JP4140282B2 - レーザビーム露光装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ハロゲン化銀等の感光材料に画像を形成するためにレーザビームを照射して露光するレーザビーム露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、画像データに基づいて画像を記録するためにハロゲン化銀写真の感光材料をレーザ光により露光していた。そして、近年、液処理が不要で熱現象により画像を顕像化できるハロゲン化銀熱現象感光材料が登場した。しかし、これをシングルモードのレーザダイオードにより発振されたレーザ光で露光すると干渉縞が発生し濃度ムラが生じてしまうことがある。この現象をフィルム断面とレーザ光との関係を示す概念図である図１３を参照して説明する。
【０００３】
図１３（ａ）に示すように、ハロゲン化銀熱現像感光材料の感光層とＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）等の支持体とから構成された感光材料であるフィルムＦにレーザ光が表面Ｆ１から入射すると、裏面Ｆ２で一部が反射し表面Ｆ１に戻ることにより、直接記録層に照射される光Ｂ１と、感光層を透過した光のうち、Ｆ２面で反射し、さらにＦ１面で反射された光Ｂ２との間で干渉が起こる。このため、感光層に照射される光量がフィルムの厚みにより変化し、その結果ハロゲン化銀熱現像感光材料の感光層への露光量が変動し、濃度ムラ、つまり干渉縞が生じてしまう。
【０００４】
実際には、図１３（ｂ）に示すように、支持体の裏面Ｆ２側にはレーザ光の吸収層が設けられており、また、感光層に含まれるハロゲン化銀粒子による散乱線Ｓの発生のため、干渉による光量変化は上記の値より少なくなるが、吸収層と支持体層の境界面Ｆ２で反射が生じ、吸収層が寄与しなくなる。また、従来の感光材料は、含まれるハロゲン化銀粒子のサイズが大きく、また吸収層を多層に設けることができるので、干渉縞は発生し難いのに対し、熱現像感光材料は、従来の感光材料に比較してハロゲン化銀粒子が細かく、感光層内での散乱が従来のフィルムよりもずっと少なく、特に、フィルムコントラストγが２以上の硬調な熱現像材料である場合、干渉縞が顕著となる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上述したような干渉縞の発生を防止するために、縦シングルモードのレーザダイオードに高周波信号を重畳して縦マルチモード発光させることにより、レーザ干渉性を低減する技術が開発されたが、この方法では高周波信号を重畳するため、高周波ノイズが発生することとなり画質を低下させる原因となってしまう。また、レーザダイオードの駆動電流を変調することによりその光量を直接的に変動させて画像を記録しているが、この画像記録のための光量変動と干渉縞抑制のための高周波重畳とを両立してレーザダイオードを制御することは、技術的には複雑で困難であり、コストも高くなってしまう。
【０００６】
本発明の課題は、簡易な技術で干渉縞を抑制するレーザビーム露光装置を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の発明は、
感光材料に対し、駆動電流に応じてレーザ光源から発光されたレーザビームを主走査方向、及び主走査方向に直交する副走査方向に走査して露光を行う露光手段を備えたレーザビーム露光装置において、
画像情報を構成する画素毎にデューティ比を１００％未満に設定したパルスタイミングに応じて、当該画像情報に基づく光量制御信号を生成する信号生成手段と、
所定の主走査数毎に電流値を変更したバイアス電流を生成するバイアス電流生成手段と、
前記バイアス電流生成手段により生成されたバイアス電流を付加した、前記光量制御信号に基づく駆動電流を生成し、当該駆動電流を前記レーザ光源に印加する駆動電流印加手段と、
を備えることを特徴としている。
【０００８】
請求項３記載の発明は、請求項１記載のレーザビーム露光装置において、
