JPH1148230A - 石膏鋳造法 - Google Patents

石膏鋳造法

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JPH1148230A
JPH1148230A JP20599797A JP20599797A JPH1148230A JP H1148230 A JPH1148230 A JP H1148230A JP 20599797 A JP20599797 A JP 20599797A JP 20599797 A JP20599797 A JP 20599797A JP H1148230 A JPH1148230 A JP H1148230A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gypsum
mold
rubber mold
surfactant
recesses
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP20599797A
Other languages
English (en)
Inventor
Ichiro Sogaishi
一郎 曽我石
Noboru Matsunaga
昇 松永
Toshiro Isogai
俊郎 磯貝
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Janome Corp
Original Assignee
Janome Sewing Machine Co Ltd
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Publication date
Application filed by Janome Sewing Machine Co Ltd filed Critical Janome Sewing Machine Co Ltd
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Publication of JPH1148230A publication Critical patent/JPH1148230A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28BSHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
    • B28B7/00Moulds; Cores; Mandrels
    • B28B7/38Treating surfaces of moulds, cores, or mandrels to prevent sticking
    • B28B7/386Cleaning

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Moulds, Cores, Or Mandrels (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ゴム型内に発生する泡玉を確実に除去できる
石膏鋳造法とすること。 【解決手段】 製品形状を転写したゴム型1を界面活性
剤入り水溶液3中に浸漬すること。該界面活性剤入り水
溶液3中でゴム型1に超音波振動を与えて該ゴム型1を
洗浄すること。その界面活性剤入り水溶液3中から取り
出したゴム型1に石膏スラリー7を注型して石膏を造型
すること。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、ゴム型内に発生す
る泡玉を確実に除去できる石膏鋳造法に関する。
【0002】
【従来の技術】製品形状を転写したゴム型に石膏スラリ
ーを注型完了した直後に、該石膏スラリーが硬化しない
状態において、図3に示すように、減圧による真空脱泡
を行ない石膏鋳型製品に発生する泡玉を除去している。
この真空脱泡の状態は、図3(B)に示すように、真空
ポンプPにて真空にすると、石膏スラリーSの内部に発
生している空気泡や、型の凹凸部に発生している泡玉
は、減圧しているために、極端に大きくなり、これが、
石膏スラリーSの表面から外側に出てゆく。
【0003】このようなことを数分させ、そして、今度
は、通常の空気を弁Vを介して流入させると、今度は、
瞬時に、その空気泡や泡玉は、何十分の1になってその
石膏スラリーSの内部に留まり、ゴム型内部の表面の凹
凸部面の泡玉が残る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】以上のように、現実に
は、真空脱泡だけでは、ゴム型表面に付着した泡玉が、
とりきれず、出来上がった鋳造品には、泡玉形状の突起
物が残存する大きな欠点があった。このため、ゴム型内
表面に付着する泡玉をなくすことが要望されている。
【0005】
【課題を解決するための手段】そこで発明者は、前記課
題を解決することを目的とし、鋭意,研究を重ねた結
果、その発明を、製品形状を転写したゴム型を界面活性
剤入り水溶液中に浸漬し、該界面活性剤入り水溶液中で
ゴム型に超音波振動を与えて該ゴム型を洗浄し、その界
面活性剤入り水溶液中から取り出したゴム型に石膏スラ
リーを注型して石膏を造型する超音波を用いた石膏鋳造
法としたことにより、ゴム型の表面に付着する泡玉を簡
易且つ確実に除去することができ、前記の課題を解決し
たものである。
【0006】
【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて実施の形態
を説明すると、図1において、ゴム型1の底部には、複
数の凹部1a,1a,…が形成されている。該凹部1a
は、角錐状又は円錐状をなすように形成されている。2
は、タンクであって、この内部には、界面活性剤入り水
溶液3が満たされている。
【0007】4は、超音波発振機であって、前記タンク
2の外に設置され、前記超音波発振機4に接続した配線
5を介して、前記タンク2内の底面上に設けた振動子6
に信号伝達できるように構成されている。前記超音波発
振機4を動作させることで、界面活性剤入り水溶液3と
しての浴中に対して、振動子6で超音波振動を与えるこ
とができる。
【0008】次に、石膏鋳造法について説明すると、製
品形状を転写し、複数の凹部1a,1a,…が形成され
ているゴム型1を界面活性剤入り水溶液3に浸漬する。
この場合、図1に示すように、ゴム型1に設けた複数の
凹部1a,1a,…が底面となり、且つ、該凹部1a,
1a,…を形成した開放側が上側位置となるようにセッ
トする。
【0009】この状態で、超音波発振機4を動作させる
ことで、界面活性剤入り水溶液3としての浴中に対し
て、振動子6で超音波振動を与えて、前記ゴム型1内の
複数の凹部1a,1a,…に付着した泡玉を除去する。
即ち、超音波振動によるゴム型1内を洗浄する泡玉脱法
である。この動作時間は1分以内の短時間である。
【0010】次いで、その界面活性剤入り水溶液3中か
ら取り出したゴム型1に石膏スラリー7を注型して石膏
を造型するものである。このときに、特に、ゴム型1の
複数の凹部1a,1a,…の表面に泡玉がなく、前記石
膏スラリー7が凹部1aの端部までも整然と充填でき
る。これによって、石膏鋳造法において、複数の凹部1
aで成形される,石膏の円錐状又は角錐状の突起を成形
することができる。
【0011】
【実施例】1.5mmを1辺にもつ角錐としての凹部1
a,1a,…を100ヶ設けたゴム型1を用意する。そ
して、界面活性剤入り水溶液3としては、シリコン系の
界面活性剤入り水溶液3を使用する。そして、超音波発
振機3より送られた信号を浴中に設けられた振動子6で
超音波振動に変え、ゴム型1の背面より照射する。
【0012】すると、ゴム型1の凹部1a,1a,…に
形成されてした空気の泡玉10がゴム型1の1の表面よ
り離れ、ゴム型1のすみずみまで、界面活性剤入り水溶
液3にて濡らすことができる。このようにした後のゴム
型1に、石膏と水を100:46の割合で混練した石膏
スラリーを流し込み、毎分20回前後のタップ振動をか
け、静置して石膏スラリー7を固化させる。
【0013】なお、従来方法なる真空脱泡では、例え
ば、100個の凹部1a,1a,…が成形されていると
すると、約20%の突起には泡が付いた状態であり、不
完全なる突起となっている。即ち、8割以上の凹部1
a,1a,…に、泡玉10等がないゴム型1には極めて
困難なことであり、その8割が限界値とされている。し
かるに、本方法では、例えば、100個の凹部1a,1
a,…であっても、その100個全体に泡玉10のない
ゴム型1を提供できる。即ち、本方法では、完全に凹部
1a,1a,…表面の洗浄ができる。
【0014】
【発明の効果】本発明においては、製品形状を転写した
ゴム型1を界面活性剤入り水溶液3中に浸漬し、該界面
活性剤入り水溶液3中でゴム型1に超音波振動を与えて
該ゴム型1を洗浄し、その界面活性剤入り水溶液3中か
ら取り出したゴム型1に石膏スラリー7を注型して石膏
を造型する石膏鋳造法としたことにより、特に、ゴム型
1の凹部1a,1a,…表面には、泡玉10等のないも
のを提供できる。
【0015】即ち、ゴム型1の複数の凹部1a,1a,
…の表面に泡玉がなく、前記石膏スラリー7が凹部1a
の端部までも整然と充填できる。これによって、石膏鋳
造法において、複数の凹部1aで成形される,石膏の円
錐状又は角錐状の突起を極めて整然且つ正確に成形する
ことができる利点がある。以上のように、本発明の方法
によれば、泡玉10のないきれいな石膏鋳型が形成で
き、完成した鋳造品は、仕上げ工数を大幅に削減でき、
制作費を軽減できる。
【0016】以上のように、泡玉10の発生しないの
は、超音波振動による洗浄効果ともいえる。この洗浄
は、図3(A),(B)に示す従来の減圧による真空脱
泡による場合の作業時間は数分を必要としたが、その超
音波振動による洗浄時間は、僅か30秒足らずであり、
本発明における泡玉脱法は、従来の場合に比較して格段
と短時間にでき、製法能率を上げることができる。
【0017】また、請求項2に係る発明では、請求項1
において、前記ゴム型1内には、円錐又は角錐状の突起
が成形できる凹部1a,1a,…を複数設けてなる石膏
鋳造法としたことにより、ゴム型1に超音波振動を与え
て該ゴム型1を洗浄したものゆえに、どのうような細か
い形状の凹部1a,1a,…であっても、該凹部1a,
1a,…の表面から泡玉10を良好に離散させ、該泡玉
10が付着しないゴム型1を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(A)は本発明の概略図 (B)は泡玉が離れる状態の概略図
【図2】(A)は石膏スラリーをゴム型に注型している
状態図 (B)は石膏スラリーをゴム型に注型して完了した断面
【図3】(A)は状態技術の概略図 (B)は石膏スラリー内より泡玉が離れる状態の概略図
【符号の説明】
1…ゴム型 1a…凹部 3…界面活性剤入り水溶液 7…石膏スラリー

