JPH11352505A - Liquid crystal display device - Google Patents
Liquid crystal display deviceInfo
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- JPH11352505A JPH11352505A JP16480998A JP16480998A JPH11352505A JP H11352505 A JPH11352505 A JP H11352505A JP 16480998 A JP16480998 A JP 16480998A JP 16480998 A JP16480998 A JP 16480998A JP H11352505 A JPH11352505 A JP H11352505A
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- inspection
- line pattern
- signal wiring
- wiring
- liquid crystal
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、アクティブマトリ
クス型の液晶表示装置にかかわり、特には製造過程にお
ける表示品質の検査の技術に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an active matrix type liquid crystal display device, and more particularly to a technique for inspecting display quality in a manufacturing process.
【０００２】[0002]
【従来の技術】図３は液晶表示装置のアクティブマトリ
クス基板の構成を示す。図３において、符号の１はガラ
ス基板、２はガラス基板１上で横方向に沿って複数形成
された走査信号配線、３はガラス基板１上で縦方向に沿
って複数形成されたＲ，Ｇ，Ｂの映像信号配線、４はそ
れらの配線２，３が交差する位置の一つ一つの液晶セル
に対応して両配線２，３に接続された薄膜トランジスタ
（ＴＦＴ；図示省略）を介してガラス基板１上に形成さ
れた画素電極、５は多数の画素電極４群からなる矩形の
液晶画面領域、６はガラス基板１上に配置されたゲート
実装電極領域、７はガラス基板１上に配置されたソース
実装電極領域である。2. Description of the Related Art FIG. 3 shows the structure of an active matrix substrate of a liquid crystal display. In FIG. 3, reference numeral 1 denotes a glass substrate, 2 denotes a plurality of scanning signal wirings formed on the glass substrate 1 along the horizontal direction, and 3 denotes R, G formed by the plurality on the glass substrate 1 along the vertical direction. , B video signal wirings, and glass 4 via thin film transistors (TFTs, not shown) connected to the wirings 2 and 3 corresponding to each liquid crystal cell at the position where the wirings 2 and 3 intersect. Pixel electrodes 5 formed on the substrate 1, 5 is a rectangular liquid crystal screen region composed of a large number of pixel electrodes 4, 6 is a gate mounting electrode region disposed on the glass substrate 1, 7 is disposed on the glass substrate 1. This is the source mounting electrode region.
【０００３】このような液晶表示装置のアクティブマト
リクス基板の製造工程では、ダストによるパターニング
異常や静電気等による素子破壊など様々な原因で不良が
発生する可能性がある。不良パネルを出さないことがコ
ストの削減、生産性向上のために不可欠である。そのた
め、製造工程において液晶駆動用ＬＳＩドライバに実装
する電極の全数に検査用プローブ電極を接触させて検査
を実施するようにしている。しかし、近年、表示品位の
向上のため高精細化が進んでおり、画素数が増加する傾
向にあり、液晶駆動用ＬＳＩドライバの実装電極間隔は
狭くなり、製造過程で複数回の検査をするための検査用
プローブ電極の接触間隔も狭くなっている。その結果と
して、映像信号配線や走査信号配線の一本一本にプロー
ブ電極を接触する構成とすることは、その作製費用の高
騰、作製期間の長時間化、プローブ電極の接触の安定性
やプローブ電極の保守などの困難性をもたらすようにな
る。特に、液晶駆動用ＬＳＩドライバをガラス基板１の
上に直接的に実装するチップオングラス（ＣＯＧ）方式
を用いた液晶表示装置の場合には、電極パッドへの直接
のコンタクトは不可能である。そのため、新たな検査用
プローブの開発が必要となるが、開発費の抑制、開発期
間の短縮、簡易な信号かつ簡易なプローブで検査できる
ことが望まれている。[0003] In the manufacturing process of the active matrix substrate of such a liquid crystal display device, there is a possibility that a defect occurs due to various causes such as abnormal patterning due to dust and destruction of the element due to static electricity or the like. Avoiding defective panels is indispensable for cost reduction and productivity improvement. Therefore, in the manufacturing process, the inspection is performed by bringing the inspection probe electrode into contact with all the electrodes mounted on the liquid crystal driving LSI driver. However, in recent years, high definition has been promoted to improve display quality, the number of pixels tends to increase, the spacing between mounting electrodes of a liquid crystal driving LSI driver has been reduced, and a plurality of inspections are performed in a manufacturing process. In this case, the contact interval between the test probe electrodes is also reduced. As a result, the configuration in which the probe electrode is in contact with each of the video signal wiring and the scanning signal wiring requires a high manufacturing cost, a long manufacturing time, a stable contact of the probe electrode and a probe. This leads to difficulties such as maintenance of the electrodes. In particular, in the case of a liquid crystal display device using a chip-on-glass (COG) system in which an LSI driver for driving a liquid crystal is directly mounted on a glass substrate 1, direct contact with an electrode pad is impossible. Therefore, it is necessary to develop a new inspection probe, but it is desired that the development cost be reduced, the development period be shortened, and the inspection be performed with a simple signal and a simple probe.
