JPH1142857A

JPH1142857A - 光記録媒体及び該光記録媒体を用いた光記録再生方法

Info

Publication number: JPH1142857A
Application number: JP9216010A
Authority: JP
Inventors: Tatsuya Tomura; 辰也戸村; Yasuhiro Azuma; 康弘東; Tsutomu Sato; 勉佐藤; Noboru Sasa; 登笹; Yasunobu Ueno; 泰伸植野
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1997-07-25
Filing date: 1997-07-25
Publication date: 1999-02-16
Anticipated expiration: 2017-07-25
Also published as: JP3742492B2

Abstract

(57)【要約】【課題】従来システムに比べて、短波長に発振波長を
有する半導体レーザーを用いる高密度光ディスクシステ
ムに適用可能な耐光性、保存安定性に優れた光記録媒体
用の記録材料及び該光記録媒体を用いた光記録または再
生方法の提供。【解決手段】基板上に直接又は下引き層を介し記録層
を設け、さらに必要に応じて反射層、保護層を設けてな
る光記録媒体において記録層が下記構造式（１）で示さ
れる化合物を少なくとも１種含有してなることを特徴と
する光記録媒体及び該光記録媒体を用いた光記録再生方
法。【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は情報記録媒体に関するも
のであって、特に光ビームを照射することにより、記録
材料の透過率、反射率等の光学的な変化を生じさせ、情
報の記録、再生を行ない、かつ追記が可能な情報記録媒
体に関するものである。

【０００２】

【従来技術】

１．データ用追記型ディスクの従来技術（１）シアニン色素を記録材料として用いたもの特開昭５７−８２０９３特開昭５８−５６８９２特開昭５８−１１２７９０特開昭５８−１１４９８
９特開昭５９−８５７９１特開昭６０−８３２３６特開昭６０−８９８４２特開昭６１−２５８８６（２）フタロシアニン色素を記録材料として用いたもの特開昭６１−１５０２４３特開昭６１−１７７２８
７特開昭６１−１５４８８８特開昭６１−２４６０９
１特開昭６２−３９２８６特開昭６３−３７７９１特開昭６３−３９８８８２．追記型コンパクトディスクの従来技術・シアニン色素／金属反射層を記録材料として用いたも
の特開平１−１５９８４２特開平２−４２６５２特開平２−１３６５６特開平２−１６８４４６

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】

１．現在の追記型光ディスクシステム（ＷＯＲＭ、ＣＤ
−Ｒ）では、使用レーザーの発振波長が７７０〜７９０
ｎｍにあり、記録体は上記波長で記録、再生が可能なよ
うに設定されている。今後、情報量の増大に伴ない、記
録媒体の大容量化への流れは必須である。従って記録、
再生に用いるレーザー波長が短波長化することも必然的
に起こってくることが容易に予想される。しかしなが
ら、耐光性、保存安定性に優れ７００ｎｍ以下のレーザ
ーを用いた光ピックアップで記録、再生が可能な記録材
料は、今だ開発されていないのが現状である。

【０００４】２．現在のＣＤ−Ｒディスクシステムは、
使用レーザーの発振波長が７７０〜７９０ｎｍで、記
録、再生が行なえるように構成されている。このシステ
ムも上記同様に、大容量化、記録、再生波長の短波長化
は必須である。現在のＣＤ及びＣＤ−ＲＯＭは、基板自
体の凹凸上にＡｌがコーティングしてあり、Ａｌの反射
率の波長依存性が小さいため、将来、レーザー波長が短
波長化されても再生は可能である。しかしながら、ＣＤ
−Ｒは記録層に６８０ｎｍ〜７５０ｎｍに最大吸収波長
を有する色素を用い、その光学定数及び膜厚構成から７
７０ｎｍ〜７９０ｎｍに高い反射率が得られる様に設定
してあるため、７００ｎｍ以下の波長域では反射率は極
めて低く、レーザー波長の短波長化に対応できず現在の
ＣＤ−Ｒシステムで記録、再生している情報が、将来の
システムでは再生出来ない事態を招く。

