JPH1148523A - 画像形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 レーザビームの波長域で干渉の起りやすい材
料上に画像記録するに際し、干渉縞の発生を極力防止
し、非視認化する。 【解決手段】 露光用レーザビームの波長域で干渉の起
りやすい記録材料Ａに画像データを露光する画像露光部
１６を備えた画像形成装置１０において、画像露光部１
６は、記録材料Ａからの反射光が互いに相殺しあう波長
λ０、λ１に設定された異なる波長の二つのレーザ光源
５０、２００を備え、各レーザ光源５０，２００からの
光を重畳して記録材料Ａに照射するものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザー露光によ
り画像を記録される感光材料を使用する画像形成装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】ディジタルラジオグラフィーシステム、
ＣＴ，ＭＲなどの医療用の画像を記録する画像記録装置
として、従来、銀塩写真式感光材料に撮影または記録
後、湿式処理して再現画像を得るウエットシステムが用
いられている。これに対して、近年、湿式処理を含まな
いドライシステムによる記録装置が注目されている。こ
のような記録装置としては、例えば、熱現像感光材料の
フィルム（以下“記録フィルム”という）を用いた画像
記録装置がある。

【０００３】このドライシステムの画像記録装置におい
ても、画像記録を行う場合には、記録フィルムにレーザ
光を照射すること（露光）によって、記録フィルムに潜
像を形成する。そして、この潜像が形成された記録フィ
ルムを加熱することで該潜像を現像する。露光は、別途
撮影して得た画像データに従ってレーザの出力を制御し
つつ、該レーザを走査（主走査）させることで行うのが
一般的である。当然、このときには、記録フィルムも所
定の方向に移動（副走査）させる。なお、このような熱
現像感光材料対する画像記録装置に関しては、例えば、
国際公開番号ＷＯ９５／３１７５４号の公報、国際公開
番号ＷＯ９５／３０９３４号の公報に記載の物が挙げら
れる。

【０００４】このような画像記録装置における、従来の
露光部１６の概念図を図３に示している。露光ユニット
４６は、記録画像に応じて変調した光ビームＬを主走査
方向（図１，図３で紙面に垂直方向）に偏向して、所定
の記録位置Ｘに入射する公知の光ビーム走査装置であっ
て、記録材料Ａの分光感度特性に応じた狭帯波長域の光
ビームＬを射出するレーザ光源５０と、光源５０を駆勤
する記録制御装置５２と、光偏向器であるポリゴンミラ
ー５４と、ｆθレンズ５６と、立ち下げ用のシリンドリ
カルミラー５８とを備えている。

【０００５】なお、露光ユニット４６には、これ以外に
も、光源から射出された光ビームＬを整形するコリメー
タレンズやビームエキスパンダ、面倒れ補正光学系、光
路調整用ミラー等、公知の光ビーム走査装置に配置され
る各種光学系部材が必要に応じて配置される。

【０００６】ここで、露光方式としてはパルス幅変調に
よって画像記録を行うことが一般的である。記録制御装
置５２は、記録画像に応じてレーザ光源５０をパルス幅
変調して駆動し、記録画像に応じてパルス幅変調された
光ビームＬを射出させる。光源５０から射出された光ビ
ームＬは、ポリゴンミラー５４によって主走査方向に偏
向され、ｆθレンズ５６によって記録位置Ｘで結像する
ように調光され、シリンドリカルミラー５８によって光
路を変更されて記録材料Ａの記録位置Ｘに垂直に近い角
度で入射する。

【０００７】一方、副走査搬送手段４８は、記録位置Ｘ
（走査線）を挟んで配置される一対の搬送口一ラ対６
０，６２を有するものであり、搬送ローラ対６０，６２
によって、記録材料Ａを記録位置Ｘに保持しつつ、前記
主走査方向と直交する副走査方向（図７中矢印ａ方向）
に搬送する。ここで、前述のように、記録画像に応じて
パルス幅変調された光ビームＬは、主走査方向に偏向さ
れているので、記録材料Ａは光ビームによって２次元的
に走査露光され、潜像が記録される。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】上記の画像形成装置に
用いられる記録材料Ａは、例えば、熱現像感光材料は、
具体的には図４に示すように、ＰＥＴ材などからなる厚
さ百数十μｍのベースフィルム上に厚み数μｍ〜数十μ
ｍ程度の乳剤層Ｅｍ，及びその表面に保護層ＰＣをコー
トしたものであり、またベースフィルムの背面にバック
コート層ＢＣ及びハレーション防止層ＡＨをコーティン
グしたものである。そして、通常の感光性フィルム材料
の層構造に比べて、医療用に用いられている物の場合
に、特に高い鮮鋭度に設計されているため、各層は薄
く、また乳剤層Ｅｍは細粒化され、層自体が透明となっ
て光が直進しやすい。

