JPH1142486A - オゾン接触手段による促進酸化処理装置 - Google Patents
オゾン接触手段による促進酸化処理装置Info
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- JPH1142486A JPH1142486A JP20207697A JP20207697A JPH1142486A JP H1142486 A JPH1142486 A JP H1142486A JP 20207697 A JP20207697 A JP 20207697A JP 20207697 A JP20207697 A JP 20207697A JP H1142486 A JPH1142486 A JP H1142486A
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- hydrogen peroxide
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 加圧型下方注入オゾン接触手段と紫外線接触
手段を組み合わせた促進酸化処理装置の提供。 【解決手段】 内管と外管の二重管からなり、被処理水
とオゾンとを内管の上部から流入し、下降流として内管
の下部流出口から外管の下部に流出させ、外管内を上昇
させて外管上部から流出するようにした加圧形の下方注
入オゾン接触手段と、該オゾン接触手段で発生した気泡
を除去する脱泡手段と、この脱泡手段で脱泡された被処
理水に紫外線を照射して過酸化水素を生成するＵＶ接触
手段と、この生成された過酸化水素を用いて促進酸化処
理するオゾン・過酸化水素併用処理手段とを備えたこと
を特徴とするオゾン接触手段による促進酸化処理装置。
手段を組み合わせた促進酸化処理装置の提供。 【解決手段】 内管と外管の二重管からなり、被処理水
とオゾンとを内管の上部から流入し、下降流として内管
の下部流出口から外管の下部に流出させ、外管内を上昇
させて外管上部から流出するようにした加圧形の下方注
入オゾン接触手段と、該オゾン接触手段で発生した気泡
を除去する脱泡手段と、この脱泡手段で脱泡された被処
理水に紫外線を照射して過酸化水素を生成するＵＶ接触
手段と、この生成された過酸化水素を用いて促進酸化処
理するオゾン・過酸化水素併用処理手段とを備えたこと
を特徴とするオゾン接触手段による促進酸化処理装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は浄水処理の促進酸化
処理装置に関し、特に、加圧型下方注入オゾン接触手段
と紫外線（ＵＶ）接触手段を組み合わせた促進酸化処理
装置に関する。
処理装置に関し、特に、加圧型下方注入オゾン接触手段
と紫外線（ＵＶ）接触手段を組み合わせた促進酸化処理
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、オゾン処理と活性炭処理を組み合
わせた高度浄水処理の導入がすすめられている。オゾン
接触方式には簡便性であること、大流量に対応できると
いったことから、散気管方式が主として採用され、ま
た、活性炭処理に関しては、表面に硝化菌などを繁殖さ
せてアンモニア除去、有機物除去を行うようにする生物
活性炭として利用されることが多い。
わせた高度浄水処理の導入がすすめられている。オゾン
接触方式には簡便性であること、大流量に対応できると
いったことから、散気管方式が主として採用され、ま
た、活性炭処理に関しては、表面に硝化菌などを繁殖さ
せてアンモニア除去、有機物除去を行うようにする生物
活性炭として利用されることが多い。
【０００３】一方、オゾン処理では除去できない物質、
例えばトリクロロエチレン、テトラクロロエチレンなど
の有機塩素化合物やシマジン、アトラジンなどの農薬が
原水中に混入している例が年々増加している傾向にあ
る。
例えばトリクロロエチレン、テトラクロロエチレンなど
の有機塩素化合物やシマジン、アトラジンなどの農薬が
原水中に混入している例が年々増加している傾向にあ
る。
【０００４】また、オゾン処理のみではアルデヒド、カ
ルボン酸、ケトンなどのオゾン消毒副生成物が生成し、
オゾン接触槽内ではこれらの物質は除去されない。こう
いった背景から、オゾンの酸化力向上を目的とした促進
酸化処理が研究されている。
ルボン酸、ケトンなどのオゾン消毒副生成物が生成し、
オゾン接触槽内ではこれらの物質は除去されない。こう
いった背景から、オゾンの酸化力向上を目的とした促進
酸化処理が研究されている。
【０００５】促進酸化処理は、オゾン処理と過酸化水素
処理や紫外線処理とを組み合わせることで中間生成物に
オゾンより酸化力の高いＯＨラジカルを生成させ、より
酸化反応を進行させる技術である。具体的には、水中の
有機物がオゾン消毒副生成物から更に水と二酸化炭素と
いう無機物にまで酸化される。
処理や紫外線処理とを組み合わせることで中間生成物に
オゾンより酸化力の高いＯＨラジカルを生成させ、より
酸化反応を進行させる技術である。具体的には、水中の
有機物がオゾン消毒副生成物から更に水と二酸化炭素と
いう無機物にまで酸化される。
【０００６】現在のところ欧州の一部浄水場では、農薬
除去を主目的としたオゾン・過酸化水素併用処理が実用