【０００５】したがって、本発明は上記従来システムに
比べて、短波長に発振波長を有する半導体レーザーを用
いる高密度光ディスクシステムに適用可能な耐光性、保
存安定性に優れた光記録媒体用の記録材料を提供すると
ともに、現状システムで記録、再生が可能でかつ次世代
の高密度光ディスクシステムにおいても再生可能なＣＤ
−Ｒ媒体用の記録材料を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者等は前記課題を
解決するための手段について鋭意検討した結果、特定の
構造を有する色素を主成分とする記録層とすることによ
り、発振波長７００ｎｍ以下の半導体レーザーを用いる
高密度光ディスクシステムに適用可能なことを見出し、
さらに本発明の化合物を現在のＣＤ−Ｒ用記録材料とし
て用いられている有機色素と混合して用いることによ
り、７００ｎｍ以下の波長域にも高い反射率を得ること
が可能であることを見出だし本発明に至った。

【０００７】本発明で用いる有機色素化合物としては、
下記一般式（１）で表わされるものが挙げられる。

【化２】

【０００８】〔式中、Ｍは２個の水素原子；酸素原子ま
たはハロゲン原子を有していても良い２価、３価もしく
は４価の金属；置換基で置換されていても良いアルキル
基、アリール基、アルコキシ基あるいはアリールオキシ
基、または（ＯＰＲ₁₁Ｒ₁₂）ｔ、（ＯＰＯＲ₁₃Ｒ₁₄）
ｔ、（ＯＳｉＲ₁₅Ｒ₁₆Ｒ₁₇）ｔ、（ＯＣＯＲ₁₈）ｔ、
（ＯＲ₁₉）ｔ、（ＯＣＯＣＯＯＲ₂₀）ｔ、（ＯＣＯＣＯ
Ｒ₂₁）ｔあるいは（ＯＣＯＮＲ₂₂Ｒ₂₃）ｔを有していて
も良い金属原子、前記Ｒ₁₁〜Ｒ₂₃はそれぞれ独立して水
素または置換基を有していても良い脂肪族または芳香族
炭化水素基を表わす。ｔは０〜２の整数を表わす。Ｒ₁
〜Ｒ₄はそれぞれ独立して少なくともフッ素原子、フッ
素含有アルキル基またはフッ素含有アルコキシ基よりな
る群から選ばれた置換基で置換されたフェニル基であ
る。また、Ｘ₁〜Ｘ₄は水素原子またはハロゲン原子であ
る。〕

【０００９】前式（１）の化合物において、Ｘ₁〜Ｘ₄の
全てをハロゲンとすることで、分解点の低下が画れて記
録感度の向上が見込まれる。ハロゲンとして、臭素およ
び塩素が特に好ましい。

【００１０】また、前式（１）のＲ₁〜Ｒ₄のフェニル基
の置換基であるフッ素置換アルキル（フッ素置換アルコ
キシ基のフッ素置換アルキル部分を含む）としては、例
えば、トリフルオルメチル基、トリフルオロエチル基、
ジフルオロエチル基、ジフルオロプロピル基、トリフル
オロプロピル基、テトラフルオロプロピル基、ヘキサフ
ルオロブチル基、または各種ペリフルオロアルキル基な
どが挙げられる。またＲ₁〜Ｒ₄のフッ素含有フェニル基
は、前記フッ素置換アルキル以外の基で置換されていて
も良く、その具体的な置換基としては、アルキル基、ア
ルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲンなどが挙げ
らるが、この中でもハロゲンが最も好ましく、該ハロゲ
ンとしては塩素、臭素が好ましい。その理由としては分
解点の低下に寄与し、光記録媒体の高感度化が図れるた
めである。

【００１１】前式（１）の化合物には下式（Ａ）〜
（Ｄ）の４つの異性体が存在し、これらの混合物である
場合、吸収波長等の特性を微調整する際、これら異性体
の量を変えることにより微調整が可能となり、かつ薄膜
化した時の記録パワーマージン等の拡大を行うことがで
きる。

【００１２】

【化３】以下に本発明で使用される化合物Ｎｏ．１〜３１を示
す。ただし、本発明で使用する化合物はこれらに限定さ
れるものではないし、これら化合物には前記（Ａ）〜
（Ｄ）に示すような４つの異性体が存在する。

