JPH1140709A - 半導体実装構造およびその製造方法 - Google Patents

半導体実装構造およびその製造方法

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JPH1140709A
JPH1140709A JP19440497A JP19440497A JPH1140709A JP H1140709 A JPH1140709 A JP H1140709A JP 19440497 A JP19440497 A JP 19440497A JP 19440497 A JP19440497 A JP 19440497A JP H1140709 A JPH1140709 A JP H1140709A
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semiconductor
semiconductor bare
chip
substrate
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Hiroyuki Fujimi
浩之 藤見
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    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
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    • H01L2924/1306Field-effect transistor [FET]
    • H01L2924/13091Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor [MOSFET]

Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体ベアチップ回路の誤動作が起こりにく
い構造で、雑音の外部放射の遮断特性の優れた、半導体
ベアチップ裏面での雑音の放射と混入とが起こりにくい
構造で、静電気に弱い構造のトランジスタでも静電破壊
が起こりにくい半導体実装構造を提供する。 【解決手段】 半導体ベアチップ1の側面に、絶縁性樹
脂8がを塗布されている。基板6の上で半導体ベアチッ
プ1に対向しない部分に制御用電極5が設けられてい
る。半導体ベアチップ1の周囲および制御用電極5の上
面を覆うように、導電性樹脂7が塗布されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体実装方法に
関し、特に半導体ベアチップのフリップチップ実装構造
に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の半導体ベアチップのフリップチッ
プ実装構造においては、図2に示すように、半導体ベア
チップ1は、その電極面を基板6側に向けて配置され、
半導体ベアチップの電極2は、バンプ3を介して基板回
路パターン4と接続されている。半導体ベアチップ1と
基板6との間は樹脂9で封止されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上述した半導体ベアチ
ップのフリップチップ実装においては、半導体ベアチッ
プ1の裏面(図2においては上面、すなわち基板6に対
向していない面)が電気的にシールドされていないた
め、外部から雑音が混入しやすい。また、半導体チップ
自身が発生する雑音も外部に放射される。
【0004】雑音が半導体ベアチップ回路に混入した場
合には、半導体ベアチップ回路内の信号、電極、接地の
各電位は雑音レベルを足し合わせた電位に変動する。こ
のため、半導体ベアチップ回路の誤動作が発生する。半
導体ベアチップ回路内で誤動作とならない場合でも、半
導体ベアチップ回路と基板回路との信号の受け渡しで正
しく認識されないことがある。
【0005】外部への雑音放射の場合は、前述した雑音
が半導体ベアチップ回路に混入した場合と同様に、雑音
の周辺回路への影響が問題となる。半導体チップ回路の
雑音放射は、EMI規格として製品出荷条件となってい
ることからも、雑音の外部放射を遮断する必要性があ
る。
【0006】半導体ベアチップ回路内での信号の回り込
みの影響を避ける場合など、半導体ベアチップの回路と
裏面とが接続されていない場合は、半導体ベアチップの
裏面電位が不定になるため、半導体ベアチップ裏面での
雑音の放射と混入とを防ぐことができない。
【0007】また、半導体ベアチップの回路パターンの
インピーダンスは基準電位からの距離により変動するた
め、半導体ベアチップ裏面電位が不定であることは、回
路パターンのインピーダンスが不安定となり、半導体ベ
アチップの回路動作が不安定になる。
【0008】さらに、高周波動作でのバンプのL成分に
よるインピーダンスの上昇により、半導体ベアチップ回
路の電位が変動し回路動作が不安定になる。また、半導
体ベアチップ裏面電位が不安定であることから、半導体
ベアチップに帯電する可能性があり、MOSトランジス
タような静電気に弱い構造の場合には、静電破壊の問題
があった。
【0009】したがって、本発明の第1の目的は、半導
体ベアチップ回路の誤動作が起こりにくい構造を有する
半導体実装構造を提供することである。
【0010】本発明の第2の目的は、雑音の外部放射の
遮断特性の優れた半導体実装構造を提供することであ
る。
【0011】本発明の第3の目的は、半導体ベアチップ