【０００４】そこで、近年、採用されるようになった簡
易検査方法について、さらに図３を用いて説明する。符
号の８ａは液晶画面領域５の外側においてガラス基板１
上に縦方向に形成された走査信号配線用の検査用配線、
８ｂは液晶画面領域５の外側におけるガラス基板１上に
横方向に形成されたＲ，Ｇ，Ｂそれぞれの映像信号配線
用の検査用配線、９ａは各走査信号配線２と走査信号配
線用の検査用配線８ａとを接続するためにガラス基板１
上に形成されたラインパターン、１０ａはガラス基板１
上において走査信号配線用の検査用配線８ａの端部に形
成された検査用電極端子、９ｂは各映像信号配線３と各
映像信号配線用の検査用配線８ｂとを接続するためにガ
ラス基板１上に形成されたラインパターン、１０ｂはガ
ラス基板１上において各映像信号配線用の検査用配線８
ｂの端部に形成された検査用電極端子、１１ａ，１１ｂ
は各接続部である。図４（ａ），（ｂ）に部分の拡大を
示す。Therefore, a simple inspection method that has recently been adopted will be further described with reference to FIG. Reference numeral 8a denotes the glass substrate 1 outside the liquid crystal screen area 5.
Inspection wiring for scanning signal wiring formed vertically on top,
Reference numeral 8b denotes an inspection wiring for each of R, G, and B video signal wirings formed laterally on the glass substrate 1 outside the liquid crystal screen region 5, and 9a denotes an inspection wiring for each of the scanning signal wirings 2 and the scanning signal wirings. Glass substrate 1 in order to connect
The line pattern formed on the glass substrate 10a
An inspection electrode terminal 9b formed at the end of the inspection wiring 8a for the scanning signal wiring above is a glass substrate 1 for connecting each video signal wiring 3 to the inspection wiring 8b for each video signal wiring. The line pattern 10b formed on the glass substrate 1 is used as the inspection wiring 8 for each video signal wiring.
b, inspection electrode terminals 11a and 11b
Are connection parts. FIGS. 4A and 4B show an enlarged portion.
【０００５】検査用電極端子１０ａ，１０ｂに検査用プ
ローブを立てて検査用信号１２を供給し、液晶表示装置
の検査を行い、良否の判定を行う。その後、良品につい
て、図５（ａ），（ｂ）に示すように、液晶画面領域５
の外側において各走査信号配線２と検査用配線８ａとを
接続しているラインパターン９ａおよび各映像信号配線
３と検査用配線８ｂとを接続しているラインパターン９
ｂをそれぞれ直線状の切断領域１３ａ，１３ｂにおいて
レーザー光の照射によって切断し、液晶表示装置の最終
形態を得ている。レーザー光で各ラインパターン９ａ，
９ｂを切断するときは、繰り返しで形成されているライ
ンパターン９ａ群，９ｂ群の始めから終わりまでを連続
して一気に切断する。[0005] An inspection probe is set up on the inspection electrode terminals 10a and 10b, and an inspection signal 12 is supplied to inspect the liquid crystal display device to judge pass / fail. Thereafter, as shown in FIGS. 5A and 5B, the non-defective product
Line pattern 9a connecting each scanning signal wiring 2 to the inspection wiring 8a and line pattern 9 connecting each video signal wiring 3 to the inspection wiring 8b outside the
b is cut by irradiating a laser beam in each of the linear cutting regions 13a and 13b to obtain a final form of the liquid crystal display device. Each line pattern 9a,
When cutting 9b, the line patterns 9a and 9b formed by repetition are cut continuously at once from the beginning to the end.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】上記した従来の技術に
は次のような問題点がある。ラインパターン９ａ，９ｂ
は画素電極４と同様に高抵抗のＩＴＯ等で形成されてい
るが、このラインパターンをレーザー光で切断するとき
に、図５（ａ），（ｂ）に示すようにラインパターン構
成材１４が飛び散り、その飛び散ったラインパターン構
成材１４が隣接するラインパターン９ａ，９ａ間にわた
って付着し、また隣接するラインパターン９ｂ，９ｂ間
にわたって付着し、それぞれ隣接ショートとなる。ライ
ンパターン９ａ，９ｂをレーザー光で切断する工程は一
番最後であり、それ以前に検査用電極端子１０ａ，１０
ｂを利用した画素表示検査は終了している。したがっ
て、飛び散ったラインパターン構成材１４に起因する隣
接ショートは発見されることがない。その結果として、
液晶表示装置の対応する部分に表示不良が発生するとい
う問題がある。The above-mentioned prior art has the following problems. Line patterns 9a, 9b
Is formed of high-resistance ITO or the like similarly to the pixel electrode 4, but when this line pattern is cut by a laser beam, the line pattern constituent material 14 is formed as shown in FIGS. 5 (a) and 5 (b). The scattered and scattered line pattern constituent members 14 adhere between the adjacent line patterns 9a and 9a, and adhere between the adjacent line patterns 9b and 9b, thereby causing adjacent short circuits. The step of cutting the line patterns 9a and 9b with laser light is the last step, and before that, the inspection electrode terminals 10a and 10b are cut.