前記バイアス電流生成手段は、前記バイアス電流の電流値を干渉縞が非可視化するように変更することを特徴としている。
【０００９】
請求項４記載の発明は、請求項１から３の何れか一つに記載のレーザビーム露光装置において、
前記バイアス電流生成手段は、１主走査おきにバイアス電流を生成することを特徴とする。
【００１０】
この請求項１、３、４記載の発明によれば、１主走査おきのバイアス電流を生成し、このバイアス電流を付加した、光量制御信号に基づく駆動電流をレーザ光源に印加するので、１主走査おきに異なる干渉パターンが感光材料に現れることとなり、マクロ空間的に干渉縞を非可視化できる。従って、簡易な技術で干渉縞を抑制する安価なレーザビーム露光装置を提供することができる。
【００１１】
請求項２記載の発明は、請求項１記載のレーザビーム露光装置において、
前記バイアス電流生成手段は、前記バイアス電流の電流値をランダムに変更することを特徴としている。
【００１２】
この請求項２記載の発明によれば、バイアス電流の電流値をランダムに変更するので、露光条件のばらつきに対応して干渉縞を非可視化することができる。
【００１３】
請求項５記載の発明は、請求項１から４の何れか一つに記載のレーザビーム露光装置において、
前記露光手段は、前記レーザビームを副走査方向に一部重ね合わせて露光することを特徴としている。
【００１４】
この請求項５記載の発明によれば、異なる波長のレーザビームで多重に露光することとなるので、異なる波長のレーザビームどうしが相殺して、ミクロ空間的にも干渉縞を非可視化することができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、図を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。
まず、構成を説明する。
図１は、本実施の形態におけるレーザビーム露光部１２０を含む画像記録装置１００の正面図であり、図２はその左側面図である。
図１、２において、画像記録装置１００は、感光材料であるフィルムＦを１枚づつ給送する給送部１１０、給送されたフィルムＦを露光するレーザビーム露光部１２０、露光されたフィルムＦを現像する熱現像部１３０、から構成される。フィルムＦは、ハロゲン化銀粒子と有機酸銀とを含有する感光層を支持体状に有し、フィルムコントラストγが２以上であるハロゲン化銀熱現像感光材料である。
【００１６】
以下、各部について詳細に説明する。
給送部１１０は、堆積された複数枚のフィルムＦを収容するトレイＴが上下二段に設けられている。各トレイＴの前方端部側の上部には、フィルムＦの前端部を吸着して上下動する吸着ユニット１１１が設けられている。また、吸着線状領域の近傍には、吸着ユニット１１１により給送されたフィルムＦを矢印（１）方向（水平方向）へ給送する給送ローラ対１１２が設けられている。また、吸着ユニット１１１は、前後に移動可能に構成され、吸着したフィルムＦを給送ローラ対１１２へ搬送する。そして、給送ローラ対１１２により給送されたフィルムＦを垂直方向に搬送する複数の搬送ローラ対１４１が設けられている。これらの発送ローラ対１４１により、フィルムＦを図２の矢印（２）に示す方向（下方）に搬送する。
【００１７】
画像記録装置１００の下部には、搬送方向変換部１４５が設けられている。この搬送方向変換部１４５は、図１、及び図２に示すように、搬送ローラ対１４１により図２の矢印（２）に示す鉛直方向下方に搬送されたフィルムＦを矢印（３）で示すように水平方向に搬送し、次いで、搬送方向を矢印（３）から矢印（４）へ直角に変換して搬送し、次いで搬送方向を変換され搬送されたフィルムＦを図１の矢印（５）に示す鉛直方向上方に搬送方向を変えて搬送する。
【００１８】
そして、図１に示すように、搬送方向変換部１４５から搬送されたフィルムＦを図１の矢印（６）で示す鉛直方向上方に搬送する複数の搬送ローラ対１４２が設けられ、フィルムＦを画像記録装置１００の左側面から図１の矢印（６）で示す鉛直方向上方に搬送する。
【００１９】