【０００９】一方、この記録材料Ａに入射するレーザビ
ームのビーム径は５０〜１２０μｍであり、各層の境界
面の反射に際し、各層は同一ビーム径内で２度の反射に
よる干渉となるほどに十分薄く、特に図の一部に拡大し
て示すように、乳剤層Ｅｍ内での干渉が著しい。この結
果、得られる画像の線の周囲には干渉縞と呼ばれる濃度
ムラが生ずるため、画像診断上の支障になる上、著しく
商品性を損なうという問題があった。

【００１０】以上の干渉縞の発生を防止するための従来
の工夫としては、例えば特開平５−１１３５４８号公報
では、レーザ光の入射角度を斜めに寝かして反射角を広
く且つ光路長を長くとることで、反射光が入射光と同一
方向に進む場合に重ならないようにして干渉を防止する
対策をとっているが、乳剤層、ベース層が前述のように
薄いと干渉の発生は不可避となっていた。

【００１１】また、特開平７−２５３５５４号公報に示
すように、１／４λ板を光路中に配置して円偏光を利用
する方法は効率が低く、特開昭６０−１４５６７号公報
に示すような高周波重畳利用の場合にはレーザダイオー
ドの平均出力を定格出力の半分までしか使えないなどの
欠点があった。

【００１２】この発明は、以上の問題を解決するもので
あって、その目的は、以上のようなレーザビームの波長
域で干渉の起りやすい材料上に画像記録するに際し、干
渉縞の発生を極力防止し、非視認化することにより、よ
り鮮明な画像データを得るようにした画像形成装置を提
供するものである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】以上の目的を達成するた
めの、本発明は、レーザビームの波長域で干渉の起りや
すい画像記録材料上に画像とデータを露光する画像露光
部を備える画像形成装置であって、前記画像露光部が、
前記記録材料からの反射光が互いに相殺しあう波長に設
定された異なる波長の複数のレーザ光源を備え、各レー
ザ光源からの光が略等波長となるようにして重畳して記
録材料に照射する構成のものである。

【００１４】より詳しくは、前記記録材料の基準となる
レーザ光の波長λ０に対する干渉縞のコントラストが最
も強く生ずる層の厚みをｔ（μｍ）、屈折率をｎとする
とき、Δλ０（λ０²／２（２ｎｔ−λ０））で算出さ
れるΔλを用いて、前記基準となるレーザ光の波長λ０
に対して重畳される前記レーザ光の波長λ１が、次の式
で表される 式：λ１＝λ０±Δλ′ （（ｍ−０．５）Δλ≧Δλ′≦（ｍ＋０．５）Δλ，
ｍは整数） 波長のレーザ光を少なくとも一本用いることを特徴とす
るものである。

【００１５】つまり、本発明では複数のレーザビームの
入射光に対し反射光の位相が相対的に概略半波長ずれる
ことにより、個々により発生する干渉縞を相殺し合うこ
とを利用したもので、以下に述べる理論根拠によってい
る。

【００１６】まず、図５に示すように、波長λ０のレー
ザビームが屈折率ｎ，厚さｔの層に垂直に入射した場合
の往復の光路長Ｌは、Ｌ＝２ｎｔで示される。

【００１７】この層で反射したビームが再度入射面で反
射したビームと反射していないビームと干渉し合うため
の条件は、ｍ（節）を自然数とすると次の式で表され
る。 Ｌ／λ０＝２ｔｎ／λ０＝ｍ・・・ つまり、以上の式では光路長Ｌ中にｍ個の節ができてい
ることを示す。次に、これとは別の波長のビーム（波長
λ１）が同じ層で干渉を起し、（ｍ−１）の節を作ると
すると、 ２ｔｎ／λ１＝ｍ−１・・・ が成立する。