The pixel display inspection using b has been completed. Therefore, the adjacent short circuit caused by the scattered line pattern component 14 is not found. As a result,
There is a problem that a display failure occurs in a corresponding portion of the liquid crystal display device.
【０００７】本発明は上記した課題の解決を図るべく創
案したものであって、ラインパターンの分離に伴う隣接
ショートをなくす上で有効な液晶表示装置を提供するこ
とを目的としている。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problem, and has as its object to provide a liquid crystal display device which is effective in eliminating adjacent shorts due to separation of line patterns.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】液晶表示装置の検査技術
にかかわる本発明においては、表示用の信号配線を検査
用配線に対して接続するためのラインパターンを形成す
るに際して、そのラインパターンの一部または全体を信
号配線よりも細い幅の状態で形成しておき、検査を行
う。検査が終了した後において検査用配線を信号配線か
ら分離するに際してラインパターンでの分離を行うが、
この場合にラインパターンの細幅部分において分離して
ある。ラインパターンを分離するのに細幅部分で分離し
てあるから、分離に伴うラインパターン構成材が飛び散
る量は従来の技術の場合よりも少なくなる。また、細幅
部分の隣接間隔は細幅部分がない従来の技術の場合の隣
接間隔よりも大きくなっている。量が少なくなることと
隣接間隔が大きくなることとの相乗により、隣接ショー
トを抑制する。According to the present invention relating to a liquid crystal display device inspection technique, when forming a line pattern for connecting a display signal wiring to an inspection wiring, one of the line patterns is used. A part or the whole is formed in a state in which the width is smaller than the signal wiring, and an inspection is performed. When the inspection wiring is separated from the signal wiring after the inspection is completed, separation using a line pattern is performed.
In this case, it is separated at the narrow portion of the line pattern. Since the line pattern is separated at a narrow portion to separate the line pattern, the amount of the scattered line pattern constituent material accompanying the separation is smaller than in the case of the related art. In addition, the adjacent interval between the narrow portions is larger than the adjacent interval in the related art having no narrow portion. The short circuit is suppressed by the synergy between the reduction in the amount and the increase in the adjacent distance.
【０００９】[0009]
【発明の実施の形態】本発明にかかわる請求項１の液晶
表示装置は、表示用の信号配線と検査用配線とを接続す
るラインパターンの少なくとも一部が信号配線より細幅
のラインパターンに形成され、各ラインパターンがその
細幅部分で分離されているという構成になっている。隣
接間隔を拡げるとともにラインパターン構成材の飛散量
を少なくしたことの相乗によって隣接ショートが抑制さ
れる。In the liquid crystal display device according to the first aspect of the present invention, at least a part of a line pattern connecting a display signal wiring and a test wiring is formed in a line pattern narrower than the signal wiring. Each line pattern is separated at its narrow portion. The adjacent short-circuit is suppressed by the synergistic effect of increasing the adjacent distance and reducing the amount of scattering of the line pattern constituent material.
【００１０】本発明にかかわる請求項２の液晶表示装置
は、請求項１の構成をより具体的レベルで表現したもの
に相当する。それは次のような構成となっている。すな
わち、液晶画面領域の外側に映像信号配線用の検査用配
線と走査信号配線用の検査用配線とが設けられ、映像信
号配線と映像信号配線用の検査用配線とがラインパター
ンを介して接続され、走査信号配線と走査信号配線用の
検査用配線とがラインパターンを介して接続されるとい
う構成を前提とする。映像信号配線の隣接間隔および走
査信号配線の隣接間隔に着目し、隣接間隔が所定値以下
に狭くなっているかどうかを判断基準として、所定値よ
りも大きいときには特に対策はとらなくてもよいが、所
定値以下となっている場合には、それにつながるライン
パターンの一部または全体を信号配線より細幅のライン
パターンに形成する。つまり、映像信号配線の隣接間隔
も走査信号配線の隣接間隔もともに所定値以下のとき
は、映像信号配線につながるラインパターンおよび走査
信号配線につながるラインパターンの双方についてその
一部または全体を各信号配線より細幅のラインパターン
に形成する。また、映像信号配線についてのみその隣接
間隔が所定値以下のときは、映像信号配線につながるラ
インパターンについてのみその一部または全体を映像信
号配線より細幅のラインパターンに形成する。また、走
査信号配線についてのみその隣接間隔が所定値以下のと
きは、走査信号配線につながるラインパターンについて
のみその一部または全体を走査信号配線より細幅のライ
ンパターンに形成する。そして、検査後においては、映
像信号配線および走査信号配線と各検査用配線とを電気
的・物理的に分離するために各ラインパターンにおいて
分離するのであるが、細幅部分をもつラインパターンに
ついては、その細幅部分で分離したという構成にするの
である。ラインパターンを分離するのに細幅部分で分離
してあるから、分離に伴うラインパターン構成材の飛散
量が従来の技術の場合よりも少なくなるとともに、細幅
部分の隣接間隔が細幅部分のない従来の技術の場合の隣
接間隔よりも大きくなっていることから、相乗的に隣接
