JP2002148778A - レーザビーム露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】簡素な構成を有しながらも、干渉現象による画
像ムラを抑制できるレーザビーム露光装置を提供する。 【解決手段】レーザ光源１から出射されたレーザビーム
Ｌは、直線偏光状態のままビームスプリッタ２でＬ１，
Ｌ２と分割され、レーザビームＬ２がミラー３で反射さ
れて、レーザビームＬ１と平行にされ、λ／４波長板４
をそれぞれ通過して円偏光状態に変換され、更にレーザ
ビームＬ１のみλ／２波長板５を通過して回転方向を逆
転され、その後光学系６で集光され、不図示のポリゴン
ミラーによって走査されつつ、ｆθ光学系７を介して記
録媒体であるフィルムＦ上の同一点に、所定の角度を持
って照射されるようになっており、かかる構成により、
複屈折性を有するフィルムＦに対しても、干渉現象によ
る画像ムラを効果的に抑制できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばハロゲン化
銀感光材料等の感光材料に画像を形成するためにレーザ
ビームを照射して露光を行うレーザビーム露光装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】レーザビーム露光装置は、ハロゲン化銀
写真感光材料をレーザ光により露光することにより画像
を記録できる。ところで、近年においては、ハロゲン化
銀熱現像感光材料が登場し、液処理が不要で熱現像によ
り画像を顕像化できることから、従来のハロゲン化銀写
真感光材料に置き換えることができるよう開発が進めら
れている。

【０００３】ここで、レーザビーム露光装置により、ハ
ロゲン化銀熱現像感光材料に対して画像を記録する際
に、干渉縞が発生し画像ムラが生じてしまうことが判っ
ている。この現象は、ハロゲン化銀熱現像感光材料が、
感光層と、その下層の透明な支持体とから構成されたフ
ィルムの厚さに起因して生じるものである。すなわち、
光源より照射されフィルム内に入射したレーザ光のう
ち、支持体下面（裏面）から反射したレーザビームが感
光層上面（表面）で再度反射され、元々のレーザビーム
と、反射したレーザビームとの間で干渉が生じ、画像上
に干渉縞として形成されることとなる。

【０００４】このような干渉は、実際的には、フィルム
の支持体下面側に設けた吸収層でレーザビームが吸収さ
れたり、また感光層に含まれるハロゲン化銀粒子により
レーザビームの散乱が生じたりすることから、ある程度
抑制されるが十分ではない。そこで、レーザビームを分
割して、記録媒体の同一点に照射することで、フィルム
の厚さに起因した干渉を抑制することが考えられてい
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、レーザ
ビームを分割すると、フィルムの厚さに起因する干渉は
抑制されるものの、両レーザビームの間に位相差が生じ
ることから、両レーザビーム間での干渉により、記録面
上で合波されたレーザビームパターンが乱れ、新たな干
渉現象による画像ムラが生じることが確認された。

【０００６】一方、フィルムの支持体が複屈折性を有す
る場合の取り扱いをどうするかといった問題もある。

【０００７】本発明は、かかる従来技術の問題点に鑑み
てなされたものであり、簡素な構成を有しながらも、干
渉現象による画像ムラを抑制できるレーザビーム露光装
置を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】第１の本発明のレーザビ
ーム露光装置は、レーザ光源から照射されたレーザビー
ムを分割し、複屈折性を有する記録材料の略同一点に対
して、所定の角度差をもって照射し露光するレーザビー
ム露光装置であって、分割前或いは分割後に、前記レー
ザビームを円偏光状態にする偏光状態設定手段と、分割
された前記レーザビームの一方の円偏光状態における回
転方向を変更する回転方向変換手段と、を有するので、
分割されたレーザビームを、複屈折性を有する記録材料
の略同一点に照射した場合でも、干渉現象による画像ム
ラを効果的に抑制できる。

【０００９】すなわち、レーザビームを円偏光状態で入
射するということは、振動面の直交した２本の等分配さ
れたレーザビーム（但し互いに９０度位相ズレ有り）を
入射していることになる。よって、複屈折性を有する記
憶媒体の各配向軸に等分配された２本のレーザビームを
巾手方向に走査していったときに、レーザビームの波長
と、記憶媒体の屈折率と厚さとに応じた２つの干渉縞の
パターンが形成されるが、一方のレーザビームの円偏光
状態を逆方向にすることで、両干渉縞のパターンの位相
が反転し、それにより干渉がうち消されるという効果が
ある。

【００１０】さらに、２本のレーザビームの円偏光状態
の回転方向が互いに逆転していることにより、両レーザ
ビーム間での干渉が起こらないので記録面上で合波され
たレーザビームパターンの乱れ発生せず、上述したごと
き新たな干渉現象による画像ムラも効果的に抑制でき
る。