【００１８】従って式、より、 ２ｔｎ／λ１＝２ｎｔ／λ０−１ ∴λ１＝（２ｎｔ／２ｎｔ−λ０）×λ０ 従って、波長λ０とλ１のビームはともにこの層におい
て強め合う干渉を引き起し、この中間の波長 λ′＝（２ｎｔ／２ｎｔ−λ０）×λ０ のビームはこの層において弱め合う干渉を引き起こす。

【００１９】それ故、波長λ０のビームと、次式により
算出されるΔλによりλ０＋Δλ、もしくはλ０−Δλ
のビームをほぼ等強度で合成して記録材料に照射するこ
とで反射による干渉縞の発生を軽減することができる。 式：Δλ＝λ′−λ０＝１／２（λ１−λ０）＝λ０²
／２（２ｎｔ−λ０） そして、記録材料中の乳剤層の厚みｔ、屈折率ｎは既知
であるから、基準となる半導体レーザの波長λ０に対す
る少なくとももう一つの半導体レーザの波長λ１を前記
式を満たすものの中から選択すればよいものとなる。ま
た、厚みｔが変化した場合や、レーザー走査によりビー
ムの材料への入射角がずれ、光路長が変化した場合にお
いても、その変化が小さければ干渉縞の相殺関係はほぼ
そのまま保たれる。従って、ある程度の面積を持つ材料
をレーザースキャンする場合でも、塗布厚ムラがあって
も干渉縞軽減効果は維持される。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施の形
態につき、添付図面を参照して詳細に説明する。図１
に、本発明の実施形態であるドライシステムの画像形成
装置の概略図を示す。図において、画像形成装置１０
は、湿式の現像処理を必要としない、熱現像感光材料ま
たは感光感熱記録材料（以下、記録材料Ａとする）を用
い、レーザ光からなる光ビームＬによる走査露光により
記録材料Ａを像様露光して潜像を形成した後に熱現像を
行って可視像を得る装置である。この画像形成装置１０
は、基本的に、記録材料Ａの搬送方向順に、記録材料供
給部１２と、幅寄せ部１４と、画像露光部１６と、熱現
像部１８とを備えている。

【００２１】供給部１２は二段となっていて、それぞれ
の内部２２，２４にマガジン１００を介して各段に装填
された記録材料Ａは、例えばＢ４サイズ、及び半切りサ
イズなどが収容され、いずれかを選択的に使用できるよ
うにしている。また記録材料Ａとしては、熱現像感光材
料が用いられる。熱現像感光材料は、従来では１本のレ
ーザビームによって画像を記録（露光）し、その後熱現
像して発色させる記録材料であり、シート状の記録材料
Ａとして、通常、１００枚等の所定単位の積層体（枚葉
紙束）とされ、袋体で包装されることによりパッケージ
８０化されている。

【００２２】このパッケージ８０はそれぞれの版に応じ
たマガジン１００に収容されて画像形成装置１０の供給
部１２に装填される。そして、プリント指令により、以
下の一連の処理動作が実行される。まず、マガジン１０
０の蓋が開いている状態で枚葉機構の吸盤２６，２８に
より選択されたマガジン１００の記録材料Ａは上部から
一枚取出される。

【００２３】取出された記録材料Ａは、搬送方向の下流
に位置する供給ローラ対３０，３２、搬送ローラ対３
４，３６、搬送ガイド３８，４０，４２に案内されつ
つ、その下流の幅寄せ部１４に搬送される。幅寄せ部１
４は、記録材料Ａを、搬送方向と直交する方向（以下、
輻方向とする）に位置合わせすることにより、下流の画
像露光部１６における主走査方向の記録材料Ａの位置合
わせ、いわゆるサイドレジストを取って、搬送ローラ対
４４によって記録材料Ａを下流の画像露光部１６に搬送
する部位である。

【００２４】またその下流の画像露光部１６（以下、露
光部１６とする）は、光ビーム走査露光によって記録材
料Ａを像様に露光する部位であり、露光ユニット４６と
副走査搬送手段４８とを備えている。露光部１６につい
ては、詳しく後述する。露光部１６において潜像を記録
された記録材料Ａは、次いで、搬送ローラ対６４，６６
等によって搬送されて、熱現像部１８に搬送される。

【００２５】熱現像部１８は、記録材料Ａを加熱するこ
とにより、熱現像を行って潜像を可視像とする部位で、
加熱ドラム６８と、エンドレスベルト７０と、剥離爪７
２とを備えている。加熱ドラム６８は、ハロゲンランプ
等の加熱用光源やヒータ等の熱源を内蔵するドラムで、
その表面が記録材料Ａの熱現像温度に応じた温度に加熱
・保持されており、また、軸６８ａを中心に回転してエ
ンドレスベルト７０と共に記録材料Ａを挟持搬送する。