レーザビーム露光部１２０は、この鉛直方向上方への搬送途中で、フィルムＦの感光面を赤外域７８０〜８６０ｎｍの範囲内の波長を有するレーザ光で走査露光し、露光画像信号に応じた潜像を形成させる。
【００２０】
画像記録装置１００の上部に熱現像部１３０が設けられ、熱現像部１３０のドラム１４の近傍には、搬送ローラ対１４２で図１の矢印（６）に示す鉛直方向上方に搬送されたフィルムＦをドラム１４へ供給する供給ローラ対１４３が設けられている。ドラム１４へフィルムＦを供給するタイミングは、成り行きによるランダムなタイミングで供給する。なお、ランダムなタイミングで供給するのではなく、タイミングを図って供給することとしてもよい。
【００２１】
熱現像部１３０のドラム１４は、フィルムＦとドラム１４の外周面とが密着した状態で、図１の矢印（７）に示す方向に共に回転しながら、ドラム１４がフィルムＦを加熱し熱現像する。すなわち、フィルムＦの潜像を可視画像に形成する。その後、図１のドラム１４に対し右方まで回転したときに、ドラム１４からフィルムＦを離す。熱現像部１３０の右測方には、複数の搬送ローラ対１４４が設けられており、ドラム１４から離れたフィルムＦを、図１の矢印（８）に示すように右斜め下方に搬送しつつ冷却する。そして、搬送ローラ対１４４が冷却されたフィルムＦを搬送しつつ、濃度計１１８がフィルムＦの濃度を測定する。その後、複数の搬送ローラ対１４４は、ドラム１４から離れたフィルムＦを図１の矢印（９）に示すように水平方向に搬送し、画像記録装置１００の上部から取り出せるように、画像記録装置１００の右上方部に設けられた排出トレイ１６０に排出する。
【００２２】
次に、本発明に係るレーザビーム露光部１２０について詳細に説明する。
図３は、レーザビーム露光部１２０の構成を示す概念図である。
図３において、レーザビーム露光部１２０は、変調部１２３、ドライバ１２４、バイアス電流生成回路１２４ａ、レーザ光源部１２５、フォトダイオード１２５ａ、ミラー１２８ａ、１２８ｂ、集光レンズ１２６、シリンドリカルレンズ１１５、回転他面鏡１１３、ｆθレンズ１１４、ミラー１１６から構成される。
【００２３】
レーザビーム露光部１２０は、放射線ＣＴ装置、スキャナ等の画像信号生成装置１２１から画像Ｉ／Ｆ１２２を介して送信された画像データＧに基づいて変調部１２３により強度変調されたレーザ光Ｌを、回転多面鏡１１３により偏光してフィルムＦ上を主走査（図３に示すＸ方向）するとともに、フィルムＦをレーザ光Ｌに対して主走査方向と略直角な方向（図３に示すＹ方向）に相対移動させることにより副走査し、レーザ光Ｌを用いてフィルムＦ状に潜像を形成するものである。
【００２４】
変調部１２３は、Ｄ／Ａ変換回路を備えて画像Ｉ／Ｆ１２２から入力された画像データＧを画像信号にアナログ変換し、画素クロックに同期して該画像信号の各画素のデューティ比が５０％となるパルスタイミングを設定し、このパルスタイミングに応じて該画像信号に基づく光量制御信号（パルス信号）を生成し、ドライバ１２４に出力する。つまり、変調部１２３がドライバ１２４を介してレーザ光源１２５へ出力する駆動電流を振幅変調することによりレーザ光Ｌの光量を変調する。すなわち、変調部１２３は、信号生成手段としての機能を有する。
【００２５】
バイアス電流生成回路１２４ａは、主走査に同期した水平同期信号に基づいて１主走査おきに所定のバイアス電流を生成して、ドライバ１２４で生成された駆動電流に供給する。なお、生成するバイアス電流の電流値は適宜設定可能とする。すなわち、バイアス電流生成回路１２４ａは、バイアス電流生成手段としての機能を有する。
【００２６】
ドライバ１２４は、変調部１２３から光量制御信号を入力されると、バイアス電流生成回路１２４ａで生成されるバイアス電流を付加した、光量制御信号に基づく駆動電流（パルス電流）を生成し、生成した駆動電流をレーザ光源部１２５に印加してパルス駆動することにより、レーザ光を発振させる。また、ドライバ１２４は、フォトダイオード１２５ａから入力された光量モニタ信号に基づいてレーザ光源部１２５の出力光量を調整制御する。
【００２７】