【００１１】更に、前記偏光状態設定手段は、λ／４波
長板であり、前記回転方向変換手段は、λ／２波長板で
あると好ましい。

【００１２】又、前記偏光状態設定手段は、λ／４波長
板であり、前記回転方向変換手段は、前記λ／４波長板
とビームスプリッタの組合わせから成ると好ましい。

【００１３】第２の本発明のレーザビーム露光装置は、
レーザ光源から照射されたレーザビームを分割し、記録
材料の略同一点に対して、所定の角度差をもって照射し
露光するレーザビーム露光装置であって、分割された一
方のレーザビームにおける直線偏光の振動方向と、分割
された他方のレーザビームにおける直線偏光の振動方向
とを直交させるので、両レーザビーム間での干渉による
記録面上で合波されたレーザビームパターンの乱れがな
くなり、上述したごとき新たな干渉現象による画像ムラ
を効果的に抑制できる。

【００１４】更に、前記直線偏光の振動方向を直交させ
る手段として、分割されたいずれかのレーザビームの光
路内に配置されたλ／２波長板を有すると好ましい。

【００１５】第３の本発明のレーザビーム露光装置は、
複屈折性を有する記録材料に照射されるときに円偏光状
態となっているので、干渉現象による画像ムラをある程
度抑制できる

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一例である実施の
形態及び実施例を説明する。従って、発明の用語の意義
や発明自体を、発明の実施の形態及び実施例の記載によ
り限定して解釈すべきではなく、適宜変更／改良が可能
であることは言うまでもない。最初に、異なる角度で入
射する２つのレーザ光で干渉縞を防止する原理を具体例
を挙げながら説明する。なお、フィルムＦの支持体層及
び感光層は使用する波長に対して透過性または半透過性
である。図１は、本発明のレーザビーム露光装置の概要
を示す図である。図２は、フィルムの断面図である。図
１において、レーザ光源１から出射されたレーザビーム
Ｌは、ビームスプリッタ２でＬ１，Ｌ２と分割され、レ
ーザビームＬ２がミラー３で反射されて、レーザビーム
Ｌ１と平行にされ、λ／４波長板４をそれぞれ通過し、
レーザビームＬ１のみλ／２波長板５を通過し、光学系
６で集光され、不図示のポリゴンミラーによって走査さ
れつつ、ｆθ光学系７を介して記録媒体であるフィルム
Ｆ上の同一点に照射されるようになっている。

【００１７】ところで、記録層Ｆａと支持体Ｆｂとから
なるフィルムＦが、屈折特性的に等方性を有する場合を
考える。このとき、フィルムＦに単一のレーザビームが
照射された場合、図２に示すように、入射ビームａに対
し、支持体Ｆｂの裏面から反射するビームａ１が生じ、
これらが干渉して干渉縞パターンを形成してしまう。

【００１８】（実施形態１）このような干渉の問題を解
消する一つの手法として、単一のレーザ光源からのレー
ザビームを２つに分けた上で、フィルムＦの同一点に照
射することが考えられる。但し、単にレーザビームを分
割しただけでは、同じ干渉縞パターンが形成できるだけ
であり、干渉の問題は解消しない。これに対し、２つに
分けたレーザビームの入射角度を少し変えた状態で、フ
ィルムＦの同一点に照射するようにすると、レーザビー
ムの光路長を、フィルムの厚さに応じて調整できること
から、干渉縞パターンを抑制できることが判っている。

【００１９】しかしながら、このような構成において
は、２つのレーザビームがわずかに位相差を持つので、
互いに干渉してしまい、記録面上で合波されたレーザビ
ームパターンが乱れ画像村が発生するという問題が生じ
た。そこで、本発明者らは、鋭意研究の結果、２つに分
けたレーザビームの一方の直線偏光の振動方向を、他方
の振動方向と直交させると、両レーザビームは互いに干
渉しなくなるので、記録面上で合波されたレーザビーム
パターンの乱れがなくなり、これによる画像ムラを抑制
できることを見いだした。具体的な手段としては、分割
されたいずれかのレーザビームの光路内にλ／２波長板
を有することで実現できる。

【００２０】（実施形態２）以上の場合は、フィルムＦ
が屈折特性的に等方性を有する場合である。ところが、
フィルムＦ（特に支持体Ｆｂ）が屈折特性的に異方性
（複屈折性）を有する場合には、このような手法のみで
は、干渉の問題を全て解消することはできないことが判
明した。

【００２１】そこで、本発明者らは、更に鋭意研究の結
果、円偏光状態にある２本のレーザビームの回転方向
を、互いに逆転させることで、フィルムＦが屈折特性的
に異方性を有する場合にも、干渉縞パターンを抑制でき
ることを見いだしたのである。かかる研究結果に基づき
構成されたレーザビーム露光装置が図１に示すものであ
る。