裏面での雑音の放射と混入とが起こりにくい構造を有す
る半導体実装構造を提供することである。
【0012】本発明の第4の目的は、静電気に弱い構造
のトランジスタでも静電破壊が起こりにくい半導体実装
構造を提供することである。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明による半導体実装
構造は、半導体ベアチップがその電極面を基板側に向け
て配置され、前記半導体ベアチップの電極がバンプを介
して前記基板上の回路パターンと接続され、前記半導体
ベアチップと前記基板との間が樹脂で固定されている構
造を有するフリップチップ実装構造において、導電性樹
脂が前記半導体ベアチップの周囲に塗布された構造を備
えることを特徴とする。
【0014】本発明の第1の実施態様においては、前記
基板上の前記半導体ベアチップに対向しない位置に制御
用電極が設けられ、前記制御用電極上にも前記導電性樹
脂が塗布されている。
【0015】本発明の第2の実施態様においては、前記
導電性樹脂が、エポキシ系樹脂にフィラーとして銀材を
添加したものである。
【0016】本発明の第3の実施態様においては、前記
半導体ベアチップの側面に絶縁性樹脂が塗布されてい
る。
【0017】本発明の第4の実施態様においては、前記
制御用電極により、前記半導体ベアチップの電位を制御
する。
【0018】本発明による半導体実装構造の製造方法
は、半導体ベアチップがその電極面を基板側に向けて配
置され、前記半導体ベアチップの電極がバンプを介して
前記基板上の回路パターンと接続され、前記半導体ベア
チップと前記基板との間が樹脂で固定されている構造を
有するフリップチップ実装構造を得る工程と、前記半導
体ベアチップの周囲を導電性樹脂で塗布する工程とを有
することを特徴とする。
【0019】本発明による製造方法の第1の実施態様に
おいては、前記基板上の前記半導体ベアチップに対向し
ない位置に制御用電極を設ける工程をさらに有する。
【0020】本発明による製造方法の第2の実施態様に
おいては、前記導電性樹脂塗布工程で前記制御用電極も
前記導電性樹脂で塗布する。
【0021】
【発明の実施の形態】図1を参照すると、本発明の実施
例による半導体実装構造も基本的構造は、図2に示した
従来のフリップチップ構造と同じである。すなわち、半
導体ベアチップ1は、その電極面を基板6側に向けて配
置され、半導体ベアチップの電極2は、バンプ3を介し
て基板回路パターン4と接続されている。半導体ベアチ
ップ1と基板6との間は樹脂9で封止されている。
【0022】さらに、本発明の実施例による半導体実装
構造では、基本的フリップチップ構造を製造した後で、
半導体ベアチップの側面に、絶縁性樹脂(例えば、エポ
キシ系樹脂)8を塗布する。この絶縁性樹脂8は、半導
体ベアチップ1の端面を保護するための塗布されるの
で、その厚さは20μm程度あれば十分である。
【0023】次に、基板6の上で半導体ベアチップ1に
対向しない部分に制御用電極5を設ける。その後で、半
導体ベアチップ1の周囲および制御用電極5の上面を覆
うように、導電性樹脂(例えば、エポキシ系樹脂にフィ
ラーとして銀材を添加したもの)7を塗布する。導電性
樹脂の塗布厚さは、半導体ベアチップ1の上面および制
御用電極上面で200μm程度あればよい。なお、制御
用電極5は、絶縁性樹脂8の塗布前に設けてもよい。
【0024】これにより、半導体ベアチップ1の裏面
(図2においては上面、すなわち基板6に対向していな
い面)と制御用電極5とが電気的に接続された構造とな
る。このため、半導体ベアチップ1の電位は、導電性樹
脂7と電気的に接続している制御用電極5の電位により
決定される。
【0025】
【発明の効果】上述したように、本発明による半導体実
装構造においては、半導体ベアチップの裏面を導電性樹
脂を介して制御電極と電気的に接続することにより、制
御電極により半導体ベアチップの裏面の電位を任意に設
定することが可能となる。したがって、その電位を半導
体回路内の最下位電位に設定することで、半導体回路パ
ターンと最下位電位の距離を固定し、半導体回路パター
ンのインピーダンス変動を安定させ、回路動作を安定さ
せることができる。
【0026】また、導電性樹脂を半導体ベアチップの周
囲に塗布することにより、導体で半導体ベアチップを囲
むことになり、半導体チップ周囲の導体を最下位電位に
固定できる。これにより、半導体ベアチップ周囲の導体
は周囲からの雑音に対して吸収と反射を行い半導体ベア
チップをシールドすることができる。
【0027】さらに、半導体ベアチップ自身が発生する
雑音に対しても同様の効果から、周囲回路への雑音放射
を防ぐことができる。
【0028】さらにまた、バンプ以外に基板上の電極
(制御用電極)と電気的接続することで、半導体ベアチ
ップと基板回路間のインピーダンスを下げ回路動作が安
定する。また、半導体ベアチップの裏面と基板回路パタ
ーンとは電気的に接続しているため、半導体ベアチップ
の帯電を防ぎ静電破壊を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例による半導体実装構造の断面図
である。
【図2】従来の半導体実装構造を有する半導体装置の断
面図である。
【符号の説明】
1 半導体ベアチップ 2 半導体ベアチップ電極 3 バンプ 4 基板回路パターン 5 半導体ベアチップ裏面電位制御用電極 6 基板 7 導電性樹脂 8 半導体ベアチップ端面保護用絶縁樹脂 9 半導体ベアチップ用固定樹脂