【００１３】

【化４】

【表１】

【００１４】

【表２】

【００１５】

【表３】

【００１６】

【表４】

【００１７】

【表５】

【００１８】

【表６】

【００１９】

【表７】

【００２０】本発明において、６８０ｎｍ〜７５０ｎｍ
に吸収最大波長を有する色素と本発明の色素を混合して
短波長対応ＣＤ−Ｒ媒体を構成する場合、前記従来技術
に挙げた公報に記載の色素をそのまま使用することがで
きるが、特に６８０ｎｍ〜７５０ｎｍに吸収最大波長の
ある色素の好ましい例としては、以下のようなものが挙
げられる。

【００２１】下式（２）で示されるシアニン色素

【化５】（式中、Ｒ₅、Ｒ₆：炭素数１〜３のアルキル基。Ｒ₇、Ｒ₈：炭素数１〜６の置換基を有していても良いア
ルキル基。Ｘ：酸アニオン。なお、芳香環は他の芳香環と縮合されていても良く、ま
たアルキル、ハロゲン、アルコキシ基、アシル基で置換
されていても良い。）

【００２２】下式（３）または（４）で示されるフタ
ロシアニン色素

【化６】（式中、Ｍ₁：Ｎｉ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｏ、Ｍｎ、
Ｆｅ、ＴｉＯ、ＶＯ。Ｘ₅〜Ｘ₈：α位の−ＯＲ、−ＳＲ、又は水素原子であっ
て、全てが水素原子となることはない。Ｒ：置換基を有していても良い炭素数３〜１２の直鎖ア
ルキル基あるいは置換基を有していても良い分岐のアル
キル基、置換基を有していても良いシクロアルキル基、
又は置換基を有していても良いアリール基。ベンゼン環は、前記Ｘ₅〜Ｘ₈以外に置換基を有していて
も良く、その場合のベンゼン環の置換基は水素又はハロ
ゲン。）

【００２３】

【化７】（式中、Ｍ₂：Ｓｉ、Ｇｅ、Ｉｎ、Ｓｎ。Ｘ₉〜Ｘ₁₂：α位の−ＯＲ、−ＳＲ、又は水素原子であ
って、全てが水素原子となることはない。Ｒは前記に同じ。Ｙ₃、Ｙ₄：−ＯＳｉＲａＲｂＲｃ、−ＯＣＯＲａ、−Ｏ
ＰＯＲａＲｂ。Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ：炭素数１〜１０のアルキル基、アリ
ール基。ベンゼン環は前記Ｘ₉〜Ｘ₁₂以外に置換基を有していて
も良く、その場合のベンゼン環の置換基は水素又はハロ
ゲンである。）アゾ金属キレート化合物下式（５）で示されるアゾ系化合物と金属とのアゾ金属
キレート化合物の１種又は、２種以上であり金属の好ま
しい例としてはＮｉ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｚｎな
どが挙げられる。

【００２４】

【化８】（式中、Ａはそれが結合している炭素原子及び窒素原子
と一緒になって複素環を形成する残基を表わし、Ｂはそ
れが結合している２つの炭素原子と一緒になって芳香環
又は、複素環を形成する残基を表わす。Ｘは活性水素を
有する基を表わす。）

【００２５】前記本発明の色素と上記具体例を含む６８
０ｎｍ〜７５０ｎｍに吸収最大波長を有する色素との混
合比は、本発明の色素／６８０ｎｍ〜７５０ｎｍに吸収
を有する色素＝１０／１００〜９０／１００、好ましく
は４０／１００〜２０／１００である。記録層の厚みと
しては５００Å〜５μｍ、好ましくは１０００Å〜５０
００Åである。本発明の記録媒体の構成としては追記型
光ディスクの構造図１（この構造のものとしては、図１
を２枚貼り合わせたいわゆるエアーサンドイッチ構造と
しても良いし、密着貼り合わせ構造としても良い）と図
２からなるＣＤ−Ｒ用メディアの構造としても良いし、
これを接着剤で２枚貼り合わせた構造としても良い。さ
らに図３に示したＤＶＤ−Ｒ用の層構成としても良い
し、これを２枚貼り合わせた構造としても良い。

【００２６】基板用いる基板としては基板側より記録再生を行なう場合の
み使用レーザーに対して透明でなければならず、記録層
側から記録、再生を行なう場合基板は透明である必要は
ない。基板材料としては例えば、ポリエステル、アクリ
ル樹脂、ポリアミド、ポリカーボネート樹脂、ポリオレ
フィン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミ
ドなどのプラスチック又は、ガラス、セラミックあるい
は、金属などを用いることができる。尚、基板の表面に
トラッキング用の案内溝や、案内ピット、さらにアドレ
ス信号などのプリフォーマットなどが形成されていても
良い。