化されている。促進酸化処理は、浄水向けには導入コス
トが安価で大流量向けであるオゾン・過酸化水素併用処
理が、また濃度の濃い廃水処理にはオゾン・紫外線処理
が向くとされている。
除去を主目的としたオゾン・過酸化水素併用処理が実用
化されている。促進酸化処理は、浄水向けには導入コス
トが安価で大流量向けであるオゾン・過酸化水素併用処
理が、また濃度の濃い廃水処理にはオゾン・紫外線処理
が向くとされている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】我が国の浄水場で促進
酸化処理を実施する場合、次のような課題がある。
酸化処理を実施する場合、次のような課題がある。
【０００８】（１）オゾン・過酸化水素併用処理では、
現在の日本の水道法で利用の認められていない過酸化水
素を利用しなくてはならない。
現在の日本の水道法で利用の認められていない過酸化水
素を利用しなくてはならない。
【０００９】（２）オゾン・過酸化水素併用処理では、
オゾン単独処理の１／２程度の短時間でオゾン分解が可
能であるが、更に短時間での処理が望まれる。
オゾン単独処理の１／２程度の短時間でオゾン分解が可
能であるが、更に短時間での処理が望まれる。
【００１０】（３）オゾン・ＵＶ併用処理では、オゾン
処理とＵＶ処理を直列接続した場合には、ＵＶ照射強度
は一定であるため、溶存オゾン濃度などの水質変動に対
しては対処法がない。
処理とＵＶ処理を直列接続した場合には、ＵＶ照射強度
は一定であるため、溶存オゾン濃度などの水質変動に対
しては対処法がない。
【００１１】（４）オゾン接触槽内にＵＶランプを組み
合わせるとＵＶが気泡内のオゾンまで分解してしまう可
能性があるので望ましくない。また、従来と比較し高い
酸化力であるので、散気管を利用したオゾン接触槽の場
合、散気管の劣化の進行がより早まることが予想され
る。したがって、オゾンを溶解させた後別の接触槽でＵ
Ｖを照射するほうが望ましい。
合わせるとＵＶが気泡内のオゾンまで分解してしまう可
能性があるので望ましくない。また、従来と比較し高い
酸化力であるので、散気管を利用したオゾン接触槽の場
合、散気管の劣化の進行がより早まることが予想され
る。したがって、オゾンを溶解させた後別の接触槽でＵ
Ｖを照射するほうが望ましい。
【００１２】（５）促進酸化処理を実施すると、殺菌力
が低下する。
が低下する。
【００１３】本発明は、このような従来の技術の有する
課題に鑑みてなされたもので、過酸化水素添加装置を用
いなくとも、オゾン・過酸化水素併用処理が実現でき、
しかも、殺菌力の低下をきたさない此の種の装置を提供
することを目的とするものである。
課題に鑑みてなされたもので、過酸化水素添加装置を用
いなくとも、オゾン・過酸化水素併用処理が実現でき、
しかも、殺菌力の低下をきたさない此の種の装置を提供
することを目的とするものである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明は、過酸化水素添
加装置を使用することなく、オゾン・過酸化水素併用処
理を実現するものである。
加装置を使用することなく、オゾン・過酸化水素併用処
理を実現するものである。
【００１５】即ち、過酸化水素の生成は、被処理水にオ
ゾンを効率よく溶解させ、この処理水に紫外線を照射す
ることで生成し、この生成された過酸化水素を用いてオ
ゾン・過酸化水素併用処理による一般の促進酸化処理を
行う。
ゾンを効率よく溶解させ、この処理水に紫外線を照射す
ることで生成し、この生成された過酸化水素を用いてオ
ゾン・過酸化水素併用処理による一般の促進酸化処理を
行う。
【００１６】このように処理することで、過酸化水素添
加装置は不要となり、且つ、紫外線照射時にあらかじめ
殺菌されるので、オゾン・過酸化水素併用処理の弱点で
ある殺菌力の低下を防止した促進酸化処理が実現でき
る。
加装置は不要となり、且つ、紫外線照射時にあらかじめ
殺菌されるので、オゾン・過酸化水素併用処理の弱点で
ある殺菌力の低下を防止した促進酸化処理が実現でき
る。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
によって説明する。図１は本発明の処理フローの概念図
を示し、同図において、１は過酸化水素発生手段で、加
圧形の下方注入オゾン接触手段としてのオゾン接触槽１
１と、脱泡手段としての脱泡槽１２および紫外線（Ｕ
Ｖ）処理手段としてのＵＶ接触槽１３から成り、被処理
水（原水）を加圧形の下方注入オゾン接触槽に流入し、
ここでオゾンを水中に効率よく溶解させる。この下方注
入オゾン接触槽１１は、下方注入式オゾン反応槽（Ｕチ
ューブ型オゾン反応槽）又はインジェクター形オゾン接
触槽とも称され、内管と外管の二重管からなり、被処理
水とオゾンとを内管の上部から流入し、下降流として内
管の下流流出口から外管の下部に流出させ、外管内を上
昇させて外管上部から流出するように形成し、オゾンガ
ス気泡が内管内を流下するにつれて増大する水圧によっ
てオゾンガスの水中への溶解を促進する。
によって説明する。図１は本発明の処理フローの概念図
を示し、同図において、１は過酸化水素発生手段で、加
圧形の下方注入オゾン接触手段としてのオゾン接触槽１