ショートを抑制することになる。A liquid crystal display according to a second aspect of the present invention corresponds to the configuration of the first aspect expressed on a more specific level. It has the following configuration. That is, inspection wiring for video signal wiring and inspection wiring for scanning signal wiring are provided outside the liquid crystal screen area, and the video signal wiring and the inspection wiring for video signal wiring are connected via a line pattern. It is assumed that the scanning signal wiring and the inspection wiring for the scanning signal wiring are connected via a line pattern. Paying attention to the adjacent interval of the video signal wiring and the adjacent interval of the scanning signal wiring, as a criterion for determining whether the adjacent interval is narrowed to a predetermined value or less, it is not necessary to take any special measures when it is larger than a predetermined value, If the value is equal to or less than the predetermined value, a part or the whole of the line pattern connected to the line pattern is formed into a line pattern narrower than the signal wiring. In other words, when both the adjacent spacing of the video signal wiring and the adjacent spacing of the scanning signal wiring are equal to or smaller than a predetermined value, a part or the whole of both the line pattern connected to the video signal wiring and the line pattern connected to the scanning signal wiring is used for each signal. It is formed in a line pattern narrower than the wiring. In addition, when the adjacent distance of only the video signal wiring is equal to or smaller than a predetermined value, a part or the whole of only the line pattern connected to the video signal wiring is formed into a line pattern narrower than the video signal wiring. Further, when only the scanning signal wiring has an adjacent space of a predetermined value or less, only a part or the whole of the line pattern connected to the scanning signal wiring is formed into a line pattern narrower than the scanning signal wiring. After the inspection, the video signal wiring and the scanning signal wiring are separated from each test wiring in each line pattern in order to electrically and physically separate them. , So that it is separated at the narrow portion. Since the line pattern is separated at the narrow portion to separate the line pattern, the scattering amount of the line pattern constituent material due to the separation is smaller than in the conventional technology, and the adjacent interval of the narrow portion is smaller than that of the conventional technology. In this case, since the distance between adjacent pixels is larger than that in the case of the related art, adjacent short circuits are synergistically suppressed.
【００１１】本発明にかかわる請求項３の液晶表示装置
は、上記請求項１，２において、ラインパターンの細幅
部分がレーザー光照射により切断されているものであ
る。レーザー光照射による切断に伴って飛散するライン
パターン構成材の飛散量を抑えて隣接ショートを抑制す
る。According to a third aspect of the present invention, there is provided the liquid crystal display device according to the first and second aspects, wherein a narrow portion of the line pattern is cut by laser light irradiation. The amount of scattering of the line pattern constituent material scattered by the cutting by the laser beam irradiation is suppressed, and the adjacent short circuit is suppressed.
【００１２】以下、本発明にかかわる液晶表示装置の具
体的な実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。図
３に示す液晶表示装置の構成は本実施の形態でも適用さ
れる。図３は液晶表示装置のアクティブマトリクス基板
の概略の構成を示す平面図である。ガラス基板１上に、
横方向に沿った複数の走査信号配線２と、縦方向に沿っ
たＲ，Ｇ，Ｂそれぞれの複数の映像信号配線３と、それ
らの配線２，３が交差する位置の一つ一つの液晶セルに
対応する画素電極４と、その画素電極４に接続された薄
膜トランジスタ（ＴＦＴ；図示省略）とが形成されてい
る。多数の画素電極４群から矩形の液晶画面領域５が構
成されている。走査信号配線２は各ＴＦＴのゲート電極
に接続され、映像信号配線３は各ＴＦＴのソース電極に
接続され、各走査信号配線２はガラス基板１上に配置さ
れたゲート実装電極領域６を介して液晶駆動用ＬＳＩの
走査信号ドライバに接続されるようになっており、ま
た、各映像信号配線３はガラス基板１上に配置されたソ
ース実装電極領域７を介して液晶駆動用ＬＳＩの映像信
号ドライバに接続されるようになっている。この液晶表
示装置は液晶駆動用ＬＳＩドライバをガラス基板１の上
に直接的に実装するチップオングラス（ＣＯＧ）タイプ
に構成されるものであるが、他のタイプであっても、同
様の構成である。走査信号配線２および映像信号配線３
は、例えばシート抵抗（１ｃｍ角の抵抗値）が０．２Ω
／□位である低抵抗金属のＡｌまたはＡｌに３％程度の
Ｔａ（タンタル）、Ｔｉ（チタン）等の高融点金属を含
有させたＡｌ系金属で形成され、また、画素電極４は透
明導電膜（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide；酸化インジウム