【００２２】すなわち、図１において、レーザ光源１か
ら出射されたレーザビームＬは、直線偏光状態のままビ
ームスプリッタ２でＬ１，Ｌ２と分割され、レーザビー
ムＬ２がミラー３で反射されて、レーザビームＬ１と平
行にされ、偏光状態設定手段であるλ／４波長板４をそ
れぞれ通過して円偏光状態に変換され、更にレーザビー
ムＬ１のみ回転方向変換手段であるλ／２波長板５を通
過して回転方向を逆転され、その後光学系６で集光さ
れ、不図示のポリゴンミラーによって走査されつつ、ｆ
θ光学系７を介して記録媒体であるフィルムＦ上の同一
点に、所定の角度を持って照射されるようになってい
る。

【００２３】この概要を示したのが、図３である。すな
わち、図３（ａ）に示す場合には、レーザビームＬ１，
Ｌ２は振動方向が同じ直線偏光の場合で、一方の直線偏
光の振動方向が、他方の振動方向と一致しており、かか
る場合には、黒丸の部分で干渉が強くなり、白丸の部分
で干渉が弱くなる結果、干渉縞パターンが生じ、記録面
上で合波されたレーザビームパターンが乱れ、画像ムラ
が発生することとなる。

【００２４】これに対し、図３（ｂ）に示す場合は、レ
ーザビームＬ１、Ｌ２は互いに回転方向の異なる円偏光
であるが、これを各々直交する２つの直線振動成分（水
平成分、垂直部分）に分けて考えると、水平成分の干渉
パターンと、これと位相差が半周期ずれた垂直成分の干
渉パターンと分けることができるので、互いに相手を打
ち消し合い、結果として記録面上で合波されたレーザビ
ームパターンの乱れがなくなり、これによる干渉の影響
を抑制することができる。

【００２５】かかる結果を図４に示す。図４（ａ）は、
λ／２波長板５を光路中に挿入しない場合であり、一
方、図４（ｂ）は、λ／２波長板５をレーザビームＬ１
の光路中に挿入した場合の、横軸に位置、縦軸に光強度
をとって表したグラフである。図４に示すように、２本
のレーザビームにおいて、円偏光の回転方向を逆転させ
ることで、干渉低減効果があることが確認された。

【００２６】（実施形態３）次に記録媒体が複屈折性
（異方性）を持つ場合の干渉抑制効果を図１３で説明す
る。記録媒体が複屈折性を持つ場合、一方の入射ビーム
ａは、記録媒体の中で、各屈折率の軸方向に分配される
（ａ１，ａ２）。同様に、もう一方の入射ビームｂも、
ｂ１，ｂ２に分配される。ここで、ａとｂ波長差、或は
同一波長で記録媒体への入射ビーム角度差が、記録媒体
の膜厚干渉をキャンセルするように設定されていて、さ
らにａとｂの光の強さが同じで、かつａからａ１，ａ２
への光量分配率とｂからｂ１，ｂ２への光量分配率が同
じであれば、ビームが走査されていった時、ａとａ１に
よる干渉縞パターンとｂとｂ１による干渉縞パターン
は、位相が逆転（即ち、干渉縞の明暗のパターンが逆
転）しているので、両ビームを合波した時干渉縞は出な
い。同様に、ａとａ２による干渉縞パターンと、ｂとｂ
２による干渉縞パターンも、位相が逆転（即ち、干渉縞
の明暗のパターンが逆転）しているので、両ビームを合
波したとき、干渉縞はでない。従って、全体としても干
渉縞が出ないことになる。一般に、記録媒体の各屈折率
の軸方向は任意であるので、入射ビームが直線偏光の場
合は、必ずしも上記条件満たさない。即ち、干渉縞が残
る場合が殆どである。そこで、入射ビームが円偏光であ
れば、記録媒体の各屈折率の軸方向がどの向きにあって
も、各屈折率の軸への光量分配比率を同じにできるの
で、上記条件を常に満たし、記録媒体の膜厚干渉による
画像ムラを抑制できる。なお、記録媒体の複屈折性によ
る膜厚干渉としては、支持体だけでなく、感光層にも同
じことが言える。

【００２７】（実施形態４）なお、記録媒体が複屈折
（異方性）を持つ場合、円偏光状態の一本レーザビーム
をフィルムＦ上に照射することでも、ある程度の干渉縞
パターンの抑制ができ、またそれにより装置構成を相当
に簡略化できる。

【００２８】図５は、本実施の形態のレーザビーム露光
装置を含む画像記録装置の正面図であり、図６は、この
画像記録装置の左側面図である。本実施の形態の画像形
記録装置１００は、シート状の熱現像材料であるフィル
ムＦを１枚ずつ給送する給送部１１０と、給送されたフ
ィルムＦを露光する露光部１２０と、露光されたフィル
ムＦを現像する熱現像部１３０とを有している。フィル
ムＦは、ハロゲン化銀粒子と有機酸銀とを含有する感光
層を支持体上に有し、γが２以上であるハロゲン化銀熱
現像感光材料である。以下、図面を用いて本実施の形態
の画像記録装置を説明する。