１と、脱泡手段としての脱泡槽１２および紫外線（Ｕ
Ｖ）処理手段としてのＵＶ接触槽１３から成り、被処理
水（原水）を加圧形の下方注入オゾン接触槽に流入し、
ここでオゾンを水中に効率よく溶解させる。この下方注
入オゾン接触槽１１は、下方注入式オゾン反応槽（Ｕチ
ューブ型オゾン反応槽）又はインジェクター形オゾン接
触槽とも称され、内管と外管の二重管からなり、被処理
水とオゾンとを内管の上部から流入し、下降流として内
管の下流流出口から外管の下部に流出させ、外管内を上
昇させて外管上部から流出するように形成し、オゾンガ
ス気泡が内管内を流下するにつれて増大する水圧によっ
てオゾンガスの水中への溶解を促進する。
【００１８】脱泡槽１２は、被処理水に溶解しない未反
応のオゾンガス（気泡）を除去するためのもので、ＵＶ
接触槽１３にガス抜き手段を有する場合は、わざわざ設
ける必要がない。
応のオゾンガス（気泡）を除去するためのもので、ＵＶ
接触槽１３にガス抜き手段を有する場合は、わざわざ設
ける必要がない。
【００１９】ＵＶ接触槽１３は、槽の内部に紫外線発光
管を備え、下方注入オゾン接触槽１１でオゾン処理さ
れ、脱泡された被処理水を流入し、紫外線照射処理をす
る。
管を備え、下方注入オゾン接触槽１１でオゾン処理さ
れ、脱泡された被処理水を流入し、紫外線照射処理をす
る。
【００２０】この紫外線照射処理によって被処理水に溶
解したオゾンが分解し、過酸化水素が生成される。
解したオゾンが分解し、過酸化水素が生成される。
【００２１】なお、脱泡槽等で気泡を除去しているが、
オゾンは、下方注入オゾン接触槽１１で効率よく水中に
溶解しているので、気相に残っているオゾン濃度は少な
く、オゾンの利用率が大幅に低下することはない。
オゾンは、下方注入オゾン接触槽１１で効率よく水中に
溶解しているので、気相に残っているオゾン濃度は少な
く、オゾンの利用率が大幅に低下することはない。
【００２２】このように、過酸化水素発生手段１では、
被処理水にオゾンを溶解し、これにＵＶ接触槽で紫外線
照射処理することによって過酸化水素を生成し、且つ、
紫外線照射処理によって殺菌（消毒）が行われる。
被処理水にオゾンを溶解し、これにＵＶ接触槽で紫外線
照射処理することによって過酸化水素を生成し、且つ、
紫外線照射処理によって殺菌（消毒）が行われる。
【００２３】過酸化水素手段による過酸化水素の生成
は、次の実験によって確認された。
は、次の実験によって確認された。
【００２４】実験は、オゾン注入率１．５ｍｇ／Ｌ，Ｕ
Ｖ照射１２０Ｗ，滞留時間２４秒、流量２４Ｌ／ｍｉｎ
の条件で処理し、ＵＶ接触槽出口で０．５ｍｇ／Ｌの過
酸化水素が確認できた。
Ｖ照射１２０Ｗ，滞留時間２４秒、流量２４Ｌ／ｍｉｎ
の条件で処理し、ＵＶ接触槽出口で０．５ｍｇ／Ｌの過
酸化水素が確認できた。
【００２５】２はオゾン接触槽を有する促進酸化処理手
段で、オゾン・過酸化水素併用処理を行う。即ち、ＵＶ
接触槽１３で生成された過酸化水素を含む被処理水を再
びオゾン接触槽に注入してオゾン・過酸化水素併用によ
る普通の促進酸化処理を行う。
段で、オゾン・過酸化水素併用処理を行う。即ち、ＵＶ
接触槽１３で生成された過酸化水素を含む被処理水を再
びオゾン接触槽に注入してオゾン・過酸化水素併用によ
る普通の促進酸化処理を行う。
【００２６】この促進酸化処理手段２では農薬などの除
去対象物質が除去され、その除去率は極めて高いという
長所がある。しかし、殺菌力は低いという難点もある。
去対象物質が除去され、その除去率は極めて高いという
長所がある。しかし、殺菌力は低いという難点もある。
【００２７】本発明では、過酸化水素発生手段１のＵＶ
接触槽で紫外線照射処理をしたとき、ここですでに殺菌
処理が行われているので、殺菌力の低下はきたさない。
接触槽で紫外線照射処理をしたとき、ここですでに殺菌
処理が行われているので、殺菌力の低下はきたさない。
【００２８】
【発明の効果】以上のように本発明は、オゾン・ＵＶ接
触処理の組み合わせおよびオゾン・過酸化水素併用処理
を行うので、酸化力の高いＯＨラジカルが生成および酸
化反応が促進され、高度浄水処理が実現できる。
触処理の組み合わせおよびオゾン・過酸化水素併用処理
を行うので、酸化力の高いＯＨラジカルが生成および酸
化反応が促進され、高度浄水処理が実現できる。
【００２９】また、オゾン・ＵＶ接触処理の結果として
生成される過酸化水素を利用し、オゾン・過酸化水素併
用処理を行うので、過酸化水素添加装置をわざわざ設け
ることなく、オゾン・過酸化水素処理が実現できる。
生成される過酸化水素を利用し、オゾン・過酸化水素併
用処理を行うので、過酸化水素添加装置をわざわざ設け
ることなく、オゾン・過酸化水素処理が実現できる。
【００３０】更に、オゾン・過酸化水素併用処理の弱点
である殺菌力の低下を、ＵＶ接触手段で補助するため殺
菌力の低下をきたすことがない。等の優れた効果を奏す
る。
である殺菌力の低下を、ＵＶ接触手段で補助するため殺
菌力の低下をきたすことがない。等の優れた効果を奏す
る。
【図１】本発明の実施の形態の処理フロー概念図。
１…過酸化水素発生手段 １１…下方注入オゾン接触槽 １２…脱泡槽 １３…ＵＶ接触槽 ２…促進酸化処理手段
Claims (1)