錫））で形成されている。Hereinafter, specific embodiments of the liquid crystal display device according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The configuration of the liquid crystal display device shown in FIG. 3 is also applied to the present embodiment. FIG. 3 is a plan view showing a schematic configuration of an active matrix substrate of a liquid crystal display device. On the glass substrate 1,
A plurality of scanning signal wirings 2 along the horizontal direction, a plurality of video signal wirings 3 for each of R, G, B along the vertical direction, and each liquid crystal cell at a position where these wirings 2 and 3 intersect Are formed, and a thin film transistor (TFT; not shown) connected to the pixel electrode 4 is formed. A rectangular liquid crystal screen area 5 is formed from a large number of pixel electrode 4 groups. The scanning signal wiring 2 is connected to the gate electrode of each TFT, the video signal wiring 3 is connected to the source electrode of each TFT, and each scanning signal wiring 2 is connected via a gate mounting electrode area 6 arranged on the glass substrate 1. Each of the video signal wirings 3 is connected to a scanning signal driver of the liquid crystal driving LSI, and a video signal driver of the liquid crystal driving LSI is connected via a source mounting electrode region 7 arranged on the glass substrate 1. Is to be connected to. This liquid crystal display device is configured as a chip-on-glass (COG) type in which an LSI driver for driving a liquid crystal is directly mounted on a glass substrate 1, but other types have the same configuration. is there. Scan signal wiring 2 and video signal wiring 3
Means that the sheet resistance (1 cm square resistance) is 0.2Ω
The pixel electrode 4 is made of a transparent conductive material such as Al or a low-resistance metal in the position of / □ or a high-melting point metal such as Ta (tantalum) or Ti (titanium) containing about 3%. It is formed of a film (ITO: Indium Tin Oxide).
【００１３】液晶表示装置の製造過程での検査において
隣接間隔の狭い走査信号配線２や映像信号配線３に直接
に検査用プローブ電極を接触させることはむずかしい。
そこで、液晶画面領域５の外側においてガラス基板１上
に、各走査信号配線２に共通の検査用配線８ａを縦方向
に形成するとともに、各Ｒ，Ｇ，Ｂの映像信号配線３そ
れぞれに共通の検査用配線８ｂを３本横方向に形成し、
各走査信号配線２と走査信号配線用の検査用配線８ａと
をラインパターン９ａを介して接続し、走査信号配線用
の検査用配線８ａの端部に検査用プローブ電極を接触さ
せるための検査用電極端子１０ａを形成する一方、Ｒ，
Ｇ，Ｂの各映像信号配線３と映像信号配線用の検査用配
線８ｂとをラインパターン９ｂを介して接続し、映像信
号配線用の検査用配線８ｂの端部に検査用電極端子１０
ｂを形成してある。１１ａ，１１ｂは各信号配線２，３
とラインパターン９ａ，９ｂとの接続部である。ライン
パターン９ａ，９ｂは所定値以上の抵抗をもたせるため
に画素電極４と同様にＩＴＯで形成してある。検査用配
線８ａ，８ｂ、ラインパターン９ａ，９ｂおよび検査用
電極端子１０ａ，１０ｂは、成膜技術、フォトリソグラ
フィ技術およびエッチング技術を用いて形成する。[0013] It is difficult to directly contact the inspection probe electrode with the scanning signal wiring 2 or the video signal wiring 3 having a narrow adjacent space in the inspection in the manufacturing process of the liquid crystal display device.
Therefore, on the glass substrate 1 outside the liquid crystal screen area 5, the inspection wiring 8a common to the scanning signal wirings 2 is formed in the vertical direction, and the common R, G, B video signal wiring 3 is formed. Three inspection wires 8b are formed in the horizontal direction,
Each scanning signal wiring 2 is connected to the inspection wiring 8a for the scanning signal wiring via a line pattern 9a, and an inspection for bringing the inspection probe electrode into contact with an end of the inspection wiring 8a for the scanning signal wiring. While forming the electrode terminal 10a, R,
The G and B video signal wirings 3 are connected to the inspection wirings 8b for the video signal wirings via line patterns 9b, and the inspection electrode terminals 10 are connected to the ends of the inspection wirings 8b for the video signal wirings.
b is formed. 11a and 11b are signal wirings 2 and 3 respectively.
And the line patterns 9a and 9b. The line patterns 9a and 9b are formed of ITO in the same manner as the pixel electrode 4 so as to have a resistance of a predetermined value or more. The inspection wirings 8a and 8b, the line patterns 9a and 9b, and the inspection electrode terminals 10a and 10b are formed by using a film forming technique, a photolithography technique, and an etching technique.