【００２６】エンドレスべルト７０は、ローラ７４ａ，
７４ｂ，７４ｃ，７４ｄの４つのローラに張架されて、
加熱ドラム６８に巻き掛けられるようにして押圧されて
いる。剥離爪７２は、記録材料Ａを加熱ドラム６８から
剥離するものであり、加熱ドラム６８による記録材料Ａ
の搬送に対応して、加熱ドラム６８に軽く当接、離脱す
るように構成される。

【００２７】搬送ローラ対６６によって熱現像部１８に
搬入された記録材料Ａは、工ンドレスベルト７０と、ロ
ーラ７６、７８とによって揆持搬送されて、加熱ドラム
６８と工ンドレスベルト７０との間に搬入され、加熱ド
ラム６８の回転に応じて搬送されつつ、加熱ドラム６８
によって熱現像されて、露光によって記録された潜像が
可視像となる。

【００２８】記録材料Ａの先端が剥離爪７２の近傍に搬
送されると、剥離爪７２が軽く加熱ドラム６８に当接し
て、加熱ドラム６８と記録材料Ａとの間に侵入し、記録
材料Ａを加熱ドラム６８から剥離し、剥離爪７２によっ
て加熱ドラム６８から剥離された記録材料Ａは、装置外
に搬送されてトレイ８０に排出される。

【００２９】図２は本発明の画像形成装置に適用した画
像露光部１６を示している。なお、図において、従来と
同一箇所には同一符号を付し、異なる箇所あるいは新た
に付加された部材、あるいは説明を付加する箇所にのみ
新たな符号を用いて説明する。

【００３０】図において、画像露光部１６は、記録用の
基準となる波長のレーザビームＬ０を出力する半導体レ
ーザ５０ａ，レーザビームを平行光束とするコリメータ
レンズ５０ｂ，シリンドリカルレンズ５０ｃとからなる
第一のレーザ光源５０のほかに、この光軸方向と直交し
て、前記とは異なる波長のレーザビームＬ１を出力する
第二の半導体レーザ２００ａ，コリメータレンズ２００
ｂ，シリンドリカルレンズ２００Ｃからなる第二のレー
ザ光源２００を備えている。

【００３１】各レーザ光源５０，２００から出光した光
は、偏光ビームスプリッタ２０２を通じて同一位相の重
畳されたビームとなり、反射ミラー２０４を通じてポリ
ゴンミラー５４に入光し、これの回転に伴いレーザビー
ムは偏光されつつｆθレンズ５６及びシリンドリカルミ
ラー５８を介して主走査方向ｂに沿って照射される。そ
して、画像信号の入力を受けて、図示しない制御部によ
りドライバ５２を駆動し、ポリゴンミラー５４及びロー
ラ対６２に設けた送りモータ２０６を回転駆動制御して
レーザビームを記録材料Ａの主走査方向ｂに走査しつつ
記録材料Ａを副走査方向ａに送る。

【００３２】なお、各半導体レーザ５０ａ，２００ａの
出力は、ドライバ５２の出力に応じて同一出力でドライ
ブされる。この場合の制御は、それぞれのレーザサーボ
によるフィードバック入力を受けて、ドライバ５２側か
ら各半導体レーザが常時同一出力となるように制御する
ことで達成できる。以上により、記録材料Ａはローラ対
６２に設けた送りモータ２０６の送りによる副走査方向
に順次送られながら、その表面に主走査方向に沿って所
定の輪郭線の潜像を順次形成することになる。

【００３３】ここで、第一のレーザ光源５０を構成する
半導体レーザ５０ａから出光するビームの波長を基準波
長λ０とし、第二のレーザ光源２００を構成する半導体
レーザ２００ａから出光するビームの波長をλ１とした
場合に、前述のごとく、λ１は、λ０に次式で示される
Δλを加えるか、あるいは差引いた値（λ０±Δλ）に
設定される。 式：Δλ＝λ′−λ０＝１／２（λ１−λ０）＝λ０²
／２（２ｔｎ−λ０） なお、式中λ′はλ０のビームの波長と弱め合うビーム
の波長、ｔは乳剤層の厚み、ｎは乳剤層Ｅｍの屈折率で
あり、いずれも既知の値である。