【００２７】記録層記録層は、レーザー光の照射により何らかの光学的変化
を生じさせ、その変化により情報を記録するものであっ
て、この記録層中には本発明の色素が含有されているこ
とが必要で、記録層の形成に当たって本発明の色素１
種、又は２種以上の組み合わせで用いても良い。さら
に、本発明の上記色素は光学特性、記録感度、信号特性
などの向上の目的で他の有機色素及び金属、金属化合物
と混合又は積層化して用いても良い。有機色素の例とし
ては、ポリメチン色素、ナフタロシアニン系、フタロシ
アニン系、スクアリリウム系、クロコニウム系、ピリリ
ウム系、ナフトキノン系、アントラキノン系（インダン
スレン系）、キサンテン系、トリフェニルメタン系、ア
ズレン系、テトラヒドロコリン系、フェナンスレン系、
トリフェノチアジン系染料及び、金属錯体化合物などが
挙げられる。

【００２８】金属、金属化合物の例としてはＩｎ、Ｔ
ｅ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｓｂ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ａｌ、Ｂｅ、Ｔｅ
Ｏ₂、ＳｎＯ、Ａｓ、Ｃｄ、などが挙げられ、それぞれ
を分散混合あるいは積層の形態で用いることができる。
さらに、上記染料中に高分子材料、例えばアイオノマー
樹脂、ポリアミド樹脂、ビニル系樹脂、天然高分子、シ
リコーン、液状ゴムなどの種々の材料もしくはシランカ
ップリング剤などを分散混合しても良いし、特性改良の
目的で安定剤（例えば遷移金属錯体）、分散剤、難燃
剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、可塑剤などを一緒
に用いることが出来る。

【００２９】記録層の形成方法としては蒸着、スパッタ
リング、ＣＶＤまたは溶剤塗布などの通常の手段によっ
て行うことができる。塗布法を用いる場合には上記染料
などを有機溶剤に溶解して、スプレー、ローラーコーテ
ィング、ディピング及び、スピンコーティングなどの慣
用のコーティング法によって行うことが出来る。用いら
れる有機溶媒としては一般にメタノール、エタノール、
イソプロパノール、などのアルコール類、アセトン、メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノン、などのケトン
類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセトアミドなどのアミド類、ジメチルスルホキシドな
どのスルホキシド類、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチル
エーテルなどのエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチルな
どのエステル類、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロ
ロエタン、四塩化炭素、トリクロロエタンなどの脂肪族
ハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、キシレン、モノクロ
ロベンゼン、ジクロロベンゼン、などの芳香族類、メト
キシエタノール、エトキシエタノールなどのセロソルブ
類、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン、メチルシク
ロヘキサンなどの炭化水素類などが挙げられる。記録層
の膜厚は１００Å〜１０μｍ、好ましくは２００Å〜２
０００Åが適当である。

【００３０】下引き層下引き層は接着性の向上、水又はガスなどのバリア
ー、記録層の保存安定性の向上、反射率の向上、
溶剤からの基板の保護、案内溝、案内ピット、プレフ
ォーマットの形成などを目的として使用される。の目
的に対しては高分子材料例えば、アイオノマー樹脂、ポ
リアミド樹脂、ビニル樹脂、天然樹脂、天然高分子、シ
リコーン、液状ゴムなどの種々の高分子化合物及び、シ
ランカップリング剤などを用いることができ、及び
の目的に対しては上記高分子材料以外に無機化合物、例
えば、ＳｉＯ、ＭｇＦ、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ、ＺｎＯ、Ｔ
ｉＮ、ＳｉＮなどがあり、さらに金属又は半金属例え
ば、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｇｅ、Ｓｅ、Ａｕ、Ａ
ｇ、Ａｌ、などを用いることができる。又、の目的に
対しては金属、例えば、Ａｌ、Ａｕ、Ａｇ等や、金属光
沢を有する有機薄膜、例えば、メチン染料、キサンテン
系染料などを挙げることができ、、の目的に対して
は紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、熱可塑性樹脂等を用い
ることことができる。下引き層の膜厚としては０．０１
〜３０μｍ、好ましくは０．０５〜１０μｍが適当であ
る。