【００１４】本実施の形態はラインパターン９ａ，９ｂ
の形成において次のような工夫を施している。それを図
１によって説明する。図１（ａ）は走査信号配線用の検
査用配線８ａとラインパターン９ａとの接続部１１ａの
周辺の構成を示し、図１（ｂ）は映像信号配線用の検査
用配線８ｂとラインパターン９ｂとの接続部１１ｂの周
辺の構成を示す。走査信号配線側のラインパターン９ａ
の隣接間隔が所定値以下に狭くなっていることに鑑み
て、検査用配線８ａとの接続部１１ａから一定長さ範囲
にわたってラインパターン９ａの一部を細幅部分９ａ1
となし、矢印で示すように隣接する細幅部分９ａ1 ，９
ａ1 の隣接間隔を拡げている。また、映像信号配線側の
ラインパターン９ｂの隣接間隔が所定値以下に狭くなっ
ていることに鑑みて、検査用配線８ｂとの接続部１１ｂ
から一定長さ範囲にわたってラインパターン９ｂの一部
を細幅部分９ｂ1 となし、矢印で示すように隣接する細
幅部分９ｂ1 ，９ｂ1 の隣接間隔を拡げている。そし
て、検査が終了したあとのレーザー光による切断領域１
３ａ，１３ｂとしては、各細幅部分９ａ1 ，９ｂ1 のほ
ぼ中央部を長さ方向に対して垂直に横断するように設定
されている。In this embodiment, the line patterns 9a and 9b
The following are devised in the formation of. This will be described with reference to FIG. FIG. 1A shows a configuration around a connection portion 11a between an inspection wiring 8a for scanning signal wiring and a line pattern 9a, and FIG. 1B shows an inspection wiring 8b for video signal wiring and a line pattern 9b. 2 shows a configuration around the connection portion 11b. Line pattern 9a on the scanning signal wiring side
Is narrowed to a predetermined value or less, a part of the line pattern 9a is reduced to a narrow portion 9a 1 from the connection portion 11a to the inspection wiring 8a over a predetermined length range.
And narrow portions 9a 1 , 9 adjacent as shown by arrows.
and expand the adjacent interval of a 1. Also, in view of the fact that the adjacent interval of the line pattern 9b on the video signal wiring side is narrowed to a predetermined value or less, the connection portion 11b with the inspection wiring 8b is considered.
Narrow portion 9b 1 part of a line pattern 9b over a length range of ungated, and expanding the distance between the adjacent narrow portion 9b 1, 9b 1 adjacent as indicated by the arrow. And the cutting area 1 by the laser beam after the inspection is completed
3a and 13b are set so as to cross substantially the center of each of the narrow portions 9a 1 and 9b 1 perpendicularly to the length direction.
【００１５】従来の技術について説明したのと同様に、
検査用電極端子１０ａ，１０ｂに検査用プローブを立て
て検査用信号１２を供給し、液晶表示装置の検査を行
い、良否の判定を行う。その後、良品について、図２
（ａ），（ｂ）に示すように、液晶画面領域５の外側に
おいて各走査信号配線２と検査用配線８ａとを接続して
いるラインパターン９ａや各映像信号配線３と検査用配
線８ｂとを接続しているラインパターン９ｂをそれぞれ
切断領域１３ａ，１３ｂにおけるレーザー光の照射によ
って切断し、液晶表示装置の最終形態を得る。この場合
において、レーザー光を切断領域１３ａに沿って走査す
ることにより、繰り返しで形成されている細幅部分９ａ
1 群の一番始めから終わりまで連続して一気に切断し、
また細幅部分９ｂ1 群についても同様に切断するが、こ
のとき図２に示すように、ラインパターン９ａ，９ｂを
構成しているＩＴＯ（Indium Tin Oxide；酸化インジウ
ム錫）などのラインパターン構成材１４が飛び散って
も、レーザー光で切断する部分が細幅部分９ａ1 ，９ｂ
1 であることから飛び散る量が少なく、かつ、隣接する
細幅部分９ａ1 ，９ａ1 間の間隔および隣接する細幅部
分９ｂ1 ，９ｂ1 間の間隔が細幅部分以外の隣接するラ
インパターン９ａ，９ａ間の間隔、隣接するラインパタ
ーン９ｂ，９ｂ間の間隔よりも大きくなっていることか
ら、飛び散ったラインパターン構成材１４が隣接する細
幅部分９ａ1 ，９ａ1 、９ｂ1 ，９ｂ1 で隣接ショート
を起こすことを抑制することができる。As described for the prior art,
An inspection probe is set up on the inspection electrode terminals 10a and 10b, an inspection signal 12 is supplied, and an inspection of the liquid crystal display device is performed to determine pass / fail. Then, for non-defective products,
As shown in (a) and (b), a line pattern 9a connecting each scanning signal wiring 2 and the inspection wiring 8a and each video signal wiring 3 and the inspection wiring 8b outside the liquid crystal screen region 5 are formed. Are cut by irradiating laser beams in the cutting regions 13a and 13b, respectively, to obtain the final form of the liquid crystal display device. In this case, by scanning the laser beam along the cutting region 13a, the narrow portion 9a formed repeatedly is formed.
Cut one group at a time from the beginning to the end,
The narrow width portion 9b 1 group is also cut in the same manner. At this time, as shown in FIG. 2, a line pattern constituting material such as ITO (Indium Tin Oxide) forming the line patterns 9a and 9b is used. Even if 14 scatters, the portions cut by the laser beam are narrow portions 9a 1 and 9b.