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ベアチップがその電極面を基板側
    に向けて配置され、前記半導体ベアチップの電極がバン
    プを介して前記基板上の回路パターンと接続され、前記
    半導体ベアチップと前記基板との間が樹脂で固定されて
    いる構造を有するフリップチップ実装構造において、 導電性樹脂が前記半導体ベアチップの周囲に塗布された
    構造を備えることを特徴とする半導体実装構造。
  2. 【請求項2】 前記基板上の前記半導体ベアチップに対
    向しない位置に制御用電極が設けられ、前記制御用電極
    上にも前記導電性樹脂が塗布されていることを特徴とす
    る請求項1記載の半導体実装構造。
  3. 【請求項3】 前記導電性樹脂が、エポキシ系樹脂にフ
    ィラーとして銀材を添加したものであることを特徴とす
    る請求項1または2記載の半導体実装構造。
  4. 【請求項4】 前記半導体ベアチップの側面に絶縁性樹
    脂が塗布されていることを特徴とする請求項1、2また
    は3記載の半導体実装構造。
  5. 【請求項5】 前記制御用電極により、前記半導体ベア
    チップの電位を制御することを特徴とする請求項1記載
    の半導体実装構造。
  6. 【請求項6】 半導体ベアチップがその電極面を基板側
    に向けて配置され、前記半導体ベアチップの電極がバン
    プを介して前記基板上の回路パターンと接続され、前記
    半導体ベアチップと前記基板との間が樹脂で固定されて
    いる構造を有するフリップチップ実装構造を得る工程
    と、 前記半導体ベアチップの周囲を導電性樹脂で塗布する工
    程とを有することを特徴とする半導体実装構造の製造方
    法。
  7. 【請求項7】 前記基板上の前記半導体ベアチップに対
    向しない位置に制御用電極を設ける工程をさらに有する
    ことを特徴とする請求項6記載の半導体実装構造の製造
    方法。
  8. 【請求項8】 前記導電性樹脂塗布工程で前記制御用電
    極も前記導電性樹脂で塗布することを特徴とする請求項
    7記載の半導体実装構造の製造方法。
JP19440497A 1997-07-18 1997-07-18 半導体実装構造およびその製造方法 Withdrawn JPH1140709A (ja)

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