駆動電流の生成について詳細に説明する。まずドライバ１２４が光量制御信号に応じた駆動電流を生成してレーザ光源部１２５に出力すると、この駆動電流にバイアス電流が供給されてレーザ光源部１２５に印加される。バイアス電流が供給された分だけ駆動電流は電流値が変動するため、ドライバ１２４は、レーザ光源部１２５の出力光量をフォトダイオード１２５ａを介して検出し、バイアス電流が印加された分だけ変動した光量を修正した駆動電流を新たに生成してレーザ光源部１２５に出力する。つまり、バイアス電流を付加した、光量制御信号に基づく駆動電流を生成する。すなわち、ドライバ１２４は、駆動電流印加手段としての機能を有する。
【００２８】
なお、ドライバ１２４は、予めバイアス電流生成回路１２４ａで生成されるバイアス電流の電流値を考慮した駆動電流を生成することとしてもよい。例えば、バイアス電流生成回路１２４ａで生成されるバイアス電流が１０ｍＡと設定されている場合、光量制御信号に基づいて生成したパルス電流から１０ｍＡを差し引いた駆動電流を生成して、バイアス電流が供給された際に光量制御信号に基づいた駆動電流となるようにしてもよい。
【００２９】
レーザ光源部１２５は、レーザダイオード等から構成され、バイアス電流が付加された駆動電流を入力されると、この駆動電流に応じたレーザ光Ｌを発振する。また、フォトダイオード１２５ａは、レーザ光源部１２５から照射されたレーザ光をミラー１２８ａ、１２８ｂを介して受光することによりレーザ光源部１２５からの出力光量をモニタし、そのモニタ結果を光量モニタ信号としてドライバ１２４に出力する。
【００３０】
ここで、レーザダイオードの順方向電流に対するレーザ光出力特性について図４を参照して詳細に説明する。一般的にレーザダイオードは、ある電流値、つまり閾値Ｉ以下のバイアス電流を印加しても光が出力されず、閾値Ｉ以上の駆動電流を印加すると光が出力され、その光量は印加電流量に比例する。なお、このときの閾値Ｉは、レーザダイオードがおかれている周囲環境の温度により変動する。従って、バイアス電流生成回路１２４ａで生成するバイアス電流の電流値は、この閾値Ｉの変動を考慮して設定することが好ましい。
【００３１】
また、レーザダイオードは、例えば図５に示すように温度に応じて発振波長が変動する温度依存性を有する。図５において、レーザダイオードが温度ｔ１の時、その発振波長はλ１であり、温度ｔ２の時、その発振波長はλ２である。また、レーザダイオードの温度は印加される駆動電流量に応じて変動する特性を有し、例えばその駆動電流が約１５ｍＡ変動すると、発振波長は約０．５ｎｍ変動する。つまり、レーザダイオードに温度差を与えることでその発振波長を制御することができる。なお、上記説明は具体例であり、その温度依存の程度、及び駆動電流による温度変動の程度は、用いるレーザダイオードによりそれぞれ異なる。
【００３２】
レーザ光源部１２５から出力されたレーザ光Ｌは、集光レンズ１２６を通過してそのビーム光径が変換され、シリンドリカルレンズ１１５で一方向（本実施の形態では上下方向）にのみ収束されて、図３で矢印Ａに示す回転方向に回転する回転多面鏡１１３の鏡面に対し、回転多面鏡の回転軸に垂直な潜像として入射する。回転多面鏡１１３は、レーザ光Ｌを主走査方向に反射偏光し、偏光されたレーザ光Ｌは、４枚のレンズを組み合わせてなるシリンドリカルレンズを含むｆθレンズ１１４を通過した後、航路上に主走査方向に延在して設けられたミラー１１６で反射されて、搬送装置１４２により矢印Ｙ方向に搬送されている（副走査されている）フィルムＦの被走査面上を、矢印Ｘ方向に繰り返し主走査され、フィルムＦ上の被走査面前面にわたって走査が行われる。なお、ｆθレンズ１１４のシリンドリカルレンズは、入射したレーザ光ＬをフィルムＦの被走査面上に副走査方向にのみ収束させる。すなわち、回転多面鏡１１３、ｆθレンズ１１４、ミラー１１６、搬送装置１４２は、露光手段としての機能を有する。
【００３３】
次に、フィルムＦについて詳細に説明する。