【００３４】従って、この発明による画像形成装置にあ
っては、乳剤層Ｅｍが薄いことによるレーザビームの層
内での反射に伴う干渉縞の発生が抑制され、はっきりと
した輪郭により記録材料Ａの表面に潜像を形成できる。
更に、レーザビームを重畳して照射することで、実際の
ビーム強度は従来より増すことになるため、記録材料Ａ
の感度をその分だけ低減できることになる。

【００３５】なお、実際に用いる各半導体レーザ５０
ａ，２００ａの選択は、製造された半導体レーザのロッ
トの中の各半導体レーザの波長分布を検査し、その中か
ら一方を基準波長とし、これに適合する前記式を満たす
波長のビームを出力する半導体レーザを選択し、これを
図示のごとき光学的配置とすればよい。

【００３６】また、前記実施の形態では、レーザビーム
が記録材料Ａに対して垂直に入射した場合を示したが、
斜めに入射した場合には、法線とのなす角度をθとする
と、その光路長はＬ’＝Ｌｃｏｓθと長くなり、完全に
は相殺しないが、θが小さい（例えば２０以下）時に
は、各レーザーが光路Ｌ′間を通過する間に生ずる位相
差はほぼ等しく問題とならない。また半導体レーザを変
調することにより、波長が変動して以上の条件からずれ
てくる。但し、その割合は小さいので、干渉縞は十分に
低減されることになる。

【００３７】なお、変調によるビーム径の変化に伴い、
走査線同士の重なりが部分的に変動しシェーディングが
発生することが懸念されるが、このような場合に備え
て、例えば本出願人が先に開発した特開平６−２１８９
７６号公報に示すように、中間調に一様露光した記録材
料Ａを熱現像し、この濃度を主走査方向に読みとり、画
像データに補正を付加するためのシェーディング補正機
能を付加することもできる。

【００３８】

【実施例】次に本発明の実施例を説明する。但し本発明
は以下の実施例のみに限定されるものではない。 ［実施例］乳剤層の厚み＝１１．５μｍ、屈折率ｎ＝
１．７８の記録材料を用いた場合において、基準となる
半導体レーザの波長λ０＝６６０ｎｍとし、副走査密度
２０ｌｉｎｅ／ｍｍ、ビーム径が主走査方向に７５μ
ｍ、副走査方向に８０μｍでドライブし、また熱現像ド
ラム６８の焼付条件を１２０℃，１５ｓｅｃとした場合
に、第二の半導体レーザの波長を次式に代入して計算
し、次の値を得た。 Δλ＝λ０²／２（２ｔｎ−λ０）＝５．４ｎｍ

【００３９】従って、第二の半導体レーザの波長λ１＝
６６５．４ｎｍまたは６４４．６ｎｍである。この波長
のレーザビームを出力する半導体レーザを選択し、これ
を図２に示すごとき光学的配置に組立てて両ビームを重
畳して記録材料に照射し、乾式現像を実施した。

【００４０】［比較例］第二の半導体レーザを用いるこ
とがない以外は、実施例と全く同一の条件で乾式現像を
実施した。両者に焼付けられた画像データを比較したと
ころ、明らかに干渉縞により濃度変化が大きく低減し、
ほぼ視認できないレベルとなり、本発明による効果を確
認した。

【００４１】ここで、レーザビームの反射による干渉縞
が発生しやすいのは、その感度向上のために、写真感光
材料のＡｇＸ粒子が小さく（平均０．２μｍ以下）、写
真感光材料の塗布銀量が少なく（３ｇ／ｍ２以下）、写
真感光材料の乳剤層の吸光度が小さい（レーザ波長で
０．５以下）ものであり、前記記録材料Ａはいずれもそ
の条件に適合してしまうからである。以下には、本発明
の実施例に使用する画像記録材料の例で、特願平９−１
８５７２４号に記載の材料を説明する。

【００４２】（有機銀分散物の調製）ベヘン酸４０ｇ、
ステアリン酸７．３ｇ、水５００ｍｌを温度９０℃で１
５分間攪拌し、１Ｎの水酸化ナトリウム１８７ｍｌを１
５分間かけて添加し、１Ｎの硝酸水溶液６１ｍｌを添加
して５０℃に降温した。次に１Ｎの硝酸銀水溶液１２４
ｍｌを２分間かけて添加し、そのまま３０分間攪拌し
た。その後、吸引濾過で固形分を濾別し、濾水の伝導度
３０μS/cmになるまで固形分を水洗した。こうして得ら
れた固形分は、乾燥させないでウエットケーキとして取
り扱い、乾燥固形分１００ｇ相当のウエットケーキに対
し、ポリビニルアルコール（商品名：ＰＶＡー２０５）
１０ｇおよび水を添加し、全体重量を５００ｇとしてホ
モミキサーにて予備分散した。