【００２９】図５、６において、給送部１１０は堆積さ
れた複数枚のフィルムＦを収容するトレイＴが上下二段
に設けられている。各トレイＴの前方端部側の上部に
は、フィルムＦの前端部を吸着して上下動する吸着ユニ
ット１１１が設けられている。また、吸着ユニット１１
１の近傍には、吸着ユニット１１１により供給されたフ
ィルムＦを矢印(1)方向(水平方向)へ給送する給送ロー
ラ対１１２が設けられている。また、吸着ユニット１１
１は前後にも移動可能で吸着したフイルムＦを給送ロー
ラ対１１２へ運ぶ。そして、給送ローラ対１１２により
給送されたフイルムＦを垂直方向に搬送する複数の搬送
ローラ対１４１が設けられいる。これらの搬送ローラ対
１４１により、フィルムＦを図６の矢印（２）に示す方
向（下方）に搬送する。

【００３０】画像記録装置１００の下部には、搬送方向
変換部１４５が設けられている。この搬送方向変換部１
４５は、図５及び図６に示すように、搬送ローラ対１４
１により図６の矢印（２）に示す鉛直方向下方に搬送さ
れたフィルムＦを矢印（３）で示すように水平方向に搬
送し、次いで、搬送方向を矢印（３）から矢印（４）へ
直角に変換して搬送し次いで、搬送方向を変換され搬送
されたフイルムＦを図５の矢印（５）に示す鉛直方向上
方に搬送方向を変えて搬送する。

【００３１】そして、図５に示すように、搬送方向変換
部１４５から搬送されたフイルムＦを図５の矢印（６）
で示す鉛直方向上方に搬送する複数の搬送ローラ対１４
２が設けられ、フィルムＦを画像記録装置１００の左側
面から図５の矢印（６）で示す鉛直方向上方に搬送す
る。

【００３２】この鉛直方向上方への搬送途中で、レーザ
ビーム露光装置１２０は、フィルムＦの感光面を赤外域
７８０〜８６０ｎｍの範囲内（例えば８００ｎｍ）の波
長を有するレーザ光で走査露光し、露光画像信号に応じ
た潜像を形成させる。

【００３３】画像記録装置１００の装置の上部には熱現
像部１３０が設けられ、熱現像部１３０のドラム１４の
近傍には、搬送ローラ対１４２で図５の矢印（６）に示
す鉛直方向上方に搬送されたフィルムＦをドラム１４へ
供給する供給ローラ対１４３が設けられている。

【００３４】ドラム１４へフィルムＦを供給するタイミ
ングは、成り行きによるランダムなタイミングで供給す
る。なお、ランダムなタイミングによる供給の代わり
に、タイミングを図って供給してもよい。

【００３５】熱現像部１３０のドラム１４は、フィルム
Ｆとドラム１４の外周面とが密着した状態で、図５の矢
印（７）に示す方向に共に回転しながら、ドラム１４が
フィルムＦを加熱し熱現像する。すなわち、フイルムＦ
の潜像を可視画像に形成する。その後、図５のドラム１
４に対し右方まで回転したときに、ドラム１４からフィ
ルムＦを離す。熱現像部１３０の右側方には、複数の搬
送ローラ対１４４が設けられており、ドラム１４から離
れたフイルムＦを、図５の矢印（８）に示すように右斜
め下方に搬送しつつ、冷却する。そして、搬送ローラ対
１４４が冷却されたフイルムＦを搬送しつつ、濃度計１
１８がフイルムＦの濃度を測定する。その後、複数の搬
送ローラ対１４４は、ドラム１４から離れたフイルムＦ
を図５の矢印（９）に示すように水平方向に搬送し、画
像記録装置１００の上部から取り出せるように、画像記
録装置１００の右上方部に設けられた排出トレイ１６０
に排出する。

【００３６】図７は、図１の原理に基づくレーザビーム
露光装置１２０の構成を示す概念図である。レーザビー
ム露光装置１２０は、デジタル画像信号Ｓに基づき強度
変調されたレーザ光Ｌを、回転多面鏡１１３によって偏
向して、フィルムＦ上を主走査すると共に、フィルムＦ
をレーザ光Ｌに対して主走査の方向と略直角な方向に相
対移動させることにより副走査し、レーザ光Ｌを用いて
フィルムＦに潜像を形成するものである。