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 製品形状を転写したゴム型を界面活性剤
    入り水溶液中に浸漬し、該界面活性剤入り水溶液中でゴ
    ム型に超音波振動を与えて該ゴム型を洗浄し、その界面
    活性剤入り水溶液中から取り出したゴム型に石膏スラリ
    ーを注型して石膏を造型することを特徴とする石膏鋳造
    法。
  2. 【請求項2】 請求項1において、前記ゴム型内には、
    円錐又は角錐状の突起が成形できる凹部を複数設けてな
    ることを特徴とする石膏鋳造法。
JP20599797A 1997-07-31 1997-07-31 石膏鋳造法 Pending JPH1148230A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003068469A1 (fr) * 2002-02-18 2003-08-21 Nissan Kenzai Co.,Ltd Procede pour eviter l'adherence de corps etrangers de gypse d'une pate de platre, dispositif de stabilisation de l'alimentation en pate de platre comprenant un dispositif pour eviter l'adherence de corps etrangers de gypse, et procede de realisation de plaque de platre par utilisation du dispositif de stabilisation
KR100910021B1 (ko) 2007-04-27 2009-07-30 한국기계연구원 입체 조형물의 제조방법
CN101966723A (zh) * 2010-08-27 2011-02-09 孝昌县丰山镇民族装璜模具厂 石膏底模加工工艺

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WO2003068469A1 (fr) * 2002-02-18 2003-08-21 Nissan Kenzai Co.,Ltd Procede pour eviter l'adherence de corps etrangers de gypse d'une pate de platre, dispositif de stabilisation de l'alimentation en pate de platre comprenant un dispositif pour eviter l'adherence de corps etrangers de gypse, et procede de realisation de plaque de platre par utilisation du dispositif de stabilisation
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