【００４３】次に、予備分散済の原液を分散機（商品
名：マイクロフルイダイザーＭ−１１０Ｓ−ＥＨ：マイ
クロフルイデックス・インターナショナル・コーポレイ
ション製、Ｇ１０Ｚインタラクションチャンバー使用）
の圧力を１７５０kg/ cm²に調節して、３回処理し、体
積加重平均直径０．３９μｍの有機銀微結晶分散物の調
製を終了した。なお、粒子サイズの測定は、Malvern In
struments Ltd.製MasterSizer Xにて行った。

【００４４】（ハロゲン化銀粒子の調製）水７００ｍｌ
にフタル化ゼラチン２２ｇおよび臭化カリウム３０ｍｇ
を溶解して温度４０℃にてｐＨを５．０に合わせた後、
硝酸銀１８．６ｇを含む水溶液１５９ｍｌと臭化カリウ
ム水溶液をpAg ７．７に保ちながらコントロールドダブ
ルジェット法で１０分間かけて添加した。次いで硝酸銀
５５．４ｇを含む水溶液４７６ｍｌと六塩化イリジウム
酸二カリウムを８μmol/l と臭化カリウムを１mol/l を
含む水溶液をpAg 7.7 に保ちながらコントロールドダブ
ルジェット法で３０分かけて添加した。その後、ｐＨを
下げて凝集沈降させ脱塩処理をし、フェノキシエタノー
ル０．１ｇを加え、ｐＨ５．９、pAg ８．０に調整し
た。得られた粒子は平均粒子サイズ０．０７μｍ、投影
面積直径の変動係数８％、（１００）面比率８６％の立
方体粒子であった。

【００４５】上記調製したハロゲン化銀粒子に対し温度
を６０℃に昇温して、銀１mol 当たりチオ硫酸ナトリウ
ム８５μmol と２，３，４，５，６−ペンタフルオロフ
ェニルジフェニルフォスフィンセレニドを１１μmol 、
２μmol の下記テルル化合物１、塩化金酸３．３μmol
、チオシアン酸２３０μmol を添加し、１２０分間熟
成した。その後、温度を４０℃に変更して下記増感色素
Ａをハロゲン化銀に対して３．５×１０−４mol を攪拌
しながら添加し、５分後に下記化合物Ａをハロゲン化銀
に対して４．６×１０−３mol 添加し、５分間攪拌後、
２５℃に急冷してハロゲン化銀粒子の調製を行った。

【００４６】

【化１】

【００４７】

【化２】

【００４８】

【化３】

【００４９】（素材固体微粒子分散液の調製）テトラク
ロロフタル酸、１，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５
−ジメチルフェニル）−３，５，５−トリメチルヘキサ
ン、トリブロモメチルフェニルスルホンについて固体微
粒子分散物を調製した。テトラクロロフタル酸に対し、
ヒドロキシプロピルメチルセルロース０．８１ｇと水９
４．２ｍｌを添加して良く攪拌してスラリーとして１０
時間放置した。その後、平均直径０．５ｍｍのジルコニ
ア製ビーズを１００ｍｌ用意し、スラリーと一緒にベッ
セルに入れ、分散機（１／４Ｇサンドグラインダーミ
ル：アイメックス(株)製）で５時間分散してテトラクロ
ロフタル酸の固体微粒子分散液を得た。粒子径は７０wt
％が１．０μｍ以下であった。その他の素材については
適宜分散剤の使用量、および所望の平均粒子径を得るた
めに分散時間を変更し、それぞれの素材についての固体
微粒子分散液を得た。

【００５０】（染料を含有するポリマー微粒子分散物の
調製）下記染料Ａ（２ｇ）、メチルメタクリレート−メ
タクリル酸共重合体（８５：１５）（６ｇ）、および酢
酸エチル４０ｍｌからなる溶液を６０℃に加温、溶解し
た後、ポリビニルアルコール５ｇを含む水溶液１００ｍ
ｌに加え、高速攪拌機（ホモジナイザー、日本精機製作
所製）にて１２０００ｒｐｍ、５分間、微細分散して平
均粒径０．３μｍのポリマー微粒子乳化分散物Ｐを得
た。