図６は、フィルムＦの断面図であり、露光時におけるフィルムＦ内の化学反応を模式的に示した図である。図７は、加熱時におけるフィルムＦ内の化学反応を模式的に示した、図６と同様な断面図である。図６、及び図７において、フィルムＦは、ＰＥＴからなる支持体（基層）上に、ポリビニルブラチールを取材とする感光層が形成され、更にその上にセルロースブチレートからなる保護層が形成されている。感光層には、ベヘン酸銀（Ｂｅｈ、Ａｇ）と、還元剤、及び調色剤とが配合されている。
【００３４】
露光時に、レーザビーム露光部１２０によりレーザ光ＬがフィルムＦに対して照射されると、図４に示すように、レーザ光Ｌが照射された領域に、ハロゲン化銀粒子が感光し、潜像が形成される。一方、フィルムＦが加熱されて最低熱現像温度以上になると、図６に示すように、ベヘン酸から銀イオン（Ａｇ⁺）が放出され、銀イオンを放出したベヘン酸は調色剤と錯体を形成する。その後銀イオンが拡散して、感光したハロゲン化粒子を核として還元剤が作用し、化学的反応により銀画像が形成されると思われる。このようにフィルムＦは、感光性ハロゲン化銀粒子と、有機銀塩と、銀イオン還元剤とを含有し、４０℃以下の温度では実質的に熱現像されず、８０℃以上である最低熱現像温度以上の温度で熱現像されるようになっている。
【００３５】
熱現像材料に用いられる感光性のハロゲン化銀は、典型的に、有機銀塩に関して、０．７５〜２５ｍｏｌ％の範囲で用いられることができ、好ましくは、２〜２０ｍｏｌ％の範囲で用いられることができる。また、フィルムＦは、有機銀塩を感光層中のハロゲン化銀粒子に対して銀量で４倍以上含有していることが好ましい。また、ハロゲン化銀粒子の平均粒径は０．１μｍ以下である。
【００３６】
このハロゲン化銀は、臭化銀や、ヨウ化銀、塩化銀、臭化ヨウ化銀、塩化臭化ヨウ化銀、塩化臭化銀等のあらゆる感光性ハロゲン化銀であってもよい。このハロゲン化銀は、これらに限定されるものではないが、立方体や、斜方晶系状や、平板状、四面体等を含む、感光性であるところのあらゆる形態であってもよい。
【００３７】
有機銀塩は、銀にイオンの還元源を含むあらゆる有機材料である。有機酸の、特に長鎖脂肪酸（１０〜３０の炭素原子、好ましくは１５〜２８の炭素原子）の銀塩が好ましい。そして、画像記録層の重量の約５〜３０％であることが好ましい。
【００３８】
この熱現像材料に用いられることができる有機銀塩は、光に対して比較的安定な銀塩であって、露光された光触媒（例えば写真用ハロゲン化銀等）と還元剤の存在において、８０℃以上の温度に加熱された時に銀画像を形成する銀塩である。
【００３９】
好ましい有機銀塩としては、カルボキシル基を有する有機化合物の銀塩が含まれる。それらには、脂肪カルボン酸の銀塩、及び芳香族カルボン酸の銀塩が含まれる。脂肪族カルボン酸の銀塩として好ましい例には、ベヘン酸銀、ステアリン酸銀等が含まれ、脂肪族カルボン酸におけるハロゲン原子、又はヒドロキシルとの銀塩も効果的に用いうる。メルカプト、又はチオン基を有する化合物、及びそれらの誘導体の銀塩も用いうる。更に、イミノ基を有する化合物の銀塩も用いうる。
【００４０】
有機銀塩のための還元剤は、銀イオンを金属銀に還元できるいずれの材料でもよく、好ましくは有機材料である。フェニドン、ヒドロキノン、及びカテコールのような従来の写真現像剤が有用であるが、フェノール還元剤が好ましい。還元剤は、画像記録層の１〜１０重量％存在するべきである。多層構成においては、還元剤が乳剤層以外の層に添加される場合は、わずかに高い割合である約２〜１５重量％がより望ましい。
【００４１】
次に、本実施の形態の動作を説明する。
まず、説明の前提として、レーザ光の波長と干渉縞の相関について説明する。
図８は、フィルムＦにレーザ光が垂直入射する場合を示す図である。まず、レーザが単一波長である場合を説明すると、図８において、フィルムＦの表面Ｆ１の入射点５で入射した入射光がフィルムＦの裏面Ｆ２で一部が反射し、その反射光が入射点５に入射する。フィルムＦの感光層の厚さＤ２を２０μｍ、屈折率ｎ２を１．５、支持体１の厚さＤ１を１８０μｍ、屈折率ｎ１を１．５、レーザ光の波長をλ１＝０．８００μｍとすると、光路差δは次式で求められる。