Since it is 1 , the scattering amount is small, and the interval between the adjacent narrow portions 9a 1 and 9a 1 and the interval between the adjacent narrow portions 9b 1 and 9b 1 are adjacent line patterns 9a other than the narrow portion. , the spacing between 9a, adjacent line pattern 9b, since it is larger than the spacing between 9b, at the narrow portion 9a 1, 9a 1, 9b 1 , 9b 1 that spattered line patterns constituting material 14 is adjacent Adjacent short circuit can be suppressed.
【００１６】なお、ラインパターンの隣接間隔について
所定値以下に狭くなっているのが走査信号配線用の検査
用配線８ａに接続のラインパターン９ａのみで、映像信
号配線用の検査用配線８ｂに接続のラインパターン９ｂ
の方は隣接間隔が所定値を超えて広くなっている場合に
は、走査信号配線側のラインパターン９ａについてのみ
細幅部分９ａ1 を形成するものとする。また、逆に、ラ
インパターンの隣接間隔について所定値以下に狭くなっ
ているのが映像信号配線用の検査用配線８ｂに接続のラ
インパターン９ｂのみで、走査信号配線側のラインパタ
ーン９ａの方は隣接間隔が所定値を超えて広くなってい
る場合には、映像信号配線側のラインパターン９ｂにつ
いてのみ細幅部分９ｂ1 を形成するものとする。It is to be noted that only the line pattern 9a connected to the inspection wiring 8a for the scanning signal wiring and the line pattern 9a connected to the inspection wiring 8b for the video signal wiring are narrowed to a predetermined value or less with respect to the adjacent spacing of the line patterns. Line pattern 9b
Those who when adjacent interval is wider than the predetermined value, it is assumed that only forms a narrow portion 9a 1 for line pattern 9a of the scanning signal line side. Conversely, only the line pattern 9b connected to the inspection wiring 8b for the video signal wiring is narrowed to a predetermined value or less for the adjacent interval of the line pattern, and the line pattern 9a on the scanning signal wiring side is smaller than the predetermined value. If the adjacent interval is wider than a predetermined value, and to form a narrow portion 9b 1 only line pattern 9b of the video signal wiring side.
【００１７】また、ラインパターン９ａ，９ｂの一部で
はなく、全長範囲を走査信号配線２や映像信号配線３の
幅より小さい細幅のラインパターンとしてもよい。ライ
ンパターン９ａ，９ｂの一部を細幅とする場合に、上記
の実施の形態のように検査用配線８ａ，８ｂにつながる
部分から細幅部分９ａ1 ，９ｂ1 を形成することに代え
て、検査用配線８ａ，８ｂから離れた部分に細幅部分を
形成してもよい。また、細幅部分９ａ1 ，９ｂ1 をライ
ンパターン９ａ，９ｂの幅方向の中央に設けることに代
えて、ラインパターン９ａ，９ｂの一側辺の延長線上に
設けるように構成してもよい。Further, instead of a part of the line patterns 9a and 9b, the entire length range may be a narrow line pattern smaller than the width of the scanning signal wiring 2 and the video signal wiring 3. When a part of the line patterns 9a and 9b is made to have a narrow width, instead of forming the narrow width portions 9a 1 and 9b 1 from the portions connected to the inspection wirings 8a and 8b as in the above embodiment, A narrow portion may be formed in a portion away from the inspection wirings 8a and 8b. Instead of providing the narrow portions 9a 1 and 9b 1 at the center in the width direction of the line patterns 9a and 9b, the narrow portions 9a 1 and 9b 1 may be provided on an extension of one side of the line patterns 9a and 9b.
【００１８】また、ラインパターン９ａ，９ｂの分離に
ついては、レーザー光照射による切断のほか、スクイー
ジによる削り取り等でもよい。さらには検査用配線８
ａ，８ｂを除去する状態でのガラス基板１の割断でもよ
い。The line patterns 9a and 9b may be separated by laser beam irradiation or by squeezing. Further, inspection wiring 8
The glass substrate 1 may be cleaved in a state where a and 8b are removed.
【００１９】[0019]
【発明の効果】本発明によれば、検査が終了した後にお
いて検査用配線を信号配線から分離するのに細幅部分で
分離してあって、分離に伴うラインパターン構成材の飛
散量を少なくすることと細幅部分の隣接間隔を拡大する
こととの相乗により、例えばレーザー光照射による切断
等での分離に伴うラインパターン構成材の飛散が生じて
も隣接ショートを抑制することができる。According to the present invention, the inspection wiring is separated from the signal wiring at the narrow portion after the inspection is completed, and the scattering amount of the line pattern constituting material due to the separation is reduced. Due to the synergistic effect of increasing the distance between adjacent narrow portions, the adjacent short circuit can be suppressed even if the line pattern constituent material is scattered due to separation by cutting by laser light irradiation.