【００５１】

【化４】

【００５２】（乳剤層塗布液の調製）先に調製した有機
銀微結晶分散物（銀１mol 相当）に対し、ハロゲン化銀
粒子をハロゲン化銀１０mol ％／有機酸銀相当と、以下
のバインダーおよび現像用素材を添加して乳剤塗布液と
した。 バインダー：ラックスター3307B （大日本インキ化学工
業(株)製；SBR ラテックス）４３０ｇ 現像用素材：テトラクロロフタル酸、５ｇ相当の上記分
散物 １，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェ
ニル）−３，５，５−トリメチルヘキサン、９８ｇ相当
の上記分散物 フタラジン、９．２ｇ トリプロモメチルフェニルスルホン、１２ｇ相当の上記
分散物 ４−メチルフタル酸、７ｇ 染料：上記染料Ａ、４ｇ相当の上記染料含有ポリマー微
粒子分散物

【００５３】上記において用いたラックスター3307B
は、スチレン−ブタジエン系コポリマーのポリマーラテ
ックスであり、分散粒子の平均粒径は、０．１μｍ〜
０．１５μｍ程度である。

【００５４】（乳剤面保護層塗布液の調製）イナートゼ
ラチン１０ｇに対し、界面活性剤Ａを０．２６ｇ、界面
活性剤Ｂを０．０９ｇ、シリカ微粒子（平均粒径２．５
μｍ）０．９ｇ、１，２−（ビスビニルスルホニルアセ
トアミド）エタン０．３ｇ、水６４ｇを添加して乳剤面
保護層塗布液とした。

【００５５】

【化５】

【００５６】（染料分散物の調製）酢酸エチル３５ｇに
対し、下記染料Ｂを０．８ｇ添加して攪拌して溶解し
た。その液にあらかじめ溶解したポリビニルアルコール
（ＰＶＡ−２１７）６重合％溶液を８５ｇ添加し、５分
間ホモジナイザーで攪拌した。その後、酢酸エチルを脱
溶媒で揮発させ、最後に水で希釈し、染料分散物を調製
した。

【００５７】

【化６】

【００５８】（固体塩基微粒子分散物の調製）下記固体
塩基、２６ｇに対し、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−
２１５）２ｇ水溶液を２３４ｇ添加して良く攪拌してス
ラリーとして１０時間放置した。その後、経基金直径
０．５ｍｍのジルコニア製ビーズを１００ｍｌ用意し、
スラリーと一緒にベッセルに入れ、分散機（１／４Ｇサ
ンドグラインダーミル：アイメックス(株)社製）で５時
間分散して固体塩基微粒子分散液を得た。

【００５９】

【化７】

【００６０】（バック面塗布液の調製）１０％ゼラチン
溶液、３８ｇに対し、先に調製した染料分散物２０ｇ、
固体塩基微粒子分散物２０ｇ、水３５ｇを添加してバッ
ク面塗布液とした。

【００６１】（バック面保護層塗布液の調製）イナート
ゼラチン１０ｇに対し、前記の界面活性剤Ａを０．２６
ｇ、界面活性剤Ｂを０．０９ｇ、１，２−（ビスビニル
スルホニルアセドアミド）エタン０．３ｇ、シルデック
スＨ１２１（洞海化学社製真球シリカ、平均サイズ１２
μｍ）０．４ｇ、水６４ｇ添加してバック面保護膜層と
した。

【００６２】（塗布試料の作成）上記のように調製した
乳剤層塗布液に感光層添加染料を１７５μｍポリエチレ
ンテレフタレート支持体上に塗布銀量が２．２ｇ／ｍ²
となるように調節して塗布した後、乳剤塗布層上に乳剤
面保護層塗布液をゼラチンの塗布量が１．８ｇ／ｍ²と
なるように塗布した。乾燥後、乳剤層と反対の面上にバ
ック面塗布液を染料Ｂの塗布量が５６ｍｇ／ｍ²となる
ように塗布し、さらに、バック面塗布層上にバック面保
護層塗布液をゼラチンの塗布量が１．８ｇ／ｍ²となる
ように塗布し、試料を作成した。