【００３７】画像記録装置１００は、放射線ＣＴ装置、
スキャナ等の画像信号生成装置１２１から送信された画
像信号Ｓを画像Ｉ／Ｆ１２２を介して受信し、変調部１
２３に入力される。変調部１２３は、画像信号Ｓをアナ
ログ変換し、アナログ変換された露光画像信号をドライ
バ１２４に送り、ドライバ１２４は、送られた露光画像
信号及び制御信号に応じてレーザ光源部１２５がレーザ
ビーム（以下、「レーザ光」ともいう。）を主走査の終
了の毎に切り替えながら照射するように制御する。

【００３８】レーザ光源部１２５は、例えば、所定の波
長（例えば８００ｎｍ）でレーザ光を出射するレーザダ
イオードから構成されており、図７のように、レーザ光
源部１２５から出射したレーザ光Ｌは、ビームスプリッ
タ１２９を直進してλ/４波長板１２８に入射するレー
ザ光Ｌ１と、ビームスプリッタ１２９で反射され、ミラ
ー１３０で更に反射されて、レーザ光Ｌ１と平行な状態
でλ／４波長板１２８に入射するレーザ光Ｌ２とに分割
される。

【００３９】更に、レーザ光Ｌ１のみがλ／２波長板１
２７を通過し、両レーザ光Ｌ１，Ｌ２は、その後集光レ
ンズ１２６でビーム径が変換され、シリンドリカルレン
ズ１１５で一方向(本実施の形態では、上下方向)にのみ
収束され、図７で矢印Ａに示す回転方向に回転する回転
多面鏡１１３の鏡面に対し、回転多面鏡の回転軸に垂直
な線像として入射するようになっている。回転多面鏡１
１３は、レーザ光Ｌ１またはＬ２を主走査方向に反射偏
向し、偏向されたレーザ光Ｌ１、Ｌ２は、４枚のレンズ
を組み合わせてなるシリンドリカルレンズを含むｆθレ
ンズ１１４を通過した後、光路上に主走査方向に延在し
て設けられたミラー１１６で反射されて、搬送装置１４
２により矢印Ｙ方向に搬送されている（副走査されてい
る）フィルムＦの被走査面上を、矢印Ｘ方向に繰り返し
主走査される。

【００４０】以上のようにして、フィルムＦに画像信号
Ｓに基づく潜像が形成されるが、この場合、レーザ光Ｌ
１及びレーザ光Ｌ２により露光されるために、一線状領
域毎の走査線では干渉パターンが現れるとしても、フィ
ルムＦ全体では上述のように干渉ムラを抑えることがで
きる。このため、熱現像後のフィルムＦにおいて干渉ム
ラを非可視化でき、濃度むらを低減できるので、画像品
質が向上する。

【００４１】次に、レーザ露光ビーム装置において、上
述のようにレーザビームを直線偏光から円偏光状態とす
るために好ましい構成について図８により説明する。図
８のように、レーザビーム露光装置内の各部材の配置等
の理由から、レーザビームの合波直後に透過するよう配
置したλ／４波長板により円偏光状態としたレーザビー
ムを多数の引き回しミラー３５１，３５２，３５３を介
してポリゴンミラ−３５４に導く場合、ポリゴンミラー
３５４はコスト等の関係から金属製であるが、引き回し
ミラーによってはこの円偏光状態が元に戻ることがあ
る。これを防止するために、図８では、金属製のポリゴ
ンミラー３５４の直前に配置された引き回しミラー３５
３を金属ミラーとし、他のミラー２５１，３５２を誘電
体多層膜ミラーとし、金属製の引き回しミラー３５３へ
のビーム入射角θが金属製のポリゴンミラーへのビーム
中心入射角θと同じにしている。これによれば、主走査
方向の両端近傍で円偏光度が多少低下するが、低コスト
の金属ミラー、金属ポリゴンミラーを使用でき、好まし
い。

【００４２】また、レーザビームを直線偏光から円偏光
状態とするために好ましい構成として、λ／４波長板に
対し後置されるミラーはすべて、金属ミラーを使用せ
ず、誘電体多層膜ミラーとするのがよい。

【００４３】図９は、単一のレーザビームを、直線偏光
状態を維持しつつ２本に分割する、よりコンパクトなビ
ームスプリッタを示した図である。図９において、レー
ザビームＬは、透明な板Ｔに入射した後、その裏面側に
配置されたハーフミラーＨＭを通過したレーザビームＬ
１と、ハーフミラーＨＭで反射されたレーザビームＬ２
とに分割され、レーザビームＬ２は、透明な板Ｔの表面
側に配置されたミラーＭで更に反射され、レーザビーム
Ｌ１と平行に出射されるようになっている。