【図１】 本発明の実施の形態にかかわる液晶表示装置
のアクティブマトリクス基板の要部の拡大平面図FIG. 1 is an enlarged plan view of a main part of an active matrix substrate of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.
【図２】 実施の形態にかかわる液晶表示装置で検査終
了後にラインパターンをその細幅部分で切断した状態を
示す要部の拡大平面図FIG. 2 is an enlarged plan view of a main part of the liquid crystal display device according to the embodiment, showing a state where a line pattern is cut at a narrow portion thereof after inspection is completed.
【図３】 本発明にかかわる実施の形態と従来の技術と
に共通なもので、液晶表示装置のアクティブマトリクス
基板の概略的な平面図FIG. 3 is a schematic plan view of an active matrix substrate of a liquid crystal display device, which is common to the embodiment according to the present invention and the prior art.
【図４】 従来の技術にかかわる液晶表示装置のアクテ
ィブマトリクス基板の一部の拡大平面図FIG. 4 is an enlarged plan view of a part of an active matrix substrate of a liquid crystal display device according to the related art.
【図５】 従来の技術にかかわる液晶表示装置で検査終
了後にラインパターンを切断した状態を示す一部の拡大
平面図FIG. 5 is a partially enlarged plan view showing a state in which a line pattern is cut after inspection is completed in a liquid crystal display device according to the related art.
１………ガラス基板 ２………
走査信号配線 ３………映像信号配線 ４………
画素電極 ５………液晶画面領域 ６………
ゲート実装電極領域 ７………ソース実装電極領域 ８ａ……走査信号配線側の検査用配線 ８ｂ……映像信号配線側の検査用配線 ９ａ……走査信号配線側のラインパターン ９ａ1 …
細幅部分 ９ｂ……映像信号配線側のラインパターン ９ｂ1 …
細幅部分 １０ａ……走査信号配線側の検査用電極端子 １０ｂ……映像信号配線側の検査用電極端子 １３ａ……走査信号配線側のラインパターンの切断領域 １３ｂ……映像信号配線側のラインパターンの切断領域 １４………ラインパターン構成材1 ... glass substrate 2 ...
Scan signal wiring 3 Video signal wiring 4
Pixel electrode 5 ... LCD screen area 6 ...
Gate mounting electrode area 7 Source mounting electrode area 8a Inspection wiring on scanning signal wiring side 8b Inspection wiring on video signal wiring side 9a Line pattern on scanning signal wiring side 9a 1 ...
The narrow part 9b ...... video signal wiring side of the line pattern 9b 1 ...
Narrow width portion 10a ... Inspection electrode terminal on scanning signal wiring side 10b ...... Inspection electrode terminal on video signal wiring side 13a ... Cutting area of line pattern on scanning signal wiring side 13b ... Line pattern on video signal wiring side Cutting area 14 Line pattern constituent material
Claims (3)
するラインパターンの少なくとも一部が前記信号配線よ
り細幅のラインパターンに形成され、各ラインパターン
がその細幅部分で分離されている液晶表示装置。At least a part of a line pattern connecting a display signal wiring and an inspection wiring is formed in a line pattern narrower than the signal wiring, and each line pattern is separated at the narrow part. Liquid crystal display device.
検査用配線と走査信号配線用の検査用配線とが設けら
れ、映像信号配線と映像信号配線用の検査用配線とがラ
インパターンを介して接続され、走査信号配線と走査信
号配線用の検査用配線とがラインパターンを介して接続
され、前記映像信号配線側のラインパターンと走査信号
配線側のラインパターンのうち少なくともいずれか一方
のラインパターンの少なくとも一部が信号配線より細幅
のラインパターンに形成され、双方の各ラインパターン
がその途中で分離され、細幅部分を有するラインパター
ンについてはその細幅部分で分離されている液晶表示装
置。2. An inspection wiring for video signal wiring and an inspection wiring for scanning signal wiring are provided outside the liquid crystal screen area, and the video signal wiring and the inspection wiring for video signal wiring form a line pattern. The scanning signal wiring and the inspection wiring for the scanning signal wiring are connected via a line pattern, and at least one of the video signal wiring side line pattern and the scanning signal wiring side line pattern is connected. A liquid crystal in which at least a part of the line pattern is formed in a line pattern narrower than the signal wiring, both line patterns are separated in the middle thereof, and a line pattern having a narrow portion is separated in the narrow portion. Display device.
ザー光照射による切断である請求項１または請求項２に
記載の液晶表示装置。3. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the separation of the narrow portion of the line pattern is cut by laser light irradiation.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16480998A JPH11352505A (en) | 1998-06-12 | 1998-06-12 | Liquid crystal display device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16480998A JPH11352505A (en) | 1998-06-12 | 1998-06-12 | Liquid crystal display device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11352505A true JPH11352505A (en) | 1999-12-24 |
Family
ID=15800337
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16480998A Pending JPH11352505A (en) | 1998-06-12 | 1998-06-12 | Liquid crystal display device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11352505A (en) |
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-
1998
- 1998-06-12 JP JP16480998A patent/JPH11352505A/en active Pending
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