δ＝２（Ｄ１×ｎ１＋Ｄ２×ｎ２）
【００４２】
上記の場合、δ＝６００μｍとなり、これはレーザ光の波長０．８００μｍの整数倍となる。このとき、波長λ１の入射光の入射点５における位相は、図９（ａ）に示す位相になり、反射光の入射点５における位相は図９（ｂ）に示すような位相となり、両位相が一致するため、記録層２に照射される光量は最大となる。これに対して、支持体１の厚さを１８０．１３μｍとすると、光路差δは、波長０．８００μｍの７５０．５倍となり、このとき反射光の入射点５における位相は図９（ｃ）に示す位相となるため、記録層２に照射される光量は最小となる。このようにフィルムＦの支持体１の厚みのばらつきにより記録層２を照射する光量が変化し、干渉縞が生じることとなる。
【００４３】
次に、レーザ光が２つの異なる波長を有する場合を説明すると、上述の例で、波長がλ１＝０．８００μｍ、λ２＝０．８００５３μｍのレーザ光が照射された場合、上記光路差δ＝６００μｍは、この２つの波長に対してそれぞれ７５０倍、７４９．５倍となり、感光層２に照射される光量は両者の和、つまり最大と最小の中間となる。ここで、例えば光路差δ＝６００．４μｍとなった場合でも、この光路差δは２つの波長に対して、それぞれ７５０．５倍、７５０倍となり、やはり感光層２に照射される光量は変わらない。
以上のように、２つの異なる波長のレーザ光で露光することにより、干渉の影響を低減させることができることがわかる。
【００４４】
次に、レーザビーム露光部１２０により行われるレーザ光Ｌの制御について説明する。
まず、画像信号生成装置１２１により生成された画像データＧが画像Ｉ／Ｆ１２２に入力されると、変調部１２３は、該画像データＧを画像信号にアナログ変換し、画素クロックに同期して該画像信号の各画素のデューティ比を５０％に設定したパルスタイミングで、画像信号に基づく光量制御信号を生成してドライバ１２４に出力する。
【００４５】
このとき、バイアス電流生成回路１２４ａは、主走査に同期した水平同期信号に基づいて１主走査おきに所定のバイアス電流を生成する。例えば、レーザ光が出力する閾値Ｉが３０ｍＡであった場合、環境温度による閾値Ｉの変動を考慮した電流値１５ｍＡのバイアス電流を１主走査おきに生成する。そして、ドライバ１２４は、生成されたバイアス電流を付加した、光量制御信号に基づく駆動電流を生成してレーザ光源部１２５に印加する。
【００４６】
具体的にこのバイアス電流が付加された駆動電流について、図１０の駆動電流のパルスパターン例を参照して説明する。図１０において、走査線１〜４における駆動電流は同一の画像情報に基づく駆動電流であり、画像信号の画素毎にデューティ比５０％のパルスタイミングが設定さている。最初の走査線１では０ｍＡのバイアス電流、つまりバイアス電流が付加されない駆動電流が、次の走査線２では１５ｍＡのバイアス電流（図中の斜線部で示す）が付加された駆動電流が、次の走査線３ではバイアス電流が付加されない駆動電流が、次の走査線４では１５ｍＡのバイアス電流が付加された駆動電流が流れている。図１０に示すように、ドライバ１２４はバイアス電流の付加に関わらず、光量制御信号に基づいた駆動電流を生成するため、同一の画像情報に基づく駆動電流が出力される走査線１〜４においては、バイアス電流の付加に関わらず同一の画像がフィルムＦに露光されることとなる。
【００４７】
そしてこのとき、図１０において、走査線１でレーザ光源部１２５から発光されるレーザ光の波長がλ１であるとすると、次の走査線２では、光量制御信号に応じた駆動電流が流れていない位置でもバイアス電流が流れているため、レーザ光源部１２５のレーザダイオードの温度が上昇して波長が変動することとなり、走査線１におけるレーザ光の波長λ１とは異なる波長λ２のレーザ光により露光される。また、走査線３では走査線１と同様にバイアス電流が流れていないため、波長λ１のレーザ光により露光され、走査線４では走査線２と同様の電流値のバイアス電流が流れているので、波長λ２のレーザ光により露光されることとなる。