【００４４】図１０は、直線偏光状態にある単一のレー
ザビームを、２本に分割すると共に、互いに回転方向が
逆転した円偏光状態に変換する、よりコンパクトなビー
ムスプリッタを示した図である。図１０において、レー
ザビームＬは、透明な板Ｔの表面側に配置された偏光状
態設定手段として機能するλ／４波長板ＲＤに入射した
後、透明な板Ｔを通過し、その裏面側に配置されたハー
フミラーＨＭを通過したレーザビームＬ１と、ハーフミ
ラーＨＭで反射されたレーザビームＬ２とに分割され
る。かかる状態では、両レーザビームＬ１，Ｌ２共、円
偏光状態に変換されている。ここで、レーザビームＬ２
は、回転方向変換手段として機能するλ／４波長板ＲＤ
を再度通過し、かつ透明な板Ｔの表面側に配置されたミ
ラーＭで反射されることで、その回転方向が逆転した状
態で、レーザビームＬ１と平行に出射されるようになっ
ている。

【００４５】次に、上述のフィルムＦについて説明す
る。図１１は、フィルムＦの断面図であり、露光時にお
けるフィルムＦ内の化学的反応を模式的に示した図であ
る。図１２は、加熱時におけるフィルムＦ内の化学的反
応を模式的に示した、図１１と同様な断面図である。フ
ィルムＦは、ＰＥＴからなる支持体（基層）上に、ポリ
ビニルブチラールを主材とする感光層が形成され、更
に、その上にセルロースブチレートからなる保護層が形
成されている。感光層には、ベヘン酸銀（Ｂｅｈ．Ａ
ｇ）と、還元剤及び調色剤とが配合されている。

【００４６】露光時に、レーザビーム露光装置１２０よ
りレーザ光ＬがフィルムＦに対して照射されると、図１
１に示すように、レーザ光Ｌが照射された領域に、ハロ
ゲン化銀粒子が感光し、潜像が形成される。一方、フィ
ルムＦが加熱されて最低熱現像温度以上になると、図１
２に示すように、ベヘン酸銀から銀イオン（Ａｇ+）が
放出され、銀イオンを放出したベヘン酸は調色剤と錯体
を形成する。その後銀イオンが拡散して、感光したハロ
ゲン化銀粒子を核として還元剤が作用し、化学的反応に
より銀画像が形成されると思われる。このようにフィル
ムＦは、感光性ハロゲン化銀粒子と、有機銀塩と、銀イ
オン還元剤とを含有し、１００℃以上である最低現像温
度以上の温度（例えば１２５℃）で熱現像されるように
なっている。

【００４７】熱現像材料に用いられる感光性のハロゲン
化銀は、典型的に、有機銀塩に関して、０．７５〜２５
ｍｏｌ％の範囲で用いられることができ、好ましくは、
２〜２０ｍｏｌ％の範囲で用いられることができる。ま
た、フィルムＦは、有機酸銀を感光層中のハロゲン化銀
粒子に対して銀量で４倍以上の含有していることが好ま
しい。また、ハロゲン化銀粒子の平均粒径は０．１μｍ
以下である。

【００４８】このハロゲン化銀は、臭化銀や、ヨウ化銀
や、塩化銀や、臭化ヨウ化銀や、塩化臭化ヨウ化銀や、
塩化臭化銀等のあらゆる感光性ハロゲン化銀であっても
良い。このハロゲン化銀は、これらに限定されるもので
はないが、立方体や、斜方晶系状や、平板状や、４面体
等を含む、感光性であるところのあらゆる形態であった
も良い。

【００４９】有機銀塩は、銀イオンの還元源を含むあら
ゆる有機材料である。有機酸の、特に長鎖脂肪酸（１０
〜３０の炭素原子、好ましくは１５〜２８の炭素原子）
の銀塩が好ましい。配位子が全体的に４．０〜１０．０
の間で一定の安定性を有する有機又は無機の銀塩錯体で
あることが好ましい。そして、画像記録層の重量の約５
〜３０％であることが好ましい。

【００５０】この熱現像材料に用いられることができる
有機銀塩は、光に対して比較的安定な銀塩であって、露
光された光触媒（たとえば写真用ハロゲン化銀等）と還
元剤の存在において、８０℃以上の温度に加熱されたと
きに銀画像を形成する銀塩である。

【００５１】好ましい有機銀塩には、カルボキシル基を
有する有機化合物の銀塩が含まれる。それらには、脂肪
族カルボン酸の銀塩及び芳香族カルボン酸の銀塩が含ま
れる。脂肪族カルボン酸の銀塩の好ましい例には、ベヘ
ン酸銀、ステアリン酸銀等が含まれる。脂肪族カルボン
酸におけるハロゲン原子又はヒドロキシルとの銀塩も効
果的に用いうる。メルカプト又はチオン基を有する化合
物及びそれらの誘導体の銀塩も用いうる。更に、イミノ
基を有する化合物の銀塩を用いうる。

