉末を加熱し、該設備が該ベースを微細荒削りする装置を含み、これが機械的、物理的または吹付け微細荒削りする装置である設備。 32．該ベースを導く複数のロールを含む請求項３１記載のベース被覆設備。 33．少なくとも１個のロールを流体媒質で冷却する請求項３１または３２記載のベース被覆設備。 34．該プラズマ溶射装置が規則的配列に配設される請求項３１ないし３３のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 35．該プラズマ溶射装置が、少なくとも１個のロールまたは該ベースを導くための種々な形状の少なくとも１個の誘導補助器具の上方に配設される請求項３１ないし３４のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 36．該防音ブースがベースを導入するための少なくとも１つの入口を有する請求項３１ないし３５のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 37．該防音ブースが該プラズマ被覆ベースまたはベースを除去したプラズマ溶射層を取り出すための少なくとも１個の出口を有する請求項３１ないし３６のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 38．接着促進剤を適用する装置を含む請求項３１ないし３７のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 39．微細荒削する装置が加圧ジェット、サンドブラストまたは遠心ブロアージェット装置である請求項３１ないし３８のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 40．該ベースを微細荒削りする装置において、複数の荒削り装置を相互に組合わせる請求項３１ないし３９のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 41．該ベースを洗浄する装置を含む請求項３１ないし４０のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 42．該プラズマ被覆ベースに接着促進剤を被覆する装置を含む請求項３１ないし４１のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 43．該プラズマ被覆ベースまたはベースを除去したプラズマ溶射層を洗浄する設備を含む請求項３１ないし４２のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 44．該ベースまたは／および該プラズマ被覆ベースを定寸に切断または／およびフォーマット化する少なくとも１つの装置を有する請求項３１ないし４３のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 45．該プラズマ溶射装置上流の少なくとも１つの方向に該ベースに機械的に応力を加える装置を含む請求項３１ないし４４のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 46．該ベースに機械的に応力を加える該装置が少なくとも１つの加熱または／および冷却装置を含む請求項３１ないし４５のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 47．該プラズマ溶射層から該ベースを除去する装置、とくに該ベースを剥離、侵食または／および溶解する装置を含む請求項３１ないし４６のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 48．単一フォーマット化のための型押し、打抜き、切断または類似の加工装置、他の要素を取り付けるための取り付け装置、または／および付形装置として、該被覆ベースまたはベースを除去したプラズマ溶射層をコンディショニングするための少なくとも１つの装置を含む請求項３１ないし４７のいずれか１つの項記載のベース被覆設備。 49．印刷技術において、版面、空押し板またはファウンテン液ガイドをつくるための請求項１ないし３０のいずれか１つの項記載のようにつくった被覆ベースまたはベースのないプラズマ溶射層の使用。 50．たとえばロールに締付けることができる摩耗板のような耐摩耗性層または物体をつくるための請求項１ないし３０のいずれか１つの項記載のようにつくった被覆ベースまたはベースのないプラズマ溶射層の使用。 51．ペイント、接着剤層もしくは有機物質または該物質の混合物、他の種類の混合物を吸収するための請求項１ないし３０のいずれか１つの項記載のようにつくった被覆ベースまたはベースのないプラズマ溶射層の使用。 52．触媒を適用するための請求項１ないし３０のいずれか１つの項記載のようにつくった被覆ベースまたはベースのないプラズマ溶射層の使用。 53．触媒として、または触媒もしくは／および化学反応の触媒作用をさせる設備をつくるための請求項１ないし３０のいずれか１つの項記載のようにつくった被覆ベースまたはベースのないプラズマ溶射層の使用。 54．裏に接着剤のついたフィルムをつくるための請求項１ないし３０のいずれか１つの項記載のようにつくった被覆ベースまたはベースのないプラズマ溶射層の使用。 55．ソーラーコレクター中のソーラアブソーバーをつくるための請求項１ないし３０のいずれか１つの項記載のようにつくった被覆ベースまたはベースのないプラズマ溶射層の使用。 56．炭素の物体を被覆するための請求項１ないし３０のいずれか１つの項記載のようにつくった被覆ベースまたはプラズマ溶射層の使用。 57．摩耗保護層または潤滑保護層としての請求項１ないし３０のいずれか１つの項記載のようにつくった被覆ベースまたはベースのないプラズマ溶射層の使用。 58．ベースおよびプラズマ溶射層を含む版面用板において該プラズマ溶射層をほぼ小塊状の物体からつくり、その上に主に小さなほぼ球形の物体が載っている板。 59．版面、空押し板、紙ガイドロールまたはファウンテン液ガイド用板である請求項５８記載の板。 60．１９８２ＦＯＲＧＲＡ−ＵＧＲＡオフセットテストウェッジに関し、ほぼウェッジ段階４がオープンであるかまたは／および厚さが１２もしくは８μｍの線が識別できる版面である請求項５８または５９記載の板。