- 【請求項１】 内管と外管の二重管からなり、被処理水
とオゾンとを内管の上部から流入し、下降流として内管
の下部流出口から外管の下部に流出させ、外管内を上昇
させて外管上部から流出するようにした加圧形の下方注
入オゾン接触手段と、該オゾン接触手段で発生した気泡
を除去する脱泡手段と、この脱泡手段で脱泡された被処
理水に紫外線を照射して過酸化水素を生成するＵＶ接触
手段と、この生成された過酸化水素を用いて促進酸化処
理するオゾン・過酸化水素併用処理手段とを備えたこと
を特徴とするオゾン接触手段による促進酸化処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20207697A JPH1142486A (ja) | 1997-07-29 | 1997-07-29 | オゾン接触手段による促進酸化処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20207697A JPH1142486A (ja) | 1997-07-29 | 1997-07-29 | オゾン接触手段による促進酸化処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1142486A true JPH1142486A (ja) | 1999-02-16 |
Family
ID=16451564
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20207697A Pending JPH1142486A (ja) | 1997-07-29 | 1997-07-29 | オゾン接触手段による促進酸化処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1142486A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2371651A (en) * | 2000-12-07 | 2002-07-31 | Hewlett Packard Co | Digital camera docking station |
| US7462288B2 (en) * | 2001-09-10 | 2008-12-09 | Wedeco Ag Water Technology | Ozone/UV combination for the decomposition of endocrine substances |
| EP3208243A1 (en) * | 2016-02-16 | 2017-08-23 | Xylem IP Management S.à.r.l. | Uv-system with a degassing zone |
| CN110054331A (zh) * | 2019-04-23 | 2019-07-26 | 苏州劼平泰环保科技有限公司 | 一种压铸工厂废水处理方法 |
-
1997
- 1997-07-29 JP JP20207697A patent/JPH1142486A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2371651A (en) * | 2000-12-07 | 2002-07-31 | Hewlett Packard Co | Digital camera docking station |
| US7462288B2 (en) * | 2001-09-10 | 2008-12-09 | Wedeco Ag Water Technology | Ozone/UV combination for the decomposition of endocrine substances |
| US7842182B2 (en) | 2001-09-10 | 2010-11-30 | Wedeco Ag Water Technology | Ozone/UV combination for the decomposition of resistant substances |
| EP3208243A1 (en) * | 2016-02-16 | 2017-08-23 | Xylem IP Management S.à.r.l. | Uv-system with a degassing zone |
| WO2017140553A1 (en) * | 2016-02-16 | 2017-08-24 | Xylem Ip Management S.À R.L. | Uv-system with a degassing zone |
| CN110054331A (zh) * | 2019-04-23 | 2019-07-26 | 苏州劼平泰环保科技有限公司 | 一种压铸工厂废水处理方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20040420 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040427 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040831 |