【００５２】有機銀塩のための還元剤は、銀イオンを金
属銀に還元できるいずれの材料でも良く、好ましくは有
機材料である。フェニドン、ヒドロキノン及びカテコー
ルのような従来の写真現像剤が有用である。しかし、フ
ェノール還元剤が好ましい。還元剤は画像記録層の１〜
１０重量％存在するべきである。多層構成においては、
還元剤が乳剤層以外の相に添加される場合は、わずかに
高い割合である約２〜１５重量％がより望ましい。

【００５３】（実施例）上述の本実施の形態による装置
によりそれぞれ下記のフィルムＦを露光し熱現像したと
ころ、干渉現象の発生が原因と考えられる画像ムラは発
見されなかった。以下、フィルムＦの製造について説明
する。

【００５４】ハロゲン化銀−ベヘン酸銀ドライソープ
を、米国特許第３，８３９，０４９号に記載の方法によ
って調製した。上記ハロゲン化銀は総銀量の９モル％を
有し、一方べへン酸銀は総銀量の９１モル％を有した。
上記ハロゲン化銀は、ヨウ化物２％を有する０．０５５
μｍ臭化ヨウ化銀エマルジョンであった。

【００５５】熱現像乳剤を、上記ハロゲン化銀−ベヘン
酸銀ドライソープ４５５ｇ、トルエン２７ｇ、２−ブタ
ノン１９１８ｇ、およびポリビニルブチラール（モンサ
ント製のＢ−７９）と均質化した。上記均質化熱現像乳
剤（６９８ｇ）および２−ブタノン６０ｇを撹拌しなが
ら１２．８℃まで冷却した。ピリジニウムヒドロブロミ
ドペルブロミド（０．９２ｇ）を加えて、２時間撹絆し
た。

【００５６】臭化カルシウム溶液（ＣａＢｒ（１ｇ）と
メタノール１０ミリリットル）３．２５ミリリットルを
加え、続いて３０分間撹拌した。更にポリビニルブチラ
ール（１５８ｇ；モンサント製Ｂ−７９）を加え、２０
分間撹拌した。温度を２１．１℃まで上昇し、以下のも
のを撹絆しながら１５分間かけて加えた。 ２−（トリブロモメチルスルホン）キノリン ３．４２ｇ、 １，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３，５，５ −トリメチルヘキサン ２８．１ｇ、 ５−メチルメルカプトべンズイミダゾール０．５４５ｇを含有する溶液 ４１．１ｇ、 ２−（４−クロロべンゾイル）安息香酸 ６．１２ｇ Ｓ−１（増感染料） ０．１０４ｇ メタノール ３４．３ｇ イソシアネート（デスモダーＮ３３００、モべイ製） ２．１４ｇ テトラクロロフタル酸無水物 ０．９７ｇ フタラジン ２．８８ｇ 尚、染料Ｓ−１は以下の構造を有する。

【化１】 活性保護トップコート溶液を以下の成分を用いて調製し
た， ２−ブタノン ８０．０ｇ メタノール １０．７ｇ 酢酪酸セルロース（ＣＡＢ−１７１−１５５、イーストマン・ケミカルズ製） ８．０ｇ ４−メチルフタル酸 ０．５２ｇ ＭＲＡ−１、モトル還元剤、Ｎ−エチルペルフルオロオクタンスルホニルアミド エチルメタクリレート／ヒドロキシエチルメタクリレート／アクリル酸の重量比 ７０：２０：１０の３級ポリマー ０．８０ｇ

【００５７】この熱現像乳剤とトッブコートとは、同時
に、０．１８ｍｍの青色ポリエステル・フィルム・べー
スにコーティングされた。ナイフ・コーターは、同時に
コーティングする２つのバーやナイフを１５．２ｃｍの
距離を置いた状態で設定された。銀トリップ層と、トッ
プ・コートとは、銀乳剤をリアー・ナイフに先立ってフ
ィルムに注ぎ、トップ・コートをフロント・バーに先立
ってフィルムに注ぐことにより、多層コーティングされ
た。

【００５８】このフィルムは、次いで、両方の層が同時
にコーテングされるように、前方へ引き出された。これ
は、多層コーティング方法を１回行って得られた。コー
ティングされたポリエステル・べースは、７９．４℃で
４分間乾燥せしめられた。そのナイフは、その銀層に対
して１ｍ²当たりの乾燥被膜重量が２３ｇとなるよう
に、そして、そのトップ・コートに対して１ｍ²当たり
の乾燥被膜重量が２．４ｇとなるように調整された。ま
た、これらの層の乾燥膜厚および屈折率と支持体である
フィルムベースの膜厚及び屈折率から求まる光路長は６
００μｍであった。 （比較例） 比較例１ 実施形態２からλ／４波長板を除いたもので
ある。 比較例２ 実施形態２からビームスプリッタのλ／４波
長板を除いたものである。 比較例３ 実施形態１で直線偏光の振動方向を平行にし
たものである。 比較例４ １本のレーザビームで露光したものである。 比較例５ 比較例１の露光装置を調整し、従来のＸ線写
真フィルムを露光後液現像したものである。 比較例６ 実施例１の露光装置を調整し、従来のＸ線写
真フィルムを露光後液現像したものである。 比較例７ 実施例２の露光装置を調整し、従来のＸ線写
真フィルムを露光後液現像したものである。 比較例８ 実施例３の露光装置を調整し、従来のＸ線写
真フィルムを露光後液現像したものである。 これらの比較結果を表１に示す。