【００４８】
このようにして、１走査線おきに異なる波長のレーザ光により露光されると、前提で説明したように１走査線では単一波長で露光しているため干渉縞が生じることとなり、フィルムＦには、図１１に示すように１走査線おきに異なる干渉パターン（図１１における○●の繰り返しが干渉縞のパターンを示す）が現れることとなる。しかし、ミクロ的に見た場合には各走査線で干渉縞が生じているが、１走査線毎にその干渉縞のパターンがずれているので各走査線を含む領域全体をマクロ的に見た場合、干渉縞が非可視化されることとなる。なお、バイアス電流生成回路１２４ａにより生成するバイアス電流の電流値は、バイアス電流を印加した走査線におけるレーザ光の波長が、干渉縞がマクロ的に非可視化されるような波長となる電流値に設定することが好ましいが、フィルムＦの厚みのばらつき等の露光条件のばらつきを考慮してランダムな電流値に設定することとしてもよい。
【００４９】
また、上述した露光方法でさらにビーム径に対して副走査方向の走査ピッチを小さくすることにより多重露光を行うこととしてもよい。図１１を参照して具体的に説明すると、例えば２重に露光を行う場合、走査ピッチＰＴに対してビーム径Ｗが２倍になっているので、隣接する走査線において異なる波長のレーザ光が２重に照射される領域が存在し、該領域で露光されるレーザ光の強度は２重に照射されたレーザ光の合成強度となる。つまり、走査線１では波長λ１のレーザ光で、走査線２では波長λ２のレーザ光で露光された場合、２重に異なるレーザ光で照射された領域では、前提で説明したように波長が異なるレーザ光がフィルムＦに入射することにより、位相がずれた２つのレーザ光どうしが相殺するため、干渉縞の影響を低減させることができる。
【００５０】
すなわち、１走査線毎に異なる波長のレーザ光を他の走査線に重ねて多重に露光することにより、異なる波長のレーザ光同士が相殺することとなり、ミクロ空間的にも干渉縞を非可視化することが可能となる。
【００５１】
以上のように、高周波信号を重畳することなく、１走査線おきにバイアス電流を印加した駆動電流によりレーザ光源部１２５を駆動するという簡単な技術により、フィルムＦ全体でマクロ空間的、或いは多重露光することによりミクロ空間的にも干渉縞を非可視化することができ、安価なコストで記録画像の画質を向上させることができる。
【００５２】
なお、本実施の形態における記述は、本発明に係るレーザビーム露光部１２０の好適な一例であり、これに限定されるものではない。
例えば、上述した説明では、変調部１２３がデューティ比５０％の光量制御信号を生成することとしたが、このデューティ比は１００％未満であればどの値でもバイアス電流の影響が出るので、その値は限定しない。しかし特に好ましいデューティ比は５０％である。
【００５３】
また、上述した説明では、バイアス電流生成回路１２４ａが、１主走査おきに所定の電流値のバイアス電流を生成し、駆動電流に印加させることとして説明したが、これに限らず１走査線おきに電流値を変更したバイアス電流を印加して、１主走査おきに異なる波長のレーザ光を発光させることとしてもよい。例えば、図１０において、走査線１、及び３ではバイアス電流を印加せず波長λ１のレーザ光で露光し、走査線２では１５ｍＡのバイアス電流を印加して波長λ２のレーザ光で露光したとすると、走査線４では走査線２とは異なる電流値、例えば１０ｍＡのバイアス電流を印加することにより他の走査線とは異なる波長λ３のレーザ光を生じさせて露光させる。このようにすることにより、走査線毎に異なる干渉パターンがそれぞれ現れるので、干渉パターンのランダム化を図って、マクロ空間的な非可視化を実現することが可能となる。
【００５４】
また、上述した説明では、バイアス電流生成回路１２４ａは１走査線おきにバイアス電流を生成してレーザ光源部１２５に出力していたが、これに限らず、マクロ空間的に干渉縞を非可視化できるのであれば、例えば２走査線おき等、バイアス電流を印加する走査線の間隔を大きくしてもよい。しかし特に好ましいのは１走査線おきにバイアス電流を印加することである。