【００３１】金属反射層金属反射層は単体で高反射率の得られる腐食されにくい
金属、半金属等が挙げられ、材料例としてはＡｕ、Ａ
ｇ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｓｎなどが挙げられる
が、反射率、生産性の点からＡｕ、Ａｇ、Ａｌが最も好
ましく、これらの金属、半金属は単独で使用しても良
く、２種の合金としても良い。膜形成法としては蒸着、
スパッタリングなどが挙げられ、膜厚としては５０〜５
０００Å、好ましくは１００〜３０００Åである。

【００３２】保護層、基板面ハードコート層保護層及び基板面ハードコート層は記録層（反射吸収
層）を傷、ホコリ、汚れ等から保護する、記録層（反
射吸収層）の保存安定性の向上、反射率の向上等を目
的として使用される。これらの目的に対しては、前記下
引き層に示した材料を用いることができる。又、無機材
料として、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂、なども用いることがで
き、有機材料としてポリメチルアクリレート、ポリカー
ボネート、エポキシ樹脂、ポリスチレン、ポリエステル
樹脂、ビニル樹脂、セルロース、脂肪族炭化水素樹脂、
天然ゴム、スチレンブタジエン樹脂、クロロプレンゴ
ム、ワックス、アルキッド樹脂、乾性油、ロジン等の熱
軟化性、熱溶融性樹脂も用いることができる。上記材料
のうち最も好ましい例としては生産性に優れた紫外線硬
化樹脂である。保護層又は基板面ハードコート層の膜厚
は０．０１〜３０μｍ、好ましくは０．０５〜１０μｍ
が適当である。本発明において、前記下引き層、保護
層、及び基板面ハードコート層には記録層の場合と同様
に、安定剤、分散剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面
活性剤、可塑剤等を含有させることができる。

【００３３】保護基板保護基板はこの保護基板側からレーザー光を照射する場
合、使用レーザー光に対し透明でなくてはならず、単な
る保護板として用いる場合、透明性は問わない。使用可
能な基板材料としては基板材料と全く同様であり、ポリ
エステル、アクリル樹脂、ポリアミド、ポリカーボネー
ト樹脂、ポリオレフィン樹脂、フェノール樹脂、エポキ
シ樹脂、ポリイミドなどのプラスチック又は、ガラス、
セラミックあるいは金属などを用いることができる。

【００３４】接着剤２枚の記録媒体を接着できる材料なら何でもよく、生産
性を考えると、紫外線硬化型もしくはホットメルト型接
着剤が好ましい。

【００３５】

【実施例】以下、本発明の実施例を示す。但し、本発明
はこれら実施例に限定されるものではない。

【００３６】実施例１厚さ、１．２ｍｍのＰＭＭＡ基板上に、フォトポリマー
にて深さ１２００Å、半値幅０．３５μｍ、トラックピ
ッチ１．０μｍの案内溝を形成した基板上に、化合物Ｎ
ｏ．１の１，２−ジクロロエタン溶液をスピンナー塗布
し、厚さ９００Åの記録層を形成し、記録媒体とした。

【００３７】実施例２〜８実施例１で化合物Ｎｏ．１の代わりにＮｏ．２、９、１
２、１３、１９、２６、２９を用い実施例１と全く同様
に記録媒体を形成した。

【００３８】比較例１実施例１で化合物例Ｎｏ．１の代わりに、以下に示す化
合物を用いた以外は実施例１と全く同様にして記録媒体
を形成した。

【化９】

【００３９】前記実施例１〜８および比較例１の記録媒
体を下記の条件で評価試験を行ない、その結果を下記表
８に示した。〈記録条件〉レーザー発振波長：６５０ｎｍ記録周波数：１．２５ＭＨｚ記録線速：１．２ｍ／ｓｅｃ〈再生条件〉レーザー発振波長：６５０ｎｍ再パワー：０．２５〜０．３ｍＷの連続光スキャニングバンド幅：３０ＫＨｚ〈耐光テスト条件〉耐光テスト：４万Ｌｕｘ、Ｘｅ光、２０時間連続照射保存テスト：８５℃ ８５％７２０時間放置