【表１】

【００５９】

【発明の効果】本発明によれば、簡素な構成を有しなが
らも、干渉現象による画像ムラを抑制できるレーザビー
ム露光装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のレーザビーム露光装置の概要を示す図
である。

【図２】フィルムの断面図である。

【図３】２本のレーザビームを用いた場合において、干
渉パターンの低減効果を示す図である。

【図４】λ／２波長板を用いた場合における、干渉パタ
ーンの低減効果を示す図である。

【図５】本発明の実施の形態にかかる熱現像装置の正面
図である。

【図６】本発明の実施の形態にかかる熱現像装置の左側
面図である。

【図７】図５の熱現像装置のレーザビーム露光装置の構
成を示す概略図である。

【図８】レーザビームを直線偏光から円偏光状態とする
ために好ましい構成を示す図である。

【図９】単一のレーザビームを、直線偏光状態を維持し
つつ２本に分割する、よりコンパクトなビームスプリッ
タを示した図である。

【図１０】直線偏光状態にある単一のレーザビームを、
２本に分割すると共に、互いに回転方向が逆転した円偏
光状態に変換する、よりコンパクトなビームスプリッタ
を示した図である。

【図１１】本実施の形態にけるフィルムＦの断面図であ
り、露光時におけるフィルムＦ内の化学的反応を模式的
に示した図である。

【図１２】加熱時におけるフィルムＦ内の化学的反応を
模式的に示した、図１１と同様な断面図である。

【図１３】記録媒体が複屈折性（異方性）を持つ場合の
干渉抑制効果を説明するための図である。

【符号の説明】

１、１２５ レーザ光源 ２，１２９ ビームスプリッタ ３，１３０ ミラー ４，１２８ λ／４波長板 ５，１２７ λ／２波長板 ６、１２６ 集光光学系 ７、１１４ ｆθレンズ Ｆ フィルム

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中村 幸登 東京都日野市さくら町１番地 コニカ株式 会社内 (72)発明者 金森 孝太郎 埼玉県狭山市上広瀬591−７ コニカ株式 会社内 (72)発明者 玉腰 泰明 埼玉県狭山市上広瀬591−７ コニカ株式 会社内 Ｆターム(参考） 2H099 BA17 CA02 CA07 CA08 2H112 AA03 AA11 BC32

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レーザ光源から照射されたレーザビーム
   を分割し、複屈折性を有する記録材料の略同一点に対し
   て、所定の角度差をもって照射し露光するレーザビーム
   露光装置であって、 分割前或いは分割後に、前記レーザビームを円偏光状態
   にする偏光状態設定手段と、 分割された前記レーザビームの一方の円偏光状態におけ
   る回転方向を変更する回転方向変換手段と、を有するこ
   とを特徴とするレーザビーム露光装置。
2. 【請求項２】 前記偏光状態設定手段は、λ／４波長板
   であり、前記回転方向変換手段は、λ／２波長板である
   ことを特徴とする請求項１に記載のレーザビーム露光装
   置。
3. 【請求項３】 前記偏光状態設定手段は、λ／４波長板
   であり、前記回転方向変換手段は、前記λ／４波長板と
   ビームスプリッタの組合わせから成ることを特徴とする
   請求項１に記載のレーザビーム露光装置。
4. 【請求項４】 レーザ光源から照射されたレーザビーム
   を分割し、記録材料の略同一点に対して、所定の角度差
   をもって照射し露光するレーザビーム露光装置であっ
   て、 分割された一方のレーザビームにおける直線偏光の振動
   方向と、分割された他方のレーザビームにおける直線偏
   光の振動方向とを直交させることを特徴とするレーザビ
   ーム露光装置。
5. 【請求項５】 分割されたいずれかのレーザビームの光
   路内に配置されたλ／２波長板を有することを特徴とす
   る請求項４に記載のレーザビーム露光装置。
6. 【請求項６】 レーザ光源から照射されたレーザビーム
   を複屈折性を有する記録材料に照射し露光するレーザビ
   ーム露光装置であって、前記レーザビームは、前記記録
   材料に照射されるときに円偏光状態となっていることを
   特徴とするレーザビーム露光装置。