【００５５】
その他、本実施の形態におけるレーザビーム露光装置１２０を構成する各装置、又は構成部分の細部構成、及び細部動作に関しても本発明の趣旨を逸脱することのない範囲で適宜変更可能である。
【００５６】
【発明の効果】
請求項１、３、４記載の発明によれば、１主走査おきのバイアス電流を生成し、このバイアス電流を付加した、光量制御信号に基づく駆動電流をレーザ光源に印加するので、１主走査おきに異なる干渉パターンが感光材料に現れることとなり、マクロ空間的に干渉縞を非可視化できる。従って、簡易な技術で干渉縞を抑制する安価なレーザビーム露光装置を提供することができる。
【００５７】
請求項２記載の発明によれば、バイアス電流の電流値をランダムに変更するので、露光条件のばらつきに対応して干渉縞を非可視化することができる。
【００５８】
請求項５記載の発明によれば、異なる波長のレーザビームで多重に露光することとなるので、異なる波長のレーザビームどうしが相殺して、ミクロ空間的にも干渉縞を非可視化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のレーザビーム露光装置を適用した実施の形態の画像記録装置１００の正面図である。
【図２】図１の画像記録装置１００の左側面図である。
【図３】図１のレーザビーム露光部１２０の構成を説明する図である。
【図４】レーザダイオードにおける印加電流とレーザ光出力との相関を示す図である。
【図５】レーザダイオードにおける温度依存性を示す図である。
【図６】本実施の形態におけるフィルムＦの断面図であり、露光時におけるフィルムＦ内の化学的反応を模式的に示した図である。
【図７】加熱時のフィルムＦ内の化学反応を模式的に示した、図４と同様の図である。
【図８】レーザ光の波長と干渉縞との相関を説明する図である。
【図９】（ａ）は波長λ１のレーザ光の位相を示す図であり、（ｂ）、（ｃ）は、波長λ２のレーザ光の位相を示す図である。
【図１０】バイアス電流を供給された駆動電流のパルスパターンを示す図である。
【図１１】走査線毎の干渉パターンを示す図である。
【図１２】多重露光を模式的に示した図である。
【図１３】干渉縞が生じる原因を説明するための図である。
【符号の説明】
１ フィルムＦの支持体
２ フィルムＦの感光層
１００ 熱現像装置
１２０ レーザビーム露光部
１２３ 変調部
１２４ ドライバ
１２４ａ バイアス電流生成回路
１２５ レーザ光源
１３０ 現像部
１４２ 搬送装置
Ｆ フィルム

Claims (5)

1. 感光材料に対し、駆動電流に応じてレーザ光源から発光されたレーザビームを主走査方向、及び主走査方向に直交する副走査方向に走査して露光を行う露光手段を備えたレーザビーム露光装置において、
   画像情報を構成する画素毎にデューティ比を１００％未満に設定したパルスタイミングに応じて、当該画像情報に基づく光量制御信号を生成する信号生成手段と、
   所定の主走査数毎に電流値を変更したバイアス電流を生成するバイアス電流生成手段と、
   前記バイアス電流生成手段により生成されたバイアス電流を付加した、前記光量制御信号に基づく駆動電流を生成し、当該駆動電流を前記レーザ光源に印加する駆動電流印加手段と、
   を備えることを特徴とするレーザビーム露光装置。
2. 前記バイアス電流生成手段は、前記バイアス電流の電流値をランダムに変更することを特徴とする請求項１記載のレーザビーム露光装置。
3. 前記バイアス電流生成手段は、前記バイアス電流の電流値を干渉縞が非可視化するように変更することを特徴とする請求項１記載のレーザビーム露光装置。
4. 前記バイアス電流生成手段は、１主走査おきにバイアス電流を生成することを特徴とする請求項１から３の何れか一つに記載のレーザビーム露光装置。
5. 前記露光手段は、前記レーザビームを副走査方向に一部重ね合わせて露光することを特徴とする請求項１から４の何れか一つに記載のレーザビーム露光装置。

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