【００４０】

【表８】

【００４１】実施例９深さ１０００Å、半値幅０．３５μｍ、トラックピッチ
１．０μｍの案内溝を有する厚さ０．６ｍｍの射出成形
ポリカーボネート基板上に、化合物例Ｎｏ．２をメチル
シクロヘキサン、２−メトキシエタノール、メチルエチ
ルケトン、テトラヒドロフランの混合溶液に溶解した液
をスピンナー塗布し、厚さ１８００Åの有機色素層を形
成し、次いで、スパッタ法により金２０００Åの反射層
を設け、さらにその上にアクリル系フォトポリマーにて
５μｍの保護層を設け、さらにその上にホットメルト接
着剤により厚み０．６ｍｍのポリカーボネート基板を貼
り合わせて記録媒体とした。

【００４２】実施例１０〜１６実施例９で化合物Ｎｏ．２の代わりにそれぞれ、化合物
Ｎｏ．４、８、９、１５、１７、２２、２４を用い、実
施例９と全く同様に記録媒体を得た。

【００４３】比較例２実施例９で有機薄膜として、化合物Ｎｏ．２の代わりに
比較例１の前式（６）の化合物を用いて記録媒体とし
た。

【００４４】比較例３実施例９で有機薄膜として、化合物Ｎｏ．２の代わりに
下式（７）の化合物を用いて記録媒体とした。

【化１０】

【００４５】前記実施例９〜１６および比較例２〜３の
記録媒体に発振波長６３５ｎｍ、ビーム径１．０μｍの
半導体レーザー光を用い、トラッキングしながらＥＦＭ
信号を記録（線速１．４ｍ／ｓｅｃ）し、同じレーザー
の連続光で再生し、再生波形を観察しその結果を下表９
に示す。

【００４６】

【表９】

【００４７】実施例１７深さ１０００Å、半値幅０．４０μｍ、トラックピッチ
１．１μｍの案内溝を有する厚さ０．６ｍｍの射出成形
ポリカーボネート基板上に、前式（７）化合物と化合物
Ｎｏ．５とを重量比１：１で混合し、これをメチルシク
ロヘキサン、２−メトキシエタノール、メチルエチルケ
トン、テトラヒドロフラン混合溶媒に溶解、スピンナー
塗布して、厚さ１６００Åの有機色素層を形成し、次い
で、スパッタ法により金２１００Åの反射層を形成し
て、さらにその上にアクリル系フォトポリマーで７μｍ
の保護層を設け、記録媒体とした。

【００４８】実施例１８〜１９実施例１７で記録層を化合物Ｎｏ．５の代わりに、それ
ぞれ、Ｎｏ．１０、２０を用い実施例１７と全く同様に
記録媒体を得た。

【００４９】実施例２０〜２１実施例１７で記録層を化合物Ｎｏ．５の代わりに、それ
ぞれ、Ｎｏ．８、２４を用い前式（７）の化合物の代わ
りに下式（８）の化合物を用いた以外は実施例１７と全
く同様に記録媒体を得た。

【化１１】〔式中、Ｘは下式（９）の基を表わす。〕

【化１２】

【００５０】実施例２２〜２３実施例１７で記録層を化合物Ｎｏ．５の代わりに、それ
ぞれ、Ｎｏ．１１、１４を用い、前式（７）の化合物の
代わりに下式（１０）の化合物を用いた以外は実施例１
７と全く同様に記録媒体を得た。

【化１３】

【００５１】比較例４〜６実施例１７で有機記録層をそれぞれ前式（７）の化合物
のみ、前式（８）の化合物のみ、前式（１０）の化合物
のみとして、実施例１７と同様に記録媒体を得た。

【００５２】前記実施例１７〜２３および比較例４〜６
の記録媒体に発振波長７８０ｎｍ、ビーム径１．６μｍ
の半導体レーザーを用い、トラッキングしながらＥＦＭ
信号を記録（線速１．４ｍ／ｓｅｃ）し、前記レーザー
及び、発振波長６３５ｎｍ、ビーム径１．１μｍの半導
体レーザーの連続光で再生し、再生波形を観察しその結
果を下表１０に示す。

【００５３】

【表１０】

【００５４】

【効果】

１．請求項１〜４（１）７００ｎｍ以下の波長域のレーザー光で記録、再
生が可能で耐光性、保存安定性に優れた情報記録媒体が
提供できた。（２）現状システムでのＣＤ−Ｒとして使用でき、かつ
次世代の高密度光ディスクシステムとなっても、記録さ
れた情報を再生可能な情報記録媒体が提供できた。２．請求項５短波長の記録光で記録および／または再生が可能な記録
および／または再生法が提供された。