【００６３】

【発明の効果】以上の説明により明らかなように、本発
明による画像形成装置にあっては、レーザビームの波長
域で干渉の起りやすい材料上に画像記録するに際し、干
渉縞の発生を極力防止し、非視認化することにより、よ
り鮮明で誤診断のおそれがない画像を得ることができる
ほか、レーザパワーの増加により、記録材料の感度低減
を図ることができる利点がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明が適用される画像形成装置の概略図であ
る。

【図２】本発明にかかる画像露光部の概略図である。

【図３】従来の画像露光部を示す概略図である。

【図４】記録材料内でのレーザ反射光により生ずる干渉
縞の説明図である。

【図５】層内に入光したレーザ光の反射形態を示す説明
図である。

【符号の説明】

１０ 画像形成装置 １２ 記録材料供給部 １６ 画像露光部 １８ 熱源像部 ５０ レーザ光源 ２００ 第二のレーザ光源 λ０、λ１ 波長 Ａ 記録材料

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【手続補正書】

【提出日】平成９年９月１６日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００３

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００３】このドライシステムの画像記録装置におい
ても、画像記録を行う場合には、記録フィルムにレーザ
光を照射すること（露光）によって、記録フィルムに潜
像を形成する。そして、この潜像が形成された記録フィ
ルムを加熱することで該潜像を現像する。露光は、別途
撮影して得た画像データに従ってレーザの出力を制御し
つつ、該レーザを走査（主走査）させることで行うのが
一般的である。当然、このときには、記録フィルムも所
定の方向に移動（副走査）させる。なお、このような熱
現像感光材料に対する画像記録装置に関しては、例え
ば、国際公開番号ＷＯ９５／３１７５４号の公報、国際
公開番号ＷＯ９５／３０９３４号の公報に記載の物が挙
げられる。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００４

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００４】このような画像記録装置における、従来の
露光部１６の概念図を図３に示している。露光ユニット
４６は、記録画像に応じて変調した光ビームＬを主走査
方向（図１，図３で紙面に垂直方向）に偏向して、所定
の記録位置Ｘに入射する公知の光ビーム走査装置であっ
て、記録材料Ａの分光感度特性に応じた波長域の光ビー
ムＬを射出するレーザ光源５０と、光源５０を駆勤する
記録制御装置５２と、光偏向器であるポリゴンミラー５
４と、ｆθレンズ５６と、立ち下げ用のシリンドリカル
ミラー５８とを備えている。

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１８

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１８】従って式、より、 ２ｔｎ／λ１＝２ｎｔ／λ０−１ ∴λ１＝（２ｎｔ／２ｎｔ−λ０）×λ０ 従って、波長λ０とλ１のビームはともにこの層におい
て生ずる干渉縞を強め合い、この中間の波長 λ′＝（２ｎｔ／２ｎｔ−λ０）×λ０ のビームはこの層において生ずる干渉縞を弱め合う。

【手続補正４】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３９

【補正方法】変更

【補正内容】

【００３９】従って、第二の半導体レーザの波長λ１＝
６６５．４ｎｍまたは６５４．６ｎｍである。この波長
のレーザビームを出力する半導体レーザを選択し、これ
を図２に示すごとき光学的配置に組立てて両ビームを重
畳して記録材料に照射し、乾式現像を実施した。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レーザビームの波長域で干渉の起りやす
   い画像記録材料上に画像とデータを露光する画像露光部
   を備える画像形成装置において、 前記画像露光部が、前記記録材料からの反射光が互いに
   相殺しあう波長に設定された異なる波長の複数のレーザ
   光源を備え、各レーザ光源からの光が略等波長となるよ
   うにして重畳して記録材料に照射することを特徴とする
   画像形成装置。
2. 【請求項２】 前記記録材料の基準となるレーザ光の波
   長λ０に対する干渉縞のコントラストが最も強く生ずる
   層の厚みをｔ（μｍ）、屈折率をｎとするとき、Δλ０
   （λ０²／２（２ｎｔ−λ０））で算出されるΔλを用
   いて、前記基準となるレーザ光の波長λ０に対して重畳
   される前記レーザ光の波長λ１が、次の式で表される 式：λ１＝λ０±Δλ′ （（ｍ−０．５）Δλ≧Δλ′≦（ｍ＋０．５）Δλ，
   ｍは整数） 波長のレーザ光を少なくとも一本用いることを特徴とす
   る請求項１記載の画像形成装置。