【図面の簡単な説明】

【図１】通常の追記型光記録媒体の構成の模式的断面図
である。（ａ）基板１上に記録層２を有する型のものを示す図で
ある。（ｂ）前記（ａ）の基板１上に下引き層３を有する型の
ものを示す図である。（ｃ）前記（ｂ）の記録層２上に保護層４を有する型の
ものを示す図である。（ｄ）前記（ｃ）の基板１裏面にハードコート層５を有
する型のものを示す図である。

【図２】ＣＤ−Ｒ用の媒体構成の模式的断面図である。（ａ）基板１上に記録層２、金属反射層６および保護層
４を有する型のものを示す図である。（ｂ）前記（ａ）の基板１上に下引き層３を有する型の
ものを示す図である。（ｃ）前記（ｂ）の基板１裏面にハードコート層５を有
する型のものを示す図である。

【図３】ＣＶＤ−Ｒ用の媒体構成の模式的断面図であ
る。（ａ）基板１上に記録層２、金属反射層６および保護層
４を有する型のものを示す図である。（ｂ）前記（ａ）の保護層４に接着層８によって接着さ
れた保護基板７を有する型のものを示す図である。（ｃ）前記（ｂ）の基板１と記録層２の間に基板下引き
層３を有し、かつ基板１裏面にハードコート層５を有す
る型のものを示す図である。

【符号の説明】

１基板２記録層３基板下引き層４保護層５ハードコート層６金属反射層７保護基板８接着層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者笹登東京都大田区中馬込１丁目３番６号株式会社リコー内 (72)発明者植野泰伸東京都大田区中馬込１丁目３番６号株式会社リコー内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に直接又は下引き層を介し記録層
を設け、さらに必要に応じて反射層、保護層を設けてな
る光記録媒体において、記録層が下記構造式（１）で示
される化合物を少なくとも１種含有してなることを特徴
とする光記録媒体。【化１】〔式中、Ｍは２個の水素原子；酸素原子またはハロゲン
原子を有していても良い２価、３価もしくは４価の金
属；置換基で置換されていても良いアルキル基、アリー
ル基、アルコキシ基あるいはアリールオキシ基、または
（ＯＰＲ₁₁Ｒ₁₂）ｔ、（ＯＰＯＲ₁₃Ｒ₁₄）ｔ、（ＯＳｉ
Ｒ₁₅Ｒ₁₆Ｒ₁₇）ｔ、（ＯＣＯＲ₁₈）ｔ、（ＯＲ₁₉）ｔ、
（ＯＣＯＣＯＯＲ₂₀）ｔ、（ＯＣＯＣＯＲ₂₁）ｔあるい
は（ＯＣＯＮＲ₂₂Ｒ₂₃）ｔを有していても良い金属原
子、前記Ｒ₁₁〜Ｒ₂₃はそれぞれ独立して水素または置換
基を有していても良い脂肪族または芳香族炭化水素基を
表わす。ｔは０〜２の整数を表わす。Ｒ₁〜Ｒ₄はそれぞ
れ独立して少なくともフッ素原子、フッ素含有アルキル
基またはフッ素含有アルコキシ基よりなる群から選ばれ
た置換基（以下、フッ素含有置換基とも言う。）で置換
されたフェニル基（以下、フッ素含有フェニル基とも言
う。）である。また、Ｘ₁〜Ｘ₄は水素原子またはハロゲ
ン原子である。〕
【請求項２】前式（１）のＸ₁〜Ｘ₄が各々独立して臭
素および／または塩素である請求項１記載の光記録媒
体。
【請求項３】前式（１）のＲ₁〜Ｒ₄のフッ素含有フェ
ニル基がフッ素含有置換基以外にハロゲン置換されてい
るものである請求項１または２記載の光記録媒体。
【請求項４】記録層が前式（１）で示される化合物以
外に６８０〜７５０ｎｍに最大吸収波長を有する色素と
の混合層からなるものである請求項１，２または３記載
の光記録媒体。
【請求項５】請求項１，２，３または４記録の光記録
媒体に記録波長が７２０〜６３０ｎｍの短波長光を照射
することを特徴とする光記録および／または再生方法。